JP4695261B2 - 高電圧シールド - Google Patents
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Description
(技術分野)
本発明は集積回路に係わり、更に詳細には集積回路の繊細な部分を、この繊細な部分に損傷を与える可能性のあるこの集積回路の他の部分から保護するための保護リング有する回路に関する。更に詳細には、本発明は繊細な低電圧領域を同一集積回路の高電圧領域から保護するための高電圧(HV)保護リングに関する。
【0002】
(背景技術)
集積回路が高電圧で動作している際に、これらは集積回路の表面を移動する高エネルギー粒子を誘導する可能性がある。これらの粒子はある種の回路、特に同一集積回路上の低電圧CMOS回路に悪影響を与える可能性がある。
【0003】
繊細な回路を遮蔽する従来の方法は、金属またはシリコン保護リングを繊細な部分の周囲に設置する事である。しかしながら、この方法は高エネルギー粒子がシリコンの表面を超えて移動することを常に防止するわけではなく、それは保護リングが絶縁パシベーションの最上位層の下に存在するからである。
【0004】
本発明の目的は高エネルギー粒子を遮蔽するための改善された方法を提供することであり、これによりこれらの粒子が繊細な回路に外乱を与えること防止することである。
【0005】
(発明の概要)
本発明によれば、集積回路の第1領域をこの集積回路の第2領域から守るための保護リングを有する集積回路を提供することであり、該集積回路は少なくとも1つの酸化絶縁層、半導体層およびパシベーション層を有し、此処で保護リングは:集積回路のパシベーション層を通して部分的に露出している導電性保護リングと;半導体保護リングの各々の側に配置されている少なくとも2本の溝リングによって半導体層内の残りの半導体から絶縁されている半導体保護リングと;導電性保護リングと半導体保護リングとを、間隔を置いて電気的に接続するための複数の導電性部材で、導電性保護リング、半導体保護リング及び導電性部材は全て接地源に接続されている、前記複数の導電性部材、とを含む。
【0007】
本発明の別の特徴によれば、集積回路の第1領域をその集積回路の第2領域から保護するための方法が提供されており、此処で集積回路は少なくとも1つの酸化絶縁層、半導体層およびパシベーション層を有し、この方法は保護リングを集積回路の第1領域の周囲に具備しするステップを含み、此処で保護リングは:集積回路の第1領域内の半導体層を集積回路の第2領域内の残りの半導体から絶縁するための半導体保護リングと;第2領域から放射される全ての有害な影響を引きつけて、それらを接地電位へ流すための導電性保護リングとを含む。
【0008】
(図面の簡単な説明)
本発明を更に良く理解し、それらがどの様にして効果的に実施されるかを更に明らかに示すために、例として添付図に基づいて参照が行われる。
【0009】
(本発明の好適な実施例の詳細な説明)
図1は集積回路1を示し、繊細な低電圧領域2および高電圧領域3を有する。繊細な低電圧領域2は高電圧領域3から保護リング4で遮断されており、これは低電圧領域2を囲んでいる。
【0010】
好適に、保護リング4はまた低電圧領域2内に配置されている全ての接続パッド5(これらは集積回路をプリント回路基板にボンディングするために使用されるパッドである)も囲っている。
【0011】
図2は本発明の好適な実施例に基づく高電圧保護リングの一部の更に詳細な図を示す。保護リングは金属保護リング6、その一部は集積回路1上のパシベーション層内の開口7を通して露出されている。金属保護リング6の下側に、絶縁シリコンのリングが具備されていてシリコン保護リング8を形成している。このシリコン保護リングは残りのシリコン(すなわち高および低電圧シリコン)から、2本の溝リング、9aおよび9bで絶縁されており、これらは好適にシリコン保護リング8が金属保護リング6よりも幅が広くなるように配置されている。金属保護リング6およびシリコン保護リング8は間隔を置いて離されている複数の導電性部材10(それらの1つのみが図示されている)で電気的に接続されている。導電性部材10はまた低インピーダンス電圧源、または接地電位にも接続されており、これはまた金属保護リング6およびシリコン保護リング8もまた低インピーダンス電圧源または接地電位に接続されていることを意味する。この接続は金属接続(図示せず)を介してボンドパッド(これも図示せず)になされており、これによってこのパッドはプリント回路基板上の接地電位または低インピーダンス電圧源に接続されている。
【0012】
集積回路1の周辺に沿って更に、溝11(絶縁体上シリコンICs上に共通に見られる)および罫書き金属12が配置されている。これらの機能はしかしながら本発明にとっては本質的なものではない。
【0013】
図3は保護リングの長さ方向に垂直に切られた断面図であり、本発明の好適な実施例に基づくその構造の更に詳細を示す。先に説明したように、これは金属保護リング6を含み、これは集積回路1の表面にそのパシベーション層13内のギャップを通して露出されている。金属保護リング6の下側にはシリコン保護リング8が存在する。これはシリコンの高電圧および定電圧領域14および15それぞれから、酸化シリコン溝16によって絶縁されている。各々の酸化シリコン溝16は下側層21(通常シリコンガラスで作られ表面を平らにし金属の異なる層を絶縁するために使用される)から下側の酸化絶縁層17に延びている。言葉を変えると、溝はエピタキシャル層の上部またはシリコンから下方の酸化絶縁層17へ延び、その下側に集積回路1の基板20が存在する。絶縁されたシリコンのこの領域はシリコン保護リング8を形成する。
【0014】
金属保護リング6およびシリコン保護リング8は間隔を置いて電気的に接続されている。各々の接続は金属接続プレート18を含み、これはシリコン保護リング8と接触している。金属接続プレート18は金属保護リング6に経路19を経由して接続されている。この保護リングは複数のこれらの接続部を含み、これらの接続部はそれぞれ金属接続プレート18およびバイアス19で作られ、好適に約100μmの間隔を置いて金属およびシリコン保護リング、6および8の長さ方向に沿って配置されている。金属保護リング6およびシリコン保護リング8はまた低インピーダンス電圧源または接地電位に接続されている。
【0015】
集積回路1の1つの領域3の中に高電圧が存在すると、高エネルギー粒子を素子表面を横切って移動させる場合がある。保護リングが存在すると言うことは、これらの粒子が集積回路の低電圧領域に向かって移動する場合に、それらがパシベーション層13を通って露出されている金属の領域に出会うことを意味する。それらはこれに引きつけられ、それらの電荷は接地電位に流される。この様にしてそれらは、破壊の問題を引き起こしたりまたはMOS素子の性能に影響を与える可能性のある低電圧領域内に移動することを妨げられる。この絶縁されたシリコン保護リング8はまた高および低電圧領域を絶縁する助けともなる。
【0016】
図4はシールドの平面図であり、シリコン保護リングの更に詳細と好適な寸法を示す。金属保護リング6は好適に約8μmであり、ほぼ3μmがパシベーション層13を通して露出されている。酸化溝16はシリコン保護リングが好適に金属保護リング6よりも約4μm幅広くなるように配置されている。
【0017】
EPI接点22(好適に約1.2μm掛ける約1.2μm)はシリコン保護リング8(エピタキシャル層)と金属接続プレート18(好適に約3.6μm掛ける約7.2μm)との間の接続である。経路19(好適に約1.6μm掛ける約1.6μm)は金属接続プレート18と金属保護リング6の間の接続である。金属接続プレート18の下側にはソース・ドレイン(SD)n+拡散領域24(好適に約2.8μm掛ける約2.8μm)が存在し、これはシリコン保護リング8(エピタキシャル層)となされる低インピーダンス接続を可能とし、これは軽くドーピング(n−)されているだけである。纏めると、シリコン保護リング8は金属接続プレート18にEPI接点22で接続されている。金属接続プレート18は続いて金属保護リング6に経路19で接続されている。金属保護リング6は金属接続(図示せず)によりボンドパッド(これも図示せず)に接続され、これは低インピーダンス電圧源または接地電位に接続されている。
【0018】
図示された好適な実施例は「リング」形状のシールドを使用するように描かれているが、これは集積回路の繊細な領域を囲む、その他の任意の形状を等しく含むことが出来る。
【0019】
記述されたシールドの構造は溝絶縁SOI(絶縁体上シリコン)処理工程を必要とする。
【0020】
最後に、保護リングを「シリコン」および「金属」保護リングから形成されるように説明してきたが、これらはその他の等価な代替物、例えばシリコン保護リングに対しては代わりの半導体物質、また金属保護リングに対しては多結晶シリコンの様な代わりの導体と置き換えることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は本発明の好適な実施例に基づく集積回路を示す。
【図2】 図2は本発明の好適な実施例に基づく保護リングの更に詳細な図を示す。
【図3】 図3は本発明の好適な実施例に基づく保護リングの断面図を示す。
【図4】 図4は本発明の好適な実施例に基づく保護リングを図示する平面図を示す。
Claims (16)
- 集積回路(1)であって、該集積回路の第1領域をその集積回路の第2領域から守るための保護リング(4)であって、前記第1領域は前記保護リングの内側に位置され、かつ前記第2領域は前記保護リングの外側に位置された前記保護リング、を備えた集積回路であって、該集積回路は、
半導体層(8、14、15)と、
該半導体層の上側に位置されたパシベーション層(13)と
を有し、前記保護リングは、
前記半導体層と前記パシベーション層との間に形成され、前記パシベーション層(13)を通して部分的に露出されている導電性保護リング(6)と、
前記導電性保護リング(6)の下側に位置され、前記半導体層(8、14、15)から形成された半導体保護リング(8)であって、その半導体保護リング(8)の両側に配置されている少なくとも2つのトレンチリング(16)によって該半導体保護リング以外の前記半導体層(8、14、15)内の半導体(14、15)から絶縁された半導体保護リング(8)と、
前記導電性保護リング(6)と前記半導体保護リング(8)とを間隔を置いて電気的に接続するための複数の導電性部材(18、19)と、
を有し、前記導電性保護リング、前記半導体保護リングおよび前記導電性部材が全て接地電位に接続されている、前記集積回路。 - 請求項1記載の集積回路において、集積回路の第1領域が低電圧回路を含み、第2領域が高電圧回路を含む、前記集積回路。
- 請求項1または2記載の集積回路において、導電性保護リングが8μm幅であり、その内3μmがパシベーション層を通して露出されている、前記集積回路。
- 請求項1から3のいずれか1項に記載の集積回路において、半導体保護リングが12μm幅である、前記集積回路。
- 請求項1から4のいずれか1項に記載の集積回路において、半導体保護リングを絶縁している溝が1μm幅である、前記集積回路。
- 請求項1から5のいずれか1項に記載の集積回路において、導電性部材が100μm間隔で離されている、前記集積回路。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載の集積回路において、半導体がシリコンである、前記集積回路。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の集積回路において、導電性保護リングが金属製である、前記集積回路。
- 半導体層(8、14、15)と該半導体層の上側に位置されたパシベーション層(13)を含む集積回路(1)の第1領域(2)をその集積回路の第2領域(3)から守る方法であって、
該方法は、前記集積回路の第1領域の回りに保護リングを設けて、前記第1領域を前記保護リングの内側に位置すると共に前記第2領域を前記保護リングの外側に位置するようにするステップを含み、この保護リングを設けるステップは、更に、
前記集積回路(8、14、15)の前記第1領域(2)内の半導体層を前記集積回路の前記第2領域(3)内の残りの半導体から絶縁するための半導体保護リング(8)を前記半導体層(8、14、15)から形成し、
前記半導体保護リング(8)の上側に導電性保護リング(6)を設け、
前記導電性保護リング(6)と前記半導体保護リング(8)とを間隔を置いて電気的に接続するための複数の導電性部材(18、19)を設けて、前記導電性保護リング、前記半導体保護リングおよび前記導電性部材が全て接地電位に接続されるようにして、前記第2領域から発せられる有害な影響を引きつけてそれらを接地電位へ導通させる、
ステップを有する前記方法。 - 請求項9記載の方法において、集積回路の第1領域が低電圧回路を含み、第2領域が高電圧回路を含む、前記方法。
- 請求項9または10記載の方法において、導電性保護リングが8μm幅であり、3μmがパシベーション層を通して露出されている、前記方法。
- 請求項9から11のいずれか1項に記載の方法において、半導体保護リングが12μm幅である、前記方法。
- 請求項9から12のいずれか1項に記載の方法において、半導体保護リングを絶縁している溝が1μm幅である、前記方法。
- 請求項9から13のいずれか1項に記載の方法において、導電性部材が100μm間隔で離されている、前記方法。
- 請求項9から14のいずれか1項に記載の方法において、半導体がシリコンである、前記方法。
- 請求項9から15のいずれか1項に記載の方法において、導電性保護リングが金属製である、前記方法。
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