JPH06208790A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH06208790A
JPH06208790A JP5003011A JP301193A JPH06208790A JP H06208790 A JPH06208790 A JP H06208790A JP 5003011 A JP5003011 A JP 5003011A JP 301193 A JP301193 A JP 301193A JP H06208790 A JPH06208790 A JP H06208790A
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JP
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standby
current
vcc
transistor
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Daizaburo Takashima
大三郎 高島
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Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 内部電源を低電圧化した場合にも高速動作を
保ち、且つスタンドバイ電流を低く抑えることのできる
半導体装置を提供すること。 【構成】 消費電流が大きいアクティブ時と消費電流が
極めて小さいスタンドバイ時が存在し、スタンドバイ時
には一定の“H”レベル又は“L”レベルに固定になっ
ている接続ノードをソース又はドレインとする、pチャ
ネル及びnチャネルのMOSトランジスタを有する半導
体装置において、同一チャネルのMOSトランジスタに
関し、スタンドバイ時にカットオフするトランジスタQ
1 ,Q4 のしきい値Vt1,Vt4を、スタンドバイ時にオ
ンするトランジスタQ2 ,Q3 のしきい値Vt2,Vt3よ
りも高く設定(Vt1>Vt2,|Vt4>Vt3|)してなる
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、消費電流が大きいアク
ティブ動作と消費電流が極めて小さいスタンドバイ動作
が存在する半導体装置に係わり、特に低電圧化に適した
構成の半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、DRAMやその他LSIの高集積
化,バッテリ駆動のために、低消費電力化と共に内部電
源Vccの低下が進められている。例えばDRAMでは、
図15(a)に示すように、各世代毎に動作の内部電源
Vccは低下する方向にある。具体的には1G,4Gビッ
トのDRAMでは、Vccが1.5〜1.0Vにまで低下
する。また、電池駆動(バッテリ駆動)用LSIにおい
ても、Vccとして1.5V〜0.8V動作が要望されて
いる。
【0003】しかしながら、LSIにおいてはMOSト
ランジスタのしきい値電圧Vt が存在し、図15(b)
に示すように、Vt 付近にVccが近づくと急激に動作ス
ピード(ゲート遅延時間)が低下してしまう問題があ
る。これを防止するために、しきい値電圧Vt を小さく
してしまうと、スタンドバイ電流が急激に増加する問題
を招く。
【0004】図16に従来例として、メモリ内のある一
部の回路を示す。これは、3段のインバータの例であ
る。スタンドバイ時には、ノードN1 とN3 が“L”レ
ベルとなり、ノードN2 とN4 が“H”レベルとなる。
このとき、前2段のインバータを見ると、トランジスタ
Q1 とQ4 を通してリーク電流Ileakが流れる。同様に
メモリ全体にこの状態が存在し、トランジスタのしきい
値を下げるとリーク電流が大幅に増加する。
【0005】図15(c)は、トランジスタのしきい値
電圧Vt と16MビットDRAMレベルチップのスタン
ドバイ電流との関係を示す。この図から、スンドバイ電
流を1μAに抑えるには、最低0.6Vのしきい値電圧
が必要となることが分る。
【0006】図17に、SRAM(a)及びDRAM
(b)のスタンドバイ時とアクティブ時における電流の
変化を示す。アクティブ時の電流をIcc1 ,スタンドバ
イ時の電流をIcc2 とする。通常、メモリはデータをア
クセスしない時にスタンドバイ状態にし電流を減らすの
であるが、スタンドバイ状態の期間の方がアクティブ状
態のそれよりも遥かに長いので、このときの電流Icc2
を十分に低下させる必要がある。このスタンドバイ状態
は、バッテリバックアップで動作しない時の電流の決め
手となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このように従来の半導
体装置においては、LSIの内部電源Vccを低電圧化し
た場合、Vccがトランジスタのしきい値Vt に近付いて
動作速度が遅くなる問題があり、またしきい値Vt を下
げるとスタンドバイ電流が増大するという問題があっ
た。
【0008】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、内部電源を低電圧化し
た場合にも高速動作を保ち、且つスタンドバイ電流を低
く抑えることのできる半導体装置を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、スタン
ドバイ時の消費電流低減と高速動作という相反する問題
を解決するために、MOSトランジスタのしきい値の設
定やスタンドバイ時の電源Vcc,Vssの可変設定を行う
ことにある。
【0010】即ち本発明(請求項1)は、消費電流が大
きいアクティブ時と消費電流が極めて小さいスタンドバ
イ時が存在し、スタンドバイ時には一定の“H”レベル
又は“L”レベルに固定になっている接続ノードをソー
ス又はドレインとする、pチャネル及びnチャネルのM
OSトランジスタを有する半導体装置において、同一チ
ャネルのMOSトランジスタに関し、スタンドバイ時に
カットオフするトランジスタのしきい値を、スタンドバ
イ時にオンするトランジスタのしきい値よりも高く設定
したことを特徴とする。ここで、本発明の望ましい実施
態様としては、次のものがあげられる。
【0011】(1) 同一チャネルのMOSトランジスタに
関し、しきい値が低い方のトランジスタのチャネル幅
を、しきい値が高い方のトランジスタのチャネル幅より
小さく設定すること。
【0012】(2) NOR,NANDなどMOSトランジ
スタが直列接続されており、スタンドバイ時にこの直列
回路がカットオフする場合には、直列接続のトランジス
タの少なくとも1個のしきい値電圧を高くすること。
【0013】また、本発明(請求項3)は、消費電流が
大きいアクティブ時と消費電流が極めて小さいスタンド
バイ時が存在し、スタンドバイ時には一定の“H”レベ
ル又は“L”レベルに固定になっている接続ノードをソ
ース又はドレインとする、pチャネル及びnチャネルの
MOSトランジスタを有する半導体装置において、スタ
ンドバイ時にカットオフするpMOSトランジスタが接
続しているVcc電源側を、スタンドバイ時にVccの電位
よりも下げ、スタンドバイ時にカットオフするnMOS
トランジスタが接続しているVss電源側を、スタンドバ
イ時にVssの電位よりも上げ、かつスタンドバイ時にオ
ンするpMOS,nMOSに接続する各電源側の電位を
変えないことを特徴とする。ここで、本発明の望ましい
実施態様としては、次のものがあげられる。
【0014】(1) NOR,NANDなどMOSトランジ
タスが直列接続されており、その端にVcc,Vssがある
場合、スタンドバイ時にカットオフする直列回路では、
そのVccを下げ、Vssを上げること。
【0015】(2) pチャネル及びnチャネルのMOSト
ランジスタからなるセルが複数個配置されたコア回路が
複数個設けられている場合、アクティブ時となっても選
択されないコア回路は、スタンドバイ時にカットオフす
るpMOSトランジスタが接続しているVcc電源側と、
スタンドバイ時にカットオフするnMOSトランジスタ
が接続しているVss電源側を、スタンドバイ時と同じ電
位に保持すること。
【0016】
【作用】本発明(請求項1,2)によれば、スタンドバ
イ時にカットオフするトランジスタ及びオンするトラン
ジスタのしきい値を上述のように設定することにより、
次のような作用を奏する。例えば、カットオフするトラ
ンジスタのしきい値を変えずに、オンするトランジスタ
のしきい値を低くすることにより、スタンドバイ時にお
けるリーク電流を増やすことなく、高速化をはかること
が可能となる。逆に、オンするトランジスタのしきい値
を変えずに、カットオフするトランジスタのしきい値を
高くすることにより、高速動作を阻害することなく、ス
タンドバイ時におけるリーク電流を抑制することが可能
となる。
【0017】低電圧化した場合、両トランジスタのしき
い値を下げると、スタンドバイ時のリーク電流が問題と
なるが、カットオフするトランジスタのしきい値をスタ
ンドバイ電流が低減できる程度に高くし、オンするトラ
ンジスタのしきい値をアクティブ時の電流が大幅に増大
しない程度に低くすることにより、スタンドバイ電流を
抑制しつつ高速動作を実現することが可能となる。
【0018】また、しきい値電圧が低いトランジスタの
チャネル幅を狭くし、しきい値電圧が高いトランジスタ
のチャネル幅を広くすることにより、スタンドバイから
アクティブのゲート遅延をアクティブからスタンドバイ
へのゲート遅延と同じくらいにでき、LSI全体での動
作スピードを速くすることが可能となる。
【0019】本発明(請求項3)によれば、スタンドバ
イ動作において、入力が“L”レベルでカットオフする
nMOSトランジスタに接続するVssの電位を上げるこ
とにより、ゲート入力は“L”レベルになったままなの
で、ゲート・ソース間電圧はマイナス電位となる。従っ
て、このnMOSトランジスタのしきい値電圧を低くし
てもカットオフ特性は大幅に改善し、リーク電流を抑え
ることができる。
【0020】pMOSも同様に、スタンドバイ動作にお
いて、入力が“H”レベルでカットオフするpMOSト
ランジスタに接続するVccの電位を下げることにより、
ゲート入力は“H”レベルのままなので、ゲート・ソー
ス間電圧はカットオフする方向に進む。従って、このp
MOSトランジスタのしきい値電圧を低くしてもカット
オフ特性は大幅に良くなり、リーク電流を抑えることが
できる。
【0021】このように、スタンドバイ時にカットオフ
するMOSトランジスタのしきい値を下げることがで
き、これによりVccの電位を従来より下げても高速動作
が実現でき、かつスタンドバイ時のリーク電流を抑える
ことが可能となる。
【0022】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を説
明する。
【0023】まず、請求項1の発明の実施例について説
明する。図1は、本発明の第1の実施例に係わるメモリ
一般の回路の一部の論理ゲートを示す。これは、3段の
インバータの例である。
【0024】前記図16に示したようにメモリはアクテ
ィブとスタンドバイ状態が存在し、スタンドバイ時は、
メモリチップ中の殆どの回路はある一定の値を持つ。即
ち、各ノードが“H”レベルのVcc又は“L”レベルの
Vssとなっている。
【0025】図1の例では、ノードN1 ,N3 が“L”
レベル、ノードN2 ,N4 が“H”レベルとなってい
る。このときに前2段のインバータを見ると、ソース・
ドレイン間にVccが付加されている(カットオフしてい
る)トランジスタQ1 ,Q4 のしきい値電圧Vt1,Vt4
を高いまま(従来のしきい値電圧)としておけば、スタ
ンドバイ電流を例えば1μAに抑えることができる。そ
して、ソース・ドレイン間の電圧が0Vの(オンしてい
る)トランジスタQ2 ,Q3 のしきい値電圧Vt2,Vt3
を低くしてもスタンドバイ電流は増加しない。
【0026】上記の理由から、スタンドバイ時における
リーク電流を増やすことなく、しきい値電圧Vt2,Vt3
を低下させることができる。Vt2,Vt3を下げると、ア
クティブ時のトランジスタのリーク電流の増大が起こる
が、前記図17に示すようにメモリのアクティブ電流は
大きく、一般に数10mA〜数100mAもあるので、
多小のリーク電流があっても無視できる。例えば1mA
のリーク電流を許すと、Vt2,Vt3のしきい値電流は、
図15(c)より0.3Vにまで低下できる。これは同
じく図15(c)よりVt1,Vt4のリークが1μAとす
ると、0.6Vのしきい値電圧が必要な点を考えると Vt1−Vt2=0.3V,|Vt4|−|Vt3|=0.3V となる。即ち、 Vt1>Vt2,|Vt4|>|Vt3| となる。
【0027】このときのゲート遅延を、図2に示す。図
2において、(a)は従来の全Vtが高い場合を示し、
(b)(c)は本実施例の場合を示している。図2
(b)において、ディレイd1 ,d3 は従来通りである
が、ディレイd2 ,d4 はVt2,Vt3が低くできるため
ゲート遅延は小さく、アクティブ状態からスタンドバイ
状態の変化時に高速化している。
【0028】ここで、しきい値が低く高速のトランジス
タQ2 ,Q3 において、その速度が速い分、チャネル幅
W2 ,W3 を小さくして速度を落とす。そして、この減
ったWをしきい値が高く低速のトランジスタQ1 ,Q4
に振り分けて、W1 ,W4 を大きくしてQ1 ,Q4 を高
速化することができる。
【0029】即ち、W1 >W2 ,W4 >W3 とすれば、
図2(c)に示すディレイd1,d2,d3,d4 共、図2
(a)のディレイd1,d2,d3,d4 よりVccミニマム時
には遅延を小さくして高速化することができる。
【0030】図3は、本実施例のVccミニマムでのゲー
ト遅延時間を示す。従来の例えばVt =0.6Vの時の
遅延を(1) に示す。これに対して全部をVt =0.3に
した時の遅延を(3) に示すが、この場合はスタンドバイ
電流が多くなる。本実施例はVt =0.3と0.6の2
通りを、pMOS,nMOSの両方に適用している。そ
して、従来のQ1 ,Q2 ,Q3 ,Q4 のWをW1 =W,
W2 =W,W3 =2W,W4 =2Wとした場合で、本実
施例のVccミニマム時のVt =0.6Vのトランジスタ
Q1 ,Q4 のスピードよりVt =0.3(V)のQ2 ,
Q3 のトランジスタのスピードがK倍高速の場合、 W1 =2KW/(K+1) W2 =2W/(K+1) W3 =4W/K+1 W4=4KW/(K+1)
【0031】とし、W1 /W2 =K倍,W4 /W3 =K
倍として、Q1 ,Q4 のチャネル幅をQ2 ,Q3 のチャ
ネル幅よりK倍してやりアクティブ→スタンドバイ,ス
タンドバイ→アクティブのスピードを同一にする。この
場合、アクティブ→スタンドバイ,スタンドバイ→アク
ティブの遅延はおおよそ次のようになる。即ち、スタン
ドバイ→アクティブの遅延は、本実施例で (K+1)/2KW+{(K+1)/4KW}×2 従来例で (1/W)+(1/2W)×2 となり、本実施例の方が従来例よりも2K/(K+1)
倍速くなる。また、アクティブ→スタンドバイの遅延
は、本実施例で {(K+1)/2W}×(1/K) +{(K+1)/4W}
×(1/K) ×2 従来例で (1/W)+(1/2W)×2 となり、スタンドバイ→アクティブの場合と同様に、本
実施例の方が従来例よりも2K/(K+1)倍速くな
る。即ち、従来の遅延を1とすると全トランジスタVt
=0.3の遅延は1/Kで本実施例の遅延は(K+1)
/2Kとなるので、本実施例の遅延は {1+(1/K)}/2=(K+1)/2K で中間のスピードとなる。図3は (1)と (3)の中間に
(2)が来ることを示している。
【0032】このように本実施例によれば、スタンドバ
イ時にカットオフするトランジスタQ1 ,Q4 のしきい
値Vt1,Vt4はそのままなので、スタンドバイ時のリー
ク電流は低減できる。また、アクティブ時には大きなア
クティブ電流が流れるので、アクティブ時にオフする
(スタンドバイ時にオンする)トランジスタQ2 ,Q3
のしきい値Vt2,Vt3はアクティブ電流に比べ低ければ
よいため、しきい値Vt2,Vt3は低くできる。よって、
アクティブからスタンドバイへ変わる時のゲート遅延時
間は大幅に短くなり、低Vccでも高速化することができ
る。即ち、スタンドバイ時におけるリーク電流を増やす
ことなく高速化をはかることができる。
【0033】また、しきい値電圧が低いトランジスタQ
2 ,Q3 のチャネル幅を狭くし、しきい値電圧が高いト
ランジスタQ1 ,Q4 のチャネル幅を広くすることによ
り、スタンドバイからアクティブのゲート遅延をアクテ
ィブからスタンドバイへのゲート遅延と同じくらいにで
き、これによりLSI全体での動作スピードを速くする
ことができる。
【0034】図4及び図5の(a)〜(c)は、それぞ
れ本発明の第2の実施例を示す。これは、本発明をイン
バータばかりでなくNANDやNORゲートに適用した
例である。
【0035】NANDでは、図4(a)(b)に示すよ
うに出力がスタンドバイ時に“H”となる場合、スタン
ドバイ時にカットオフするnMOSトランジスタのしき
い値Vt を高くし、図4(c)に示すように出力がスタ
ンドバイ時に“L”となる場合、スタンドバイ時にカッ
トオフするpMOSトランジスタのしきい値Vt を高く
する。ここで、出力がスタンドバイ時“H”の時、直列
のnMOSトランジスタは少なくとも1つがしきい値V
t が高ければよい。
【0036】NORでは、図5(a)に示すように出力
がスタンドバイ時に“H”となる場合、スタンドバイ時
にカットオフするnMOSトランジスタのしきい値Vt
を高くし、図5(b)(c)に示すように出力がスタン
ドバイ時に“L”となる場合、スタンドバイ時にカット
オフするpMOSトランジスタのしきい値Vt を高くす
る。ここで、出力がスタンドバイ時“L”の時、直列の
pMOSトランジスタは少なくとも1つがしきい値Vt
が高ければよい。
【0037】このように本発明は、インバータに限らず
各種のLSIに適用することができ、第1の実施例と同
様の効果が得られる。また、第1の実施例と同様に、し
きい値Vt の低いものはチャネルWを小さくし、Vt の
高いものはWを大きくすればより有効である。
【0038】図6は、本発明をDRAMに適用した第3
の実施例を示す。この例では、スタンドバイ時、(1/
2)Vccのプリチャージの場合はソース・ドレイン間が
0Vなので、全てのトランジスタのしきい値Vt を低く
できる。
【0039】図7は、本発明の第4の実施例を示す。こ
れは、本発明をDRAMのカラムデコーダに適用した例
である。全てスタンドバイのノードの電位に基づいて、
Vtの高低及びWの大きさを変えることにより高速化す
ることができる。
【0040】以上のように請求項1の発明は、全てのス
タンドバイ時にノードが固定の回路に適用できる。しか
も、一部動作マージンの厳しい所にはnMOS,pMO
S両方にVt の低いものを用いても、全体のリーク電流
には影響しないので、本発明はチップ全体をVccが低い
動作では有効である。
【0041】次に、請求項3の発明の実施例について説
明する。図8は、本発明の第5の実施例に係わるメモリ
一般の回路の一部の倫理ゲートを示す。これは、4段の
インバータの例である。
【0042】前記図16に示したようにメモリはアクテ
ィブとスタンドバイ状態が存在し、スタンドバイ時は、
メモリチップ中の殆どの回路はある一定の値を持つ、即
ち、各ノードが“H”レベルのVcc又は“L”レベルの
Vssとなっている。
【0043】図8の例では、ノードN1 ,N3 ,N5 が
“L”レベル、ノードN2 ,N4 が“H”レベルとなっ
ている。このとき、トランジスタQn1,Qn3のnMO
S、Qp2,Qp4のpMOSには、ソース・ドレイン間に
従来の方式では高い電位差が発生している。
【0044】本実施例では、このQn1,Qn3の電源のV
ssをチップ内部制御のVss1 とし、Qp2,Qp4の電源の
Vccをチップ内部制御のVcc1 とし、スタンドバイ時に
は、Vcc1 をVccより低くして、Vss1 はVssより高く
することを特徴としている。これによりスタンドバイ時
には、例えばQn1のゲート・ソース間電位はVss−Vss
1 (Vss1 >Vss)のため、Vss−Vss1 −Vt <−V
t となり通常のトランジスタのしきい値Vt で、ゲート
・ソース間が0Vのトランジスタよりカットオフ特性が
大幅に改善される。
【0045】例えば、Vt =0.3VでもVss−Vss1
−Vt =−0.3−0.3=−0.6で、従来のVt =
0.6Vのトランジスタの特性と同じになる。これによ
り、回路全体のしきい値電圧を下げられるので、図9に
示すようにゲート遅延時間は大幅に短縮され、従来のV
t よりも低いVccでLSIが動作可能となり、しかもス
タンドバイ電流を従来と同様に抑えることができる。勿
論、アクティブ時には、Vss1 ,Vcc1 のノードはVs
s,Vccの電位に戻され、通常のLSIと同じ動作方法
となる。
【0046】図10(a)は第5の実施例におけるVss
1 ,Vcc1 の発生回路、図10(b)はこの回路におけ
る信号波形図を示す。図10(b)に示すようにφ1 ,
φ2のクロックをRASと同期させて動作することによ
り、アクティブ時には、 Vcc1 =Vcc,Vss1 =Vss スタンドバイ時には、 Vcc1 <Vcc,Vss1 >Vss′ となる。φ1 ,φ2 によりスタンドバイ時にはQp5,Q
n5を切ることにより、自動的にVcc1 ,Vss1 の電位は
Vcc以下、Vss以上になる。
【0047】また、図11はメモリに適用した模式的な
構成例を示している。周辺回路のスタンドバイ時にカッ
トオフするMOSトランジスタは共通線L1 及びL2 に
接続され、各コア回路のスタンドバイ時にカットオフと
なるpMOSトランジスタの一方の端子はトランジスタ
Q11,Q21,〜,Q31を介して共通線L1 に接続され、
各コア回路のスタンドバイ時にカットオフとなるnMO
Sトランジスタの一方の端子はトランジスタQ12,Q2
2,〜,Q32を介して共通線L2 に接続されている。そ
して、共通線L1 はトランジスタQ01を介して電源Vcc
に接続され、共通線L2 はトランジスタQ02を介して電
源Vssに接続されている。
【0048】そして、スタンドバイ時はトランジスタQ
01,Q02がオフで、共通線L1 はVcc1 の電位、共通線
L2 はVss1 の電位となり、アクティブ時はトランジス
タQ01,Q02がオンで、共通線L1 はVccの電位、共通
線L2 はVssの電位となる。さらに、アクティブ時にお
いて、例えばコア回路1はトランジスタQ11,Q12がオ
ンでVccとVssの電位となり、トランジスタQ11,Q12
がオフではVcc1 とVss1 の電位となる。なお、この図
には示さないが、周辺回路及び各コア回路の必要な部分
には電源Vcc及びVssが接続されている。
【0049】このような構造では、共通線L1 ,L2 に
多数のコア回路がつながるため、スタンドバイ→アクテ
ィブ時やアクティブ→スタンドバイ時に大きな駆動電流
が必要となる。そこで各コア回路と共通線L1 ,L2 と
の間にトランジスタQ11〜Q32を設置し、選択するコア
回路のみトランジスタをオン・オフするようにしてい
る。
【0050】このような構成であれば、スタンドバイと
アクティブとの切り換えの際に全てのコア回路でVcc,
Vssの電位を変更するのではなく、一部のコア回路でV
cc,Vssの電位を変更するため、スタンドバイ→アクテ
ィブ時やアクティブ→スタンドバイ時における消費電流
を大幅に低減することができる。
【0051】図12及び図13は、本発明の第6の実施
例を示す。図12(a)〜(c)はNANDゲートの各
スタンドバイ時の固定ノードでの、Vss1 ,Vcc1 の利
用法を示す。図13(a)〜(c)はNORゲートの例
を示す。この他、他の論理ゲートでも同じであるが、ス
タンドバイ時出力が“H”の時は、Vssの代わりにVss
1 を用い、スタンドバイ時出力が“L”の時は、Vccの
代わりにVcc1 を用いればよい。
【0052】図14は本発明の第7の実施例を示し、こ
れはDRAMのカラムデコーダの例である。図12及び
図13の記号を用いて示してある。これも、図12及び
図13で説明したルールに従い同様に実現することがで
きる。なお、本発明は上述した各実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形し
て実施することができる。
【0053】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、M
OSトランジスタのしきい値の設定やスタンドバイ時の
電源Vcc,Vssの可変設定を行うことにより、スタンド
バイ時の消費電流低減と高速動作という相反する問題を
解決することができ、内部電源を低電圧化した場合にも
高速動作を保ち、且つスタンドバイ電流を低く抑えた半
導体装置を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係わるメモリ回路の一
部の論理ゲートを示す図。
【図2】第1の実施例におけるゲート遅延を示す図。
【図3】第1の実施例におけるVccミニマムでのゲート
遅延時間を説明するための図。
【図4】本発明をNANDに適用した第2の実施例を示
す図。
【図5】本発明をNORに適用した第2の実施例を示す
図。
【図6】本発明をDRAMに適用した第3の実施例を示
す。
【図7】本発明をDRAMのカラムデコーダに適用した
第4の実施例を示す図。
【図8】本発明の第5の実施例に係わるメモリ回路の一
部の倫理ゲートを示す図。
【図9】第5の実施例に用いるVss1 ,Vcc1 の発生回
路を示す図。
【図10】第5の実施例におけるゲート遅延時間を説明
するための図。
【図11】第5の実施例をメモリに適用した模式的な構
成例を示す図。
【図12】本発明をNANDに適用した第6の実施例を
示す図。
【図13】本発明をNORに適用した第6の実施例を示
す図。
【図14】本発明をDRAMのカラムデコーダに適用し
た第7の実施例を示す図。
【図15】従来の問題点を説明するための図。
【図16】従来のインバータの回路構成を示す図。
【図17】従来のSRAM及びDRAMのスタンドバイ
時とアクティブ時における電流の変化を示す。
【符号の説明】
Q1,Q2 ,Qn1〜Qn5…nMOSトランジスタ Q3,Q4 ,Qp1〜Qp5…pMOSトランジスタ N1 〜N5 …ノード Vcc,Vss…内部電源 Vcc1 ,Vss1 …内部制御電位
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03K 19/0948 8321−5J H03K 19/094 B

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】消費電流が大きいアクティブ時と消費電流
    が極めて小さいスタンドバイ時が存在し、スタンドバイ
    時には一定の“H”レベル又は“L”レベルに固定にな
    っている接続ノードをソース又はドレインとする、pチ
    ャネル及びnチャネルのMOSトランジスタを有する半
    導体装置において、 同一チャネルのMOSトランジスタに関し、スタンドバ
    イ時にカットオフするMOSトランジスタのしきい値
    を、スタンドバイ時にオンするMOSトランジスタのし
    きい値よりも高く設定してなることを特徴とする半導体
    装置。
  2. 【請求項2】同一チャネルのMOSトランジスタに関
    し、しきい値が低い方のMOSトランジスタのチャネル
    幅を、しきい値が高い方のMOSトランジスタのチャネ
    ル幅より小さく設定したことを特徴とする請求項1記載
    の半導体装置。
  3. 【請求項3】消費電流が大きいアクティブ時と消費電流
    が極めて小さいスタンドバイ時が存在し、スタンドバイ
    時には一定の“H”レベル又は“L”レベルに固定にな
    っている接続ノードをソース又はドレインとする、pチ
    ャネル及びnチャネルのMOSトランジスタを有する半
    導体装置において、 スタンドバイ時にカットオフするpチャネルMOSトラ
    ンジスタが接続しているVcc電源側を、スタンドバイ時
    にVccの電位よりも下げる手段と、スタンドバイ時にカ
    ットオフするnチャネルMOSトランジスタが接続して
    いるVss電源側を、スタンドバイ時にVssの電位よりも
    上げる手段と、を具備してなることを特徴とする半導体
    装置。
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