JP4673236B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、
前記投影系と前記基板テーブルとの間で、少なくとも部分的に、液体を閉じ込めるように構成された封液構造体を有し、かつ、前記封液構造体に供給される液体の圧力変動を低減化するように構成された圧力調整手段を有する液体供給系とを含むリソグラフィ装置が提供される。
液体供給系によって液体が供給される封液構造体を通して、パターン付与された放射ビームを基板に投影すること、および
前記液体供給系における液体の圧力変動を低減化することを含むデバイス製造方法が提供される。
放射ビームB(例えばUV放射線またはDUV放射線)を調整するように構成された照明系(照明器)ILと、
パターン付与手段(例えばマスク)MAを支持するように構成されるとともに、いくつかのパラメータに従ってパターン付与手段を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め手段PMに結合された支持構造体(例えばマスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト被覆ウェーハ)Wを保持するように構成されるとともに、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め手段PWに結合された基板テーブル(例えばウェーハ・テーブル)WTと、
放射ビームBに付与されたパターンを、パターン付与手段MAによって基板Wの目標部分C(例えば、1つまたは複数のダイを備える)に投影するように構成された投影系(例えば、屈折投影レンズ系)PSとを含む。
12、40 封液構造体
14 出口
15、18 入口
16 気体シール
20 弁
22 抽気流
24 排液路
30 粒子フィルタ
50 緩衝容量の液体/ダンパ
52 可撓性膜
AD 調節器
B 放射ビーム
BD ビーム供給系
C 目標部分
CO 集光器
IL 照明系、照明器
IN 積分器
MA パターン付与手段
MT 支持構造体、マスク・テーブル
PL 投影系
PM 第1の位置決め手段
PS 投影系
PW 第2の位置決め手段
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (10)
- 基板を保持するように構成された基板テーブルと、
放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影系と、
前記投影系と前記基板テーブルとの間で、少なくとも部分的に、液体を閉じ込めるように構成された封液構造体を有し、かつ、前記封液構造体に供給される液体の圧力変動を低減化するように構成された圧力調整手段を有する液体供給系と、を含み、
前記圧力調整手段が少なくとも2つの弁を含み、それぞれの弁が前記液体供給系内の前記液体の流速を1〜5秒間で0リットル/分から約2リットル/分へ切り換えるように構成されており、前記液体供給系の異なる部分で液体が実質的に異なる流速とならないように前記少なくとも2つの弁の切り換えのタイミングが監視され、
前記封液構造体内で液体が必要でないとき、液体流を止めるかまたは前記封液構造体から液体流を方向転換するように前記少なくとも2つの弁が切り換えられることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも2つの弁のうち1つが前記液体供給系内で粒子フィルタの下流側に配置されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記粒子フィルタの下流側に少なくとも2つの弁を含み、全ての弁が実質的に同じ速度で前記液体供給系内の前記液体の流速を変えるようになっている請求項2に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記圧力調整手段が、前記液体供給系の入口に圧力調整器を有する請求項1乃至3のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記圧力調整手段が、前記液体供給系の入口に流速制限器を有する請求項1乃至3のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 液体供給系によって液体が供給される封液構造体を通して、パターン付与された放射ビームを基板に投影すること、および
前記液体供給系における液体の圧力変動を低減化することを含み、
前記圧力変動を低減化する動作は、それぞれの弁が前記液体供給系内の前記液体の流速を1〜5秒間で0リットル/分から約2リットル/分へ切り換えるように構成されており、前記液体供給系の異なる部分で液体が実質的に異なる流速とならないように弁の切り換えのタイミングが監視される少なくとも2つの弁を配置すること、および前記封液構造体内で液体が必要でないとき、液体流を止めるかまたは前記封液構造体から液体流を方向転換するように前記少なくとも2つの弁を切り換えることを含むデバイス製造方法。 - 前記少なくとも2つの弁のうち1つが前記液体供給系内で粒子フィルタの下流側に配置されている請求項6に記載されたデバイス製造方法。
- 前記粒子フィルタの下流側に少なくとも2つの弁を含み、全ての弁が実質的に同じ速度で前記液体供給系内の前記液体の流速を変えるようになっている請求項7に記載されたデバイス製造方法。
- 前記圧力変動を低減化する動作が、圧力調整器を用いて、前記液体供給系の入口で前記液体の圧力を調整する動作を含む請求項6乃至8のいずれかに記載されたデバイス製造方法。
- 前記圧力変動を低減化する動作が、前記液体供給系の入口における流速制限器を用いて、前記液体供給系内に新たに導入される液体による衝撃波を防ぐ動作を含む請求項6乃至8のいずれかに記載されたデバイス製造方法。
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