JP4735867B2 - マイクロレンズアレイ用母型 - Google Patents
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Description
前記被エッチング体に含まれる物質と前記エッチング液との反応により不溶物を生成させ、
前記被エッチング体の露出面に蓄積する不溶物によりエッチングを停止させるものである。
前記エッチング液に溶解しない物質を含む前記被エッチング体から前記物質を浸出させ、
前記被エッチング体の露出面に蓄積する物質によりエッチングを停止させるものである。
前記開口部の直径と該開口部の直径に対応して形成される凹部の直径との関係を示す表を作成し、
前記表に従って所望の凹部直径に対応する前記開口部の直径をマスクに形成することとしてもよい。
前記開口部の直径および間隔と、該開口部の直径および間隔に対応して形成される凹部の直径との関係を示す表を作成し、
前記表に従って所望の凹部直径に対応する前記開口部の直径および間隔をマスクに形成することとしてもよい。
前記開口部の対向する二辺の幅および前記開口部の間隔と、前記開口部の幅および間隔に対応して形成される凹部の幅との関係を示す表を作成し、
前記表に従って所望の凹部幅に対応する前記開口部の幅および間隔をマスクに形成することとしてもよい。
マスクが前記ガラス基板表面上に順に形成された金属膜と有機膜とからなることとしてもよい。
前記開口部の対向する二辺の幅と該開口部の幅に対応して形成される凹部の幅との関係を示す表を作成し、
前記表に従って所望の凹部幅に対応する前記開口部の幅をマスクに形成することとしてもよい。
前記開口部の最大幅と該開口部の最大幅に対応して形成される凹部の幅との関係を示す表を作成し、
前記表に従って所望の凹部幅に対応する前記開口部の最大幅をマスクに形成することとしてもよい。
前記開口部の対向する二辺の幅および前記開口部の間隔と、前記開口部の幅および間隔に対応して形成される凹部の幅との関係を示す表を作成し、
前記表に従って所望の凹部幅に対応する前記開口部の幅および間隔をマスクに形成することとしてもよい。
酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化セシウム、酸化亜鉛、および酸化鉛のうち少なくとも一つが含まれる構成である。この場合、レンズの周囲に柱状パターンを有することとしてもよい。
酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化セシウム、酸化亜鉛、および酸化鉛のうち少なくとも一つが含まれる構成である。この場合、レンズの周囲に柱状パターンを有することとしてもよい。
本発明では、被エッチング体に含まれる物質とエッチング液との反応により生成される不溶物が被エッチング体露出面に蓄積してエッチングを停止させるため、エッチングが停止した後に被エッチング体をエッチング液に浸していてもエッチングが進行しない。そのため、大面積の被エッチング体に複数の微細構造を形成する場合でも、上記不溶物の生成が被エッチング体露出面で均一なため、面内で均一なエッチング加工が可能になる。また、複数枚の被エッチング体を一度に加工する際にも、上記不溶物の生成が被エッチング体間で均一なため、被エッチング体間で均一な加工が可能になる。さらに、一枚の被エッチング体を複数回のエッチング処理で加工する場合にも、上記不溶物の生成がエッチング処理間で均一なため、エッチング処理間で均一な加工が可能となる。
第1の実施形態は、本発明を等方性エッチングによるマイクロレンズアレイの作製に適用する形態である。
第2の実施形態では、上記第1の実施形態により作製されたマイクロレンズアレイ基板12を、2P成型法によるマイクロレンズアレイ作製のための母型に用いたものである。
第3の実施形態は、本発明を等方性エッチング法による光導波路の作製に適用する形態である。
第4の実施形態は、本発明を等方性エッチング法による埋め込み配線の作製に適用する形態である。
第5の実施形態は、本発明を等方性エッチング法による回折格子の作製に適用する形態である。
第6の実施形態は、本発明を等方性エッチング法による液晶配向膜の作製に適用する形態である。
第7の実施形態は、本発明をワイヤーグリッド型の偏光光学素子の作製に適用する形態である。
第8の実施形態は、本発明を等方性エッチング法による、マイクロ化学分析システムやLOCに使用されるマイクロチップのパターン作製に適用する形態である。
1a、201a 柱状パターン
2、20、202 金属膜
3、203 レジスト
3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g、203a 開口部
4 エッチャント
5 不溶物
6、114 母型
7、107 離型剤
8、108 樹脂
9 配線用金属層
9a 埋め込み配線
10 透明電極
11 配向膜
11a 液晶配向膜
12、212 マイクロレンズアレイ基板
13 光導波路
14 マイクロチップ用液出路
15 試薬槽
16 反応槽
20a 偏光光学素子
32、112、120、122 マイクロレンズアレイ
34 回折格子
40 金属膜エッチャント
50、250a TFT基板
51、251 調整用ガラス板
52、252 液晶層
100 ガラス基板
104 ウェットエッチング液
115 熱変形性パターン
115a 半球状パターン
116 マスク層
117 石英ガラス基板
130 光源
131 リフレクタ
132 偏光変換インテグレータ
133、134 ダイクロイックミラー
135、136、137 全反射ミラー
138 赤色用液晶表示素子
139 緑色用液晶表示素子
140 青色用液晶表示素子
141 クロスダイクロイックプリズム
142 投射レンズ
151、260 液晶表示素子
152、153 偏光板
154 バックライトユニット
155 信号供給回路
156 電源供給部
203b 露光位置調整マーカ
212a 個片にしたマイクロレンズアレイ基板
250a 個片にしたTFT基板
253 保護材
254 高屈折率接着剤
255 重ね合わせ位置調整マーカ
256 画素遮光部
257 TFT基板側重ね合わせ位置調整マーカ
258 シール剤
Claims (5)
- エッチング液によるエッチング時に、表面に不溶物が析出する濃度で前記エッチング液との反応により不溶物を生成する物質を含むガラスを材料とし、レンズを形成するための凹部が前記ガラスの表面に設けられていることを特徴とするマイクロレンズアレイ用母型。
- 請求項1記載のマイクロレンズアレイ用母型において、
前記エッチング液との反応により不溶物を生成する前記物質として、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化セシウム、酸化亜鉛、および酸化鉛のうち少なくとも一つが含まれることを特徴とするマイクロレンズアレイ用母型。 - 請求項1または2記載のマイクロレンズアレイ用母型において、
エッチング液との反応により不溶物を生成する物質の濃度の和が35%以上であることを特徴とするマイクロレンズアレイ用母型。 - 請求項1から3のいずれか1項記載のマイクロレンズアレイ用母型において、
エッチング液として10%フッ酸水溶液に前記ガラスを浸したとき、15分以降は前記ガラスのエッチングは進行しないことを特徴とするマイクロレンズアレイ用母型。 - 請求項1から4のいずれか1項記載のマイクロレンズアレイ用母型において、
前記凹部の周囲に柱状パターンを有することを特徴とするマイクロレンズアレイ用母型。
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