JP3000950B2 - 半導体メモリ装置のワード線駆動回路 - Google Patents
半導体メモリ装置のワード線駆動回路Info
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- JP3000950B2 JP3000950B2 JP9048628A JP4862897A JP3000950B2 JP 3000950 B2 JP3000950 B2 JP 3000950B2 JP 9048628 A JP9048628 A JP 9048628A JP 4862897 A JP4862897 A JP 4862897A JP 3000950 B2 JP3000950 B2 JP 3000950B2
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
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- Static Random-Access Memory (AREA)
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体メモリ装置
のワード線駆動回路に関し、特にワード線不活性化時に
ワード線電位を負電圧とするワード線駆動回路に関す
る。
のワード線駆動回路に関し、特にワード線不活性化時に
ワード線電位を負電圧とするワード線駆動回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ装置は、その微細化、高集
積化、低電圧化にともない、待機時における微細メモリ
セルからの漏れ電流が大きな問題となってきている。こ
れは、低電圧で微細な半導体メモリ装置を高速動作をさ
せるためには、メモリセルトランジスタのしきい値電圧
を低下させることが不可欠であるためであり、低いしき
い値電圧下では、トランジスタオフ時の漏れ電流は無視
できなくなる。
積化、低電圧化にともない、待機時における微細メモリ
セルからの漏れ電流が大きな問題となってきている。こ
れは、低電圧で微細な半導体メモリ装置を高速動作をさ
せるためには、メモリセルトランジスタのしきい値電圧
を低下させることが不可欠であるためであり、低いしき
い値電圧下では、トランジスタオフ時の漏れ電流は無視
できなくなる。
【0003】このような問題に対する一つの回答とし
て、待機時にメモリセルトランジスタのゲート電位を負
電圧とすることにより、トランジスタのゲート−ソース
間電位を実効的に逆バイアスとして漏れ電流の防止を図
る負電圧ワード線方式がある。ただし、この方式では、
負電圧を扱うためにワード線駆動回路に工夫が必要とな
る。
て、待機時にメモリセルトランジスタのゲート電位を負
電圧とすることにより、トランジスタのゲート−ソース
間電位を実効的に逆バイアスとして漏れ電流の防止を図
る負電圧ワード線方式がある。ただし、この方式では、
負電圧を扱うためにワード線駆動回路に工夫が必要とな
る。
【0004】図9に、山内等によって報告された(山内
等、電子情報通信学会総合大会講演予行集、P.23
1、1995年)従来例1の負電圧ワード線駆動回路の
回路構成図を示す。
等、電子情報通信学会総合大会講演予行集、P.23
1、1995年)従来例1の負電圧ワード線駆動回路の
回路構成図を示す。
【0005】このワード線駆動回路は、基本的な回路構
成および動作は良く知られているNMOSトランジスタ
で構成されたものと同様であるが、ノード73を高速に
引き抜くためNMOSトランジスタ74および75を付
加し、さらに通常は接地電源に接続されるNMOSトラ
ンジスタ71および72のソースを負電圧電源に接続
し、かつ、NMOSトランジスタ71および72のしき
い値電圧を高くすることにより、負電圧から昇圧電圧ま
でのスイッチング機能を実現している。
成および動作は良く知られているNMOSトランジスタ
で構成されたものと同様であるが、ノード73を高速に
引き抜くためNMOSトランジスタ74および75を付
加し、さらに通常は接地電源に接続されるNMOSトラ
ンジスタ71および72のソースを負電圧電源に接続
し、かつ、NMOSトランジスタ71および72のしき
い値電圧を高くすることにより、負電圧から昇圧電圧ま
でのスイッチング機能を実現している。
【0006】ワード線WL選択時には、WDをローレベ
ルにした後、RAをハイレベルにすることにより、ノー
ド73はNMOSトランジスタのセルフブートにより高
電位に引き上げられるため、WLにはRAのハイレベル
がそのまま伝播する。この時、NMOSトランジスタ7
2のゲートはローレベルではあるが、ソースが負電圧な
ため、ゲート−ソース間電圧Vgsはプラスになってお
り、NMOSトランジスタ72はオンしやすい状態にな
る。そこで、NMOSトランジスタ72にはしきい値が
高いものを用いて、負電圧VBBがWLに伝播するのを
防いでいる。
ルにした後、RAをハイレベルにすることにより、ノー
ド73はNMOSトランジスタのセルフブートにより高
電位に引き上げられるため、WLにはRAのハイレベル
がそのまま伝播する。この時、NMOSトランジスタ7
2のゲートはローレベルではあるが、ソースが負電圧な
ため、ゲート−ソース間電圧Vgsはプラスになってお
り、NMOSトランジスタ72はオンしやすい状態にな
る。そこで、NMOSトランジスタ72にはしきい値が
高いものを用いて、負電圧VBBがWLに伝播するのを
防いでいる。
【0007】一方、ワード線WL非選択時には、WDが
ハイレベルになることにより、NMOSトランジスタ7
2がオンし、ワード線WLは負電圧VBBレベルにな
る。
ハイレベルになることにより、NMOSトランジスタ7
2がオンし、ワード線WLは負電圧VBBレベルにな
る。
【0008】図10には、Yamagata等によって
報告された(T.Yamagataet al.、IE
EE J.Solid−State Circuit
s、vol.30、P.1183、Nov,1995)
従来例2である負電圧ワード線駆動回路の回路構成図を
示す。
報告された(T.Yamagataet al.、IE
EE J.Solid−State Circuit
s、vol.30、P.1183、Nov,1995)
従来例2である負電圧ワード線駆動回路の回路構成図を
示す。
【0009】この従来例では、2つのPMOSトランジ
スタ81、82およびNMOSトランジスタ83、84
のそれぞれのゲートをお互いのドレインに接続する構成
になっている。
スタ81、82およびNMOSトランジスタ83、84
のそれぞれのゲートをお互いのドレインに接続する構成
になっている。
【0010】ワード線選択時には、NMOSトランジス
タ83がオンし、NMOSトランジスタ84のゲート電
位を負電圧に引き下げるため、NMOSトランジスタ8
4はオフし、PMOSトランジスタ82がオンするため
ワード線が昇圧電位VPPに引き上げられる。
タ83がオンし、NMOSトランジスタ84のゲート電
位を負電圧に引き下げるため、NMOSトランジスタ8
4はオフし、PMOSトランジスタ82がオンするため
ワード線が昇圧電位VPPに引き上げられる。
【0011】一方、非選択時には、PMOSトランジス
タ82がオフし、NMOSトランジスタ84がオンする
ためワード線が負電圧レベルに引き下げられる。
タ82がオフし、NMOSトランジスタ84がオンする
ためワード線が負電圧レベルに引き下げられる。
【0012】さらに、この例では、ワード線WLのスイ
ッチングの際に、WDに負電圧VBBを逆流させない目
的で、ゲートをVPPに接続したNMOSトランジスタ
と、ゲートをVSSに接続したPMOSトランジスタと
を付加している。ただし、これらのトランジスタは、信
号の駆動力を弱めてWLのスイッチング動作には邪魔に
なるため、しきい値の低いトランジスタを用いている。
ッチングの際に、WDに負電圧VBBを逆流させない目
的で、ゲートをVPPに接続したNMOSトランジスタ
と、ゲートをVSSに接続したPMOSトランジスタと
を付加している。ただし、これらのトランジスタは、信
号の駆動力を弱めてWLのスイッチング動作には邪魔に
なるため、しきい値の低いトランジスタを用いている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】第一の問題点は、従来
例1、2ともに、負電圧を扱うためにしきい値を変化さ
せた特別なトランジスタが必要な点である。
例1、2ともに、負電圧を扱うためにしきい値を変化さ
せた特別なトランジスタが必要な点である。
【0014】このようなしきい値を変化させたトランジ
スタを形成するためには、そのための専用のプロセスが
余計に必要となり、製造工程数が増加してしまう。
スタを形成するためには、そのための専用のプロセスが
余計に必要となり、製造工程数が増加してしまう。
【0015】第二の問題点は、従来例2では、PMOS
トランジスタ81およびNMOSトランジスタ83の出
力電位が決定した後にPMOSトランジスタ82および
NMOSトランジスタ84で構成されるCMOSインバ
ーターの出力が決定するため、動作がトランジスタの大
きさに敏感になり、しかも速度が遅くなりやすい。
トランジスタ81およびNMOSトランジスタ83の出
力電位が決定した後にPMOSトランジスタ82および
NMOSトランジスタ84で構成されるCMOSインバ
ーターの出力が決定するため、動作がトランジスタの大
きさに敏感になり、しかも速度が遅くなりやすい。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置のワード線駆動回路は、第1のPMOSトランジスタ
のドレインを第2のPMOSトランジスタのゲートに接
続し、第2のトランジスタのソース電位を引き下げるこ
とにより、前記第1および第2のPMOSトランジスタ
の接続部に生ずる負電圧セルフブートを利用し、ソース
を負電圧電源に接続したNMOSトランジスタのスイッ
チングを実現している。
置のワード線駆動回路は、第1のPMOSトランジスタ
のドレインを第2のPMOSトランジスタのゲートに接
続し、第2のトランジスタのソース電位を引き下げるこ
とにより、前記第1および第2のPMOSトランジスタ
の接続部に生ずる負電圧セルフブートを利用し、ソース
を負電圧電源に接続したNMOSトランジスタのスイッ
チングを実現している。
【0017】[作用]上述の回路構成をとることによ
り、しきい値を変化させた特殊なトランジスタを用いる
ことなく、簡単な構成ですむ。また、出力が1段の論理
で決定するため高速動作が可能である。
り、しきい値を変化させた特殊なトランジスタを用いる
ことなく、簡単な構成ですむ。また、出力が1段の論理
で決定するため高速動作が可能である。
【0018】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、具体的に図面を参照して説明する。
て、具体的に図面を参照して説明する。
【0019】図1に本発明の第1の実施例の回路構成図
を示す。
を示す。
【0020】PMOSトランジスタ11はソースが第1
のワード駆動回路選択線WDN、ゲートが接地電源VS
S、ドレインはPMOSトランジスタ12およびNMO
Sトランジスタ13から構成されたCMOSインバータ
ーのゲートに接続され、PMOSトランジスタ12のソ
ースは第2のワード駆動回路選択線WDN’に、そして
NMOSトランジスタ13のソースは負電圧電源VBB
に接続されている。前記CMOSインバーターの出力は
NMOSトランジスタ14のソースに接続され、そして
NMOSトランジスタ14とCMOSインバーターを形
成するPMOSトランジスタ15のソースはワード線活
性化信号RAに接続されている。
のワード駆動回路選択線WDN、ゲートが接地電源VS
S、ドレインはPMOSトランジスタ12およびNMO
Sトランジスタ13から構成されたCMOSインバータ
ーのゲートに接続され、PMOSトランジスタ12のソ
ースは第2のワード駆動回路選択線WDN’に、そして
NMOSトランジスタ13のソースは負電圧電源VBB
に接続されている。前記CMOSインバーターの出力は
NMOSトランジスタ14のソースに接続され、そして
NMOSトランジスタ14とCMOSインバーターを形
成するPMOSトランジスタ15のソースはワード線活
性化信号RAに接続されている。
【0021】本実施例の動作のタイミングチャートを図
2に示す。
2に示す。
【0022】まず、ワード線WL活性化時には、第1の
ワード駆動回路選択線WDNをローレベルにした上で、
第2のワード駆動回路選択線WDN’をローに引き下げ
ることにより、ノード16はPMOSトランジスタのセ
ルフブートにより負電圧に引き下げられ、NMOSトラ
ンジスタ13がオフする。この時、このインバーターは
活性化されるので、ワード線活性化信号RAを昇圧レベ
ルVPPにすることにより、ワード線WLはVPPレベ
ルのハイレベルに引き上げられる。
ワード駆動回路選択線WDNをローレベルにした上で、
第2のワード駆動回路選択線WDN’をローに引き下げ
ることにより、ノード16はPMOSトランジスタのセ
ルフブートにより負電圧に引き下げられ、NMOSトラ
ンジスタ13がオフする。この時、このインバーターは
活性化されるので、ワード線活性化信号RAを昇圧レベ
ルVPPにすることにより、ワード線WLはVPPレベ
ルのハイレベルに引き上げられる。
【0023】一方、ワード線WL非活性化時には、WD
NおよびWDN’をハイレベルに引き上げることによ
り、PMOSトランジスタ12および15がオフし、N
MOSトランジスタ13および14がオンするため、ワ
ード線は負電圧VGDレベルに引き下げられる。
NおよびWDN’をハイレベルに引き上げることによ
り、PMOSトランジスタ12および15がオフし、N
MOSトランジスタ13および14がオンするため、ワ
ード線は負電圧VGDレベルに引き下げられる。
【0024】図3に本発明の第2の実施例の回路構成図
を示す。
を示す。
【0025】本実施例は、PMOSトランジスタ21の
ゲートを負電圧電源VBBに接続している点で前記第1
の実施例と異なるが、動作は同様である。本実施例の構
成を取ることにより、ノード26のセルフブートの効果
が大きくなるため、第1の実施例に比べ、より負電圧V
BBの絶対値が大きい場合でも動作可能になる。
ゲートを負電圧電源VBBに接続している点で前記第1
の実施例と異なるが、動作は同様である。本実施例の構
成を取ることにより、ノード26のセルフブートの効果
が大きくなるため、第1の実施例に比べ、より負電圧V
BBの絶対値が大きい場合でも動作可能になる。
【0026】図4に本発明の第3の実施例の回路構成図
を示す。
を示す。
【0027】本実施例は、PMOSトランジスタ31の
ソースに、ゲートを接地電位VSSに接続したPMOS
トランジスタ37を付加している点で前記第2の実施例
と異なる。このような構成を取ることにより、さらに負
電圧VBBの絶対値を大きくしていった場合に、負電圧
がワード駆動回路選択線WDNに逆流する場合があるの
を防止できる。
ソースに、ゲートを接地電位VSSに接続したPMOS
トランジスタ37を付加している点で前記第2の実施例
と異なる。このような構成を取ることにより、さらに負
電圧VBBの絶対値を大きくしていった場合に、負電圧
がワード駆動回路選択線WDNに逆流する場合があるの
を防止できる。
【0028】図5に本発明の第4の実施例の回路構成図
を示す。
を示す。
【0029】PMOSトランジスタ41は、ソースはワ
ード駆動回路選択線WDN、ゲートは接地電源VSS、
ドレインはワード線WLを出力するCMOSインバータ
ーを構成しソースをワード線活性化信号RAに接続した
PMOSトランジスタ42に接続され、前記CMOSイ
ンバーターを構成するNMOSトランジスタ43は、ソ
ースを負電圧電源VBBに、そして、ゲートをNMOS
トランジスタ44のドレインおよびPMOSトランジス
タ45のドレインに接続し、NMOSトランジスタ44
はゲートをワード線WL、ソースを負電圧電源VBBに
接続し、さらにPMOSトランジスタ45はゲートを接
地電源VSSに、ソースをワード駆動回路選択線WDN
に接続している。
ード駆動回路選択線WDN、ゲートは接地電源VSS、
ドレインはワード線WLを出力するCMOSインバータ
ーを構成しソースをワード線活性化信号RAに接続した
PMOSトランジスタ42に接続され、前記CMOSイ
ンバーターを構成するNMOSトランジスタ43は、ソ
ースを負電圧電源VBBに、そして、ゲートをNMOS
トランジスタ44のドレインおよびPMOSトランジス
タ45のドレインに接続し、NMOSトランジスタ44
はゲートをワード線WL、ソースを負電圧電源VBBに
接続し、さらにPMOSトランジスタ45はゲートを接
地電源VSSに、ソースをワード駆動回路選択線WDN
に接続している。
【0030】図6は図5に示した第4の実施例の動作の
タイミングチャートを示す。
タイミングチャートを示す。
【0031】まず、ワード線WL活性化時には、ワード
駆動回路選択線WDNをローレベルとし、ワード線活性
化信号RAを昇圧レベルVPPのハイレベルにすること
により、PMOSトランジスタ41およびNMOSトラ
ンジスタ44をオンし、NMOSトランジスタ43のゲ
ートに負電圧VBBが印加されるためこのNMOSトラ
ンジスタ43はオフし、ワード線WLがVPPレベルに
引き上げられる。この時、PMOSトランジスタ45は
負電圧VBBがワード駆動回路選択線WDNに伝播され
るのを防止している。
駆動回路選択線WDNをローレベルとし、ワード線活性
化信号RAを昇圧レベルVPPのハイレベルにすること
により、PMOSトランジスタ41およびNMOSトラ
ンジスタ44をオンし、NMOSトランジスタ43のゲ
ートに負電圧VBBが印加されるためこのNMOSトラ
ンジスタ43はオフし、ワード線WLがVPPレベルに
引き上げられる。この時、PMOSトランジスタ45は
負電圧VBBがワード駆動回路選択線WDNに伝播され
るのを防止している。
【0032】一方、ワード線WL非活性化時には、ま
ず、ワード駆動回路選択線WDNをローレベルに保った
まま、ワード線活性化信号RAをローレベルにすること
により、ノード46がPMOSトランジスタのセルフブ
ートにより引き下げられるため、PMOSトランジスタ
41のしきい値の影響を受けないRAのローレベルがそ
のままNMOSトランジスタ44のゲートに印加され、
このNMOSトランジスタ44の駆動力を十分に引き下
げられる。その後、ワード駆動回路選択線WDNをハイ
レベルにすることにより、NMOSトランジスタ43が
オンするため、もともと駆動力が落ちていたNMOSト
ランジスタ44が容易にオフし、ワード線WLが負電圧
VBBレベルに引さ下げられる。
ず、ワード駆動回路選択線WDNをローレベルに保った
まま、ワード線活性化信号RAをローレベルにすること
により、ノード46がPMOSトランジスタのセルフブ
ートにより引き下げられるため、PMOSトランジスタ
41のしきい値の影響を受けないRAのローレベルがそ
のままNMOSトランジスタ44のゲートに印加され、
このNMOSトランジスタ44の駆動力を十分に引き下
げられる。その後、ワード駆動回路選択線WDNをハイ
レベルにすることにより、NMOSトランジスタ43が
オンするため、もともと駆動力が落ちていたNMOSト
ランジスタ44が容易にオフし、ワード線WLが負電圧
VBBレベルに引さ下げられる。
【0033】本実施例では、前記第1ないし第3の実施
例に比べ、ワード駆動回路選択線がWDNの1本ですむ
利点がある。
例に比べ、ワード駆動回路選択線がWDNの1本ですむ
利点がある。
【0034】図7に本発明の第5の実施例の回路構成図
を示す。
を示す。
【0035】本実施例は、PMOSトランジスタ51の
ゲートを負電圧電源VBBに接続している点で前記第4
の実施例と異なるが、動作は同様である。
ゲートを負電圧電源VBBに接続している点で前記第4
の実施例と異なるが、動作は同様である。
【0036】本実施例の構成を取ることにより、ノード
56のセルフブートの効果が大きくなるため、第4の実
施例に比べ、より負電圧VBBの絶対値が大さい場合で
も動作可能になる。
56のセルフブートの効果が大きくなるため、第4の実
施例に比べ、より負電圧VBBの絶対値が大さい場合で
も動作可能になる。
【0037】図8に本発明の第6の実施例の回路構成図
を示す。
を示す。
【0038】本実施例は、PMOSトランジスタ61の
ソースに、ゲートを接地電位VSSに接続したPMOS
トランジスタ66を付加している点で、前記第5の実施
例と異なる。このような構成を取ることにより、さらに
負電圧VBBの絶対値を大きくしていった場合に、負電
圧がワード駆動回路選択線WDNに逆流する場合がある
のを防止できる。
ソースに、ゲートを接地電位VSSに接続したPMOS
トランジスタ66を付加している点で、前記第5の実施
例と異なる。このような構成を取ることにより、さらに
負電圧VBBの絶対値を大きくしていった場合に、負電
圧がワード駆動回路選択線WDNに逆流する場合がある
のを防止できる。
【0039】
【発明の効果】以上述べてきた本発明では、従来例に比
ベワード線駆動回路を構成するトランジスタ数が、従来
例の6〜7個に比べ、5〜6個と同等以下である。ワー
ド線駆動回路は、1つのメモリデバイスの中で数千個と
非常に多数使用されるため同様な性能が1つでも少ない
トランジスタで実現できる効果は大きい。
ベワード線駆動回路を構成するトランジスタ数が、従来
例の6〜7個に比べ、5〜6個と同等以下である。ワー
ド線駆動回路は、1つのメモリデバイスの中で数千個と
非常に多数使用されるため同様な性能が1つでも少ない
トランジスタで実現できる効果は大きい。
【0040】さらに、本発明の第1ないし第3の実施例
では、ワード線WLの出力が1段のインバーター出力で
決まるため、また、本発明の第4ないし第6の実施例で
は、PMOSトランジスタのセルフブートによりNMO
Sトランジスタ45の出力の決定が速いため、従来例2
に比べ高速動作が可能である。
では、ワード線WLの出力が1段のインバーター出力で
決まるため、また、本発明の第4ないし第6の実施例で
は、PMOSトランジスタのセルフブートによりNMO
Sトランジスタ45の出力の決定が速いため、従来例2
に比べ高速動作が可能である。
【0041】また、本発明では、プルアツプ部がPMO
Sトランジスタで構成されているため実施例1に比べて
も高速動作が可能である。
Sトランジスタで構成されているため実施例1に比べて
も高速動作が可能である。
【0042】そして、本発明では、出力がトランジスタ
の寸法比率に敏感でないため、設計も簡単で安定した動
作が見込める。
の寸法比率に敏感でないため、設計も簡単で安定した動
作が見込める。
【図1】本発明の第1の実施例を示す回路構成図であ
る。
る。
【図2】本発明の第1の実施例の回路の動作タイミング
チャートである。
チャートである。
【図3】本発明の第2の実施例を示す回路構成図であ
る。
る。
【図4】本発明の第3の実施例を示す回路構成図であ
る。
る。
【図5】本発明の第4の実施例を示す回路構成図であ
る。
る。
【図6】本発明の第4の実施例の回路の動作タイミング
チャートである。
チャートである。
【図7】本発明の第5の実施例を示す回路構成図であ
る。
る。
【図8】本発明の第6の実施例を示す回路構成図であ
る。
る。
【図9】従来例1を示す回路構成図である。
【図10】従来例2を示す回路構成図である。
11、12、15、21、22、25、31、32、3
5、37、41、42、45、51、52、55、6
1、62、65、66、81、82 PMOSトランジ
スタ 13、14、23、24、33、34、43、44、5
3、54、63、64、71、72、74、75、8
3、84 NMOSトランジスタ 16、26、36、46、56、73 ノード WL ワード線 WDN 第1のワード駆動回路選択線 WDN’ 第2のワード駆動回路選択線 VPP 昇圧レベル電源 VBB 負電圧電源 VSS 接地電源
5、37、41、42、45、51、52、55、6
1、62、65、66、81、82 PMOSトランジ
スタ 13、14、23、24、33、34、43、44、5
3、54、63、64、71、72、74、75、8
3、84 NMOSトランジスタ 16、26、36、46、56、73 ノード WL ワード線 WDN 第1のワード駆動回路選択線 WDN’ 第2のワード駆動回路選択線 VPP 昇圧レベル電源 VBB 負電圧電源 VSS 接地電源
Claims (7)
- 【請求項1】 PMOSトランジスタの負電圧セルフブ
ートを利用し、ソースが負電圧電源に接続されたNMO
Sトランジスタのスイッチング機能を実現することを特
徴とする半導体メモリ装置のワード線駆動回路。 - 【請求項2】 ゲートを接地電源に接続した第1のPM
OSトランジスタと、該第1のPMOSトランジスタの
ドレインをゲートに接続した第2のPMOSトランジス
タおよびNMOSトランジスタとから構成され、前記第
2のPMOSトランジスタのソース電位を引き下げるこ
とによって、前記第1および第2のPMOSトランジス
タの接点電位をセルフブートにより負電位に引き下げ前
記NMOSトランジスタのスイッチング機能を実現する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装置の
ワード線駆動回路。 - 【請求項3】 前記第1のPMOSトランジスタのゲー
トが負電圧電源に接続されていることを特徴とする請求
項2に記載の半導体メモリ装置のワード線駆動回路。 - 【請求項4】 前記第1のPMOSトランジスタのソー
スに、ゲートを接地電源に接続した第3のPMOSトラ
ンジスタのドレインを接続することを特徴とする請求項
3に記載の半導体メモリ装置のワード線駆動回路。 - 【請求項5】 ゲートを接地電源に接続した第1のPM
OSトランジスタと、該第1のPMOSトランジスタの
ドレインをゲートに接続した第2のPMOSトランジス
タと、前記第2のPMOSトランジスタとドレイン同士
を共有した第1のNMOSトランジスタと、ゲートを前
記第2のPMOSトランジスタのドレインと接続しドレ
インを前記第1のNMOSトランジスタのゲートと接続
した第2のNMOSトランジスタと、前記第1のPMO
Sトランジスタのソースと前記第2のNMOSトランジ
スタのドレインとを接続するゲートを接地電源に接続し
た第3のPMOSトランジスタとから構成されることを
特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装置のワード
線駆動回路。 - 【請求項6】 前記第1のPMOSトランジスタのゲー
トが負電圧電源に接続されていることを特徴とする請求
項5に記載の半導体メモリ装置のワード線駆動回路。 - 【請求項7】 前記第1のPMOSトランジスタのソー
スに、ゲートを接地電源に接続した前記第3のPMOS
トランジスタのドレインを接続することを特徴とする請
求項6に記載の半導体メモリ装置のワード線駆動回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9048628A JP3000950B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 半導体メモリ装置のワード線駆動回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9048628A JP3000950B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 半導体メモリ装置のワード線駆動回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10247391A JPH10247391A (ja) | 1998-09-14 |
| JP3000950B2 true JP3000950B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=12808664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9048628A Expired - Lifetime JP3000950B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 半導体メモリ装置のワード線駆動回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000950B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009016039A (ja) * | 2008-10-20 | 2009-01-22 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置 |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP9048628A patent/JP3000950B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10247391A (ja) | 1998-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19991012 |