JP4766701B2 - 窒素含有炭素材料およびその製造方法 - Google Patents
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Description
[0001]
本発明は、電極材料等として有用な窒素含有炭素材料およびその製造方法に関する。
背景技術
[0002]
炭素材料は、従来、吸着材等として主に使用されていたが、導電性等の電子材料物性、高い熱伝導率、低い熱膨張率、軽さ、耐熱性等の基本的な性質を持つために幅広い用途が検討されるようになってきている。特に最近はその電子材料物性に着目されて、リチウムイオン二次電池負極、キャパシタ用電極等の電子材料分野にも使用、あるいは検討されている。
[0003]
かかる炭素材料は、椰子殻、石炭コークス、石炭又は石油ピッチ、フラン樹脂、フェノール樹脂等を原料とし、炭化処理して製造されている。
[0004]
近年になって、かかる炭素材料に他の元素を含有させて炭素材料の物性の幅をさらに広げて発展させようとする試みがある。こうした中で、最近、窒素含有炭素材料は、リチウムイオン二次電池負極、キャパシタ用電極などの用途(例えば特許文献1、2参照)において、電気化学的特性が向上することが報告され、また吸着剤(例えば特許文献3参照)、水素吸蔵材料としての特性(例えば特許文献4、5参照)も報告され注目されている。
[0005]
従来、知られている窒素含有炭素材料の製法と窒素含有炭素材料を、以下に列挙する。
[0006]
窒素含有炭素材料の製法としては、主に、(1)低分子の窒素含有有機化合物を原料として化学気相蒸着(CVD)させる方法、(2)低分子の窒素含有有機化合物を原料として重合させ、得られた樹脂を炭化処理する方法、等が知られている。
[0007]
前述の(1)では、例えば、ピロール等の窒素含有機化合物を基板上に析出させる方法(特許文献6、7参照)、多孔体の細孔内に析出させる方法(特許文献3参照)、アセトニトリルのような非環状有機化合物を炭素材料上に析出させる方法(特許文献8、5参照)、2,3,6,7−テトラシアノ−1,4,5,8―テトラアザナフタレンを重合させ高温で炭化させる方法(特許文献9参照)等の方法が知られている。
【0008】
前述の(2)では、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂を高温で炭化させる方法(特許文献10参照)、ポリイミドを高温で炭化させる方法(特許文献1参照)、ポリアニリンを高温で炭化させる方法(特許文献2参照)、ポリピロールを高温で炭化させる方法(特許文献11参照)、フタロシアニンをフラン樹脂の前駆体に混合し高温で炭化させる方法(特許文献12参照)、ポリアクリロニトリルを高温で炭化させる方法(例えば特許文献13参照)等の方法が知られている。
【0009】
しかしながら、(1)、(2)のいずれの方法ともに、経済性を充足させながら、高窒素含有量と低水素含有量を達成する材料、およびその製造方法としては不十分な状況にある。
【0010】
すなわち、(1)の方法では、CVDを用いた方法自体が工業的に大量に製造するためには不向きであり、またCVDの過程において塩素等のハロゲン含有化合物を用いる場合は材質の腐食という問題があり好ましくない。
【0011】
(2)の方法では、高価な樹脂、即ち、樹脂原料であるモノマーが多段の反応によって製造されるなど製造工程が複雑であったり、モノマーが工業的に大量に製造されていない樹脂を原料として炭化物を製造するため、基礎原料からの工程を勘案すると炭素材料の製造に至るまで膨大な原料とエネルギーを消費するという問題がある。さらに重合工程や樹脂、繊維化工程が複雑であるために、炭化して得られる窒素含有炭素材料はますます多くの原料とエネルギーを消費することになる。それゆえ高価となり各種の用途向けに供給するには不満足である。さらには、炭化した際に炭化物の回収率が低いという問題、得られる窒素含有炭素材料中の窒素含有量が少ないという問題、あるいは逆に窒素含有量を多くしようとして炭化温度を下げたり炭化時間を短くすると炭化が進まずに水素含有量も多くなって共役構造の形成が不十分となり、そもそも炭素材料としての特性が発揮されないという問題、などの問題点があった。また炭化の工程で塩素等のハロゲンを用いたり、高圧をかけるのは材質や運転の面で工業的に不利である。
【0012】
従来のこれらの製法で製造された窒素含有炭素材料の物質としての特性を整理すると以下のようになる。
【0013】
CVDによって得られた窒素含有炭素材料は、一般に、窒素含有量が少なく、水素含有量が多い。またニトリル基やハロゲン基が残存し、層状構造の面間距離が短くなる傾向にある。例えば、特許文献6、特許文献9、特許文献5では、ピロールや2,3,6,7−テトラシアノ−1,4,5,8―テトラアザナフタレン、アセトニトリルや、臭化ニトリルを原料としてCVDで製造されているが、窒素含有量が少ないか、または水素含有量が多い。またニトリル基やハロゲン基が残存したり、またX線回折図において(002)面に相当する回折角(2θ)のピーク位置は26.5°(面間距離3.36オングストロームに相当)であり層間距離が短い。
【0014】
特許文献11には、ピロールを重合させて高温で炭化させる方法で得られる窒素含有炭素材料の製造例を開示している。得られた窒素含有炭素材料のX線回折図において、(002)面に相当する回折角(2θ)のピーク位置は26.0°であり、面間距離3.42オングストロームに相当する。また特許文献11には、この窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトルも開示されており、ピーク位置は、結晶性に相当する1600cm−1と、非晶性に相当する1350cm−1であり、ほとんどピークシフトがない。また1600cm−1と1350cm−1のピークの分離がはっきりしている。すなわちラマンピークの半値幅が狭い。
【0015】
前述の特許文献4には、N−ビニル−2―ピロリドンからCVDによって製造された窒素含有炭素材料を開示している。得られた窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトルデータによれば、この窒素含有炭素材料は1350cm−1にピークを有し、その半値幅は97cm−1とシャープな半値幅を持っている。また特許文献4には高圧窒素雰囲気中で非常に強い粉砕加速度でグラファイト粉末を粉化させて窒素含有炭素材料を製造する例をも開示しているが、1350cm−1の半値幅はせいぜい87cm−1と比較的シャープな半値幅を有している。
【0016】
なお、レーザーラマンスペクトルのピークの半値幅またはピークのブロード性は結晶性を示す一つの指標であり、結晶性の上昇につれてピークがシャープになることがよく知られている(例えば非特許文献1)。
【0017】
即ち、従来の技術で得られていた窒素含有炭素材料は、(i)窒素含有量が少ないこと、水素含有量が多いこと、ニトリル基やハロゲン基を含むこと、(ii)X線回折によって測定される(002)面の層間距離が短いこと、(iii)レーザーラマンによって測定されるスペクトルのピークがシフトしていないこと、(iv)ピークの半値幅が小さく結晶性が高いこと、の4つの特性の少なくとも一つを満たすような窒素含有炭素材料であった。
【0018】
リチウムイオン二次電池やキャパシタ等の電子材料分野で用いられる炭素材料としては、窒素原子の含有量が高いことが有利であることが知られている(例えば特許文献7、特許文献14)。また水素含有量が少ないほど共役構造が発達することから電子導電性等の電子物性に有利である。また官能基の存在は好ましくない。
【0019】
また結晶性が低い炭素材料は難黒鉛性炭素(ハードカーボンとも言われる)として知られ、このことが電気容量の向上に有利であることが知られている(例えば非特許文献2)。また結晶性が低いことによって、低温作動特性に優れたプロピレンカーボネートを電解液の溶媒として用いることが可能となることが知られている(例えば非特許文献3)。
【0020】
また層間距離が大きいことは、層間化合物の形成に有利である。リチウムイオン二次電池の場合にはリチウムイオンの層間への挿入、脱離に対して有利である。
【0021】
こうしたことから上記の(i)〜(iv)の特性のいずれも満足しない新規な炭素材料が望まれていた。
【0022】
【特許文献1】
特開2001−80914号公報
【特許文献2】
特開平10−21918号公報
【特許文献3】
特開2004−168587号公報
【特許文献4】
特開2005−798号公報
【特許文献5】
特開2003−277026号公報
【特許文献6】
特開平7−90588号公報
【特許文献7】
特開平9−27317号公報
【特許文献8】
特開2004−342463号公報
【特許文献9】
特開2003−137524号公報
【特許文献10】
特開2000−1306号公報
【特許文献11】
特開平8−165111号公報
【特許文献12】
特開2004−362802号公報
【特許文献13】
特開平8−180866号公報
【特許文献14】
特開平2005−239456号公報
【非特許文献1】
自動車用大容量二次電池 p140 シーエムシー出版(2003)
【非特許文献2】
リチウムイオン二次電池のための負極用炭素材料 p4 リアライズ社(1996)
【非特許文献3】
リチウムイオン二次電池のための負極用炭素材料 p11 リアライズ社(1996)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0023】
本発明は、以上の状況を鑑み、天然ガス、ナフサクラッカー留分という基礎化学原料から直接誘導されるかまたはその副生物として製造されるモノマーを利用していること、更に重合工程やその後工程である重合体の粉体化工程が簡易な製造方法であること、得られた粉体化された重合物の炭化工程において炭化物の回収率が高いことを特徴とする省エネ、省資源の窒素含有炭素材料の製造方法を提供することを目的とする。
【0024】
また本発明は、工業的に簡易で大量製造が可能な窒素含有炭素材料の製造方法を提供することを目的とする。
【0025】
また本発明は、窒素原子の含有率が高く、水素原子の含有率が低く、ニトリル基やハロゲン基の残存率が低く、層状構造を有し、かつ層間距離が長く、レーザーラマンスペクトルにおいて特定のピークシフトを有する新規な窒素含有炭素材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0026】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、窒素含有炭素材料の製造方法、および窒素含有炭素材料を見出し、本発明をなすに至った。
【0027】
すなわち、本発明は以下の通りである。
(1)アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする窒素含有炭素材料、
(2)アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする窒素含有炭素材料の製造方法、
(3)窒素含有炭素材料において、下記の条件(i)、(ii)及び(iii)を満たすことを特徴とする窒素含有炭素材料:
(i)炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)、炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)との下記の関係式(I)を満たすこと、
(N/C)>0.87×(H/C)−0.06 (I)
(ii)CuKα線をX線源として得られるX線回折図において、回折角(2θ)が23.5〜25.5°の位置にピークを有すること、
(iii)波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、1355〜1385cm−1の間にピークP1と、1550〜1620cm−1の間にピークP2という少なくとも2つの主要なピークを有し、且つ、P1とP2の間の最小点Mのベースラインからの高さLと、P1のベースラインからの高さH1の比(L/H1)が0.7〜0.95であること、
(4)X線光電子分光分析(XPS)により求められるN1sのXPSスペクトル図において、401.0±0.3eV、および398.0±0.5eVにピークを有することを特徴とする(3)に記載の窒素含有炭素材料、
(5)波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、ピークP1の半値幅が200〜400cm−1であることを特徴とする(3)または(4)に記載の窒素含有炭素材料、
(6)波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、ピークP2の半値幅が30〜200cm−1であることを特徴とする(3)〜(5)のいずれかに記載の窒素含有炭素材料、
(7)炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)が0.01〜0.5であることを特徴とする(3)〜(6)のいずれかに記載の窒素含有炭素材料、
(8)赤外線吸収スペクトル図において、波数1500〜1800cm−1における吸光度のピーク強度の最大値を与える波数が、1550〜1640cm−1にあることを特徴とする(3)〜(7)のいずれかに記載の窒素含有炭素材料、
(9)赤外線吸収スペクトル図において、波数2200〜2280cm−1における吸光度のピークS2の強度Q2と、1550〜1640cm−1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q2/Q1)が、0.07以下であることを特徴とする(3)〜(8)のいずれかに記載の窒素含有炭素材料、
(10)赤外線吸収スペクトル図において、波数2800〜3000cm−1における吸光度のピークS3の強度Q3と、1550〜1640cm−1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q3/Q1)が、0.10以下であることを特徴とする(3)〜(9)のいずれかに記載の窒素含有炭素材料、
(11)赤外線吸収スペクトル図において、波数3000〜3500cm−1における吸光度のピークS4の強度Q4と、1550〜1640cm−1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q4/Q1)が、0.80以下であることを特徴とする(3)〜(10)のいずれかに記載の窒素含有炭素材料、
(12)(3)〜(11)の少なくとも一つ以上を満たすことを特徴とする(1)に記載の窒素含有炭素材料、
(13)(1)、(3)〜(12)のいずれかに記載の電極材料用窒素含有炭素材料。
発明の効果
[0028]
本発明の製造方法は、アクリロニトリル等のモノマー製造工程において、副生物として製造された、青酸等を重合体原料としているため、省資源、省エネルギーとなる製造方法である。また本発明の製造方法は、前駆体である重合体が、容易に重合するため製造が簡便であり、重合体の炭化工程における炭化物の回収率が高く、効率的な製造方法である。得られた窒素含有炭素材料は、さらさらな粉末であるために、樹脂、繊維化工程等の成型工程やその後の粉砕化工程が不要であり、取り扱い性にも優れている。
[0029]
本発明の窒素含有炭素材料は、窒素原子の含有率が高く、水素原子の含有率が低く、ニトリル基残存率が低く、層状構造を有し、かつ層間距離が長く、レーザーラマンスペクトルおいて特定のピークシフトを有し、結晶性の指標を示すと考えられるブロードなピークを有する新規な窒素含有炭素材料である。
発明を実施するための最良の形態
[0030]
本発明は、アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする窒素含有炭素材料である。
【0031】
また本発明は、アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする窒素含有炭素材料の製造方法である。
【0032】
また本発明は、下記の条件(1)、(2)及び(3)を満たすことを特徴とする窒素含有炭素材料である:
(1)炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)、炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)との下記の関係式(I)を満たすこと、
(N/C)>0.87×(H/C)−0.06 (I)
(2)CuKα線をX線源として得られるX線回折図において、回折角(2θ)が23.5〜25.5°の位置にピークを有すること、
(3)波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、1355〜1385cm−1の間にピークP1と、1550〜1620cm−1の間にピークP2という少なくとも2つの主要なピークを有し、且つ、P1とP2の間の最小点Mのベースラインからの高さLと、P1のベースラインからの高さH1の比(L/H1)が0.7〜0.95であること。
【0033】
本発明に係る窒素含有炭素材料が満たす条件(1)について、炭素原子、窒素原子、水素原子の存在比率は、CHN分析装置を用いて行う。
【0034】
本発明に係る窒素含有炭素材料における炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)、炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)との関係式は以下の通りである。
(N/C)>0.87×(H/C)−0.06 (I)
【0035】
(I)式を満たさない窒素含有炭素材料は、(H/C)が大きいか、または(N/C)が小さいということであり、共役系が十分に発達していないか窒素含有量が少ないということであり好ましくない。
好ましくは、
(N/C)>0.91×(H/C)−0.045 (II)
特に好ましくは
(N/C)>1.0×(H/C)―0.040 (III)
である。
また、本発明に係る窒素含有炭素材料における炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)、炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は、以下の関係式を満たすことが好ましい。
(N/C)<1.2×(H/C)+0.15 (IV)
【0036】
(IV)式を満たさない窒素含有炭素材料は、アズルミン酸の製造工程やアズルミン酸の炭化処理工程において多大の設備や資源、エネルギーを消費するために好ましくない。
より好ましくは、
(N/C)<1.2×(H/C)+0.08 (V)
特に好ましくは、
(N/C)<1.2×(H/C)+0.01 (VI)
である。
【0037】
式(I)〜(VI)は、実施例中の図15の実施例を囲む範囲として導出される。即ち、実施例をつなぐ線の傾きにほぼ平行な線で囲まれる領域である。
【0038】
本発明に係る窒素含有炭素材料における炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は、0.01〜0.5が好ましく、より好ましくは0.05〜0.40であり、さらに好ましくは0.05〜0.35である。特に好ましくは0.05〜0.15である。
【0039】
(H/C)が大きいと共役系が十分に発達していないために好ましくなく、(H/C)が小さいと、(N/C)が小さくなりがちであるために好ましくない。
【0040】
本発明に係る窒素含有炭素材料における炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は、0.03〜1.0であり、好ましくは0.05〜0.7、より好ましくは0.08〜0.4であり、特に好ましくは0.15〜0.3である。
【0041】
本発明に係る窒素含有炭素材料は、小さい(H/C)であるにもかかわらず、大きい(N/C)を実現できる。すなわち共役系を十分に発達させながら、多くの窒素元素を含む炭素材料を実現できる。
【0042】
本発明に係る窒素含有炭素材料は、炭素原子、窒素原子、水素原子以外の元素を含んでよい。その他の元素の含有量は、本発明に係る窒素含有炭素材料100重量%に対して15重量%以下が好ましく、より好ましくは7重量%以下であり、特に好ましくは3重量%以下である。
【0043】
その他の元素としては酸素元素を挙げることができる。この酸素元素はカルボキシル基や水酸基の形態で存在することが多い。電子材料に用いた場合においては、これらの官能基が多いと不可逆的な吸着を起こすために好ましくない。塩素、臭素等のハロゲン元素の存在は材質の腐食等のため好ましくない。ハロゲン元素の含有率は10重量%以下が好ましく、3重量%以下がより好ましく、さらによりに好ましくは1重量%以下であり、特に好ましくは0.1重量%以下である。
【0044】
本発明に係る窒素含有炭素材料が満たす条件(2)について、CuKα線をX線源として得られるX線回折図において、回折角(2θ)は23.5〜25.5°の位置にピークを有し、23.7〜25.0の位置にピークを有することが好ましく、23.9〜24.5°にピークを有することがより好ましい。該ピークは、回折角(2θ)が15〜50°においてもっとも強度が大きいことが好ましい。本発明に係る窒素含有炭素材料は層状構造を有する。その層間距離は、3.49〜3.78オングストロームに相当し、好ましい層間距離は3.56〜3.75オングストロームに相当し、より好ましい層間距離は3.64〜3.72オングストロームに相当する。層間距離が大きいことは層間化合物を形成するのに有利である。
【0045】
本発明に係る窒素含有炭素材料が満たす条件(3)について、本発明に係る窒素含有炭素材料の波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、1355〜1385cm−1の間にピークP1と、1550〜1620cm−1の間にピークP2という少なくとも2つの主要なピークを有する。1360〜1380cm−1の間にピークP1、1570〜1585cm−1の間にピークP2という2つの主要なピークを有することが好ましい。
【0046】
本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図において、後述する(L/H1)の比は0.70〜0.95であり、好ましくは0.86〜0.93であり、特に好ましくは0.88〜0.91である。ここで本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図における(L/H1)の比とは、ピークの半値幅と関連する値である。半値幅が小さいと(L/H1)の値が小さくなり、半値幅が大きいと(L/H1)の値が大きくなる。なお本発明では半値幅の指標として(L/H1)を用いるが、ピーク分離を行い半値幅を測定することもできる。ピーク分離はローレンツ関数、ガウス関数等公知の方法を用いて行うことができる。ピーク分離の際、フィット率の高い関数を適宜用いればよいことは当業者には容易に理解できる。
【0047】
本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図において、ピークP1の半値幅としては、200〜400cm−1が好ましく、250〜350cm−1がより好ましく、特に好ましくは270〜320cm−1である。
【0048】
本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図において、後述する(L/H2)の比は、0.60〜0.90が好ましく、より好ましくは0.63〜0.85であり、特に好ましくは0.75〜0.84である。ここで本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図における(L/H2)の比とは、ピークの半値幅と関連する値である。半値幅が小さいと(L/H2)の値が小さくなり、半値幅が大きいと(L/H2)の値が大きくなる。なお本発明では半値幅の指標として(L/H2)を用いるが、ピーク分離を行い半値幅を測定することもできる。ピーク分離はローレンツ関数、ガウス関数等公知の方法を用いて行うことができる。ピーク分離の際、フィット率の高い関数を適宜用いればよいことは当業者には容易に理解できる。
【0049】
本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図において、ピークP2の半値幅としては、30〜200cm−1が好ましく、80〜170cm−1がより好ましく、特に好ましくは100〜150cm−1である。
【0050】
前述のP1、P2は、レーザーラマンスペクトル図におけるラマンシフトが1340〜1620cm−1の間の主要な2つのピークである。P1は1355〜1385cm−1の間のピークであり、P2は1550〜1620cm−1の間のピークである。
本発明では、ピーク強度は、Arレーザー(波長540nm、2mW)を用い、ビームサイズ5μ、操作範囲1000〜2000cm−1、積算時間5分で測定したときに得られるレーザーラマンスペクトル図から測定される。
【0051】
図1は、本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図の一例の模式図を示す。なお、図1は、本発明で用いる(L/H1)の比、(L/H2)の比を説明するための図であって、本発明に係る窒素含有炭素材料から得られるのレーザーラマンスペクトル図を何ら限定するものではない。
【0052】
図1に示すように、B1は、1000〜1300cm−1の最小の強度値であり、B2は1700〜2000cm−1の間の最小の強度値である。本発明で用いるレーザーラマンスペクトル図におけるベースラインは、B1、B2を結んだ直線である。
【0053】
次に、図1に示すC1、C2は、それぞれ、ピークP1およびP2からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点である。
【0054】
Dは、ピークP1およびP2との間における最小の強度値Mからラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点であり、高さLは、前記Mからラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点までの長さである。具体的には、図1に例示するレーザーラマンスペクトル図では線分MDの長さである。
【0055】
一方、高さH1は、P1からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点までの長さである。図1に例示するレーザーラマンスペクトル図では線分P1C1の長さが高さH1に相当する。高さH2は、P2からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点までの長さである。図1に例示するレーザーラマンスペクトル図では線分P2C2の長さが高さH2に相当する。
【0056】
本発明に係る窒素含有炭素材料は、X線光電子分光分析(XPS)により求められるN1sのXPSスペクトル図において、401.0±0.3eV、および398.0±0.5eVにピークを有することが好ましい。より好ましくは、401.0±0.2eV、および398.0±0.3eVであり、特に好ましくは401.0±0.1eV、および398.0±0.1eVである。なお、N1sのXPSスペクトル図において、401eV付近のピークはCenter型、Valley型の窒素元素に対応し、398eV付近のピークはTop型の窒素元素に対応する(例えばCarbon 40巻、597−608(2002年参照)。すなわち窒素原子がそれぞれ4級化窒素あるいはピリジン状の窒素として炭素網面の面内、面端に存在することを意味する。本発明に係る窒素含有炭素材料では、このような形態の窒素元素を含有することが好ましい。なお、XPSは、X線源:Al管球(Al−Kα線)、管電圧:15kV、管電流:10mA、分析面積:600μm×300μm楕円、取り込み領域:N1s,C1s、Pass−Energy:20eV、にて得られたスペクトルであって、C1sのピーク位置でエネルギー補正を行って測定したときの値として定義される。
【0057】
本発明に係る窒素含有炭素材料は、赤外線吸収スペクトル図において、波数1500〜1800cm−1における吸光度のピーク強度の最大値を与える波数が、1550〜1640cm−1にあることが好ましい。
【0058】
また該窒素含有炭素材料は、赤外線吸収スペクトル図において、波数2200〜2280cm−1における吸光度のピークS2の強度Q2と、1550〜1640cm−1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q2/Q1)が、0.07以下であることが好ましい。より好ましくは0.05以下であり、特に好ましくは0.02以下である。波数2200〜2280cm−1における吸光度のピークは、ニトリル基由来のピークであり、少ないことが好ましい。
【0059】
また該窒素含有炭素材料は、赤外線吸収スペクトル図において、波数2800〜3000cm−1における吸光度のピークS3の強度Q3と、1550〜1640cm−1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q3/Q1)が、0.10以下であることが好ましい。より好ましくは0.05以下であり、特に好ましくは0.02以下である。波数2800〜3000cm−1における吸光度のピークは、C−H基由来のピークであり、少ないことが好ましい。
【0060】
また該窒素含有炭素材料は、赤外線吸収スペクトル図において、波数3000〜3500cm−1における吸光度のピークS4の強度Q4と、1550〜1640cm−1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q4/Q1)が、0.80以下であることが好ましい。より好ましくは0.70以下であり、特に好ましくは0.6以下である。波数3000〜3500cm−1における吸光度のピークは、N−H基、O−H基由来のピークであり、少ないことが好ましい。
【0061】
なお赤外線吸収スペクトル図におけるピーク強度は、以下のように定義される。
【0062】
ピークS1の強度Q1は、以下のように定義される。A1を1000〜1200cm−1の最小の吸光度を示す点とし、A2を1700〜1900cm−1の間の最小の吸光度を示す点とする。ベースラインA1A2は、A1、A2を結んだ直線である。
【0063】
次に、E1はピークS1から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインA1A2の交点である。ピークS1の強度Q1は、前記S1から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインの交点E1までの線分S1E1の長さである。
【0064】
ピークS2の強度Q2は、以下のように定義される。A3を2100〜2200cm−1の最小の吸光度を示す点とし、A4を2280〜2400cm−1の間の最小の吸光度を示す点とする。ベースラインA3A4は、A3、A4を結んだ直線である。
【0065】
次に、E2はピークS2から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインA3A4の交点である。ピークS2の強度Q2は、前記S2から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインの交点E2までの線分S2E2の長さである。
【0066】
ピークS3の強度Q3は、以下のように定義される。A5を2700〜2800cm−1の最小の吸光度を示す点とし、A6を3000〜3100cm−1の間の最小の吸光度を示す点とする。ベースラインA5A6は、A5、A6を結んだ直線である。
【0067】
次に、E3はピークS3から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインA5A6の交点である。ピークS3の強度Q3は、前記S3から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインの交点E3までの線分S3E3の長さである。
【0068】
ピークS4の強度Q4は、以下のように定義される。A7を2500〜3000cm−1の最小の吸光度を示す点とし、A8を3500〜4000cm−1の間の最小の吸光度を示す点とする。ベースラインA7A8は、A7、A8を結んだ直線である。
【0069】
次に、E4はピークS4から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインA7A8の交点である。ピークS4の強度Q4は、前記S4から赤外線吸収スペクトルの波数軸に下ろした垂線とベースラインの交点E4までの線分S4E4の長さである。
【0070】
本発明の窒素含有炭素材料は、本発明で規定した特性を有した窒素含有炭素材料に至るかぎりどのような製造方法、出発原料であってもかまわない。例えば、主として青酸を重合して得られるアズルミン酸を炭化することによって製造することができる。
【0071】
次に、主として青酸を重合して得られるアズルミン酸を炭化することによって本発明の窒素含有炭素材料を製造する方法について説明する。
【0072】
図2は本発明による窒素含有炭素材料を製造するための工程の概略図を示す。図2に示すように、本発明に係る製造方法は、工程S10にて青酸を含む原料を重合する工程と、工程S10にて得られたアズルミン酸を炭化する工程(工程S12)とから構成される。以下では各工程を詳述する。
[0073]
本発明に係る製造方法の工程S10で用いる青酸は、以下の方法に限定されないが、公知の方法で製造されるものを用いることができる。具体的には、プロピレン、イソブチレン、tert−ブチルアルコール、プロパンまたはイソブタンを触媒存在下にアンモニア、酸素含有ガスと反応させる気相接触反応によってアクリロニトリルやメタクリロニトリルを製造する方法において副生されるものを用いることができる。このために工程S10で用いる青酸は非常に安価に入手することが可能である。このとき青酸を増産するために、例えばメタノール等アンモ酸化反応によって青酸を生成するような原料を、反応器に供給して行ってもよい。
[0074]
また天然ガスの主成分であるメタンを触媒存在下にアンモニア、酸素含有ガスと反応させるアンドリュッソー法によって製造される青酸を用いることができる。この方法もメタンを用いるために非常に安価に青酸を入手できる方法である。
[0075]
もちろん青化ソーダ等を用いる実験室的な製造方法であってもかまわないが、上記の工業的に製造される青酸を用いるのが好ましい。
[0076]
本発明に係る製造方法の工程S12で用いるアズルミン酸とは、以下の方法に限定されないが、主として青酸を含む原料を重合して得られる黒色〜黒褐色の青酸重合物である(工程S10参照)。本発明で用いる青酸を含む原料とは、青酸に対するその他の重合性物質の存在比は40重量%以下であり、より好ましくは10重量%以下であり、さらに好ましくは5重量%以下であり、特に好ましくは1重量%以下である。
[0077]
アズルミン酸は、青酸を種々の方法で重合させることにより製造することができる(工程S10参照)。たとえば液化青酸や青酸水溶液を加熱する、あるいは長時間放置する、塩基を添加する、光を照射する、高エネルギーの放射をする、種々の放電を行う方法や、シアン化カリウム水溶液の電気分解、等の方法の他、公知の方法(例えばAngew.Chem.72巻、379−384(1960年)およびその引用文献、また真空科学、16巻、64−72(1969年)およびその引用文献参照)に記載の方法を例示することができる。
[0078]
塩基の存在下に青酸を重合させる方法において、塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、トリエチルアミンなどを例示することができる。
【0079】
またアズルミン酸は、プロピレン等のアンモ酸化工程で副生する青酸の精製工程から回収することによっても製造することができる。
【0080】
アズルミン酸は溶剤に不溶性であるため、構造は同定されていないが、Angew.Chem.72巻、379−384(1960年)や、真空科学、16巻、64−22(1969年)などには次のような構造式が推定されている。
【0081】
【化1】
【0082】
【化2】
【0083】
【化3】
【0084】
【化4】
【0085】
【化5】
【0086】
実際には、これらの構造式をベースにして、重合体構造中の、六員環中窒素元素の一部が炭素元素に置換されていたり、逆に一部の六員環中炭素元素の一部が窒素元素に置換されていたり、また上記構造式中には官能基が記載されている。しかし、これらアミノ基、イミノ基、ニトリル基、水酸基、カルボニル基は、お互いに相互置換されていたり、外れていたり、またカルボン酸基、ニトロ基、ニトロソ基、N−オキシド基、アルキル基等、公知の官能基に変換されていると思われる。
【0087】
また上記の(化1)はリニアな構造、(化2)、(化3)はラダー構造、(化4)、(化5)はラダー間で縮合した構造である。さらにラダー間で縮合した構造同士で縮合を起こした構造や、(化1)、(化2)、(化3)、(化4)、(化5)間で結合や縮合を起こした構造があることも推定される。
【0088】
本発明で用いるアズルミン酸の組成は、CHN分析計を用いて測定することができる。(窒素元素の重量%)/(炭素元素の重量%)は0.2〜1.0が好ましく、より好ましくは0.3〜0.9であり、特に好ましくは0.4〜0.9である。(水素元素の重量%)/(炭素元素の重量%)は0.03〜0.2が好ましく、より好ましくは0.05〜0.15であり、特に好ましくは0.08〜0.11である。
【0089】
本発明で用いるアズルミン酸は、波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、ラマンシフトが1300〜1400cm−1、1500〜1600cm−1の位置にピークを持つことが好ましく、特に好ましくは1360〜1380cm−1、1530〜1550cm−1の位置にピークを持つことである。
【0090】
図3は、本発明で用いるアズルミン酸のレーザーラマンスペクトル図の一例の模式図を示す。図3に示すように、本発明で用いるアズルミン酸は、波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、1300〜1400cm−1の間にピークP3と、1500〜1600cm−1の間にピークP4という少なくとも2つの主要なピークを有することが好ましい。より好ましくはピークP3が1350〜1390cm−1の間に、ピークP4が1510〜1570cm−1間にあり、さらに好ましくはピークP3が1360〜1380cm−1、ピークP4が1530〜1550cm−1の間にある。
【0091】
また、図3に示す(H3/H4)、(L1/H3)および(L1/H4)とは、Arレーザー(波長540nm、2mW)を用い、ビームサイズ5μ、操作範囲1000〜2000cm−1、積算時間5分で測定したときに得られるレーザーラマンスペクトル図のピークであり、以下のように定義される。
【0092】
即ち、図3に示すように、B3は、1000〜1300cm−1の最小の強度値であり、B4は1700〜2000cm−1の最小の強度値である。本発明で用いるレーザーラマンスペクトル図におけるベースラインは、B3、B4を結んだ直線である。
【0093】
次に、図3に示すC3、C4は、それぞれ、ピークP3およびP4からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点である。D1は、ピークP3とP4との間における最小の強度値M1からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点であり、高さL1は、前記M1からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点までの長さである。具体的には、図3に例示するレーザーラマンスペクトル図では線分M1D1の長さである。一方、高さH3は、ピークP3からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点までの長さであり、線分P3C3に相当する。高さH4は、P4からラマンシフト軸に下ろした垂線とベースラインの交点までの長さであり、線分P4C4に相当する。
【0094】
そして本発明で用いるアズルミン酸の比(H3/H4)は0.5〜1.0であり、好ましくは0.6〜0.9であり、より好ましくは0.7〜0.8である。また本発明で用いるアズルミン酸の比(L1/H3)は0.4〜0.9であり、好ましくは0.6〜0.8であり、より好ましくは0.65〜0.75である。一方、本発明で用いるアズルミン酸の比(L1/H4)は0.70〜0.99であり、好ましくは0.80〜0.95であり、より好ましくは0.65〜0.75である。
【0095】
また、本発明で用いるアズルミン酸は、CuKα線をX線源として得られるX線回折図の10〜50°の範囲において、回折角(2θ)が26.8±1°の位置に、好ましくは26.8±0.5°の位置に、より好ましくは26.8±0.2°の位置に強いピークを示す。また、前述のピークに加えて、本発明で用いるアズルミン酸は、CuKα線をX線源として得られるX線回折図の10〜50°の範囲において、回折角(2θ)が12.3±1°の位置に、好ましくは12.3±0.5°の位置にもピークを示す。
【0096】
さらに本発明で用いるアズルミン酸は、そのX線回折図において、ローレンツ関数、ガウス関数等の公知のフィット率の高い関数を用いて、ピーク分離を行い、ピークの半値幅が特定の範囲にあることが好ましい。具体的には本発明で用いるアズルミン酸のX線回折図において、ローレンツ関数、ガウス関数いずれかフィット率の高い関数を用いて、ピーク分離を行った後の、26.8±1°の位置にあるピークの半値幅が、6〜12°であり、好ましくは8〜10°であり、より好ましくは8.5〜9.5°である。
【0097】
本発明で用いるアズルミン酸のX線回折図より、前記アズルミン酸は層状構造を持つことが示唆される。窒素含有炭素材料の炭化前の前駆体において、こうした例は知られていない。特に層状構造を有する窒素含有炭素材料の製造においては、炭化前の前駆体のこうした構造は、層状構造、高窒素含有量、低水素含有量という特性を発現する点で有利に働くものと推察される。
【0098】
本発明で用いるアズルミン酸は、クロロホルムで5時間ソックスレー抽出を行ったときに、溶出分が30重量%以下であることが好ましく、より好ましくは10重量%以下、特に好ましくは1重量%以下である。溶出分は低分子量化合物またはリニアな重合物であり、溶出分が多いことは重合度が上昇していないことを意味する。
【0099】
本発明で用いるアズルミン酸は、以下のものに限定されないが、主に青酸を含む原料を重合することにより得られる。青酸を重合する方法は、前述の特定のピークを有するレーザーラマンスペクトルおよびX線回折図を有するアズルミン酸を製造する方法として適している。
【0100】
本発明で用いるアズルミン酸の炭化方法(図2の工程S12参照)は、以下のものに限定されないが、回転炉、トンネル炉、管状炉、流動焼成炉等を用い、アズルミン酸を不活性ガス雰囲気下で600〜3000℃、好ましくは700〜2000℃、より好ましくは750〜1500℃、特に好ましくは、800〜1100℃の範囲で熱処理することにより行われる。上記不活性ガスとしては、以下のガスに限定されないが、例えば窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、二酸化炭素等の不活性ガス、真空等が挙げられ、窒素ガスが好ましい。不活性ガス雰囲気は不活性ガスが静止していても流通していてもよいが、流通しているのが好ましい。不活性ガス中の酸素濃度は5%以下が好ましく、より好ましくは1%以下であり、特に好ましくは1000ppm以下である。炭化処理時間としては10秒〜100時間、好ましくは5分〜10時間、より好ましくは15分〜5時間、さらにより好ましくは30分〜2時間の範囲である。炭化工程の圧力は、0.01〜5MPa、好ましくは0.05〜1MPa、より好ましくは0.08〜0.3MPa、特に好ましくは、0.09〜0.15MPaである。高圧処理はsp3軌道によって構成されるダイヤモンド構造となるために好ましくない。
【0101】
炭化処理の前に、比較的低温の空気中で熱処理を行う安定化処理を行ってもよい。本発明に係る製造方法によれば、安定化処理せずとも高窒素含有量と低水素含有量を充足する窒素含有炭素材料が得られる。本発明に係る製造方法により製造される窒素含有炭素材料はsp2軌道によって構成される層状構造をとることが好ましい。
【0102】
本発明に係る製造方法は、アズルミン酸を炭化する工程を含む窒素含有炭素材料の製造方法である。好ましくは、前記アズルミン酸は、青酸を含む原料を重合して得ることができる。
【0103】
本発明による窒素含有炭素材料の製造方法は、下記の(1)、(2)及び(3)を満たす窒素含有炭素材料の製造に適する:
(1)炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)、炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)との以下の関係式(I)を満たすこと、
(N/C)>0.87×(H/C)−0.06 (I)
(2)CuKα線をX線源として得られるX線回折図において、回折角(2θ)が23.5〜25.5°の位置にピークを有すること、
(3)波数1000〜2000cm−1のレーザーラマンスペクトル図において、1355〜1385cm−1の間にピークP1と、1550〜1620cm−1の間にピークP2という少なくとも2つの主要なピークを有し、且つ、P1とP2の間の最小点Mのベースラインからの高さLと、P1のベースラインからの高さH1の比(L/H1)が0.7〜0.95であること。
【実施例】
【0104】
以下に本発明の実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、これらは例示的なものであり、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。当業者は以下に示す実施例に様々な変更を加えて本発明を実施することができ、かかる変更は本願の特許請求の範囲に包含される。
<製造例>
<アズルミン酸の製造>
本発明では図4に示す工程でアズルミン酸を回収した。
【0105】
プロピレンのアンモ酸化でアクリロニトリルを製造する際に副生する青酸1700kg/hをアクリロニトリル回収塔16を経て、青酸除去塔1に送り、塔頂の分縮器から少量のアクリロニトリルおよび水と共に32℃の粗青酸蒸気(2)を1718kg/hで得た。この粗青酸蒸気(2)の組成は、以下の通りであった。
アクリロニトリル 5重量%
水 1重量%
青酸 94重量%
【0106】
この蒸気相に安定剤として亜硫酸ガス1.2Kg/hおよび窒素ガス71m3/hを加えて45段の棚段塔である青酸精製塔3の上から28段目に送入した。青酸精製塔3の大きさは直径1m、高さ22mである。
【0107】
一方、アクリロニトリル回収塔16の下部の側流からアセトニトリルおよび青酸を含む水溶液(19)を抜き出しアセトニトリル濃縮塔8へ送入し、塔頂分縮器出口で、下記組成の粗青酸蒸気(10)を22kg/hで得た。
アセトニトリル 16重量%
水 7重量%
青酸 77重量%
【0108】
ついで、加熱付き配管を通して、この粗青酸蒸気(10)を40〜50℃に保ち、安定剤として亜硫酸ガス0.035Kg/hおよび窒素ガス18m3/hを加えて青酸吸収塔7の下部の気相へ送入した。
【0109】
青酸精製塔3の塔頂分縮器で冷却、液化せしめた精製青酸の約2/3を還流して塔頂へ戻し残部を精製液化青酸(5)として1591kg/hで取り出した。分縮器出口の青酸蒸気(6)は20℃で、386kg/hで放散して前記粗青酸蒸気(10)とともに青酸吸収塔7へ送出した。青酸蒸気(6)の組成は、以下の通りであった。
窒素ガス 23重量%
青酸 77重量%
【0110】
青酸吸収塔7は直径0.5m、高さ9m、棚段10段、および多管式流下液膜冷却帯0.5mからなる。吸収液(11)は、青酸精製塔3の塔底液3000kg/hを104℃から5℃まで冷却して青酸吸収塔7の塔頂部へ送入した。
【0111】
吸収液は青酸吸収に伴い温度が上昇するが冷却器外側の冷剤により15℃に保った。
【0112】
青酸を吸収した吸収液(12)は3315kg/hの速度で塔底部から抜き出し塔頂部へ送入する吸収液(11)と熱交換したのち温度60℃で青酸精製塔3の上から33段目に送入した(吸収液中の青酸濃度は9.5%であった)。
【0113】
青酸吸収塔7の塔頂からの放散ガス111kg/h(14)に含まれる青酸の量は10ppm以下であった。
【0114】
ついで、大気圧で運転されている青酸精製塔3の上から36段目から、不純物としてアクリロニトリル、アセトニトリル、少量の青酸、水とともに245kg/hで抜き出しアクリロニトリル回収塔へ送入した。抜き出し液(15)の組成は、以下の通りであった。
アクリロニトリル 35.0重量%
青酸 0.9重量%
アセトニトリル 1.4重量%
水 62.7重量%
【0115】
このような定常運転下、青酸精製塔3の内部で重合して落下してきたアズルミン酸を青酸精製塔の塔底から回収し、水洗した後、120℃の乾燥器にて5時間乾燥させてアズルミン酸を得た。得られたアズルミン酸は黒色であり、さらさらの粉末であった。
<分析方法>
実施例中の分析装置、分析条件は以下のとおりである。
(CHN分析)
ジェイサイエンスラボ社製MICRO CORDER JM10を用い、2500μgの試料を試料台に充填してCHN分析を行った。試料炉は950℃、燃焼炉(酸化銅触媒)は850℃、還元炉(銀粒+酸化銅のゾーン、還元銅のゾーン、酸化銅のゾーンからなる)は550℃に設定されている。酸素は15ml/min、Heは150ml/minに設定されている。検出器はTCDである。アンチピリン(Antipyrine)を用いてマニュアルに記載の方法でキャリブレーションを行う。
【0116】
(レーザーラマンスペクトルの測定法)
ラマンスペクトルは、試料をメノウ乳鉢で粉砕し、粉末用セルにマウントして下記の条件で測定した。
装置:Reninshaw社製System―3000、光源:Arレーザー(波長540nm、2mW)、ビームサイズ5μ、操作範囲1000〜2000cm−1、積算時間5分。
【0117】
(X線回折の測定法)
X線回折パターンは、試料をメノウ乳鉢で粉砕後、粉末用セルに充填して下記の条件で測定した。
装置:リガク社製Rint2500、X線源:Cu管球(Cu−Kα線)、管電圧:
40kV、管電流:200mA、分光結晶:あり、散乱スリット:1°、発散スリット:
1°、受光スリット:0.15mm、スキャン速度:2°/分、サンプリング幅:
0.02°、スキャン法:2θ/θ法。
X線回折角(2θ)の補正は、シリコン粉末について得られたX線回折角データを用いて行った。
【0118】
(X線光電子分光分析(XPS)の測定法)
XPSスペクトルは、試料をメノウ乳鉢で粉砕後、粉末用セルに充填して下記の条件で測定した。
装置:サーモエレクトロン社製ESCALAB250、X線源:Al管球(Al−Kα線)、管電圧:15kV、管電流:10mA、分析面積:600μm×300μm楕円、取り込み領域:N1s,C1s、Pass−Energy:20eV。
得られたスペクトルは、C1sのピーク位置でエネルギー補正を行った。
【0119】
(IRスペクトルの測定法)
Varian社製FTS575C/UMA500を用い、透過法、MCT検出、分解能4cm−1の条件で測定した。試料はKBrを用いてスペクトルが測定しやすい濃度まで希釈し(約100倍)、プレス圧200kg/cm2で錠剤成型して試料調製した。
<アズルミン酸の分析>
(CHN分析)
上記製造例にて得られたアズルミン酸の組成は、炭素元素40.0重量%、窒素元素29.8重量%、水素元素4.1重量%であった。ここで乾燥した条件では吸着水が残存するため、差分は主に吸着水による酸素元素と水素元素に由来するものと思われる。
(レーザーラマンスペクトルの測定)
図5は、本発明の製造例で得られたアズルミン酸のレーザーラマンスペクトル図を示す。図5に示すレーザーラマンスペクトル図から上記製造例にて得られたアズルミン酸は、1000〜2000cm−1の間で、1543cm−1、1375cm−1に強いピークを持っていた。
(X線回折の測定)
図6は、本発明の製造例で得られたアズルミン酸のX線回折図を示す。図6に示すX線回折図から上記製造例にて得られたアズルミン酸は、5〜50°の間で、27.0°に最も強いピーク、12.3°付近にもブロードなピーク持っていた。
(クロロホルムによる溶出試験)
アズルミン酸3.00g、クロロホルム100g用いてソックスレー抽出を5時間行った。溶出量は0.06重量%であった。リニアな構造体や低分子量体は非常に少なく、大部分は環が縮合した高分子体であると推測された。
[実施例1]
得られたアズルミン酸12gを内径25mmの石英管に充填し、大気圧下、300Ncc/ min.の窒素気流中で50分かけて800℃まで昇温させ、800℃で1時間ホールドして炭化処理をして、4.4gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は37%である。用いた窒素ガスの酸素濃度は、微量酸素分析計(306WA型、テレダインアナリティカルインスルーメント社製)を用いて測定した結果、1ppmであった。
【0120】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記実施例1にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:68.6重量%、窒素元素:24.0重量%、水素元素:1.8重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.30である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.31である。
(レーザーラマンスペクトルの測定結果)
図7は、本発明の実施例1で得られた窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図を示す。図7に示すレーザーラマンスペクトル図から、実施例1にて得られた窒素含有炭素材料は、1000〜2000cm−1の間で、1355cm−1付近、1570cm−1付近にピークを有し、(L/H1)は0.85であった。
【0121】
参考として、図8は、前述のレーザーラマンスペクトル図を、ピーク数を2としてガウス関数でフィッティングさせた結果を示したものである。1355cm−1のピークの半値幅は302cm−1であり、1570cm−1のピークの半値幅は137cm−1であった。通常の炭素材料に比べて大きくケミカルシフトしていることに加えて、半値幅が非常に大きいことがわかる。
(X線回折の測定結果)
図9は、本発明の実施例1で得られた窒素含有炭素材料のX線回折図を示す。図9に示すX線回折図からわかるように、実施例1にて得られた窒素含有炭素材料は、5〜50°の間で、25.0°付近に主要なピーク、44.7°付近にもピークを有していた。X線回折図の全体から、層状構造を有していることがわかる。
(X線光電子分光分析(XPS)の測定結果)
図10は、本発明の実施例1で得られた窒素含有炭素材料のN1sのXPSスペクトル図を示す。図10に示すN1sのXPSスペクトル図からわかるように、実施例1にて得られた窒素含有炭素材料は、392〜410eVの間で、398.0eV、400.7eVの位置にピークを有していた。
(IRスペクトルの測定結果)
実施例1にて得られた窒素含有炭素材料は、波数1500〜1800cm−1における吸光度のピーク強度の最大値を与える波数が1612cm−1にあり、Q2ピーク、Q3ピークは観測されず、(Q2/Q1)は0.01以下、(Q3/Q1)が、0.01以下であった。(Q4/Q1)は0.50であった。
[実施例2]
得られたアズルミン酸12gを内径25mmの石英管に充填し、大気圧下、300Ncc/ min.の窒素気流中で1時間10分かけて1000℃まで昇温させ、1000℃で1時間ホールドして炭化処理をして、3.4gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は28%である。用いた窒素ガスの酸素濃度は、微量酸素分析計(306WA型、テレダインアナリティカルインスルーメント社製)を用いて測定した結果、1ppmであった。
【0122】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記実施例2にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:89.2重量%、窒素元素:8.7重量%、水素元素:0.8重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.085である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.10である。
(レーザーラマンスペクトルの測定結果)
図11は、本発明の実施例2で得られた窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図を示す。図11に示すレーザーラマンスペクトル図からわかるように、実施例2にて得られた窒素含有炭素材料は、1000〜2000cm−1の間で、1382cm−1付近、1585cm−1付近にピークを有し、(L/H1)は0.88であった。
【0123】
参考として、図12は、前述のレーザーラマンスペクトル図を、ピーク数を2としてガウス関数でフィッティングさせた結果を示したものである。1382cm−1のピークの半値幅は298cm−1であり、1585cm−1のピークの半値幅は122cm−1であった。通常の炭素材料に比べて大きくケミカルシフトしていることに加えて、半値幅が非常に大きいことがわかる。
(X線回折の測定結果)
図13は、本発明の実施例2で得られた窒素含有炭素材料のX線回折図を示す。図13に示すX線回折図からわかるように、実施例2にて得られた窒素含有炭素材料は、5〜50°の間で、24.1°付近に主要なピーク、44.3°付近にもピークを有していた。非常に大きい層間構造を持っていることがわかる。X線回折図の全体から、層状構造を有していることがわかる。
(X線光電子分光分析(XPS)の測定)
図14は、本発明の実施例2で得られた窒素含有炭素材料のN1sのXPSスペクトル図を示す。図14に示すN1sのXPSスペクトル図からわかるように、実施例2にて得られた窒素含有炭素材料は、392〜410eVの間で、392〜410eVの間で、398.0eV、401.0eVの位置にピークを有していた。
(IRスペクトルの測定結果)
実施例1にて得られた窒素含有炭素材料は、波数1500〜1800cm−1における吸光度のピーク強度の最大値を与える波数が1612cm−1にあり、Q2ピーク、Q3ピークは観測されず、(Q2/Q1)は0.01以下、(Q3/Q1)が、0.01以下であった。(Q4/Q1)は0.47であった。
[実施例3]
得られたアズルミン酸12gを内径25mmの石英管に充填し、大気圧下、300Ncc/ min.の窒素気流中で40分かけて600℃まで昇温させ、600℃で1時間ホールドして炭化処理をして、6.8gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は57%である。用いた窒素ガスの酸素濃度は、微量酸素分析計(306WA型、テレダインアナリティカルインスルーメント社製)を用いて測定した結果、1ppmであった。
[0124]
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記実施例3にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:56.6重量%、窒素元素:32.1重量%、水素元素:2.2重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.49である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.46である。
(レーザーラマンスペクトルの測定結果)
本発明の実施例3で得られた窒素含有炭素材料は、1000〜2000cm−1の間で、1360cm−1付近、1593cm−1付近にピークを有し、(L/H1)は0.76であった。
(X線回折の測定結果)
本発明の実施例3で得られた窒素含有炭素材料は、5〜50°の間で、25.1°付近に主要なピーク、44.3°付近にもピークを有していた。非常に大きい層間構造を持っていることがわかる。
[比較例1]
窒素含有炭素材料の前駆体としてもっとも窒素含有量の多いメラミン樹脂を炭化処理した。即ち、メラミン樹脂12gを内径25mmの石英管に充填し、800℃にて実施例1と同様に炭化処理をして、1.5gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は13%である。
[0125]
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例1にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:68.2重量%、窒素元素:17.9重量%、水素元素:1.9重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.22である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.35である。
[比較例2]
メラミン樹脂12gを内径25mmの石英管に充填し、1000℃にて実施例2と同様に炭化処理をして、1.0gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は8%である
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例2にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:78.2重量%、窒素元素:7.8重量%、水素元素:1.5重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.080である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.23である。
[比較例3]
ポリアニリン12gを内径25mmの石英管に充填し、800℃にて実施例1と同様に炭化処理をして、2.8gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は23%である。
【0126】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例3にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:77.3重量%、窒素元素:7.5重量%、水素元素:2.0重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.08である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.31である。
[比較例4]
ポリアニリン12gを内径25mmの石英管に充填し、1000℃にて実施例2と同様に炭化処理をして、2.0gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は17%である。
【0127】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例4にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:92.0重量%、窒素元素:2.7重量%、水素元素:1.0重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.02である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.13である。
[比較例5]
ポリアクリロニトリル12gを内径25mmの石英管に充填し、800℃にて実施例1と同様に炭化処理をして、4gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は33%である。
【0128】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例5にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:77.0重量%、窒素元素:13.9重量%、水素元素:1.8重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.15である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.28である。
[比較例6]
ポリアクリロニトリル12gを内径25mmの石英管に充填し、1000℃にて実施例2と同様に炭化処理をして、2.9gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は24%である。
【0129】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例6にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:89.9重量%、窒素元素:6.0重量%、水素元素:1.2重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.057である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.16である。
[比較例7]
全芳香族ポリイミド12gを内径25mmの石英管に充填し、800℃にて実施例1と同様に炭化処理をして6.9gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は58%である。
【0130】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例7にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:80.5重量%、窒素元素:3.8重量%、水素元素:2.0重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.04である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.30である。
[比較例8]
全芳香族ポリイミド12gを内径25mmの石英管に充填し、1000℃にて実施例2と同様に炭化処理をして6.4gの窒素含有炭素材料を得た。回収率は54%である。
【0131】
<窒素含有炭素材料の解析>
(CHN分析結果)
上記比較例8にて得られた窒素含有炭素材料は、炭素元素:86.1重量%、窒素元素:1.8重量%、水素元素:1.0重量%であった。炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)は0.02である。炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)は0.14である。
【0132】
図15に(H/C)を横軸に、(N/C)を縦軸にとり実施例で得られた窒素含有炭素材料と比較例で得られた窒素含有炭素材料とを比較する。
【0133】
本発明の窒素含有炭素材料は水素含有量が少ないながらも窒素含有量が高いことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【0134】
本発明による窒素含有炭素材料は、窒素原子の含有量が高く、水素原子の含有率が低く、ニトリル基含有量が低く、層間距離が大きく、特定のレーザーラマンスペクトルを有する新規な窒素含有炭素材料として、電極材料用途、例えばリチウムイオン二次電池負極、キャパシタ用電極、燃料電池電極などの用途として有用である。
【0135】
また本発明による製造方法は、製造の経済性を充足させながら、高窒素含有量と低水素含有量を充足する窒素含有炭素材料の製造方法として有用である。
【0136】
即ち、本発明に係る製造方法は、工程S10にて青酸を含む原料を重合する工程と、工程S10にて得られたアズルミン酸を炭化する工程(工程S12)とから構成される。
【0137】
工程S10で用いられる青酸は基礎化学原料からの直接誘導体であり、またさらにはモノマー等の製造時の副生物であるために、青酸からアズルミン酸を製造する方法は、エネルギー消費量、資源の消費量が少ない窒素含有炭素材料の前駆体の製造方法である。また、青酸は容易に重合するために重合工程が簡易であり、更に得られる重合体がさらさらな粉末として得られるために取り扱い性がよく、また、粉砕化工程などの粉体を作る工程も不要である。また従来活用されていなかった青酸の重合物を有効利用することにもなる。
【0138】
また工程S12の炭化工程における炭化物の回収率が高く、エネルギー消費量、資源の消費量が少ない窒素含有炭素材料の製造方法である。
【0139】
工程S10、S12ともエネルギー消費量、資源の消費量が少ない製造方法であり、全体としてのエネルギー消費量、資源の消費量は従来の方法に比べて非常に少ない。
【図面の簡単な説明】
【0140】
【図1】図1は、本発明に係る窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図の一例の模式図を示す。
【図2】図2は本発明による窒素含有炭素材料を製造するための工程の概略図を示す。
【図3】図3は、本発明で用いるアズルミン酸のレーザーラマンスペクトル図の一例の模式図を示す。
【図4】図4は、本発明にて実施した青酸精製工程とアズルミン酸回収工程を概略的に説明する図である。
【図5】図5は、本発明の製造例で得られたアズルミン酸のレーザーラマンスペクトル図を示す。
【図6】図6は、本発明の製造例で得られたアズルミン酸のX線回折図を示す。
【図7】図7は、本発明の実施例1で得られた窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図を示す。
【図8】図8は、本発明の実施例1で得られたレーザーラマンスペクトル図を、ピーク数を2としてガウス関数でフィッティングさせた結果を示した図である。
【図9】図9は、本発明の実施例1で得られた窒素含有炭素材料のX線回折図を示す。
【図10】図10は、本発明の実施例1で得られた窒素含有炭素材料のN1sのXPSスペクトル図を示す。
【図11】図11は、本発明の実施例2で得られた窒素含有炭素材料のレーザーラマンスペクトル図を示す。
【図12】図12は、本発明の実施例2で得られたレーザーラマンスペクトル図を、ピーク数を2としてガウス関数でフィッティングさせた結果を示した図である。
【図13】図13は、本発明の実施例2で得られた窒素含有炭素材料のX線回折図を示す。
【図14】図14は、本発明の実施例2で得られた窒素含有炭素材料のN1sのXPSスペクトル図を示す。
【図15】図15は、(H/C)を横軸に、(N/C)を縦軸にとり実施例で得られた窒素含有炭素材料と比較例で得られた窒素含有炭素材料とを比較した図を示す。
【符号の説明】
【0141】
図4の符号の説明
1.青酸除去塔
2.粗青酸蒸気
3.青酸精製塔
5.精製液化青酸
6.青酸蒸気
7.青酸吸収塔
8.アセトニトリル濃縮塔
10.粗青酸蒸気
11.吸収液(入口)
12.吸収液(出口)
14.放散ガス
16.アクリロニトリル回収塔
Claims (13)
- アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする窒素含有炭素材料。
- アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする窒素含有炭素材料の製造方法。
- 窒素含有炭素材料において、下記の条件(1)、(2)及び(3)を満たすことを特徴とする窒素含有炭素材料:
(1)炭素原子に対する窒素原子の原子数比(N/C)、炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)との下記の関係式(I)を満たすこと、
(N/C)>0.87×(H/C)−0.06 (I)
(2)CuKα線をX線源として得られるX線回折図において、回折角(2θ)が23.5〜25.5°の位置にピークを有すること、
(3)波数1000〜2000cm-1のレーザーラマンスペクトル図において、1355〜1385cm-1の間にピークP1と、1550〜1620cm-1の間にピークP2という少なくとも2つの主要なピークを有し、且つ、P1とP2の間の最小点Mのベースラインからの高さLと、P1のベースラインからの高さH1の比(L/H1)が0.7〜0.95であること。 - X線光電子分光分析(XPS)により求められるN1sのXPSスペクトル図において、401.0±0.3eV、および398.0±0.5eVにピークを有することを特徴とする請求項3に記載の窒素含有炭素材料。
- 波数1000〜2000cm-1のレーザーラマンスペクトル図において、ピークP1の半値幅が200〜400cm-1であることを特徴とする請求項3または4に記載の窒素含有炭素材料。
- 波数1000〜2000cm-1のレーザーラマンスペクトル図において、ピークP2の半値幅が30〜200cm-1であることを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
- 炭素原子に対する水素原子の原子数比(H/C)が0.01〜0.5であることを特徴とする請求項3〜6のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
- 赤外線吸収スペクトル図において、波数1500〜1800cm-1における吸光度のピーク強度の最大値を与える波数が、1550〜1640cm-1にあることを特徴とする請求項3〜7のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
- 赤外線吸収スペクトル図において、波数2200〜2280cm-1における吸光度のピークS2の強度Q2と、1550〜1640cm-1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q2/Q1)が、0.07以下であることを特徴とする請求項3〜8のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
- 赤外線吸収スペクトル図において、波数2800〜3000cm-1における吸光度のピークS3の強度Q3と、1550〜1640cm-1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q3/Q1)が、0.10以下であることを特徴とする請求項3〜9のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
- 赤外線吸収スペクトル図において、波数3000〜3500cm-1における吸光度のピークS4の強度Q4と、1550〜1640cm-1における吸光度のピークS1の強度Q1の比(Q4/Q1)が、0.80以下であることを特徴とする請求項3〜10のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
- アズルミン酸を不活性ガス雰囲気中で炭化して製造されることを特徴とする請求項3〜11の何れかに記載の窒素含有炭素材料。
- 電極材料として用いる請求項1、3〜12のいずれかに記載の窒素含有炭素材料。
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