JP4623546B2 - 電圧制御発振器、pll回路、パルス変調信号生成回路、半導体レーザ変調装置及び画像形成装置 - Google Patents

電圧制御発振器、pll回路、パルス変調信号生成回路、半導体レーザ変調装置及び画像形成装置 Download PDF

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Description

本発明は、電圧制御発振器(VCO)、PLL(Phase Locked Loop)回路、パルス変調信号生成回路、半導体レーザ変調装置及び画像形成装置に関する。
図40に、PLL回路などに用いられている従来の電圧制御発振器(VCO)の典型的な回路構成を示す。同様な基本構成の電圧制御発振器が使用されたPLL回路は、例えば特許文献1に記載されている。このような電圧制御発振器は一般に1つの集積回路として実現される。
図40において、600は発振周波数制御部、700は発振回路部である。発振周波数制御部600は、入力端子INに入力される電圧(VCO入力電圧)を電流に変換する電圧電流変換回路を構成するnチャンネルMOS−FET601、pチャンネルMOS−FET603、抵抗602と、この電圧電流変換回路の変換電流(pチャンネルMOS−FET603のドレイン電流)に比例した電流を出力するためのpチャンネルMOS−FET604,605からなる。発振回路部700は、一般的なCMOS型インバータを奇数段、リング状に接続したリングオシレータからなるもので、701〜706はpチャンネルMOS−FET、707〜712はnチャンネルMOS−FETである。pチャンネルMOS−FET701〜703は各段のインバータに流れる電流(VCOリング電流)を制御するためのもので、発振周波数制御部600のpチャンネルMOS−FET603をマスターとするカレントミラーを構成している。nチャンネルMOS−FET710〜712もVCOリング電流を制御するためのもので、発振周波数制御部600のnチャンネルMOS−FET605をマスターとするカレントミラーを構成している。
このような構成において、VCO入力電圧が変化すると、発振周波数制御部600の出力電流が変化するためVCOリング電流が変化し、リングオシレータを構成する各段のインバータの遅延時間が変化するため、リングオシレータの発振周波数が変化する。
差動入出力を持つ差動インバータを奇数段、リング状に接続したリングオシレータを用いた電圧制御発振器も知られている(例えば特許文献2,3参照)。
また、PLL回路において、電圧制御発振器のゲインを下げるために、電圧制御発振器の入力電圧をデジタル型積分器又はアナログ型積分器により積分した信号を電圧制御発振器に入力する構成が提案されている(特許文献4参照)。
また、変調データをシリアルなパルス列に変換してパルス変調信号を生成するパルス変調信号生成回路、それを用いた半導体レーザ変調装置及び画像形成装置が特許文献5に記載されている。
特開2002−246899号公報 特開2002−171165号公報 特開2000−77985号公報 特開平10−21634号公報 特開2003−103831号公報
近年、広い周波数レンジのクロックを生成可能なPLL回路が要求される傾向にある。しかし、そのためにPLL回路内の電圧制御発振器のゲインを上げると、外来ノイズにより電圧制御発振器の入力電圧が変化すると発振周波数が大きく変化しジッタが増加する。したがって、ゲインが低くダイナミックレンジが広い電圧制御発振器の実現が望まれているが、図40に示すような構成の電圧制御発振器では、そのような要求を満たすことが困難になっている。このことについて、以下にさらに説明する。
図40に示した電圧制御発振器においては、電圧電流変換用のnチャンネルMOS−FET601は、VCO入力電圧があるスレッシュホールド電圧Vthを越えるまではドレイン電流が流れないため、図41に示すような非線形領域のあるVCO入力電圧−発振周波数特性となる(図41の縦軸にVCOリング電流をとれば、図41の特性はVCO入力電圧−VCOリング電流特性、つまり電圧電流変換特性と見なすことができる)。ただし、図41に示す特性は、VCO入力電圧がVth以下でも一定のVOCリング電流(オフセット電流)を流し、ある最低の周波数で発振させる場合の特性である。電源電圧Vccが5Vや3.3Vのデバイスではスレッシュホールド電圧Vthは0.6V程度である。しかし、デバイスの電源電圧Vccが1.8V、1.2V、1.0Vと低電圧化するにつれ、スレッシュホールド電圧Vthも減少するとはいえ、十分なダイナミックレンジ(図41に示す特性の線形領域のVCO入力電圧レンジ)を確保することが難しく、所望の発振周波数レンジを得るためにはゲイン(図41に示す線形領域の特性線の勾配に相当)を上げざるを得ないという問題があった。
よって、本発明の主たる目的は、低い電源電圧においても、ゲインを上げることなく発振周波数レンジを増加させることができる、新規かつ簡単な構成の電圧制御発振器を提供すること、また、これを用いることにより広い周波数レンジのクロックを生成可能でジッタの少ないPLL回路を実現することにある。本発明の他の目的は、そのような長所を持つとともに、偶数位相のクロックを容易に発生できる電圧制御発振器及びPLL回路を提供すること、さらに、外来ノイズなどにより発振周波数又はクロック周波数が想定した最高周波数を越えることを防止した電圧制御発振器及びPLL回路を提供することにある。 なお、電圧制御発振器のゲインを下げるために特許文献4に記載されているような積分器を設ける構成は、デジタル型積分器を用いる場合にはその回路規模が大きくなるという別の問題があり、アナログ型積分器を用いる場合にはプロセスや温度等の変動によってオフセットの管理や性能の保証が難しいという問題がある。
特許文献5に記載されているようなパルス変調信号生成回路においては、高周波クロックのジッタは、生成されるパルス変調信号のジッタとなる。そして、このパルス変調信号に従って画像形成装置の記録用光源としての半導体レーザを変調する場合、パルス変調信号のジッタは記録ドット位置の揺らぎや濃度の変動などを生じさせ、記録画質の劣化をもたらす。
よって、本発明の他の目的は、本発明のPLL回路を利用することによりジッタの少ないパルス変調信号を生成することが可能な改良されたパルス変調信号生成回路と、同パルス変調信号生成回路を用いた改良された半導体レーザ変調装置及び画像形成装置を提供することにある。
請求項1の発明は、リングオシレータを含み、該リングオシレータに流れる電流に応じた周波数の信号を出力する発振回路部と、グランド電位を含む所定の入力電圧範囲において線形の電圧電流変換特性を有し、入力電圧をその値に応じた値の電流に変換する電圧電流変換回路を含み、該電圧電流変換回路により変換された電流に比例した電流を出力して前記発振回路部に供給し、前記リングオシレータに流れる電流を制御する発振周波数制御部とからなる電圧制御発振器において、
前記発振周波数制御部の電源電圧を前記発振回路部の電源電圧より高く設定すると共に、前記発振周波数制御部は、前記電圧電流変換回路の入力電圧が所定の値を超えたときに出力電流の増加を制限する電流リミッタ回路を備えていることを特徴とするものである。
請求項2の発明は、請求項1に記載の電圧制御発振器において、前記電圧電流変換回路はオペアンプからなることを特徴とするものである。
請求項3の発明は、請求項2に記載の電圧制御発振器において、前記電流リミッタ回路は前記オペアンプに内蔵されていることを特徴とするものである。
請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電圧制御発振器において、
前記リングオシレータは偶数個の差動インバータをリング状に接続してなることを特徴とするものである。
請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電圧制御発振器と、該電圧制御発振器で生成されるクロック又はその分周クロックと基準クロックとの位相差を検出する位相比較手段と、該位相比較手段により検出された位相差に対応した電圧を生成して前記電圧制御発振器に入力する手段とを有することを特徴とするPLL回路である。
請求項6の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電圧制御発振器と、該電圧制御発振器で生成されるクロックを分周する分周器と、該分周器の出力クロックと基準となるクロックとの位相差を比較する位相比較器と、該位相比較器の出力信号を電流信号に変換するチャージポンプ回路と、該チャージポンプ回路の出力信号を入力し前記電圧制御発振器の制御電圧を出力するローパスフィルタとを有し、前記電圧制御発振器の発振周波数制御部に、前記電圧制御発振器の発振回路部の電源電圧、前記分周器の電源電圧、及び、前記チャージポンプ回路の電源電圧より高い電源電圧が供給されることを特徴とするPLL回路である。
請求項7の発明は、請求項5又は6に記載のPLL回路を用いて高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、シフトレジスタを含み、複数ビットの変調データを該シフトレジスタに取り込み、該シフトレジスタを前記高周波クロックに従いシフト動作させることにより、前記変調データをシリアルなパルス列に変換して出力するシリアル変調信号生成手段とを有することを特徴とするパルス変調信号生成回路である。
請求項8の発明は、請求項5又は6に記載のPLL回路を用いて複数相の高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、複数のシフトレジスタと、該複数のシフトレジスタの出力データを前記複数相の高周波クロックに基づいたタイミングで選択するマルチプレクサとを含み、複数ビットの変調データを前記複数のシフトレジスタに分割して取り込み、前記複数のシフトレジスタをそれぞれ前記複数相の高周波クロック中の対応した相の高周波クロックによりシフト動作させることにより、前記マルチプレクサより前記変調データをシリアルなパルス列に変換して出力するシリアル変調信号生成手段と、を有することを特徴とするパルス変調信号生成回路である。
請求項9の発明は、請求項5又は6に記載のPLL回路を用いて複数相の高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、複数のシフトレジスタと、該複数のシフトレジスタの出力データを前記複数相の高周波クロックに基づいたタイミングで選択するマルチプレクサとを含み、複数ビットの変調データを前記複数のシフトレジスタに分割して取り込み、前記複数のシフトレジスタをそれぞれ前記複数相の高周波クロック中の対応した相の高周波クロックによりシフト動作させることにより、前記変調データをシリアルなパルス列に変換して前記マルチプレクサより出力するシリアル変調信号生成手段とを有することを特徴とするパルス変調信号生成回路である。
請求項10の発明は、請求項5又は6記載のPLL回路を用いて複数相の高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、複数のシフトレジスタと、該複数のシフトレジスタの出力データを取り込み、それを位相を調整して出力する位相調整手段と、該位相調整手段より出力される前記複数のシフトレジスタの出力データを前記複数相の高周波クロックに基づいたタイミングで選択するマルチプレクサとを含み、複数ビットの変調データを前記複数のシフトレジスタに分割して取り込み、前記複数のシフトレジスタを前記複数相の高周波クロック中の1の相の高周波クロックにより一斉にシフト動作させることにより、前記変調データをシリアルなパルス列に変換して前記マルチプレクサより出力するシリアル変調信号生成手段とを有することを特徴とするパルス変調信号生成回路である。
請求項11の発明は、半導体レーザと、該半導体レーザを変調するための変調データをシリアルなパルス列に変換して出力する請求項7,8,9又は10に記載のパルス変調信号生成回路と、前記パルス変調信号生成回路より出力されるシリアルなパルス列に従って前記半導体レーザを駆動する駆動手段とを有することを特徴とする半導体レーザ変調装置である。
請求項12の発明は、半導体レーザにより出射される1本又は複数本のレーザ光ビームにより感光体を走査して該感光体上に静電潜像を形成する画像形成装置において、前記半導体レーザを変調するための変調データをシリアルなパルス列に変換して出力する請求項7,8,9又は10に記載のパルス変調信号生成回路と、前記パルス変調信号生成回路より出力されるシリアルなパルス列に従って前記半導体レーザを駆動する駆動手段とを有することを特徴とする画像形成装置である。
請求項1乃至4の発明によれば、電源電圧が低電圧化しても、ゲインの増大を抑えつつ広い発振周波数レンジを持つ電圧制御発振器を実現できる。そして、請求項1の発明によれば、電圧制御発振器において、想定した最高周波数を越える発振を防止し、そのような異常発振による不都合を回避することができる。また、広い電圧電流変換のダイナミックレンジを確保してゲインの上昇を抑えつつ、発振回路部の電源電圧を下げることができるため、高い周波数まで発振可能な発振周波数レンジの広い電圧制御発振器を実現できる。
請求項5,6の発明によれば、低ジッタの安定なクロックを生成でき、周波数レンジが広くかつ高速なクロックを生成でき、偶数位相のクロックを直接的に取り出すことができ、さらに、想定した最高周波数を超える異常クロックを発生しない等の利点を持つPLL回路を実現できる。
請求項7乃至10の発明によれば、比較的簡単な構成で、高周波クロックより高速かつ低ジッタの、所望パターンのパルス変調信号を生成可能なパルス変調信号生成回路を実現できる。
請求項11の発明によれば、高速かつ低ジッタのパルス変調信号に従って半導体レーザを駆動することができ、画像形成装置の記録光源としての半導体レーザの変調の目的に最適な半導体レーザ駆動装置を実現することができる。
請求項12の発明によれば、動作速度が速い場合にも、安定した高解像・高階調の画像を形成可能な画像形成装置を実現できる
<電圧制御発振器に関する実施の形態>
本発明の実施の形態を、まず電圧制御発振器に関して説明する。
本発明に係る電圧制御発振器は、入力された電圧をその値に応じた値の電流に変換する電圧電流変換回路を含み、該電圧電流変換回路により変換された電流に比例した電流を出力する発振周波数制御部と、リングオシレータを含み、該リングオシレータに前記発振周波数制御部の出力電流に比例した電流が流れる発振回路部とからなる。本発明に係る電圧制御発振器の主要な特徴は、電圧電流変換回路がグランド電位を含む所定の入力電圧範囲において線形の電圧電流変換特性を有することである。
以下、本発明に係る電圧制御発振器の実施例について説明する。
図1は、本発明に係る電圧制御発振器の一実施例を示す回路図である。図1において、100は発振周波数制御部、200は発振回路部である。
発振周波数制御部100は、入力端子INに入力される電圧(VCO入力電圧)を電流に変換する電圧電流変換回路を構成するオペアンプ(演算増幅器)101、pチャンネルMOS−FET102及び抵抗103と、この電圧電流変換回路の変換電流(pチャンネルMOS−FET102のドレイン電流)に比例した電流(VCOリング電流)を出力するためのpチャンネルMOS−FET104及びnチャンネルMOS−FET105からなる。pチャンネルMOS−FET102と抵抗103の接続点の電圧とVCO入力電圧とが等しくなるようにnチャンネルMOS−FET102のドレイン電流が制御される。
pチャンネルMOS−FET102,104のトランジスタサイズが同一ならば、両トランジスタのドレイン電流は等しい。両トランジスタのサイズ比を変えることにより、その電流比を変えることができる。例えば、pチャンネルMOS−FET104のサイズをpチャンネルMOS−FET102のサイズの2倍とすれば、pチャンネルMOS−FET102のドレイン電流の2倍のVCOリング電流を得られる。
オペアンプ101は、入力及び出力を0Vから電源電圧まで振ることが可能なレール・ツー・レール入出力(Rail-to-Rail input/output;日本モトローラ社登録商標)のオペアンプであるため、当該電圧電流変換回路は、グランド電位GNDから電源電圧Vccまでの入力電圧範囲において、線形の電圧電流変換特性を有する。そのゲインは、電圧電流変換用の抵抗103の抵抗値によりほぼ決定される。なお、コンデンサ106と抵抗107は、オペアンプ101の応答速度の補償のために必要に応じて設けられるものである。
この電圧制御発振器をPLL回路に用いる場合、オペアンプ101の周波数特性はPLL回路のループ特性に影響する。したがって、オペアンプ101のカットオフ周波数は、PLL回路の応答周波数より十分高い周波数に設定する必要がある。
発振回路部200は、一般的なCMOS型インバータを奇数段、リング状に接続したリングオシレータからなるもので、201〜206はpチャンネルMOS−FET、207〜212はnチャンネルMOS−FETである。pチャンネルMOS−FET201〜203は各段のインバータに流れる電流(VCOリング電流)を制御するためのもので、発振周波数制御部100のpチャンネルMOS−FET603とゲート電位が共通し、pチャンネルMOS−FET201〜203に流れる電流とpチャンネルMOS−FET104に流れる電流の大きさは同じである。nチャンネルMOS−FET210〜212もVCOリング電流を制御するためのもので、発振周波数制御部100のnチャンネルMOS−FET105をマスターとするカレントミラーを構成し、それを流れる電流とpチャンネルMOS−FET104に流れる電流の大きさは等しい。
このような構成において、入力端子INに印加されるVCO入力電圧が変化すると、発振周波数制御部100の出力電流が変化するためVCOリング電流が変化し、リングオシレータを構成する各段のインバータの遅延時間が変化するため、リングオシレータの発振周波数が変化する。発振周波数制御部100の電圧電流変換回路は、グランド電位GNDから電源電圧VccまでのVCO入力電圧範囲において線形の変換特性を持つため、VCOリング電流のオフセット電流がない場合には図2に破線で示すようなVCO入力電圧−発振周波数特性を得られ、VCOリング電流のオフセット電流がある場合には図2に実線で示すようなVCO入力電圧−発振周波数特性を得られる。このように、VCO入力電圧範囲の全域にわたって線形なVCO入力電圧−発振周波数特性となるため、デバイスの電源電圧Vccが低い場合においても、線形特性となるVCO入力電圧のダイナミックレンジを広くとることができ、したがって、ゲインを低く抑えつつ、広い発振周波数レンジを得ることができる。
なお、後記実施例5において説明するように、必ずしも電源電圧Vccまで線形特性とならなくとも、グランド電位GNDから線形特性となるならば、電源電圧Vccが低い場合においても、図40に示したような従来の構成に比べ、線形特性を得られるダイナミックレンジを広くとることができるので、ゲインを低く抑えつつ広い発振周波数レンジを得ることができる。このような構成も本発明に包含される。
図3は、本発明に係る電圧制御発振器の別の実施例を示す回路図である。図3において、発振周波数制御部100は前記第1の実施例に係る電圧制御発振器の発振周波数制御部と同一の構成である。発振回路部300は、差動インバータを4段(一般的には偶数段)、リング状に接続したリングオシレータから構成されるもので、pチャンネルMOS−FET301〜308とnチャンネルMOS−FET309〜320からなる。pチャンネルMOS−FET301〜308には、そのゲート電位がpチャンネルMOS−FET104のゲート電位と同一であるため、発振周波数制御部100の出力電流すなわちpチャンネルMOS−FET104のドレイン電流と同じ大きさのドレイン電流(VCOリング電流)が流れる。nチャンネルMOS−FET317〜320はnチャンネルMOS−FET105とカレントミラーを構成しており、したがって、そのドレイン電流(VCOリング電流)はpチャンネルMOS−FET104のドレイン電流と同じ大きさである。なお、図3から分かるように、リングオシレータを構成する差動インバータは偶数段であるため、最終段インバータの各出力を初段インバータの逆相側入力に帰還される接続となっている。
この実施例の電圧制御発振器も、グランド電位GNDから電源電圧VccまでのVCO入力電圧範囲全域で線形のVCO入力電圧−発振周波数特性(換言すれば電圧電流変換特性)を有することは明らかである。この実施例の特徴は、発振回路部300が偶数段の差動インバータのリング状接続からなるリングオシレータであることであり、リングオシレータより偶数位相のクロックを直接的に得ることができる。奇数段のインバータをリング状接続した構成で直接生成できるのは奇数位相のクロックであるが、多くのデジタル回路では偶数位相のクロックを必要とすることが多いため、偶数位相のクロックを直接的に得られることは大きな利点である。
なお、差動インバータを奇数段、リング状に接続したリングオシレータを用いる構成も本発明に包含される。この場合、最終段インバータの各出力は初段インバータの同相側入力と接続されることになる。
また、この実施例においても、必ずしも電源電圧Vccまで線形特性とならなくとも、グランド電位GNDから線形特性となるならば、電源電圧Vccが低い場合においても、図9に示したような従来の構成に比べ、線形特性を得られるダイナミックレンジを広くとることができるので、ゲインを低く抑えつつ広い発振周波数レンジを得ることができる。このような構成も本発明に包含される。
図4は本発明に係る電圧制御発振器の別の実施例を示す回路図である。この電圧制御発振器は、発振周波数制御部100の電源電圧Vccと発信回路部400の電源電圧Vcc2が異なっていることが大きな特徴である。
発振周波数制御部100は前記第1の実施例のものと同一の構成である。発振回路部400は、前記第1の実施例のものと基本構成は同一であるが、その電源電圧Vcc2が発振周波数制御部100の電源電圧Vccと異なる関係から、nチャンネルMOS−FET105とカレントミラーを構成するnチャンネルMOS−FET401が追加され、このトランジスタと直列に、pチャンネルMOS−FET201〜203とカレントミラーを構成するpチャンネルMOS−FET402が追加されている。
より高い発振周波数を得ようとする場合、発振回路部400の電源電圧Vcc2を低くし、リングオシレータを構成するインバータのトランジスタ204〜209として、より微細なルールのものを使用する必要がある。しかし、発振周波数制御部100の電源電圧も低くしたのでは、電圧電流変換のダイナミックレンジが狭くなり、ゲインを上げざるを得ない。
この実施例の電圧制御発振器にあっては、電源電圧Vcc2を低く設定し、それよりも電源電圧Vccを高く設定することができる。このようにするならば、電圧電流変換の広いダイナミックレンジを確保してゲインの上昇を抑えながら、高い周波数まで発振可能で、かつ、発振周波数レンジの広い電圧制御発振器を実現できる。
なお、この実施例の場合、オペアンプ101は必ずしもレール・ツー・レール入出力のものでなくともよい。電源電圧Vccを十分に高く設定することにより、必要な電圧電流変換のダイナミックレンジを確保可能であるからである。ただし、オペアンプ101としてレール・ツー・レール入出力のものを使用するならば、同じ電源電圧Vccで、より広いダイナミックレンジを得ることができる。換言するならば、より低い電源電圧Vccで同等のダイナミックレンジを得ることができる。
図5は本発明に係る電圧制御発振器の別の実施例を示す回路図である。この電圧制御発振器は、発振周波数制御部100の電源電圧Vccと発信回路部500の電源電圧Vcc2が異なっていることが大きな特徴である。
発振周波数制御部100は前記第1の実施例のものと同一の構成である。発振回路部500は、前記第2の実施例のものと基本構成は同一であるが、その電源電圧Vcc2が発振周波数制御部100の電源電圧Vccと異なる関係から、nチャンネルMOS−FET105とカレントミラーを構成するnチャンネルMOS−FET501が追加され、このトランジスタと直列に、pチャンネルMOS−FET301〜308とカレントミラーを構成するpチャンネルMOS−FET502が追加されている。
前記第3の実施例に関連して述べたように、より高い発振周波数を得ようとする場合、発振回路部500の電源電圧Vcc2を低くし、リングオシレータのトランジスタとして、より微細なルールのものを使用する必要があるが、発振周波数制御部100の電源電圧Vccも低くしたのでは、電圧電流変換のダイナミックレンジが狭くなり、ゲインを上げざるを得ない。しかし、この実施例の電圧制御発振器にあっては、電源電圧Vcc2を低く設定し、それよりも電源電圧Vccを高く設定することにより、電圧電流変換の広いダイナミックレンジを確保してゲインの上昇を抑えながら、高い周波数まで発振可能で、かつ、発振周波数レンジの広い電圧制御発振器を実現できる。この実施例においても、オペアンプ101は必ずしもレール・ツー・レール入出力のものでなくともよいが、より低い電源電圧Vccで広いダイナミックレンジを得るためには、オペアンプ101としてレール・ツー・レール入出力のものを使用するのが望ましい。
次に、本発明の電圧制御発振器の別の実施例について説明する。この実施例にあっては、前記第1乃至第4の実施例のものと同様構成の電圧制御発振器の発振周波数制御部100に、出力電流を所定値以下に制限するリミッタ回路が付加される。このリミッタ回路は、電圧電流変換用のオペアンプ101に内蔵させる形態をとることも、電圧電流変換回路の入力側又は出力側に設ける形態をとることもできる。
図6に、リミッタ回路を内蔵したオペアンプ101の一例を示す。図6において、定電流源158、pチャンネルMOS−FET150,151,156,157及びnチャンネルMOS−FET152〜155がオペアンプの基本回路要素である。定電流源158とnチャンネルMOS−FET150,151で差動増幅器が構成され、その出力はnチャンネルMOS−FET152〜155及びpチャンネルMOS−FET156,157で折り返される。nチャンネルMOS−FET157のドレインがオペアンプ101の出力として引き出される。
定電流源160、抵抗161及びnチャンネルMOS−FET159はリミッタ回路を構成している。定電流源160の電流値と抵抗161の抵抗値とで決まる基準電圧(リミッタ電圧)をVCO入力電圧が越えても、nチャンネルMOS−FET102のドレイン電流はそれ以上増加しない。したがって、VCO入力電圧−発信周波数特性は図7のようになる。
電圧制御発振器で生成される高周波クロックは分周されてデジタル回路のクロックとして用いられることが多いが、電圧制御発振器の発振周波数が過渡的に想定外の非常に高い周波数となると、デジタル回路が異常な動作をしたり破壊するおそれがある。この実施例の電圧制御発振器は、VCO入力電圧がノイズなどで異常に高電圧となってもVCOリング電流は所定値を越えることがなく、発信周波数も所定の最高周波数を超えないため、そのような不都合を回避することができる。
なお、リミッタ電圧設定用の抵抗161と電圧電流変換用の抵抗103は、集積回路の内蔵抵抗とすることも外付け抵抗とすることもできる。内蔵抵抗は絶対精度は良くないが相対精度は高いため、その抵抗値がばらついても、リミッタ電圧の値自体はばらつくが高精度のリミッタ機能を実現できる。
<PLL回路に関する実施の形態>
次に、本発明に係るPLL回路に関して実施の形態を説明する。本発明に係るPLL回路の主要な特徴は、前述したような本発明に係る電圧制御発振器が使用されることである。以下、本発明に係るPLL回路の実施例について説明する。
図8に本発明に係るPLL回路の一実施例を示す。図8において、不図示の水晶発振器などで発生されたクロックが分周回路603により分周され、基準側クロックとして位相比較器602に入力される。電圧制御発振器(VCO)600のリングオシレータの任意段から取り出されたクロックは分周器601により分周されて比較側クロックとして位相比較器602に入力される。位相比較器602より基準側クロックと比較側クロックの位相差に対応した信号が出力され、これがチャージポンプ回路604を介してループフィルタ(ローパスフィルタ)605に送られ、基準側クロックと比較側クロックの位相差に対応した電圧が生成され、これがVCO入力電圧として電圧制御発振器600に入力される。かくして、比較側クロックと基準側クロックとが同位相となるように電圧制御発振器600の発振周波数が制御され、基準側クロックと同期したクロックが生成される。なお、分周器603及び/又は分周器601の分周比を変更することにより、生成されるクロックの周波数を変化させることができる。
このようなPLL回路は、前述のように必要なダイナミックレンジを確保しつつゲインを低くすることができる本発明の電圧制御発振器600を用いているため、ジッタを増加させることなく、広いクロック周波数レンジを得られる。また、前記第5の実施例に係る電圧制御発振器を電圧制御発振器600として使用するならば、想定外の異常に高い周波数のクロックが生成されることがないため、生成されるクロックを利用するデジタル回路の異常クロックによる動作異常や故障を回避できる。
なお、電圧制御発振器600で生成されたクロックを分周器601を介さず直接的に位相比較器602に比較側クロックとして入力するような構成、不図示の水晶発振器などで生成されたクロックを分周器603を通さず基準側クロックとして位相比較器602に入力するような構成のPLL回路も本発明に包含されることは言うまでもない。
図4又は図5に示したような電圧制御発振器を使用したPLL回路の別の実施例について、図9により説明する。図9において、図8と同様の回路要素には同一の参照番号が付されている。
図9に示すように、このPLL回路においては、電圧制御発振器600の発振周波数制御部には電源電圧Vccが供給され、電圧制御発振器600の発信回路部(リングオシレータ部)、分周器601,603、位相比較器602及びチャージポンプ604にはVccより低い電源電圧Vcc2が供給される。かかる構成によれば、電圧制御発振器600の制御電圧のダイナミックレンジを0VからVccまで広いダイナミックレンジを確保してゲインの上昇を抑えつつ、高い周波数までの高速動作が可能となる。例えば、Vccが3.3V、Vcc2が1.8Vであれば、電圧制御発振器600の制御電圧のダイナミックレンジとして0Vから1.8Vまでの全域を利用することができる。
図4又は図5に示したような本発明の電圧制御発振器を使用すしたPLL回路の別の実施例について、図10及び図11により説明する。
図10において、図8と同様の回路要素には同一の参照番号が付されている。ここに示すPLL回路では、電圧制御発振器600の発振回路部(リングオシレータ部)の電源電圧変動による発振周波数変動(ジッタ)を抑えるため、電源電圧Vcc2を供給するためのデジタル電源とは独立したノイズの少ない電源より、電圧制御発振器600の発振回路部(リングオシレータ部)に電源電圧Vcc3が供給される。Vcc3とVcc2は同電位でも別電位でも構わないが、たとえVcc3とVcc2を同電位となるようにそれぞれの電源を設定したとしても、Vcc3,Vcc2間で微妙に電位が異なることにより出力クロックの位相ずれが生じる場合がある。このような位相ずれを防止するため、このPLL回路においては、VCOバッファ回路610を追加し、このVCO回路610内でレベルシフト回路を用いて電源間のバッファリングを行う。
VCOバッファ回路610の一例を図11に示す。図11において、611は周知のレベルシフト回路であり、電源電圧Vcc3を供給される。612はレベルシフト回路611に逆位相の2本のクロックを入力するための入力回路であり、電源電圧Vcc2を供給される。この入力回路612は、例えば、2組のインバータ(もしくはインバータ列)又は1組の差動インバータ(もしくは差動インバータ列)からなり、電圧制御発振器600より逆位相の2本のクロックが入力される。
<パルス変調信号生成回路に関する実施の形態>
次に、本発明に係るパルス変調信号生成回路に関し実施の形態を説明する。本発明に係るパルス変調信号生成回路は、画像形成装置の記録光源としての半導体レーザの変調のためのパルス変調信号を生成する目的に好適なものである。
半導体レーザの光出力を変調する方式としてはパルス幅変調方式が一般的であり、各パルス発生周期に対応した三角波もしくはのこぎり波を発生し、それぞれをコンパレータを用いてアナログビデオ信号と比較する事でパルス幅変調信号を生成する方式や、高周波クロックを生成し、デジタル的にそのクロックを分周する事で遅延パルスを生成し、その論理和または論理積でパルス幅変調信号を生成する方式などが提案されている。
しかし、レーザプリンタ、デジタル複写機、その他画像形成装置の動作速度の高速化に伴い、前者の方式では三角波もしくはのこぎり波の直線性・再現性と動作速度の高速化が両立せず、また、後者の方式では、画像の階調性と動作速度の高速化が両立しないという問題があった。
本発明に係るパルス変調信号生成回路は、簡単な構成で、所望パターンの高速なパルス変調信号を生成可能である。本発明に係るパルス変調信号生成回路により生成されるパルス変調信号を画像形成装置の半導体レーザの変調に利用することにより、動作速度が高い場合でも、記録ドット位置の揺らぎが少なく安定した、かつ、きめ細かな高階調性の画像形成が可能となる。
図12は、本発明に係るパルス変調信号生成回路の基本概念図である。図12に示すパルス変調信号生成回路は、高周波クロック生成部11と変調データ生成部12とシリアル変調信号生成部13とから構成される。
高周波クロック生成部11は、一般に画像形成装置で必要とする画素クロックという1ドットを表す基本的周期よりも高速な1相又は多相の高周波クロックを生成する手段である。この高周波クロック生成部11には、前述したような本発明に係るPLL回路が用いられる。変調データ生成部12は、図示しない画像処理ユニット等の外部から与えられた画像データに基づいて所望ビットパターン(パルスパターン)を表す変調データを生成する手段である。シリアル変調信号生成部13は、変調データ生成部12から出力される変調データを入力して、それを高周波クロックに基づいてシリアルなパルス列に変換し、パルス変調信号PMとして出力する。
このように、シリアル変調信号生成部13に変調データを入力し、画素クロックより格段に高速な高周波クロックに基づき、変調データのビットパターンに対応したシリアルなパルス列であるパルス変調信号PMを生成する構成が、本発明に係るパルス変調信号生成回路の最大の特徴である。後述するように、シリアル変調信号生成部13はシフトレジスタを利用した単純な構成とすることができ、これも大きな特徴である。高周波クロック生成部11よりシリアル変調信号生成部13へ供給される高周波クロックのジッタは、生成されるパルス変調信号PMのジッタになるため、ジッタの少ない高周波クロックが必要である。本発明に係るPLL回路は前述のように極めてジッタの少ない高周波クロックを生成できるため、高周波クロック生成部11において本発明のPLL回路を使用して高周波クロックを生成するならば、極めて低ジッタの高周波クロックをシリアル変調信号生成部13へ供給することができるため、極めて低ジッタのシリアル変調信号を生成することが可能である。
図13に、本発明に係るパルス変調信号生成回路におけるパルス列出力イメージを示す。ここでは、判りやすいように、1ドットに相当するパルス列を出力するイメージを表している。図13のように、例えば1ドットを8個のパルスで構成する場合に、パルス列をシリアルに順次出力することが可能であるので、8個のパルスそれぞれをON(例えば黒)、OFF(例えば白)に任意に設定することにより、1ドット中の所望の位置に所望のパルスを出力する事が可能である。無論、本発明は1ドット幅に限らないことは云うまでもない。
図14乃至図16はそれぞれ、例えば1ドットを8個のパルスで構成する場合に、従来のパルス幅変調回路を用いて生成されるパルスの例を示したものである。ここで、図14は右からパルスを形成する例、図15は左からパルスを形成する例、図16は中からパルスを形成する例を表している。このように、従来では1ドット中の所望の位置に所望のパルスを出力することは、事実上できなかった。仮に出来たとしても複雑な構成を必要とした。
図17に、本発明によるパルス出力イメージの具体例を示す。ここでは、パルス数が増えると煩雑になるので、4パルスP1〜P4で1ドットを構成するパルス出力例を画像データ(4ビット)と対応させて示している。図17に示す様に、本発明では1ドットの任意の位置にパルスを出力可能であるので、4パルスP1〜P4の場合、2^4=16通りのパターンのパルス列の出力が可能である。同様に、5パルスの場合は2^5=32通り、6パルスの場合は2^6=64通り、…の出力が可能である。
このようなパルス列を出力するための変調データ(ビットパターン)は、変調データ生成部12に、例えばルックアップテーブル(LUT)を使用することで容易に生成可能である。
図18に、図17に示す4ビットすなわち4パルスP1〜P4の16通りのビットパターンを生成するルックアップテーブル(LUT)1220の構成例を示する。図18において、LUT1220は横方向に4ビット、縦方向に16列の合計64ビットで構成され、それぞれアドレスが0000から1111まで16個与えられている。従って、画像データをアドレス信号として入力することにより、所望パターンのビット列(パルス列)P1〜P4を変調データとして出力することが可能である。また、図17を見れば判るように、画像データの「0000」と「1111」とではビットパターンが反転し、同様に、画像データの「0001」と「1110」とではビットパターンが反転していることを利用して、画像データのあるビットを反転信号とすると、LUT1220は16列必要ではなく8列で十分である。このように、データ反転信号を用いることにより、LUT1220のメモリを半分に節約することができる。
ここで、LUTはROM、DRAM、SRAM等どのようなメモリを用いて構成しても良く、例えば、DRAMを用いると本発明をASIC化する際に小型化の面で有利であり、SRAMを用いると高速化の面で有利である。
変調データ生成部12は、必ずしも上記したようなLUTで構成する必要はなく、例えばデコーダで構成することも可能である。これについて図19により説明する。図19は、3ビットの画像データに対し、4ビットすなわち4パルスP1〜P4の8通りのパルス列を出力するイメージを表している。画像データの各ビットをMSBよりD2,D1,D0と表すと、デコーダの論理は
P1=D2
P2=D2B・D1・D0+D2・D1B+D2・D1・D0B
P3=D2B・D1+D2・D1B
P4=D2B・D1B・D0+D2B・D1・D2・D1B・D0B
(D0B,D1B,D2BはそれぞれD0,D1,D2の反転を表す)
とすればよい。このような論理のデコーダはAND、OR等の論理ゲートの組み合わせで容易に実現できる。
シリアル変調信号生成部13は、上述のようなLUTやデコーダ等で構成された変調データ生成部12により生成される変調データを入力し、それをシリアルなパルス列に変換して高周波クロックに同期して出力するものである。このようなシリアル変調信号生成部13は、パラレル入力・シリアル出力のシフトレジスタを用いて容易に構成することができる。
1相の高周波クロックを使用し、4パルスP1〜P4からなるシリアル変調信号を生成する場合には、例えば図20又は図21に示すようなシフトレジスタを用いることができる。図20に示すシフトレジスタは、マルチプレクサ(MUX)と同期型Dフリップフロップから構成されるもので、ロード(LOAD)信号によりMUXを介して各段のフリップフロップにP1〜P4の各ビットをロードした後、高周波クロックに同期して各ビットを順次シフトしシリアルに出力する。図21のシフトレジスタは非同期RS入力を持つ同期型Dフリップフロップから構成されるもので、P1〜P4の各ビットとその反転ビットP1’〜P4’を各段のフリップフロップのセット入力(S)及びリセット入力(R)に入力することにより、各段のフリップフロップにP1〜P4の各ビットをロードした後、セット入力及びリセット入力”1”に保持することにより、高周波クロックに同期して各ビットを順次シフトしシリアルに出力する。
以下、本発明に係るパルス変調信号生成回路の実施例について説明する。
図22は、本発明に係るパルス変調信号生成回路の実施例を説明するためのブロック図である。このようなパルス変調信号生成回路は、1チップのASICとして実現することにより省エネルギー、小型化、ローコスト化を図ることができる。
図22において、変調データ生成部12は、レジスタ121、LUT122、デコーダ123、モード選択回路124から構成される。外部から入力される画像データはレジスタ121に保持され、LOAD信号のタイミングでLUT122とデコーダ123の両方に入力される。LUT122とデコーダ123では、それぞれ独立に画像データを所望のビットパターン(パルスパターン)の変調データに変換する。モード選択回路124は、モード選択信号により、LUT122から出力される変調データとデコーダ123から出力される変調データのどちらかを選択してシリアル変調信号生成部13へ出力する。
このように、モード選択信号によりLUT122とデコーダ123を使い分けることにより、より自由度が大きく、画像データに対して多様な変調データの生成が可能になる。勿論、LUT122とデコーダ123のいずれか一方のみの構成としてもよい。
また、LUT122は、図18で説明したようにデータ反転信号を入力する構成とすると、LUTに必要なメモリを削減できる。また、LUT122を複数個持ち、高解像モード信号を用いて、複数のLUTから順にパルス列をシリアルに複数回出力する構成とすれば、LUT122のメモリを増加させることなく、より長いパルス列の出力が可能となる。これについては、より具体的に後述する。
シリアル変調信号生成部13は、最も単純には、図20又は図21に示したような1本のシフトレジスタを用いた構成とすることができる、かかる構成も本発明に包含されるが、より高速な、より多ビットのパルス変調信号の生成のためには、2本又は3本以上のシフトレジスタを用いる構成とするとよい。一般的には、シリアル変調信号生成部13をM本のシフトレジスタを用いて形成する場合には、高周波クロック生成部11でM相の高周波クロックを生成してシリアル変調信号生成部13へ供給する構成とすることが可能である。
図23に、図20に示したような4ビットのシフトレジスタを2本用いたシリアル変調信号生成部13の構成例を示す。図23において、シフトレジスタ131には高周波クロックVCLKとそれに同期したLOAD1信号が入力され、シフトレジスタ132にはVCLKの反転クロックVCLKBとそれに同期したLOAD2信号がそれぞれ入力される。変調データは8ビット(P1〜P8)からなり、その奇数ビットがLOAD1信号のタイミングでシフトレジスタ131にロードされ、また変調データの偶数ビットがLOAD2信号のタイミングでシフトレジスタ132にロードされ、高周波クロックVCLK、VCLKBにより変調データは順次シフトされる。マルチプレクサ(MUX)139は、シフトレジスタ131,132の出力ビットを各高周波クロックのタイミングで順次選択して出力する。したがって、MUX139よりP1,P2,P3,P4,P5,P6,P7,P8の順にパルス列がシリアルに出力される。
このように、図23の構成によれば、高周波クロックVCLKの2倍速のシリアル変調信号の生成が可能である。換言すれば、同じクロック速度で、より高解像のパルス変調信号の生成が可能である。
この構成例では、2相の高周波クロックVCLK,VCLKBが必要である。高周波クロック生成部11として用いられるPLL回路の電圧制御発振器として、例えば、図3又は図5に示したような電圧制御発振器を用いるならば、その電圧制御発振器の発振回路部(リングオシレータ部)の任意段の差動インバータより位相がπ(180゜)異なる2相の高周波クロックを直接的に取り出すことができる。勿論、PLL回路で1相の高周波クロックを生成し、それを偶数個のインバータと奇数個のインバータにそれぞれ通すことにより、同様の2相クロックを生成することも可能である。
図24に、図20に示したような4ビットのシフトレジスタを4本用いたシリアル変調信号生成部13の構成例を示す。各シフトレジスタ131,132,133,134のシフト用クロックとして、図25に示すようなπ/4(90゜)ずつ位相がずれた4相の高周波クロックVCLK1、VCLK2、VCLK3、VCLK4が用いられる。この場合の変調データは16ビット(P1〜P16)からなり、4ビット置きにシフトレジスタ131〜134に分けてロードされる。すなわち、P1,P5,P9,P13の4ビットはクロックVCLK1に同期したLOAD1信号のタイミングでシフトレジスタ131にロードされ、P2,P6,P10,P14の4ビットはクロックVCLK2に同期したLOAD2信号のタイミングでシフトレジスタ132にロードされ、P3,P7,P11,P15の4ビットはクロックVCLK3に同期したLOAD3信号のタイミングでシフトレジスタ133にロードされ、P4,P8,P12,P16の4ビットはクロックVCLK4に同期したLOAD4信号のタイミングでシフトレジスタ134にロードされる。
そして、シフトレジスタ131〜134のシフト動作により、各シフトレジスタの出力データS1,S2,S3,S4として図25に示すようなタイミング関係でP1〜P16が出力され、MUX139によってクロックVCLK1〜VCLK4のタイミングで各シフトレジスタの出力が順に選択されることにより、P1〜P16の順にパルス列がシリアルに出力される。
このように、図24の構成によれば、高周波クロックVCLKの4倍速のパルス変調信号の生成が可能である。換言すれば、同じクロック速度で、より高解像のパルス変調信号の生成が可能である。
高周波クロック生成部11として用いられるPLL回路の電圧制御発振器として、例えば、図3又は図5に示したような電圧制御発振器を用いるならば、その電圧制御発振器の発振回路部(リングオシレータ部)より4相の高周波クロックVCLK1〜VCLK4を直接的に取り出すことができる。すなわち、図3又は図5において、2段目の差動インバータを構成するnチャンネルMOS−FET312のドレインよりVCLK1、nチャンネルMOS−FET311のドレインよりVCLK3を取り出し、4段目の差動インバータを構成するnチャンネルMOS−FET316のドレインよりVCLK2、nチャンネルMOS−FET315のドレインよりVCLK4を取り出せばよい。なお、1段毎にクロックを取り出すことにより、π/4(45度)ずつ位相がずれた8相のクロックを得られる。同様に、差動インバータの段数が奇数段、例えば3段の構成であれば、π/3(60度)ずつ位相の異なる6相のクロックも生成できる。
図26に、シリアル変調信号生成部13の別の構成例を示す。この構成例は、図24に示した構成と同様、4本の4ビットのシフトレジスタ131〜134が用いられ。16ビットの変調データ(P1〜P16)は4ビット置きに4分割されて4本のシフトレジスタにロードされるが、クロックVCLK1に同期した1本のLOAD1信号のタイミングで全てのシフトレジスタへのロードを行い、全てのシフトレジスタを共通のクロックVCLK1でシフト動作させる。したがって、シフトレジスタ131,132,133,134の出力データS1,S21,S3,S4には図27に示すようにクロックVCLK1に同期してデータが出力される。このため、例えばシフトレジスタ131の出力データS1をクロックVCLK1の立ち上がりとクロックVCLK2の立下りでMUX139より出力させようにとする場合、このままでは不定の部分があるためパルスをラッチできないが、図27に示す様に、データS1をクロックVCLK4でラッチしてデータS1'とし、更にクロックVCLK3でラッチしてデータS1"とすれば、クロックVCLK1の立ち上がりとクロックVCLK2の立下りでデータをラッチすることが可能となる。このようなシフトレジスタの出力データの位相を調整するために位相調整部138が追加される。MUX139には、位相調整部138により位相調整されたデータS1’,S2’,S3’,S4’が入力される。
MUX139の動作は、図24の場合と基本的に同様であり、各シフトレジスタの出力データを安定にラッチできるクロックを選んで選択する事により、4本のシフトレジスタの出力データをシリアルのパルス列に変換し出力することができる。
この構成例では、シフトレジスタ出力の位相を調整する位相調整部が必要となるが、4個のシフトレジスタに対して共通の高周波クロックとそれに同期した共通のロード信号を供給すればよい点で簡易である。
なお、ここまでにシフトレジスタが4本までの構成例を示したが、同様の構成で5本以上のシフトレジスタを用いる構成とすることも可能である。また、各構成例では、4ビットのシフトレジスタを用いたが、よりビット数の多いシフトレジスタを用いることにより、よりビット数の多いパルス列を生成可能である。
次に、前述した高解像度モードに適したLUTの構成について、図28及び図29により説明する。
図28に、高解像モードに適したLUTの構成例を示す。これは、先の図18に示
した4ビット×16列構成のLUTを2個(2面)用いた構成例である。LUT(1)
1221,LUT(2)1222に対してアドレス信号は5ビットで与えられるが、その最上位ビットは高解像モード信号であり、これはLUT(1)1221,LUT(2)1222の選択に用いられる。アドレス信号の下位4ビットは画像データであり、これは各LUTの列の選択に用いられる。
このようなLUTの構成の場合、LOAD信号は、例えば1ドットの間で2回に分けて与えられる。まず、1回目のLOAD信号に同期して、高解像モード信号は“0”とされ画像データは4ビットが入力する。この高解像モード信号と画像データ4ビットの合計5ビットでアドレス信号を構成するが、高解像モード信号が“0”のため、LUT(1)1221が選択されて、その該当列の4ビットが出力される。続いて2回目のLOAD信号に同期して、高解像モード信号が“1”となり、画像データは同様に4ビットが入力する。この結果、LUT(2)1222が選択されて、その該当列の4ビットが出力される。このように、高解像モード時、LUT(1)1221,LUT(2)1222の両方を使用して合計8ビットの変調データを生成できる。
他方、通常モード時では、LOAD信号は、例えば、1ドットの間で1回とし、高解像モード信号は“0”、画像データは4ビットのみとする。これにより、LUT(1)1221が選択され、その該当列の4ビットデータが出力される。
合計8ビット(8パルス)を出力可能なLUTを1個で構成しようと、2^8=256列のLUTを用意する必要があるが、図28の構成例のように、16列のLUTを2個(2面)用意すれば、LUTの合計列数は32列まで減らすことができ、省メモリ化を図ることができる。
図29に、高解像度モードに適したLUTの別の構成例を示す。これは、高解像度モードに加えて、更にパルス数を変更したい場合の構成例であり、16ビット×2^16列のLUT(1)1221及びLUT(2)1222、14ビット×2^14列のLUT(3)1223及びLUT(4)1224、18ビット×2^18列のLUT(5)1225及びLUT(6)1226の合計6個のLUTを使用する。
アドレス信号は、LUT(1)1221,LUT(2)1222では19ビット、LUT(3)1223,LUT(4)1224では17ビット、LUT(5)1225,LUT(6)1226では21ビットとされる。これらアドレス信号のうち、上位3ビットがLUT(1)1221〜LUT(6)1226の選択に使用される。より具体的には、アドレス信号の上位3ビットのうち、最上位ビットと2ビット目は、出力ビット数が16ビット、14ビット、18ビットのいずれかのLUTの組を選択するために使用され、3ビット目は、選択されたLUTの組の中の一方のLUTを選択するために使用される。この3ビット目として高解像モード信号を利用し、高解像モード時は上位2ビットで選択される組の2つのLUTを使用できるようにする。
この構成例では、高解像モード信号とアドレス信号の上位2ビットの組み合わせにより、出力変調データは14,16,18,28,32,36ビットの6通りから任意に選択することが可能になる。LUTの選択は、例えば、LUT(1)1221〜LUT(6)1226の前段にアドレスデコーダを配置し、アドレス信号の上位3ビットをアドレスデコーダでデコードし、そのデコード結果でLUTを選択することで容易に可能である。また、LUTの選択に使用するアドレス信号のビット数を増加させれば、LUTの選択の組み合わせが増え、その結果、出力変調データのビット数の組み合わせも増加することになる。
この構成例において、高解像モード時の動作は、基本的に図28の構成例と同様である。即ち、高解像度モード信号を、1回目のLOAD信号では“0”、2回目のLOAD信号では“1”とする。アドレス信号の上位2ビットは、必要とする変調データのビット数に応じて設定する。例えば、上位2ビットが「00」の場合、1回目のLOAD信号ではLUT(1)1221が選択されて、その該当列の16ビットデータが出力し、2回目のLOAD信号ではLUT(2)1222が選択されて、その該当列の16ビットデータが出力され、合計32ビットの変調データが出力される。同様に、アドレス信号の上位2ビットが「01」の場合には、LUT(3)1223とLUT(4)1224により、1回目と2回目のLOAD信号で、合計28ビットの変調データが出力される。
なお、この構成例と同様な出力パルス数の変更は、デコーダを用いて実現することもできることは自明である。また、パルス列の変更は、例えばLUTとシフトレジスタの間にビット圧縮・伸張回路を付加することでも実現可能である。
ここでパルス列変更について図30,図31,図32によりさらに説明する。図30に、パルス数16の出力パルスパターン(上段)をパルス数14の出力パルスパターン(下段)に変更する例を示す。このように、パルス数16の出力パターンを出力し、画像形成装置等で、ある所望の位置にある所望の濃度を出したいとした場合、データパターンをそのままにして最後の2パルスを削除する場合には、例えば、図30では、濃度が8/16から6/14(パルス数で濃度を考えたとき)となるので、本来出力したい濃度と異なる場合が発生する。このような場合、図30の矢印で示すようなデータパターン変更をメモリ若しくはデコーダを用いて行えば、濃度は7/14となり、この例では濃度は一致する。また、例え濃度が丁度一致しなくても、当初16パルスでの濃度に一番近い濃度に変換する変換部を持つことにより、パルス数を変更することによる濃度変化を最小限に抑制することが可能となる。
図31に、パルス数16の出力パルスパターン(上段)をパルス数18の出力パルスパターン(下段)に変更する例を示す。図30の例と同様に、パルス列内における濃度をできる限り一致させる様にデータ変換する変換部を構成し、この例の場合は、8/16から9/18へ変換する方法を矢印で示している。このように、パルス列を構成するパルス数を変更する場合において、パルス数に従ったデータ変換部を持つ事により、パルス数を変更しても画像濃度等への影響を与える事の無い高解像度の画像形成装置が実現できる。またこの例では、簡単のためパルス数16を基準に説明しているが、パルス列を構成するパルス数が多ければ多い程細かいピッチでデータ変換部を構成できるため、パルス数変更による画像濃度変化に影響の少ない構成が実現できる。
図30及び図31の例と異なる考え方のパルス列変更の例を図32に示す。図32に示す様に、出力パルス数は14,16,18と変化させる場合を考える。出力するパルス数は14,16,18と変化させるが、実際に出力できる(白又は黒)パルスは左から14個のみとする。このような場合、図示の様に、パルス数が16の場合にはパルス列中最右2パルスは必ず白、パルス数が18の場合にはパルス列中最右4パルスは必ず白、となる。例えば、ラスター走査型画像形成装置の場合、デューティ100%未満で出力しても、感光体上で光はガウシアン分布状となるため、黒べた画像を出力する事は可能である。このため、図32に示す様に、デューティが14/18≒77.8%を最大としてデータパターンを変更することなくパルス数を変更する構成とすれば、前記データ変換部が無くても良い構成を実現できる。
前述したように、高周波クロック生成部11に本発明に係るPLL回路を使用すれば、例えば図25に示すような多相クロックをPLL回路より直接的に取り出すことができる。しかし、多相クロックの位相差やデューティなどを任意に調整したいような場合には、PLL回路より取り出した1相又は複数相のクロックを遅延して所望のクロックを生成する信号遅延回路を1つ又は2以上、高周波クロック生成部11に設けることもできる。そのような信号遅延回路の一例を図33,図34及び図35により説明する。
図33は信号遅延回路の概念図であり、その具体的構成例を図34に、その波形図を図35にそれぞれ示す。
図33において、X0とX0Bは互いに逆位相のクロックであり、例えばPLL回路より直接取り出されたクロック、あるいは、PLLより取り出されたクロックをインバータなどに通したクロックである。クロックX0,XOBは遅延部1141に入力され、遅延されたクロックX0D及びXODBと入力クロックXO,XOBを位相遅れ検出部1142に入力する。位相遅れ検出部1142で検出されたクロックXO,XOBとクロックX0D,XODBの位相差は、誤差増巾部1143において基準電位と比較され、その出力信号を遅延部1141にフィードバックすることにより遅延量の制御を行う。
図35を参照すると、まずクロックX0、X0Bが遅延部1141により時間ΔTだけ遅延されてX0D、X0DBとなる。位相遅れ検出部1142の論理は、その出力をCとすると、
C=X0・X0DB+X0B・X0D
で表される。位相遅れ検出部1142の論理をこのようにしている理由は、入力クロックX0,X0Bのデューティが50%でなくても位相遅れ量が正確に検出できるようにするためである。この場合、位相遅れ検出部1142の出力信号Cは、図35に示すような遅延時間ΔTのパルスがT/2周期で現れる波形となる。ここで、位相遅れ検出部1142の出力信号Cは電流出力であり、その電流値はN×Irefとする。
誤差増幅部1143は、位相遅れ検出部1142の電流出力Cと、基準信号となる基準電流Irefを比較して、遅延部18の遅延量を決定する電流Idelayを生成する。この場合、例えば、N=4とすれば、遅延時間ΔT=T/8となる場合にCの積分波形の積分値がIrefとなるので、遅延時間ΔT=T/8となるように遅延部1142の遅延量が制御される。一般に、
遅延時間ΔT=T/2N
と表すことができる。つまり、Nを自由に設定することにより、入力信号X0,X0の半分の周期T/2の範囲内の遅延で、遅延時間ΔTが制御されたパルス信号を自由に得ることができる。
図34に示すバイポーラトランジスタで構成した具体的回路例について説明すれば、トランジスタQ16〜Q18及び抵抗R0で構成される電流源1150により、遅延部1141の遅延量を決定する電流Idelayが生成される。入力されたクロックX0,X0Bは、トランジスタQ21,Q22で構成される差動回路1152を介して、トランジスタQ1,Q2で構成されるダイオード負荷回路1153、及びトランジスタQ19,Q20で構成されるエミッタフォロワ回路1154により遅延される。トランジスタQ1,Q2で構成されるダイオード負荷回路1153の出力は非常に小さい振幅を有するので、トランジスタQ19,Q20で構成されるエミッタフォロワ回路1154の出力信号がトランジスタQ3,Q4及び抵抗R3,R4で構成される2値化回路1155を介して出力されることで、スイングが調整される。トランジスタQ5〜Q10で構成されるECL論理回路1156は、その出力をCとすると、上記2値化回路1155からの入力信号X0D,X0DBにより
C=X0B・X0D+X0・X0DB
とし、その出力電流IcはトランジスタQ11,Q12で構成されるカレントミラー回路1157により反転されてトランジスタQ14及び抵抗R1で生成される基準電流Irefと比較される。比較部1158であるトランジスタQ14のコレクタは、ハイインピーダンスであり、また対グランドGNDに対して容量C1が接続されていることにより、IcとIrefとが比較され、その比較出力がトランジスタQ15及び抵抗R0による電流源1159で生成される電流となる。そして、トランジスタQ15〜Q18及び抵抗R0で構成される電流源1150,1159は、エミッタ抵抗がそれぞれ抵抗R0であることより、それぞれに流れる電流が同じとなるカレントミラー回路となっている。つまり、トランジスタQ15及び抵抗R0で生成される電流はIdelayとなり、遅延量生成部1141の遅延量が所望の遅延量となるようにトランジスタQ15〜Q18及び抵抗R0で構成されるカレントミラー回路の出力電流IdelayがトランジスタQ15及び抵抗R0による出力で制御される。
ここで、トランジスタQ13及び抵抗R2で構成される電流源1160の電流をIrefのN倍とすると、上述のように
遅延時間ΔT=T/2N
となる遅延パルス信号X0D、X0DBを得ることができる。例えば、N=4の場合にはR1:R2=4:1、かつ、トランジスタQ13のエリアファクタ(エミッタ面積):トランジスタQ14のエリアファクタ(エミッタ面積)=4:1、となるように設定すれば、正確に4×Irefなる電流をトランジスタQ13及び抵抗R2で構成される電流源1160に流すことが可能であるので、遅延時間ΔT=T/8、つまり位相遅れ量としてはΔθ=π/4の遅延パルス信号X0D、X0DBを生成することができる。
<画像形成装置及び半導体レーザ変調装置に関する実施の形態>
次に、以上説明したような本発明に係るパルス変調信号生成回路を用いた半導体レーザ駆動装置及び画像形成装置に関して、実施の形態を説明する。
図36に、本発明に係る半導体レーザ変調装置及び画像形成装置の一実施例の全体構成を示す。本実施例に係る画像形成装置は、半導体レーザ(LD)2201より出力される1本のレーザ光ビームにより感光体2218を走査して静電潜像を形成するシングルビーム型の画像形成装置である。
2220は画像処理ユニットで、基本的に画像処理部2221と前述したような本発明に係るパルス変調信号生成部2222とからなる。画像処理部2221より画像データがパルス変調信号生成部2222に入力し、パルス変調信号生成部2222より前述したようなシリアルなパルス変調信号が出力され、これがパルス変調信号生成部2222とともに本発明に係る半導体レーザ駆動装置を構成するLD駆動部2230に供給される。LD駆動部2230は、そのパルス変調信号に従って半導体レーザ2201を駆動(変調)する手段である。
走査光学系について説明すると、半導体レーザ2201から出力されるレーザ光ビームは、コリメータレンズ2202、シリンダーレンズ2203を通り、ポリゴンミラー2204により偏向(スキャン)され、fθレンズ2205、ミラー2207、トロイダルレンズ2206を経て感光体2208に結像し露光することにより、不図示の帯電器により予め帯電させられている感光体2218上に画像(静電潜像)を形成する。各スキャンごとに、レーザ光ビームの走査開始位置が水平同期センサ2211により検出され、その検出信号が水平同期信号として画像処理ユニット2220へ与えられる。画像処理部2221では、水平同期信号に同期のとれた画素クロックを生成するとともに、図示しないスキャナ等の画像入力装置で読み取られた画像を入力し、水平同期信号及び画素クロックに同期のとれた画像データを生成し、パルス変調信号生成部2222へ供給する。この画像データは、一般に感光体2218の感光特性を考慮した形で生成される。画像処理部2221では、画像データのほかに、図22に示したような、高解像モード信号、データ反転信号、モード選択信号、LOAD信号等を生成し、これら信号群を所定のタイミングでパルス変調信号生成部2222に転送する。パルス変調信号生成部2222においては、これまで説明したようにして、画像データから変調データを生成し、この変調データをシリアルパルス列に変換することで画素クロックに同期した高速のパルス変調信号を出力する。
なお、感光体2218の周囲には、感光体2218の表面を一様に帯電させる帯電器のほか、感光体2218上の静電潜像をトナー現像する手段、現像されたトナー像を記録紙又は中間転写体に転写する手段、感光体2218上の転写されずに残留したトナーを除去回収する手段など、電子写真式画像形成装置において一般的な構成要素が配設されるが、これらは図中省略されている。
図37に、本発明に係る半導体レーザ変調装置及び画像形成装置の他の実施例の全体構成を示す。本実施例に係る画像形成装置は、2つの半導体レーザ(LD)2301,2302より出力される2本のレーザ光ビームにより同時に感光体2312を走査して静電潜像を2ラインずつ形成する2ビーム型の画像形成装置である。
2320は画像処理ユニットで、基本的に画像処理部2321と本発明に係るパルス変調信号生成部2322とからなる。なお、2つの半導体レーザ2301,2302を同時に駆動する必要があるため、パルス変調信号生成部2322は、半導体レーザ2301に対応した変調データ生成部及びシリアル変調信号生成部の組と、半導体レーザ2302に対応した変調データ生成部及びシリアル変調信号生成部の組と、それら各組に共通した高周波クロック生成部とから構成される。そして、画像処理部2321より各半導体レーザ2301,2302に対応した画像データがパルス変調信号生成部2322に入力し、パルス変調信号生成部2322より前述したようなシリアルなパルス変調信号が2本出力され、これがパルス変調信号生成部2322とともに本発明に係る半導体レーザ駆動装置を構成するLD駆動部2330に供給される。LD駆動部2330は、入力される2本のパルス変調信号に従って半導体レーザ2301,2302を同時に駆動(変調)する手段である。
走査光学系について説明すると、半導体レーザ2301,2302は、コリメータレンズ2303,2304との光軸を一致させ、主走査方向に対称に射出角度を持たせ、ポリゴンミラー2307の反射点で射出軸が交差するようレイアウトされている。各半導体レーザより射出した複数のレーザ光ビームは、コリメータレンズ2303,2304、アパーチャ2315,シリンダレンズ2308を通過し、ポリゴンミラー2307で一括して偏向(スキャン)され、fθレンズ2310、ミラー2313、トロイダルレンズ2311を経て感光体2312に結像し露光することにより、不図示の帯電器により予め帯電させられている感光体2312上に画像(静電潜像)を形成する。各スキャンごとに、レーザ光ビームの走査開始位置が水平同期センサ2314により検出され、その検出信号が水平同期信号として画像処理ユニット2320へ与えられる。画像処理部2321では、水平同期信号に同期のとれた画素クロックを生成するとともに、図示しないスキャナ等の画像入力装置で読み取られた画像を入力し、水平同期信号及び画素クロックに同期のとれた画像データを生成し、パルス変調信号生成部2322へ供給する。この画像データは、一般に感光体2312の感光特性を考慮した形で生成される。画像処理部2321では、画像データのほかに、図22に示したような、高解像モード信号、データ反転信号、モード選択信号、LOAD信号等を生成し、これら信号群を所定のタイミングでパルス変調信号生成部2322に転送する。パルス変調信号生成部2322においては、これまで説明したようにして、画像データから2ライン分の変調データを生成し、この変調データをシリアルパルス列に変換することで画素クロックに同期した高速のパルス変調信号を2本出力する。
なお、感光体2312の周囲には、感光体2312の表面を一様に帯電させる帯電器のほか、感光体2312上の静電潜像をトナー現像する手段、現像されたトナー像を記録紙又は中間転写体に転写する手段、感光体2312上の転写されずに残留したトナーを除去回収する手段など、電子写真式画像形成装置において一般的な構成要素が配設されるが、これらは図中省略されている。
半導体レーザ2301,2302を含む光源ユニットの構造例を、分割斜視図として図33に示す。半導体レーザ2301,2302は、それぞれの円筒状ヒートシンク部2403−1,2404−1が、主走査方向に微小角度(実施例では約1.5°)だけ傾斜したベース部材2405の裏側に形成した不図示のかん合穴2405−1,2405−2にかん合し、押え部材2406,2407の突起406−1、407−1をヒートシンク部の切り欠き部に合わせて背面側からネジ2412で固定される。また、コリメータレンズ2303,2304は、その外周をベース部材2405の半円状取付ガイド面2405−4,2405−5に沿わせて光軸方向が調整され、それぞれの発光点から射出した発散ビームが平行光束となるよう位置決めされて接着固定される。なお、半導体レーザ2301,2302からのレーザ光ビームが主走査面内で交差するように設定するため、レーザ光ビームに沿ってかん合穴2405−1,2405−2及び半円状取付ガイド面2405−4,2405−5を傾けて形成している。ベース部材2405は、その円筒状係合部405−3をホルダ部材2410に係合し、ネジ2413を貫通穴2410−2を介してネジ穴2405−6,2405−7に螺合して固定される。
このような光源ユニットは、光学ハウジングの取付壁2411に設けた基準穴2411−1にホルダ部材の円筒部2410−1をかん合し、表側よりスプリング2611を挿入してストッパ部材2612を円筒部突起2410−3に係合することで、ホルダ部材2410は取付壁411の裏側に密着保持される。この時、スプリング2611の一端2611−2を突起2411−2に引っかけることで円筒部中心を回転軸とした回転力を発生し、回転力を係止するように設けた調節ネジ2613により、光軸の周りθにユニット全体を回転し、2本のレーザ光ビームによる感光体上の走査ラインのピッチを調節する。各レーザ光ビームの射出径を規定するためのアパーチャ2315は、各半導体レーザアレイ毎にスリットが設けられたもので、光学ハウジングに取り付けられる。
以上の説明から容易に理解されるように、複数の発光源を持つ半導体レーザアレイを1個又は2個以上用いて、複数ラインを同時に走査するマルチビーム型画像形成装置と、そのための半導体レーザ変調装置も容易に形成できることは明らかである。図39に、4個の発光源が間隔dsで配列された半導体レーザアレイ2703を1個用いる場合の光源ユニットの構造例を示す。基本的には図38の構造と同様であるので説明は省略する。
本発明に係る電圧制御発振器の第1の実施例を示す回路図である。 前記第1の実施例のVCO入力電圧−発振周波数特性図である。 本発明に係る電圧制御発振器の第2の実施例を示す回路図である。 本発明に係る電圧制御発振器の第3の実施例を示す回路図である。 本発明に係る電圧制御発振器の第4の実施例を示す回路図である。 本発明に係る電圧制御発振器の第5の実施例を説明するための回路図である。 前記第5の実施例のVCO入力電圧−発振周波数特性図である。 本発明に係るPLL回路の一実施例を示すブロック図である。 本発明に係るPLL回路の他の実施例を示すブロック図である。 本発明に係るPLL回路の別の実施例を示すブロック図である。 図10中のVCOバッファ回路の説明のための回路図である。 本発明に係るパルス変調信号生成回路の概念図である。 本発明に係るパルス変調信号のドットイメージを示す図である。 従来のパルス幅変調信号のドットイメージを示す図である。 従来のパルス幅変調信号の別のドットイメージを示す図である。 従来のパルス幅変調信号の別のドットイメージを示す図である。 本発明に係るパルス変調信号のドットイメージの具体例を示す図である。 変調データの生成のためのルックアップテーブル(LUT)の構成例を示す図である。 変調データの生成のためのデコーダの説明のための図である。 シリアル変調信号生成部に用いられるシフトレジスタの構成例を示すブロック図である。 シリアル変調信号生成部に用いられるシフトレジスタの構成例を示すブロック図である。 本発明に係るパルス変調信号生成回路の実施例を説明するためのブロック図である。 シリアル変調信号生成部の構成例を示すブロック図である。 シリアル変調信号生成部の構成例を示すブロック図である。 動作説明のためのタイミング図である。 シリアル変調信号生成部の構成例を示すブロック図である。 動作説明のためのタイミング図である。 変調データの生成のためのLUTの構成例を示す図である。 変調データの生成のためのLUTの構成例を示す図である。 出力パルス列の変更例を示す図である。 出力パルス列の変更例を示す図である。 出力パルス列の変更例を示す図である。 信号遅延回路の概念図である。 上記信号遅延回路の具体例を示す回路図である。 上記信号遅延回路の波形図である。 本発明に係るシングルビーム型の画像形成装置及び半導体レーザ変調装置の構成図である。 本発明に係る2ビーム型の画像形成装置及び半導体レーザ駆動装置の構成図である。 2つの半導体レーザを用いる光源ユニットの構成例を示す分解斜視図である。 半導体レーザアレイを用いる光源ユニットの構成例を示す分解斜視図である。 電圧制御発振器の従来例を示す回路図である。 前記従来例のVCO入力電圧−発振周波数特性図である。
符号の説明
100 発振周波数制御部
101 オペアンプ
200,300,400,500 発振回路部
600 電圧制御発振器(VCO)
601,603 分周器
602 位相比較器
604 チャージポンプ回路
605 ループフィルタ(ローパスフィルタ)
610 VCOバッファ回路
11 高周波クロック生成部
12 変調データ生成部
13 シリアル変調信号生成部
122 ルックアップテーブル(LUT)
123 デコーダ
2201 半導体レーザ
2204 ポリゴンミラー
2208 感光体
2220 画像処理ユニット
2221 画像処理部
2222 パルス変調信号生成回路
2230 LD駆動部
2301,2302 半導体レーザ
2307 ポリゴンミラー
2312 感光体
2320 画像処理ユニット
2321 画像処理部
2322 パルス変調信号生成回路
2330 LD駆動部

Claims (12)

  1. リングオシレータを含み、該リングオシレータに流れる電流に応じた周波数の信号を出力する発振回路部と、
    グランド電位を含む所定の入力電圧範囲において線形の電圧電流変換特性を有し、入力電圧をその値に応じた値の電流に変換する電圧電流変換回路を含み、該電圧電流変換回路により変換された電流に比例した電流を出力して前記発振回路部に供給し、前記リングオシレータに流れる電流を制御する発振周波数制御部と、
    からなる電圧制御発振器において、
    前記発振周波数制御部の電源電圧を前記発振回路部の電源電圧より高く設定すると共に、
    前記発振周波数制御部は、前記電圧電流変換回路の入力電圧が所定の値を超えたときに出力電流の増加を制限する電流リミッタ回路を備えている、
    ことを特徴とする電圧制御発振器。
  2. 前記電圧電流変換回路はオペアンプからなることを特徴とする請求項1に記載の電圧制御発振器。
  3. 前記電流リミッタ回路は前記オペアンプに内蔵されていることを特徴とする請求項2に記載の電圧制御発振器。
  4. 前記リングオシレータは偶数個の差動インバータをリング状に接続してなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の電圧制御発振器。
  5. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電圧制御発振器と、該電圧制御発振器で生成されるクロック又はその分周クロックと基準クロックとの位相差を検出する位相比較手段と、該位相比較手段により検出された位相差に対応した電圧を生成して前記電圧制御発振器に入力する手段とを有することを特徴とするPLL回路。
  6. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電圧制御発振器と、該電圧制御発振器で生成されるクロックを分周する分周器と、該分周器の出力クロックと基準となるクロックとの位相差を比較する位相比較器と、該位相比較器の出力信号を電流信号に変換するチャージポンプ回路と、該チャージポンプ回路の出力信号を入力し前記電圧制御発振器の制御電圧を出力するローパスフィルタとを有し、前記電圧制御発振器の発振周波数制御部に、前記電圧制御発振器の発振回路部の電源電圧、前記分周器の電源電圧、及び、前記チャージポンプ回路の電源電圧より高い電源電圧が供給されることを特徴とするPLL回路。
  7. 請求項5又は6に記載のPLL回路を用いて高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、
    シフトレジスタを含み、複数ビットの変調データを該シフトレジスタに取り込み、該シフトレジスタを前記高周波クロックに従いシフト動作させることにより、前記変調データをシリアルなパルス列に変換して出力するシリアル変調信号生成手段と、
    を有することを特徴とするパルス変調信号生成回路。
  8. 請求項5又は6に記載のPLL回路を用いて複数相の高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、
    複数のシフトレジスタと、該複数のシフトレジスタの出力データを前記複数相の高周波クロックに基づいたタイミングで選択するマルチプレクサとを含み、複数ビットの変調データを前記複数のシフトレジスタに分割して取り込み、前記複数のシフトレジスタをそれぞれ前記複数相の高周波クロック中の対応した相の高周波クロックによりシフト動作させることにより、前記マルチプレクサより前記変調データをシリアルなパルス列に変換して出力するシリアル変調信号生成手段と、
    を有することを特徴とするパルス変調信号生成回路。
  9. 請求項5又は6に記載のPLL回路を用いて複数相の高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、
    複数のシフトレジスタと、該複数のシフトレジスタの出力データを前記複数相の高周波クロックに基づいたタイミングで選択するマルチプレクサとを含み、複数ビットの変調データを前記複数のシフトレジスタに分割して取り込み、前記複数のシフトレジスタをそれぞれ前記複数相の高周波クロック中の対応した相の高周波クロックによりシフト動作させることにより、前記変調データをシリアルなパルス列に変換して前記マルチプレクサより出力するシリアル変調信号生成手段と、
    を有することを特徴とするパルス変調信号生成回路。
  10. 請求項5又は6記載のPLL回路を用いて複数相の高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、
    複数のシフトレジスタと、該複数のシフトレジスタの出力データを取り込み、それを位相を調整して出力する位相調整手段と、該位相調整手段より出力される前記複数のシフトレジスタの出力データを前記複数相の高周波クロックに基づいたタイミングで選択するマルチプレクサとを含み、複数ビットの変調データを前記複数のシフトレジスタに分割して取り込み、前記複数のシフトレジスタを前記複数相の高周波クロック中の1の相の高周波クロックにより一斉にシフト動作させることにより、前記変調データをシリアルなパルス列に変換して前記マルチプレクサより出力するシリアル変調信号生成手段と、
    を有することを特徴とするパルス変調信号生成回路。
  11. 半導体レーザと、
    該半導体レーザを変調するための変調データをシリアルなパルス列に変換して出力する請求項7,8,9又は10に記載のパルス変調信号生成回路と、
    前記パルス変調信号生成回路より出力されるシリアルなパルス列に従って前記半導体レーザを駆動する駆動手段とを有することを特徴とする半導体レーザ変調装置。
  12. 半導体レーザにより出射される1本又は複数本のレーザ光ビームにより感光体を走査して該感光体上に静電潜像を形成する画像形成装置において、
    前記半導体レーザを変調するための変調データをシリアルなパルス列に変換して出力する請求項7,8,9又は10に記載のパルス変調信号生成回路と、
    前記パルス変調信号生成回路より出力されるシリアルなパルス列に従って前記半導体レーザを駆動する駆動手段と、
    を有することを特徴とする画像形成装置。
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