JP4811409B2 - 弾性表面波装置の製造方法 - Google Patents
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Description
2…圧電基板
3…不平衡端子
4,5…第1,第2の平衡端子
6…第1の縦結合共振子型弾性表面波フィルタ
7…第2の縦結合共振子型弾性表面波フィルタ
7a〜7c…IDT電極
8,9…一端子対弾性表面波共振子
10…SiO2膜
10a〜10h…開口
11…感光性樹脂膜
12…感光性樹脂膜
13…第1の配線パターン
14…第2の配線パターン
15…電極パッド
16…第3の配線パターン
17…第4の配線パターン
18…第5の配線パターン
21…フォトレジスト層
22…フォトレジスト層
22a…開口
Claims (5)
- 圧電基板上にCuからなる金属層を含むIDT電極及び第1の配線パターンを形成する工程と、
前記IDT電極及び第1の配線パターンを形成した後に、圧電基板上にIDT電極及び第1の配線パターンを覆うように絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜上に感光性樹脂を塗布し、感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層を加熱硬化した後にパターニングする工程と、
前記感光性樹脂層をパターニングする工程後に、前記絶縁膜上の第2の感光性樹脂層を形成する工程と、
前記第2の感光性樹脂層に開口部を形成し、該開口部に露出している前記絶縁膜を部分的にエッチングしかつ前記IDT電極上に絶縁膜を残存させる工程と、
前記IDT電極が設けられている領域とは異なる領域であって、前記絶縁膜及び絶縁膜上に設けられている前記感光性樹脂膜からなる絶縁層が設けられている領域において、該絶縁層上に第2の配線パターンを形成する工程と備えることを特徴とする、弾性表面波装置の製造方法。 - 前記第2の配線パターンが、前記第1の配線パターンと異なる電位に接続される配線パターンであって、該第1の配線パターンと前記絶縁層を介して立体交差するように、前記第1,第2の配線パターンが設けられている、請求項1に記載の弾性表面波装置の製造方法。
- 前記圧電基板上に前記IDT電極及び第1の配線パターンを形成する工程において第3の配線パターンを形成し、
前記IDT電極及び前記第1の配線パターンを覆うように、絶縁膜を形成する工程において、前記第3の配線パターンをも覆うように絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜の部分的エッチングに際し、前記第3の配線パターンを部分的に露出させる開口を形成し、
前記開口内において、前記第3の配線パターンに電気的に接続されるように、かつ前記開口の周囲の絶縁膜及び絶縁膜に積層されている感光性樹脂膜からなる絶縁層上に至る第4の配線パターンを形成する工程をさらに備えることを特徴とする、請求項1または2に記載の弾性表面波装置の製造方法。 - 前記絶縁膜がSiO2膜である、請求項1〜3に記載の弾性表面波装置の製造方法。
- 前記絶縁膜が、周波数温度特性改善用の膜であることを特徴とする、請求項1〜4に記載の弾性表面波装置の製造方法。
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