JP4611287B2 - 脂環式オキセタン化合物の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、少なくとも2つのオキセタン環を有する脂環式化合物(以下、脂環式オキセタン化合物という)の製造方法に関する。
本発明の関連する先行文献として、次に示される文献が挙げられる。
ドイツ特許第1021858号公報 米国特許第5750590号明細書 特開平11−106380号公報 欧州特許第1069120号公報 特開2002−80581号公報 特開2000−302774号公報 特開2003−55359号公報 H.Sasaki and J.V.Crivello、J.Macromol.Sci.,Part A-Pure Appl.Chem.(Marcel Dekker,Inc.)、1992年、A29(10)、P.915―930 J.V.Crivello andH.Sasaki、J.Macromol.Sci.,Part A-Pure Appl.Chem.(Marcel Dekker,Inc.)、1993年、A30(2&3)、P.189―206
オキセタン環を有する化合物(以下、オキセタン化合物という)は、光開始カチオン重合又は硬化が可能なモノマーとして近年注目を浴びている化合物であり、特に一分子中に二つ以上のオキセタン環を有する多官能性オキセタン化合物は高い反応性を示すことが知られている(例えば、ドイツ特許第1021858号公報参照。)。
従来報告されている多官能性オキセタン化合物としては、例えば、ドイツ特許第1021858号公報には一般式(7)で表される2以上のオキセタン環を有する芳香族化合物(以下、芳香族オキセタン化合物という)が記載されている。
Figure 0004611287
(式中、Aは2価以上の芳香族残基であり、Rは水素原子又は有機残基であり、nは1より大きい整数を示す。
また、J.Macromol.Sci.,Part A-Pure Appl.Chem.1992年、A29(10)、P.915―930及びJ.Macromol.Sci.,Part A-Pure Appl.Chem.1993年、A30(2&3)、P.189―206や、米国特許第5750590号明細書、特開平11−106380号公報、欧州特許第1069120号公報及び特開2002−80581号公報等にも種々の多官能性の脂肪族及び芳香族オキセタン化合物が開示されている。
また、特開2000−302774号公報には脂環式オキセタン化合物であって、1,4−シクロヘキサンジメタノール誘導体及び4,8−ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5,2,1,02,6]デカン誘導体としてのオキセタン化合物及びそれらの製造方法が開示されている。しかしながら、この製造方法は、3−アルキル−3−ヒドロキシメチルオキセタンを一旦スルホン酸エステルに転化し、得られるスルホン酸エステルとジオールとを塩基の存在下で反応させ、更に減圧蒸留により単離するものであり、製造工程が煩雑なため製造コストが嵩むという問題点を有する。
更に、特開2003−55359号公報には、オキセタン環を有するビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5,2,1,02,6]デカン誘導体の製造方法が開示されている。しかしながら、この製造方法は、アルカリの存在下、3−アルキル−3−クロロメチルオキセタンとビス(ヒドロキシメチル)脂環式化合物を反応させる方法であるが、低反応率や副反応により、目的生成物の収率が低く十分に満足いくものではなかった。
本発明は、近紫外領域の光透過性に優れるとともに、耐熱性、靭性及び密着性に優れ、硬化収縮の小さい硬化物を与え、また常温において高い反応性と適度な流動性を併せ持つ新規なカチオン重合性モノマーとして有用な脂環式オキセタン化合物を有利に製造することができる方法を提供することを目的とする。本発明の別の目的は、容易に入手可能な原料から合成できる脂環式オキセタン化合物の製造方法を提供することである。
すなわち本発明は、下記一般式(1)で表される芳香族環を有する2〜4価の構造単位及び少なくとも2つのオキセタン環を有する芳香族オキセタン化合物の芳香族環を核水素化することを特徴とする下記一般式(2)で表される脂環式オキセタン化合物の製造方法である。
Figure 0004611287
(一般式(1)及び(2)において、mは2〜4の整数を示し、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Aは下記一般式(3)〜(5)で表される2〜4価の芳香族残基を示し、ZはAの芳香族残基が水素化されて生じる脂環族残基を示す。)
Figure 0004611287
(一般式(3)、(4)及び(5)において、Gは単結合、メチレン基、エチレン基又はエチリデン基を示し、Qは単結合、酸素原子、メチレン基、エチレン基、エチリデン基又はイソプロピリデン基を示し、nは芳香族環に置換するGの数であり、独立に2〜4の整数を示すが、一般式(5)においてはnの合計は2〜4の整数である。)
ここで、一般式(2)で表される脂環式オキセタン化合物としては、下記一般式(6)で表されるオキセタン化合物が好ましく例示される。
Figure 0004611287
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基である。)
また、本発明は、核水素化を、Ni、Co、Ru、Rh、Pd、Os、Ir及びPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含有する触媒の存在下、1MPa(ゲージ圧)以上の水素ガスを存在させて、50〜250℃の範囲内で行う前記の脂環式オキセタン化合物の製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の製造方法で使用する出発原料は、一般式(1)で表される芳香族オキセタン化合物である。本発明の製造方法で得られる化合物は、一般式(2)で表される脂環式オキセタン化合物である
一般式(1)及び(2)において、共通の記号は同じものを示し、mは2〜4の整数を示し、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。好ましくは、mは2であり、Rは原料の入手が比較的容易であることからメチル基又はエチル基である。一般式(1)において、Aは一般式(3)〜(5)で表される2〜4価の芳香族残基を示し、一般式(2)において、Zは上記Aから生じる脂環族残基を示す。
一般式(3)〜(5)において、Gは単結合、メチレン基、エチレン基又はエチリデン基を示し、Qは単結合、酸素原子、メチレン基、エチレン基、エチリデン基又はイソプロピリデン基を示す。n個のGが芳香族環に置換し、n(式中にnが2つある場合は、その合計)は独立に2〜4の整数を示す。一般式(5)においてはnの合計が2〜4の整数であれば、一方のnは0又は1であってもよい。一般式(3)及び(4)のn及び一般式(5)においてはnの合計は、一般式(1)及び(2)のmに対応する。なお、n個のGが芳香族環に置換する場合、n個のGは同一であっても異なってもよい。
一般式(3)〜(5)において、Gとしては単結合又はメチレン基が好ましく、またQとしては単結合、酸素原子、メチレン基又はイソプロピリデン基が好ましく、より好ましくは単結合である。
本発明の製造方法で得られる脂環式オキセタン化合物は、一般式(3)、(4)及び(5)で表される芳香族残基が核水素化されて脂肪族残基となったものである。この脂肪族残基は完全に核水素化されたものであってもよいし、一部のみが核水素化されたものであってもよいが、好ましくは50%以上、より好ましくは90%以上、更に好ましくは99%以上が核水素化されたものであることがよい。そして、一般式(4)及び(5)で表される芳香族残基が核水素化されて得られる脂環式オキセタン化合物は新規化合物でもある。
次に、本発明の製造方法で得られる前記一般式(2)で表される脂環式オキセタン化合物の例を示す。一般式(2)において、Zが下記一般式(11)〜(14)で表される脂環式オキセタン化合物が好ましく例示される。
Figure 0004611287
一般式(11)〜(14)中、n(式中にnが2つある場合は、その合計)は2〜4の整数を示すが、一般式(12)及び(14)中のnは一方が0又は1であってもよい。また、G及びQは、一般式(3)、(4)及び(5)で説明したと同じ意味を有する。
好ましい脂環式オキセタン化合物としては一般式(6)で表される脂環式オキセタン化合物がある。その他の好ましい脂環式オキセタン化合物を式(15)〜(19)及び表1に示す。表1において、Rは一般式(2)のRを意味し、Gは式(15)〜(19)のGを意味する。なお、式(15)〜(17)は、一般式(11)〜(13)のn又はnの合計が2のものであり、式(18)〜(19)は、一般式(14)のnが1で、Qが単結合又はメチレンである例である。
表1中、化合物No.1〜6は式(15)の化合物の例を示す。化合物No.7〜10は式(17)の化合物の例を示す。化合物No.11〜18は式(16)の化合物の例を示す。化合物No.19〜20は式(18)の化合物の例を示す。化合物No.2 0〜21は式(19)の化合物の例を示す。
Figure 0004611287
Figure 0004611287
本発明の製造方法は、芳香族オキセタン化合物を核水素化することによって、脂環式オキセタン化合物を製造する方法である。核水素化は、公知の方法を採用することができるが、触媒の存在下に水素ガスで水素化する方法が有利である。この水素化反応に用いる触媒は、芳香環に対する水素化活性を有するものであれば特に問わないが、Ni、Co、Ru、Rh、Pd、Os、Ir及びPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含有するものであることが望ましい。これらは金属状態であっても、これらの酸化物のような化合物であっても、水素化活性を有するものであればよい。
上記触媒は担体に担持したものを用いることができる。担体としては、例えば、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、各種ゼオライト、珪藻土等の結晶性又は非結晶性の金属酸化物又は複合酸化物、活性炭、グラファイト、カーボンブラック等の炭素質物質、及びこれらの二種以上の混合物等を挙げることができる。中でもシリカ、アルミナ又は炭素質物質が好ましい。担持触媒の形状には特に制限はなく、粉末、ペレット状、繊維状等の任意の形態のものを使用することができる。
上記の水素化反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、水素化反応を阻害しないものであれば特に問わないが、原料及び反応生成物の溶解性の観点から、2−プロパノール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキソラン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系溶媒が好ましく用いられる。
水素化反応における反応温度は50〜250℃の範囲内で行われる。温度が高いほど反応(水素吸収)速度は速いが、一方で分解等の副反応の割合が増加する傾向にあるため、好ましくは80〜200℃、特に好ましくは100〜160℃の範囲内である。水素化反応における反応圧力は1MPa(ゲージ圧)以上で行われ、上限は特にない。装置費用や安全性等の観点からは、20MPa(ゲージ圧)以下、好ましくは10MPa(ゲージ圧)以下の圧力が推奨される。反応時間は部分核水素化を目的とする場合を除き、水素ガスの吸収が終わるまでとすることがよい。通常は1〜20hrの範囲である。
水素化反応終了後、触媒及び溶媒を分離し、更に必要により蒸留、再結晶等により精製して目的の脂環式オキセタン化合物を得る。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下に記す純度とは、特に記載のない限りガスクロマトグラフィー分析による面積百分率の値である。また、圧力はゲージ圧である。
実施例1
内容積200mlの電磁攪拌式オートクレーブに、4,4'−ビス[(3−エチル-オキセタン-3-イル)メトキシメチル]ビフェニル(宇部興産社製 ETERNACOLL OXBP 、(純度94.6%)に反応阻害物質除去のための前処理を施したもの)40g、溶媒として酢酸エチル60g、5%Ru―カーボン担持触媒(エヌ・イー ケムキャット社製、粉末)0.2gを入れ、密閉後、オートクレーブ内を窒素ガスで3回、水素ガスで3回置換し、水素ガスで6MPaまで昇圧した。攪拌を行いながら昇温し、内温140℃、内圧6MPaを保ちながら水素化反応を行い、水素吸収が認められなくなってから1時間後に攪拌を停止した。昇温開始から反応停止までに要した時間は約6時間であった。冷却後、反応液を抜き出し、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、得られた化合物の純度は87.3%、うち、トランス−トランス体45.8%、トランス−シス体35.1%、シス−シス体6.4%であった。触媒を濾別後、溶媒及び分解副生物を減圧加熱下で溜去し、純度94.7%の無色透明な粘稠液体を得た。この粘稠液体の粘度(25℃)は1.4Pa・sであった。各種機器分析の結果を以下に示す。
FD−MS:422(分子量)。H−NMR(CDCl溶媒、TMS基準(0ppm)):δ(ppm);0.88(t,J=7.4Hz,6H,CH−CH)、1.3〜1.9(m,20H,CH&CH(シクロヘキサン環))、1.74(q,J=7.6Hz,4H,CH−CH)、3.23〜3.38(d(4種),J=6.3〜7.1Hz,4H,シクロヘキシル−CH−O)、3.50&3.52(s&s,4H,O−CH−C)、4.38(d,J=5.9Hz,4H,O−CH−C(オキセタン環))、4.45&4.46(d&d,J=5.9&5.6Hz,4H,O−CH−C(オキセタン環))。
13C−NMR(CDCl溶媒、溶媒基準(77ppm)):δ(ppm);8.2(CH−CH)、25.7〜26.2(CH(シクロヘキサン環))、26.4&26.8(CH−CH)、(CH(シクロヘキサン環))、29.5〜30.2(CH(シクロヘキサン環))、34.6〜41.6(CH(シクロヘキサン環))、43.5(C)、73.6(O−CH−C(オキセタン環))、74.3&74.6(シクロヘキシル−CH−O)、78.6(O−CH−C(オキセタン環))。
FT−IR(キャストフィルム法):829、981cm−1(環状エーテル)、1110cm−1(鎖状エーテル)。
以上の分析結果より、得られた化合物は、一般式(6)においてRがエチル基である4,4'−ビス[(3−エチルオキセタン-3-イル)メトキシメチル]ビシクロヘキシルであると同定された。
実施例2
5%Ru‐アルミナ担持触媒(エヌ・イー ケムキャット社製;粉末)を用いた以外は実施例1と同様に反応を行った。昇温開始から反応停止までに要した時間は約6時間であった。反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、得られた化合物の純度は88.1%、うち、トランス−トランス体44.6%、トランス−シス体36.5%、シス−シス体7.0%であった。
実施例3
温度計、冷却器、攪拌装置及び滴下漏斗を備えた300mlの三つ口丸底フラスコに、純度98.5%の3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン12.8g(0.11mol)、純度97%のNaOH粉末4.5g(0.11mol)及びトルエン25mlを加え、90℃で30分間加熱攪拌した。これに、1,4-ビス(クロロメチル)ナフタレン45.5%、1,5-ビス(クロロメチル)ナフタレン53.4%からなるビス(クロロメチル)ナフタレン混合物11.5g(0.05mol)をトルエン175mlに溶解した液を、滴下漏斗から30分間かけて滴下した。更に90℃で10時間反応を続けた。反応終了後、反応混合物を室温まで冷却して析出物を濾別した。この濾液と析出物をトルエン20mlで2回洗浄して得られた洗浄液を一緒にして100mlの水で3回洗浄した。その油相を分離し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥後、トルエンを減圧下で留去すると、淡黄色の結晶15.3gが得られた。ガスクロマトグラフィーで分析した結果、得られた化合物のビスオキセタン化合物としての純度は86.2%であり、収率は68.6%であった。この結晶10.0gをトルエン10.0gに加熱溶解し、室温まで冷却し、再結晶により精製した。結晶を濾別後、減圧乾燥すると、単黄色の結晶2.3gが得られた。ビスオキセタン化合物としての純度は95.6%(1,4-体:1,5-体=28:72)であった。
こうして得られたビス[(3−エチルオキセタン-3-イル)メトキシメチル]ナフタレン(1,4-体と1,5-体の混合物)2.0g、溶媒として酢酸エチル48gを用い、内圧10MPaとした以外は実施例2と同様に水素化反応を行った。昇温開始から反応停止までに要した時間は約12時間であった。反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、ビス[(3−エチルオキセタン-3-イル)メトキシメチル]デカヒドロナフタレン(異性体混合物)の純度は75.5%であった。
本発明の製造方法によれば、脂環式オキセタン化合物を簡易に収率よく得ることができる。また、本発明の製造方法で得られる脂環式オキセタン化合物は、常温において高い反応性と適度な流動性を併せ持つという特長を有し、また、芳香環等の発色基を実質的に含まないため特に近紫外領域の光透過性に優れるとともに、主鎖中に脂環構造を有するため耐熱性に優れる硬化物を与える新規なカチオン重合性モノマーとして有用である。更に、前記の硬化物は、靭性、密着性等に優れ、且つ硬化収縮が小さいという特長を有する。これらの理由から、本発明の製造方法で得られる脂環式オキセタン化合物はコーティング材料、接着材料、電子材料及び歯科材料等に有用である。

Claims (3)

  1. 下記一般式(1)で表される少なくとも2つのオキセタン環を有する芳香族オキセタン化合物の芳香族環を核水素化することを特徴とする下記一般式(2)で表される脂環式オキセタン化合物の製造方法。
    Figure 0004611287
    一般式(1)及び(2)において、mは2〜4の整数を示し、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示し、Aは下記一般式(4)〜(5)で表される2〜4価の芳香族残基を示し、ZはAの芳香族残基が水素化されて生じる脂環族残基を示す;
    Figure 0004611287
    一般式(4)及び(5)において、Gは単結合、メチレン基、エチレン基又はエチリデン基を示し、Qは単結合、酸素原子、メチレン基、エチレン基、エチリデン基又はイソプロピリデン基を示し、nは芳香族環に置換するGの数であり、一般式(4)においては2〜4の整数を示すが、一般式(5)においてはnの合計は2〜4の整数を
  2. 一般式(2)で表される脂環式オキセタン化合物が、下記一般式(6)で表されるオキセタン化合物である請求項1に記載のオキセタン化合物の製造方法。
    Figure 0004611287
    式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。
  3. 核水素化を、Ni、Co、Ru、Rh、Pd、Os、Ir及びPtからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含有する触媒の存在下、1MPa(ゲージ圧)以上の水素ガスを存在させて、50〜250℃で行う請求項1又は2に記載のオキセタン化合物の製造方法。
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