JP4628154B2 - フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 - Google Patents

フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4628154B2
JP4628154B2 JP2005081581A JP2005081581A JP4628154B2 JP 4628154 B2 JP4628154 B2 JP 4628154B2 JP 2005081581 A JP2005081581 A JP 2005081581A JP 2005081581 A JP2005081581 A JP 2005081581A JP 4628154 B2 JP4628154 B2 JP 4628154B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
wiring pattern
flexible printed
cover lay
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005081581A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006269495A (ja
Inventor
賢 坂田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Mining and Smelting Co Ltd filed Critical Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority to JP2005081581A priority Critical patent/JP4628154B2/ja
Priority to KR1020060025363A priority patent/KR100776466B1/ko
Priority to TW095109424A priority patent/TWI347158B/zh
Priority to US11/385,194 priority patent/US20060214282A1/en
Priority to CNA2006100585716A priority patent/CN1838860A/zh
Publication of JP2006269495A publication Critical patent/JP2006269495A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4628154B2 publication Critical patent/JP4628154B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/281Applying non-metallic protective coatings by means of a preformed insulating foil
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4857Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/4985Flexible insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/86Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using tape automated bonding [TAB]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1433Application-specific integrated circuit [ASIC]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09818Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809
    • H05K2201/0989Coating free areas, e.g. areas other than pads or lands free of solder resist
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/15Position of the PCB during processing
    • H05K2203/1545Continuous processing, i.e. involving rolls moving a band-like or solid carrier along a continuous production path
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching
    • H05K3/005Punching of holes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0097Processing two or more printed circuits simultaneously, e.g. made from a common substrate, or temporarily stacked circuit boards

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

本発明は、例えば、フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置に関する。さらに詳しくは、特に、フラット・パネル・ディスプレイ(FPD)、プリンターなどを駆動させるのに好適なフレキシブルプリント配線基板、半導体装置に関する。
集積回路(IC)などの電子部品を電子装置に組み込むために、電子部品実装用フィルムキャリアテープ(TAB(Tape Automated Bonding)テープ、COF(Chip on Film)テープ、BGA(Ball Grid Array)テープ、CSP(Chip Size Package)テープ、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)テープ)あるいはシート状のFPC(Flexible Printed Circuit)が使用されている。このようなフレキシブルプリント配線基
板は、ポリイミドフィルムなどの絶縁フィルムに銅箔などの導電性金属層を形成し、この導電性金属層表面に感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂を所望のパターンに露光現像して感光性樹脂からなるパターンを形成した後、この形成されたパターンをマスキング材として、導電性金属を選択的にエッチングすることにより、配線パターンを形成することにより製造されている。
そして、配線パターンが形成された後は、カバーレイフィルムを貼着して、上記の配線パターンを保護することが行われている。
特開2003−282650号公報
ところで、このようなカバーレイフィルムを配線パターンの表面に貼着する場合には、以下のようにして行われていた。
例えば、図2に示したように、絶縁性のベースフィルム2の表面に配線パターン4が形成されたフレキシブルプリント配線基板6がある。このフレキシブル配線基板6では、左側下面部の3本分の端子相当部分がダミーパターン64とされている。このようなフレキシブルプリント配線基板6の上部に、接着剤付きのカバーレイフィルム10を貼着するには、略矩形状にカットされた接着剤付きのカバーレイフィルム10が用意される。このカバーレイフィルム10は、絶縁性樹脂フィルム基材9とフィルム接着剤層8とからなる。そして、図3に示したように、そのカバーレイフィルム10の接着剤層8側を、配線パターン4に対向配置し、この状態から、先ず、カバーレイフィルム10の上方側から所定の金型で軽く加熱圧着することにより、配線パターン4の表面にカバーレイフィルム10を仮止めする。
そして、カバーレイフィルム10の仮止めを行なった後、今度は図4に示したように、同じく加熱状態にしてから金型でカバーレイフィルム10の本圧着を行う。すなわち、カバーレイフィルム10の上方側から2回目の押圧を行うことにより、下面の接着剤層8が絶縁フィルム2の配線パターン4の間に入り込んで、カバーレイフィルム10を確実に密着させることができる。
しかしながら、このようにカバーレイフィルム10を仮止め状態にしてから本圧着を行う場合に、特に、カバーレイフィルムの四隅角部において、図3に示したように、カバーレイフィルム10の端部10a付近に配線パターン4が存在しない場合には、仮止めを行う際、カバーレイフィルム10の端部10aが部分的に浮いてしまうことがあった。このような端部10aの浮きが発生してしまうと、仮止めしたカバーレイフィルム10が剥が
れてしまったり、あるいは接着面に凹凸面が形成されてしまうために、2回目の本圧着を行った場合などに、図4に示したように、接着剤層8の内部に、気泡12を巻き込んで製品不良を生じさせてしまう虞があった。
本発明は、このような実情に鑑み、カバーレイフィルムを配線パターンの表面に貼着する場合に、端部の浮き上がりや剥がれ、あるいは気泡の巻き込みなどを可及的に防止することのできるフレキシブルプリント配線基板、および半導体装置を提供することを目的としている。
本発明に係るプリント配基板は、絶縁性のベースフィルム表面に導電性金属からなる配線パターンダミーパターンとが形成され、前記配線パターンの端子部分が露出されるとともに、当該配線パターンと前記ダミーパターンとの表面が絶縁性のカバーレイフィルムで保護されるフレキシブルプリント配線基板であって、
前記ダミーパターンは、前記ベースフィルムにおける前記導電性金属からなる配線パターンが形成された領域の最外方に配置されたものであるとともに前記導電性金属からなる配線パターンのアウターリードに対応する部分が欠落されたものであり、
前記カバーレイフィルムを貼着するときに、前記配線パターンの端子部分を除く領域と前記ダミーパターンの形成領域とを含配線パターン領域に、前記カバーレイフィルムの形状が投影的に略合致するように当該カバーレイフィルムの大きさが予め設定され、この大きさのカバーレイフィルムが、前記配線パターンの端子部分を除く領域とダミーパターンの形成領域とを含む配線パターン領域に合致させて貼着されることを特徴としている。
このような構成であれば、カバーレイフィルムの下面には、配線パターンまたはダミーパターンが常に存在するために、仮止めするときに端部、特に四隅角部が浮き上がってしまうことがない。これにより、気泡の巻き込みなどを可及的になくすことができる。
また、本発明は、前記カバーレイフィルムの一方の面に接着剤層が形成されており、該接着剤層を介して前記カバーレイフィルムが前記配線パターンの表面に貼着されることが好ましい。
このような構成であれば、カバーレイフィルムの貼り付けが容易である。
さらに、前記カバーレイフィルムが、前記絶縁性のベースフィルムを形成する樹脂と同一種類の樹脂で形成されていることが好ましい。
このように同一種類の樹脂が採用されていれば、コスト的、あるいは管理する上で好ましいとともに、温度変化などによる影響を少なくできる。
また、本発明に係る半導体装置は、これらいずれかのフレキシブルプリント配線基板に電子部品が実装されていることを特徴としている。
本発明のフレキシブルプリント配線基板によれば、配線パターンの端子部分を除く領域と前記ダミーパターンの形成領域とを含む配線パターン領域に、カバーレイフィルムの形状が投影的に略合致しているので、貼り合わせた場合に、カバーレイフィルムの下面に配線パターンが常に存在するので、確実な仮止めおよびこれに続く本圧着を行うことができ、浮き上がりや剥がれ、あるいは気泡の巻き込みを防止できる。
以下、図面を参照しながら、本発明に係るフレキシブル配線基板、半導体装置について具体的に説明する
図1に示したように、本実施例によるフレキシブルプリント配線基板20は、絶縁性のベースフィルム22と、この表面に形成された配線パターン24と、3本のダミーパターン25と、この配線パターン24に端子部分26が露出するように配置されたカバーレイフィルム(絶縁性樹脂保護フィルム)32とからなる。フレキシブルプリント配線基板20には、電気的に接続されていないダミーパターン(ダミー配線)が形成されてい
絶縁性のベースフィルム22としては、ポリイミドフィルム、ポリイミドアミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、フッ素樹脂フィルムおよび液晶ポリマーフィルム等を挙げることできる。すなわち、これらのベースフィルム22は、エッチングの際に使用されるエッチング液、あるいは、洗浄の際に使用されるアルカリ溶液などに侵食されることがない程度に耐酸・耐アルカリ性を有し、さらに電子部品を実装する際などの加熱によって大きく熱変形しない程度の耐熱性を有している。こうした特性を有するベースフィルム22としては、ポリイミドフィルムが好ましい。
このような絶縁性のベースフィルム22は、通常は5〜150μm、好ましくは5〜1
25μm、特に好ましくは25〜75μmの平均厚さを有している。
上記のような絶縁性のベースフィルム22に、パンチングにより、スプロケットホール28、デバイスホール30、折り曲げスリット(図示なし)、位置合わせ用孔(図示なし)などの必要な透孔が穿設されている。
配線パターン24は、上記のようなベースフィルム22の表面に配置された導電性金属を選択的にエッチングすることにより形成される。ここで使用される導電性金属としては、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金などの導電性金属を挙げることができる。このような導電性金属は、ベースフィルム22の表面に、例えば蒸着法あるいはメッキ法などにより配置することができる。また、上記のような導電性金属からなる金属箔を貼着することにより配置することもできる。上記のような導電性金属層の厚さは、通常は2〜70μm、好ましくは5〜45μmの範囲内にある。
上記のような導電性金属層(あるいは導電性金属箔)は、接着剤を使用せずに絶縁性のベースフィルム22の表面に配置することもできる。三層テープの導電性金属箔の接着に使用される接着剤層は、例えば、エポキシ樹脂系接着剤、ポリイミド樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤などにより形成することができる。このような接着剤層の厚さは、通常は5〜50μm、好ましくは10〜40μmの範囲内にある。なお、このような接着剤層は二層テープにはない。
配線パターン24は、絶縁性のベースフィルム22の表面に上記のようにして形成された導電性金属層を選択的にエッチングすることにより形成される。即ち、導電性金属層の表面に感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層を露光・現像することにより、所望のパターンを形成して、このパターンをマスキング材として導電性金属層を選択的にエッチングすることにより配線パターン24を形成することができる。
上記のようにして形成された配線パターン24の表面には、端子部分26が露出され、その他の部分が被覆されるように絶縁性のカバーレイフィルム32、32が貼着される。
カバーレイフィルム32は、図3に示したカバーレイフィルム10の場合と同様に、絶縁性樹脂フィルム基材9と、この一方の面に形成されたフィルム接着剤層8とからなる。
本実施例では、図1に示したように、カバーレイフィルム32の形状が、配線パターン24の端子部分26を除いた配線パターン領域L(3本のダミーパターン25の形成領域を含む)と投影的に見て略合致する大きさに設定されている。
なお、具体的に、カバーレイフィルム32は、配線パターン24の端部より、100μ
m〜3mm程度大きくした範囲でカットされている。
このような大きさのカバーレイフィルム32を予め用意することにより、このカバーレイフィルム32と配線パターン24とを仮止めした後、本圧着すると、従来生じていた気泡の巻き込みやカバーレイフィルム32の浮き上がり、剥がれなどを防止することができる。すなわち、従来は、配線パターン24が存在しない部分も含む大きな四角形状のカバーレイフィルムを用意して、これを配線パターン24の上面を覆うように貼着していた。このような大きさでは、配線パターンが形成されていない部分(特に四隅角部)にも、カバーレイフィルム32が貼着されることになるので、仮止め時に、接着面に凹凸が生じ、結果として、本圧着時に気泡を含む割合が40〜50%もあった。これに対し、本実施例のように、配線パターン24が存在しない範囲を予め切除して使用すると、本圧着されたフレキシブルプリント配線基板の気泡の発生率が0〜1%となり、気泡の発生を略完全に無くすことが可能になった。
本実施例のフレキシブルプリント配線基板20は、上述のFPD装置の他、プリンターなどに使用されるフレキシブルプリント配線基板に有効に適用することができる。
カバーレイフィルム32の絶縁性樹脂フィルム基材9を形成する耐熱性保護樹脂としては、ポリイミド、ポリアルキレンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレートおよびアラミド樹脂を挙げることができる。これらの樹脂は単独であるいは組み合わせて使用することができる。上記のような耐熱性保護樹脂から形成される絶縁性樹脂フィルム基材9の厚さは、平均厚さで、通常は1μm以上、好ましくは3〜75μm、特に好ましくは4〜50μmである。
また、上記のような絶縁性樹脂フィルム基材9に塗設される熱硬化性樹脂からなるフィルム接着剤層8を形成する樹脂の例としては、エポキシ樹脂、ポリイミド前駆体(ポリアミド酸)、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂を挙げることができる。特にここで使用する熱硬化性樹脂からなる熱硬化性接着剤は、硬化温度が80〜200℃の範囲内、好ましくは130〜180℃の範囲内にあり、室温では表面に粘着性が発現しにくく、加熱して接着する際に接着力が発現する樹脂を使用することが好ましい。さらに、この熱硬化性接着剤は、熱硬化した後の硬化体が弾性を有しているものであることが望ましい。このように熱硬化性接着剤の硬化体が弾性を有するようにするためには、上記の接着性成分である熱硬化性樹脂にエラストマーを配合するか、熱硬化性樹脂をエラストマー成分で変性して熱硬化性樹脂硬化体自体が弾性を有するようにする。
このフィルム接着剤層8の厚さは、好適には配線パターン24を形成するためにベースフィルム22表面に配置された導電性金属箔の厚さと同等若しくはこれよりも厚いことが好ましく、通常は10〜50μm、好ましくは20〜50μmの範囲内にすることが望ましい。このようにフィルム接着剤層8の厚さを設定することにより、カバーレイフィルム32を打ち抜いて配線パターン24の表面に貼着した場合に、隣接する配線パターンとの間隙を接着剤で埋め尽くすことができ、貼着されたカバーレイフィルム32との間に不要な空隙が生じない。
このような構成を有する本実施例のカバーレイフィルム32の厚さ(絶縁性樹脂フィルム基材9+フィルム接着剤層8の合計)は、通常は、15〜125μm、好ましくは15〜75μmの範囲内にある。このカバーレイフィルム32は予め巻出しリールに巻回され、この巻出しリールからベースフィルム22の配線パターン24が形成された面に対し、このカバーレイフィルム32のフィルム接着剤層8側が配線パターン24形成面と対面するようにして巻き出され、打ち抜くカバーレイフィルムの形状を有するポンチとポンチ孔を有する打ち抜きプレス装置でカバーレイフィルム32を打ち抜く。このようなポンチで打ち抜かれたカバーレイフィルム32のフィルム片を、ガイドに沿って移動するフレキシブルプリント配線基板のカバーレイ保護膜形成予定部に配置し、60〜120℃程度に加
熱し0.2〜2MPa好ましくは0.4MPa〜0.8MPa程度の圧力で仮接着した後、フィルム接着剤層8の種類に応じて100〜200℃好ましくは130℃〜180℃程度に加熱し0.3〜5MPa好ましくは0.6MPa〜0.9MPa程度の圧力で本圧着する。
本圧着を行う金型には、シリコン系樹脂やフッ素系樹脂などの弾性部材が具備され、この弾性部材を介して配線パターン24の表面が押圧される。なお、上記のようにして打ち抜かれたカバーレイフィルム32は、搬送路の下流側でカバーレイフィルム巻取りリールに巻き取り回収される。
このようにして形成されたフレキシブルプリント配線基板20は、カバーレイフィルム32が、配線パターン24の形成されている部分にのみ貼着され、配線パターン24が形成されていない部分には、カバーレイフィルム32が切除されているので、気泡の巻き込みや剥がれを防止することができる。
本発明の半導体装置は、上記のようなフレキシブルプリント配線基板におけるデバイスホール30に電子部品が実装され、さらに樹脂封止されてなるものである。
以上、本発明の一実施例について説明したが、本発明は、上記実施例に何ら限定されない。
例えば、上記実施例では、略同一サイズのカバーレイフィルム32,32が使用されているが、これらは別々の形状、大きさであっても良く、一体化されていても良い
以下に、本発明の実施例を説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
[実施例1]
厚さ50μmのポリイミドフィルム(商品名:ユーピレックスS、宇部興産株式会社製)
に、厚さ12μmの接着剤層を介して平均厚さ35μmの電解銅箔を加圧しながら加熱し
て貼着した。
次いで、この電解銅箔の表面に感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂を露光現像して硬化した所望のパターンを形成した。
次に、このパターンが形成されたベースフィルムをエッチング液に浸漬して、パターンをマスキング材として電解銅箔を選択的にエッチングすることにより、銅からなる配線パターンを形成した。
一方、厚さ12μmのポリイミド樹脂フィルムに厚さ35μmのフェノール系接着剤を塗布してカバーレイフィルムを調製した。
このように調製されたカバーレイフィルムの接着剤層を、フィルムキャリアテープの配線パターン形成面と対面するように配置し、ポンチとポンチ孔を有する打ち抜きプレス装置で打ち抜き100℃に加熱しながら、0.5MPaの圧力で配線パターンの所定位置に
圧着した。
なお、ポンチは、図5に示したように、ポンチAとポンチBの2つを用意した。ポンチAとポンチBとの違いは、角部の領域Cが切り欠かれているがいないかの違いであり、その他は形状材質とも同一に設定した。この2つのポンチA,Bをプレス装置にセットして
、一回の打ち抜きでカバーレイフィルムをA,Bの形状で同時に打ち抜いた。ポンチAで打ち抜かれたフィルム片は、図1において左側、すなわち3つの金属線25がダミーになっている方に配置し、ポンチBで打ち抜かれたフィルム片は、図1において右側に位置するようにセットした。一回の打ち抜きで接着も同時に行った。こうして、図1のベースフィルムに対し、左右の配線パターンの表面に、ポンチAの形状に相当するカバーレイフィルムとポンチBの形状に相当するカバーレイフィルムとをそれぞれ仮接着し1万ピースのサンプルを作製した。カバーレイフィルムの隅部はいずれも平坦で剥がれや浮き上がりなどの凹凸はなかった
次に、カバーレイフィルムが仮接着されたベースフィルムに対し、本圧着を行うが、その場合に、シリコン系樹脂からなる弾性部材(シリコン・パッド)を本圧着を行う金型の表面に付設した。
本圧着では、170℃に加熱し、0.7MPaで15秒間圧着した。
このようにして接着された1万ピースのフィルムキャリアのカバーレイフィルムと配線パターンとの接着面には、気泡などは見られなかった。また、カバーレイフィルムの四隅角部に注目してカバーレイフィルムの貼り付け状況を確認したが、どの角部においても適正に接着されていて,剥がれや浮き上がりなどの凹凸は認められず、平坦であった。
比較例
上記した実施例1と同様にして、所望の配線パターンが形成されたベースフィルムを作成した。
ポンチの形状としては、図5に示したポンチBを2つ用意した。すなわち、比較例としては、配線パターンが形成されていない部分に対してもカバーレイフィルムで覆われるように、配線パターン領域よりも大きく設定した。そして、このポンチB、Bで打ち抜かれたフィルム片を配線パターンの上面に仮接着を行った後に本圧着した。仮接着や本圧着における温度条件や圧力は実施例1と同一条件である。
こうして比較例では、配線パターンが形成されていない部分(図5におけるCの領域に相当)にもカバーレイフィルムを接着した。
このようにして仮接着されたカバーレイフィルムと配線パターンとの接着面には、浮き上がり生じているものが約半数近くあり、特に、隅角部に注目してみると、他の部分では、浮き上がりが見られなくても、その部分だけには浮き上がりの生じているものが多かった。また、本圧着されたサンプルが気泡を含む割合は43%であった。
図1は、本発明の一実施例に係るフレキシブルプリント配線基板を示した平面図である。 図2は従来のフレキシブルプリント配線基板の一例を示した平面図である。 図3は、従来のフレキシブルプリント配線基板にカバーレイフィルムを仮接着するときの断面図である。 図4は、従来のフレキシブルプリント配線基板にカバーレイフィルムを本圧着するときの断面である。 図5はカバーレイフィルムを打ち抜くのに使用したポンチの形状を示したもので、一方のポンチには、他方のポンチに対して欠損部のあることを示した概略図である。
符号の説明
8・・・フィルム接着剤層
9・・・絶縁性樹脂フィルム基材
20・・・フレキシブルプリント配線基板
22・・・絶縁性のベースフィルム
24・・・配線パターン
25・・・ダミーパターン(配線パターン)
26・・・端子部分
28・・・スプロケットホール
30・・・デバイスホール
32・・・カバーレイフィルム(絶縁性樹脂保護フィルム)

Claims (4)

  1. 絶縁性のベースフィルム表面に導電性金属からなる配線パターンダミーパターンとが形成され、前記配線パターンの端子部分が露出されるとともに、当該配線パターンと前記ダミーパターンとの表面が絶縁性のカバーレイフィルムで保護されるフレキシブルプリント配線基板であって、
    前記ダミーパターンは、前記ベースフィルムにおける前記導電性金属からなる配線パターンが形成された領域の最外方に配置されたものであるとともに前記導電性金属からなる配線パターンのアウターリードに対応する部分が欠落されたものであり、
    前記カバーレイフィルムを貼着するときに、前記配線パターンの端子部分を除く領域と前記ダミーパターンの形成領域とを含配線パターン領域に、前記カバーレイフィルムの形状が投影的に略合致するように当該カバーレイフィルムの大きさが予め設定され、この大きさのカバーレイフィルムが、前記配線パターンの端子部分を除く領域とダミーパターンの形成領域とを含む配線パターン領域に合致させて貼着されることを特徴とするフレキシブルプリント配線基板。
  2. 前記カバーレイフィルムの一方の面に接着剤層が形成されており、該接着剤層を介して前記カバーレイフィルムが前記配線パターンの表面に貼着されることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルプリント配線基板。
  3. 前記カバーレイフィルムが、前記絶縁性のベースフィルムを形成する樹脂と同一種類の樹脂で形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフレキシブルプリント配線基板。
  4. 請求項1〜請求項3のいずれかに記載のフレキシブルプリント配線基板に電子部品が実装されていることを特徴とする半導体装置。
JP2005081581A 2005-03-22 2005-03-22 フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置 Expired - Fee Related JP4628154B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005081581A JP4628154B2 (ja) 2005-03-22 2005-03-22 フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置
KR1020060025363A KR100776466B1 (ko) 2005-03-22 2006-03-20 플렉서블 프린트 배선 기판 및 플렉서블 프린트 배선기판의 제조방법 및 반도체 장치
TW095109424A TWI347158B (en) 2005-03-22 2006-03-20 Flexible printed wiring board, method for fabricating flexible printed wiring board, and semiconductor device
US11/385,194 US20060214282A1 (en) 2005-03-22 2006-03-21 Flexible printed wiring board, method for fabricating flexible printed wiring board, and semiconductor device
CNA2006100585716A CN1838860A (zh) 2005-03-22 2006-03-22 柔性印刷线路板及其制造方法、和半导体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005081581A JP4628154B2 (ja) 2005-03-22 2005-03-22 フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006269495A JP2006269495A (ja) 2006-10-05
JP4628154B2 true JP4628154B2 (ja) 2011-02-09

Family

ID=37016070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005081581A Expired - Fee Related JP4628154B2 (ja) 2005-03-22 2005-03-22 フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20060214282A1 (ja)
JP (1) JP4628154B2 (ja)
KR (1) KR100776466B1 (ja)
CN (1) CN1838860A (ja)
TW (1) TWI347158B (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3983786B2 (ja) * 2005-11-15 2007-09-26 シャープ株式会社 プリント配線基板
CN101946567B (zh) * 2008-02-15 2013-06-26 株式会社起家来人 印刷电路板
US9072177B2 (en) * 2011-07-20 2015-06-30 Kaneka Corporation Conductive layer integrated FPC
JP6375015B1 (ja) * 2017-04-25 2018-08-15 住友化学株式会社 有機電子デバイスの製造方法
JP6375016B1 (ja) 2017-04-26 2018-08-15 住友化学株式会社 電極付き基板、積層基板及び有機デバイスの製造方法
KR102622861B1 (ko) 2018-06-22 2024-01-10 삼성디스플레이 주식회사 연성 기판 및 이를 포함하는 표시 장치
CN112105155B (zh) * 2020-08-20 2022-01-11 瑞声新能源发展(常州)有限公司科教城分公司 一种片式fpc及其制作方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02191392A (ja) * 1989-01-19 1990-07-27 Hitachi Chem Co Ltd フレキシブル配線板の製造方法及び装置
JP2678327B2 (ja) * 1991-02-15 1997-11-17 住友金属鉱山株式会社 フレキシブル配線基板およびその製造方法
JPH10261849A (ja) * 1997-03-19 1998-09-29 Fujitsu Ltd フレキシブルプリント基板および接続プリント基板構造
JPH1145913A (ja) * 1997-05-26 1999-02-16 Seiko Epson Corp フィルムキャリアおよび半導体装置
US6320135B1 (en) * 1999-02-03 2001-11-20 Casio Computer Co., Ltd. Flexible wiring substrate and its manufacturing method
JP2000332369A (ja) * 1999-05-25 2000-11-30 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd プリント回路板及びその製造方法
JP2000331730A (ja) 1999-05-20 2000-11-30 Canon Inc スタッキングコネクタ実装構造
JP3952125B2 (ja) * 1999-09-14 2007-08-01 セイコーエプソン株式会社 複合フレキシブル配線基板、電気光学装置、電子機器
US6496026B1 (en) * 2000-02-25 2002-12-17 Microconnect, Inc. Method of manufacturing and testing an electronic device using a contact device having fingers and a mechanical ground
JP3775329B2 (ja) 2002-03-27 2006-05-17 三井金属鉱業株式会社 電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法、その製造装置およびその方法に用いられる保護テープ
JP3694286B2 (ja) * 2002-10-08 2005-09-14 日東電工株式会社 Tab用テープキャリア
JP3638276B2 (ja) * 2002-12-24 2005-04-13 三井金属鉱業株式会社 電子部品実装用フィルムキャリアテープ
JP3895697B2 (ja) * 2003-03-03 2007-03-22 日東電工株式会社 フレキシブル配線回路基板
US7012017B2 (en) * 2004-01-29 2006-03-14 3M Innovative Properties Company Partially etched dielectric film with conductive features

Also Published As

Publication number Publication date
TW200640317A (en) 2006-11-16
CN1838860A (zh) 2006-09-27
JP2006269495A (ja) 2006-10-05
TWI347158B (en) 2011-08-11
KR100776466B1 (ko) 2007-11-16
US20060214282A1 (en) 2006-09-28
KR20060102281A (ko) 2006-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006269496A (ja) フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置
JP4628154B2 (ja) フレキシブルプリント配線基板、および半導体装置
JP4117892B2 (ja) 電子部品実装用フィルムキャリアテープ及びフレキシブル基板
TW200305235A (en) Releasing layer transfer film and laminate film
JP2006128641A (ja) Cof用フレキシブルプリント配線板及びその製造方法
JP4784456B2 (ja) プリント配線板の製造方法及びプリント配線板
JP3775329B2 (ja) 電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法、その製造装置およびその方法に用いられる保護テープ
JP3555502B2 (ja) Cof用tabテープキャリアの製造方法
JP2006228902A (ja) 補強板付フレキシブルプリント配線板
JP2006253247A (ja) フレキシブルプリント配線板、およびその製造方法
JP2005243899A (ja) プリント配線板及びその製造方法
JP2009267109A (ja) フレキシブル配線基板、フレキシブル半導体装置および液晶表示装置
JP4260098B2 (ja) プラズマディスプレイ用プリント配線基板およびその製造方法
JP2007180397A (ja) プリント配線基板及び液晶表示装置
JP3833084B2 (ja) 電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法
JP2011187641A (ja) フレキシブル基板の製造方法
JP3827201B2 (ja) 電子部品実装用基板及び電子部品実装用基板の製造方法
JP2006253269A (ja) プリント配線基板、半導体装置およびプラズマディスプレイ装置
JP2006148072A (ja) 配線板
JP3604348B2 (ja) 電子部品実装用基板の反り低減方法
WO2011061969A1 (ja) 部分多層配線基板及びその製造方法
JP3726951B2 (ja) フィルムキャリアのスクリーン印刷方法
JP4284163B2 (ja) 薄型基板の固定方法
JP2013120792A (ja) サポート基材及び配線板の製造方法
JP2000012625A (ja) 電子部品実装用フィルムキャリアテープおよび電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090623

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100209

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100412

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101102

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101109

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees