JP4243448B2 - 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類 - Google Patents

新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類 Download PDF

Info

Publication number
JP4243448B2
JP4243448B2 JP2002025452A JP2002025452A JP4243448B2 JP 4243448 B2 JP4243448 B2 JP 4243448B2 JP 2002025452 A JP2002025452 A JP 2002025452A JP 2002025452 A JP2002025452 A JP 2002025452A JP 4243448 B2 JP4243448 B2 JP 4243448B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydroxyphenyl
cyclohexyl
hydroxybenzene
bis
cyclohexene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002025452A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003012585A (ja
Inventor
耕司 村垣
正 平嶺
裕康 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honshu Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Honshu Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Honshu Chemical Industry Co Ltd filed Critical Honshu Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2002025452A priority Critical patent/JP4243448B2/ja
Priority to EP02712292A priority patent/EP1375461B1/en
Priority to US10/467,187 priority patent/US6872858B2/en
Priority to PCT/JP2002/001055 priority patent/WO2002062736A1/ja
Priority to DE60233211T priority patent/DE60233211D1/de
Publication of JP2003012585A publication Critical patent/JP2003012585A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4243448B2 publication Critical patent/JP4243448B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一方のフェノール核にのみ低級アルキル基を置換基として有する新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類に関する。
【0002】
更に、本発明は、上記化合物の立体異性体のうちのトランス体である4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類とシス体である4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類に関する。
【0003】
このような4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、それ自体で、液晶ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の合成樹脂の原料やポリイミド、ポリアミド等の中間原料のほか、液晶表示素子に代表される各種液晶材料の原料や、半導体等のフォトレジスト等の原料、有機エレクトロルミネッセンス素子材料の原料等として有用性が期待されるほか、種々の化合物の製造のための中間体としても有用である。
【0004】
例えば、それ自体で、分子の両末端にヒドロキシル基を持つジオール化合物として、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の合成樹脂の原料として有用である。また、分子の中間のシクロヘキシル環部分を脱水素することによって、4,4”−ジヒドロキシフェニル−p−ターフェニル類を得ることができる。
【0005】
本発明による新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、通常、シス体とトランス体の混合物であるが、それらの一方を分離することができ、また、一方を他方に異性化して、一方の異性体のみを得ることもできる。特に、トランス体は、液晶化合物の構成成分又は原料として有用性が期待される。
【0006】
【従来の技術】
従来、例えば、4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類としては、シクロヘキシル基に対して、対称形の1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンが特開平1−168634公報や米国特許第3408407号公報に記載されている。
【0007】
しかし、一方のフェノール核にのみ、低級アルキル基を置換基として有する4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類や、それらのトランス体とシス体は、従来、知られていない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は、一方のフェノール核にのみ、低級アルキル基を置換基として有する4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を提供することを目的とする。更に、本発明は、上記化合物のトランス異性体である4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類とシス異性体である4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、一般式(I)
【0010】
【化2】
Figure 0004243448
【0011】
(式中、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、nは1〜3の整数を示す。)
で表される4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)1−ヒドロキシベンゼン類が提供される。
【0012】
更に、本発明によれば、上記一般式((I)で表される4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)1−ヒドロキシベンゼン類と4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)1−ヒドロキシベンゼン類とが提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明による新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)1−ヒドロキシベンゼン類は、一般式(I)
【0014】
【化3】
Figure 0004243448
【0015】
(式中、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、nは1〜3の整数を示す。)
で表される。
【0016】
上記一般式(I)において、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又はブチル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。
【0017】
従って、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)1−ヒドロキシベンゼン類の具体例としては、例えば、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3−メチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,5−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3,5−トリメチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3,6−トリメチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−エチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3−エチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−n−プロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3−n−プロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−n−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3−n−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジエチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3−ジエチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,5−ジエチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3,5−トリエチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3,6−トリエチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジイソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3−ジイソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,5−ジイソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジ−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,3−ジ−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,5−ジ−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−6−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−5−メチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−6−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン、
4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジ−t−ブチル−5−メチル−1−ヒドロキシベンゼン
等を挙げることができる。
【0018】
このような、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、例えば、一般式(II)
【0019】
【化4】
Figure 0004243448
【0020】
(式中、R及びnは前記と同じである。)
で表される1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を水素化触媒の存在下にそのシクロヘキセン環を水素添加することにより得ることができる。
【0021】
また、上記1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類は、例えば、一般式(III)
【0022】
【化5】
Figure 0004243448
【0023】
(式中、R及びnは前記と同じである。)
で表されるヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類を、好ましくは、アルカリ触媒の存在下に、熱分解することによって得ることができる。
【0024】
従って、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、一つの方法として、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を水素添加することによって得ることができる。
【0025】
また、別の方法として、上記ヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類を熱分解して得られた1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を含む反応混合物を、熱分解にアルカリ触媒を用いた場合には、反応終了後、得られた反応混合物を、これに酸を加えてアルカリを中和した後、晶析、濾過等の精製を施すことなく、そのまま、水素化触媒の存在下に水素添加することによって、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を得ることができる。他方、上記ヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解にアルカリ触媒を用いなかった場合には、反応終了後、得られた1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を含む反応混合物に晶析濾過等の精製を施すことなく、そのまま、これを水素化触媒の存在下に水素添加すれば、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を得ることができる。
【0026】
このようにして、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類から出発すれば、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を、通常、95%以上の収率で得ることができる。また、ヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類から出発すれば、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を、通常、90%以上の収率にて得ることができる。
【0027】
上記一般式(II)で表される1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類において、Rおよびnは前記一般式(I)で表される4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類におけるものと同じである。
【0028】
従って、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の具体例としては、例えば、
1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−エチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−エチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−n−プロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−n−プロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−n−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−n−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−イソブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−イソブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−s−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−s−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2,3,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(2,3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−イソプロピル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−イソプロピル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−t−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、
1−(3,5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン
等を挙げることができる。
【0029】
このような1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素添加、詳しくは、シクロヘキセン環の水素添加によって、本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を得るには、例えば、水素化触媒の存在下に、溶媒中、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を20〜60℃の範囲の温度にて水素添加すればよい。
【0030】
上記水素化触媒としては、従来より知られているものが適宜に用いられる。従って、例えば、ラネーニッケル、ニッケル担持触媒等のニッケル触媒、ラネーコバルト、コバルト担持触媒等のコバルト触媒、ラネー銅等の銅触媒、酸化パラジウム、パラジウム黒、カーボン担持パラジウム等のパラジウム触媒、プラチナ黒、カーボン担持プラチナ等のプラチナ触媒、ロジウム触媒、クロム触媒、銅クロム触媒等が用いられる。これらのなかでは、特に、パラジウム等の白金族触媒が好ましく、特に、パラジウム触媒が好ましく用いられる。
【0031】
このような水素化触媒は、通常、原料である1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類100重量部に対して、通常、0.1〜20重量部、好ましくは、0.2〜10重量部の範囲で用いられる。
【0032】
上述したような1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素添加は、好ましくは、有機溶媒中で行われる。この溶媒としては、反応の選択性を高めると共に、熱分解生成物である1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類や得られる4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類が溶解しやすいという理由から、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の炭素原子数3以下の脂肪族飽和アルコール類やテトラヒドロフラン等の環状脂肪族エーテル類が好ましく用いられる。これらの溶媒は、単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0033】
このような溶媒は、用いる1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の種類や、また、用いる溶媒それ自体の種類によっても異なるが、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類100重量部に対して、通常、100〜2000重量部、好ましくは、500〜1000重量部の割合で用いられる。
【0034】
本発明によれば、上記溶媒を上記割合で用いることによって、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の転化率が高く、しかも、目的とする4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類の選択率も高くすることができるので、目的とする4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を高収率で得ることができる。
【0035】
1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素化は、反応器内を窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスで置換した後、水素置換して行うことが望ましい。反応に供給する水素の量は、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を水素化して、4−ヒドロキシフェニルシクロヘキシル−1−ヒドロキシベンゼン類を得るのに必要な理論水素量とすればよい。
【0036】
1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素化の反応温度は、通常、0〜100℃の範囲であり、好しくは、20〜60℃の範囲である。水素圧力は、通常、1〜10kg/cm2 Gの範囲であり、好ましくは、2〜4kg/cm2 Gの範囲である。また、反応時間は、反応条件にもよるが、通常、0.1〜10時間の範囲であり、好ましくは、0.2〜2時間の範囲である。
【0037】
このようにして、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を水素化して、得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、必要に応じて精製される。4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を精製するには、例えば、上記反応によって得られた反応混合物から触媒を濾過分離して除去した後、常法に従って、晶析、濾過し、得られた目的物を乾燥すればよい。
【0038】
本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、シクロヘキサン環の異なる炭素に2つの置換基を有するシクロヘキサン化合物であるので、シス体とトランス体の立体異性体を有し、上述した1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類を水素すれば、得られる4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、通常、これらシス体とトランス体の混合物である。
【0039】
即ち、上述した方法によって得られる4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類のシス体とトランス体の割合は、反応条件等によって異なるが、通常、シス体/トランス体の割合は、50/50〜70/30の範囲である。
【0040】
本発明によれば、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素化によって得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を、例えば、溶剤再結晶法、カラムクロマトグラフィー法等の従来より知られている手段によって、シス体とトランス体とに分離し、それぞれ精製することができる。また、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素化によって得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を、例えば、光異性化法、異性化触媒法等のシクロヘキサン化合物について従来より知られている異性化反応を適用することによっても、特定の異性体を得ることもできる。
【0041】
本発明によれば、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の水素化によって得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類を含む反応混合物から、常法によって精製品とし、これをカラム分離に適したメタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の溶媒に溶解し、又は上記反応混合物の溶媒を溶媒置換によってカラム分離に適したメタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の溶媒に置換した後、例えば、分取高速液体クロマログラフィー等の手段を用いて、保持時間の違いを利用して、シス体とトランス体を分離して、4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類と4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類をそれぞれ分取することができる。
【0042】
本発明による4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類の製造のための出発原料である1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類は、例えば、前記一般式(III)で表されるヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類を、好ましくはアルカリ触媒の存在下に、熱分解することによって得ることができる。
【0043】
このようなヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類としては、具体的には、例えば、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2,3,6−トリメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−エチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−エチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−イソブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−s−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−s−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソプロピル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソプロピル−5−メチル)−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−t−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
等を挙げることができる。
【0044】
上記一般式(III)で表されるヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類は、例えば、特開2000−63308号公報に記載されているように、酸触媒の存在下に、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノンに置換フェノール類を反応させることによって容易に得ることができる。
【0045】
【発明の効果】
本発明によれば、一方のフェノール核にのみ、低級アルキル基を置換基として有する新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類が提供される。このような4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類は、それ自体で、液晶ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の合成樹脂の原料のほか、液晶表示素子や半導体等のフォトレジスト等の原料として有用性が期待されるほか、種々の化合物の製造のための中間体としても有用である。
【0046】
更に、本発明によれば、上記化合物のトランス異性体である4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類とシス異性体である4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類が提供される。これらのうち、例えば、トランス体は、液晶化合物の構成成分又は原料として有用性が期待される。
【0047】
【実施例】
以下に参考例と共に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はそれら実施例によって何ら制約を受けるものではない。
【0048】
参考例1
(1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンの製造)
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン60.9g(0.157モル)と48%水酸化ナトリウム水溶液0.6gとテトラエチレングリコール18.0gとを反応容器(300mL容量四つ口フラスコ)に仕込み、反応容器を窒素置換した後、反応容器内を圧力40mmHgの減圧とし、温度210℃程度において、約3時間、熱分解反応を行った。留出物の留出がなくなった時点を反応の終点とした。反応終了後、得られた反応混合物に50%酢酸水溶液を加えて、pH6程度に中和した後、含水油状混合物63.4gを得た。
【0049】
このようにして得られた上記含水油状混合物にメチルイソブチルケトンと水とを加え、分液して、上記酢酸による中和によって生成した塩と反応溶剤として用いたテトラエチレングリコールとを水層として除去した後、上記メチルイソブチルケトンを留去し、残余の油層にトルエンを加えて、晶析濾過を行った。得られた固体を乾燥して、純度97.9%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)の1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン26.5gを白色結晶として得た。1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する反応収率は80.8モル%であった。
【0050】
融点:201℃(示差熱分析法)
分子量(質量分析法)(M+ ):280
プロトンNMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.71〜1.79(1H,m)
1.88〜1.97(1H,m)
2.11(3H,s)
2.16〜2.24(1H,m)
2.28〜2.50(4H,m)
2.63〜2.72(1H,m)
6.02(1H,d,J=3.2Hz)
6.70(3H,t,J=9.6Hz)
7.06(4H,d,J=8.0Hz)
9.14(1H,s)
9.22(1H,s)
【0051】
実施例1
(4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−−1−ヒドロキシベンゼンの製造)
参考例1で得られた1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン21g(0.075モル)とイソプロピルアルコール170gとカーボン坦持5%パラジウム触媒2.5g(50重量%含水品、エヌ・イー ケムキャット(株)製)を反応容器(1L容量のオートクレーブ)に仕込んだ後、反応容器内を窒素置換した。次いで、反応容器内を水素置換し、その後、反応容器内を昇温し、約45℃に達した時点で反応容器内の水素圧が0.2MPaになるように調整した。
【0052】
反応を開始して約30分後に水素吸収が停止したので、得られた反応混合物にジメチルホルムアミド60gを添加した後、触媒を濾過にて除去した。次いで、得られた濾液からイソプロピルアルコールとジメチルホルムアミドを留去して、目的物である4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン21.5gを白色固体として得た。純度94.6%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンに対する収率は96.1モル%であった。
【0053】
融点:159℃(示差熱分析法)
分子量(質量分析法)(M−H)- :281
プロトンNMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.50(2H,t,J=9.6Hz)
1.70(2H,brs)
1.83(4H,d,J=7.2Hz)
2.09(1.8H,s)
2.11(1.2H,s)
2.37〜2.48(0.8H,m)
2.65〜2.76(1.2H,m)
6.79(3H,d,J=8.0Hz)
6.85(1H,d,J=8.0Hz)
6.91(1H,brs)
7.02〜7.07(2H,m)
9.00(1H,s)
9.14(1H,s)
【0054】
実施例2
実施例1において得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン1gを採取し、室温にてメタノール10gに溶解し、得られた溶液を分取高速液体クロマトグラフィーに注入し、分離操作を行った(溶媒:60%メタノール水溶液、時間40分)。その結果、保持時間17.6分で、白色結晶の4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン約50mgを得た。純度99%、融点214℃(示差熱分析法)。
【0055】
更に、保持時間28.2分で、淡黄色油状の4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン約100mgを得た。純度99%。
【0056】
また、上記結果から、上記実施例1において得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼンのトランス体/シス体の選択率は、37/63(分取高速液体クロマトグラフィーによる)であった。
【0057】
同定データ
トランス異性体(4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン)
融点:214℃(示差熱分析法)
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.49(4H,t,J=9.6Hz)
1.82(4H,d,J=8.4Hz)
2.09(3H,s)
2.41(2H,d,J=10Hz)
6.08(3H,d,J=7.6Hz)
6.84(1H,d,J=8.0Hz)
6.91(1H,s)
7.02(2H,d,J=8.4Hz)
9.06(2H,brs)
【0058】
シス異性体(4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン)
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.69(4H,d,J=4.8Hz)
1.84(4H,s)
2.11(3H,s)
2.71(2H,d,J=11Hz)
6.68〜6.72(3H,m)
6.86(1H,d,H=8.0Hz)
6.92(1H,s)
7.04(2H,d,J=7.6Hz)
9.09(2H,brs)
【0059】
参考例2
(1−(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンの製造)
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン459g(1.03モル)と48%水酸化ナトリウム水溶液9.2gとテトラエチレングリコール200gとを反応容器(1L容量四つ口フラスコ)に仕込み、実施例2と同様にして、含水油状混合物385gを得た。
【0060】
このようにして得られた上記含水油状混合物にメチルイソブチルケトンと水とを加え、分液して、上記酢酸による中和によって生成した塩と反応溶剤として用いたテトラエチレングリコールとを水層として除去した後、上記メチルイソブチルケトンを留去し、残余の油層にトルエンを加えて、晶析濾過を行った。得られた固体を乾燥して、目的とする1−(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン112gを白色結晶として得た。純度は99.4%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)であり、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収率は85.1モル%であった。
【0061】
融点(示差熱分析法):178℃
分子量(質量分析法、(M+H)+) :309
プロトンNMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.17(6H,d,J=7.2Hz)
1.68〜1.81(1H,m)
1.89〜1.97(1H,m)
2.13〜2.23(1H,m)
2.31〜2.41(1H,m)
2.42〜2.48(2H,d,J=4.0Hz)
2.63〜2.72(1H,m)
3.20(1H,q,J=6.8Hz)
6.03(1H,d,J=2.0Hz)
6.70(2H,d,J=8.8Hz)
6.72(1H,d,J=8.0Hz)
7.02〜7.08(3H,m)
7.18(1H,d,J=2.4Hz)
9.14(1H,s)
9.22(1H,s)
【0062】
実施例3
(4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼンの製造)
参考例2で得られた1−(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン12.5g(0.040モル)とイソプロピルアルコール300gとラネーニッケル触媒3.8gを反応容器(1L容量のオートクレーブ)に仕込んだ後、反応容器内を窒素置換した。次いで、反応容器内を水素置換し、その後、反応容器内を昇温し、約45℃に達した時点で反応容器内の水素圧が0.3MPaになるように調整した。
【0063】
反応を開始して約2時間後に水素吸収が停止したので、得られた反応混合物を50℃に保ちながら濾過して、触媒を除去した。次いで、得られた濾液からイソプロピルアルコールを留去して、目的物である4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン12.0gを白色固体として得た。純度97.6%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。1−(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンに対する収率は94.4モル%であった。また、4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼンのトランス体/シス体の選択率は64/36であった(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0064】
このようにして得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン0.2gを採取し、室温にてメタノール2gに溶解し、得られた溶液を分取高速液体クロマトグラフィーに注入し、分離操作を行った(溶媒:78%メタノール水溶液、時間20分)。その結果、保持時間8.1分で、白色結晶の4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン約100mgを得た。純度99%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0065】
更に、保持時間13.1分で、無色透明油状の4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン約50mgを得た。純度99%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0066】
同定データ
トランス異性体(4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン)
融点:165℃(示差熱分析法)
分子量(質量分析法)(M−H)- :309
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.16(6H,d,J=6.8Hz)
1.51(4H,t,J=10.8Hz)
1.84(4H,d,J=7.2Hz)
2.38〜2.49(2H,m)
3.19(1H,q,J=6.8Hz)
6.69(3H,dd,J=8.0,2.0Hz)
6.84(1H,dd,J=8.4,2.4Hz)
6.97(1H,d,J=2.4Hz)
7.03(2H,d,J=8.4Hz)
8.98(1H,s)
9.10(1H,s)
【0067】
シス異性体(4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−イソプロピル−1−ヒドロキシベンゼン)
分子量(質量分析法)(M−H)- :309
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.16(3H,s)
1.18(3H,s)
1.68〜1.79(4H,m)
1.79〜1.92(4H,m)
2.73(2H,s)
3.16〜3.25(1H,m)
6.72(3H,dd,J=8.4,2.8Hz)
6.86(1H,dd,J=8.4,2.8Hz)
7.00(1H,s)
7.05(2H,d,J=8.4Hz)
9.05(2H,s)
【0068】
参考例3
(1−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンの製造)
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン581g(1.23モル)と48%水酸化ナトリウム水溶液11.7gとテトラエチレングリコール200gとを反応容器(2L容量四つ口フラスコ)に仕込み、熱分解温度を205℃、時間を5時間とした以外は、実施例2と同様にして、含水油状混合物556gを得た。
【0069】
このようにして得られた上記含水油状混合物を参考例2と同様に処理して、目的とする1−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン332gを白色結晶として得た。純度は98.8%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)であり、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収率は82.8モル%であった。
【0070】
融点(示差熱分析法):188℃
分子量(質量分析法、(M+H)+) :323
プロトンNMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.36(9H,s)
1.70〜1.82(1H,m)
1.89〜1.97(1H,m)
2.13〜2.24(1H,m)
2.31〜2.41(1H,m)
2.46(2H,brs)
2.63〜2.73(1H,m)
6.02(1H,brs)
6.70(2H,d,J=8.4Hz)
6.73(1H,d,J=8.4Hz)
7.06(3H,d,J=8.4Hz)
7.21(1H,d,J=2.8Hz)
9.14(1H,s)
9.29(1H,s)
【0071】
実施例4
(4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼンの製造)
参考例3で得られた1−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン26.6g(0.081モル)とイソプロピルアルコール266gとラネーニッケル触媒5.5gを反応容器(1L容量のオートクレーブ)に仕込んだ。この後、実施例3と同様にして、4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン26.6gを白色固体として得た。純度97.9%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。1−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンに対する収率は99.2モル%であった。また、4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼンのトランス体/シス体の選択率は64/36であった(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0072】
このようにして得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン0.2gを採取し、室温にてメタノール2gに溶解し、得られた溶液を分取高速液体クロマトグラフィーに注入し、分離操作を行った(溶媒:80%メタノール水溶液、時間20分)。その結果、保持時間9.5分で、白色結晶の4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン約100mgを得た。純度99%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0073】
更に、保持時間15.4分で、無色透明油状の4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン約50mgを得た。純度99%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0074】
同定データ
トランス異性体(4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン)
融点:185℃(示差熱分析法)
分子量(質量分析法)(M−H)- :323
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.35(9H,s)
1.51(4H,t,J=10.8Hz)
1.84(4H,d,J=8.0Hz)
2.44(2H,s)
6.70(3H,dd,J=8.0,7.6Hz)
6.87(1H,d,J=8.0Hz)
6.99〜7.04(3H,m)
9.05(1H,s)
9.10(1H,s)
【0075】
シス異性体(4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−t−ブチル−1−ヒドロキシベンゼン)
分子量(質量分析法)(M−H)- :323
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.34(9H,s)
1.65〜1.92(8H,m)
2.74(2H,s)
6.69(3H,d,J=8.4Hz)
6.86(1H,d,J=8.4Hz)
7.01〜7.07(3H,m)
9.08(2H,s)
【0076】
参考例4
(1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンの製造)
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン541g(1.80モル)と48%水酸化ナトリウム水溶液10.8gとテトラエチレングリコール200gとを反応容器(2L容量四つ口フラスコ)に仕込み、熱分解時間を2時間とした以外は、実施例2と同様にして、含水油状混合物676gを得た。
【0077】
このようにして得られた上記含水油状混合物を参考例2と同様に処理して、目的とする1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン428gを白色結晶として得た。純度は96.6%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)であり、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収率は78.1モル%であった。
【0078】
融点(示差熱分析法):224℃
分子量(質量分析法、(M+H)+):295
プロトンNMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.67〜1.79(1H,m)
1.88〜1.96(1H,m)
2.15(6H,s)
2.17〜2.23(1H,m)
2.29〜2.39(1H,m)
2.40〜2.46(2H,m)
2.62〜2.71(1H,m)
6.02(1H,d,J=2.2Hz)
6.69(2H,d,J=8.8Hz)
6.98(2H,s)
7.06(2H,d,J=8.4Hz)
8.14(1H,s),9.13(1H,s)
【0079】
実施例5
(4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼンの製造)
参考例4で得られた1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン19.6g(0.063モル)とイソプロピルアルコール300gとラネーニッケル触媒5.2gを反応容器(1L容量のオートクレーブ)に仕込んだ。この後、実施例3と同様にして、4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン18.6gを白色固体として得た。純度92.7%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンに対する収率は92.0モル%であった。また、4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼンのトランス体/シス体の選択率は69/31であった(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0080】
このようにして得られた4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−3,5−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン0.2gを採取し、室温にてメタノール2gに溶解し、得られた溶液を分取高速液体クロマトグラフィーに注入し、分離操作を行った(溶媒:70%メタノール水溶液、時間20分)。その結果、保持時間9.9分で、白色結晶の4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン約120mgを得た。純度99%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0081】
更に、保持時間16.1分で、無色透明油状の4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン約50mgを得た。純度99%(高速液体クロマトグラフィー分析による。)。
【0082】
同定データ
トランス異性体(4−(トランス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン)
融点:224℃(示差熱分析法)
分子量(質量分析法)(M−H)- :295
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.50(4H,t,J=9.6Hz)
1.83(4H,d,J=9.2Hz)
2.13(6H,s)
2.35〜2.45(2H,m)
6.67(2H,d,J=8.8Hz)
6.77(2H,s)
7.03(2H,d,J=8.4Hz)
7.91(1H,s)
9.10(1H,s)
【0083】
シス異性体(4−(シス−4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2,6−ジメチル−1−ヒドロキシベンゼン)
分子量(質量分析法)(M−H)- :295
1H−NMR(400MHz、溶媒DMSO−d)(δ(ppm)):
1.55〜1.75(4H,m)
1.75〜1.89(4H,m)
2.12(6H,s)
2.65(1H,s)
2.74(1H,s)
6.68(2H,d,J=7.6Hz)
6.76(2H,s)
7.04(2H,d,J=8.4Hz)
7.91(1H,m)
9.11(1H,s)

Claims (2)

  1. 一般式(I)
    Figure 0004243448
    (式中、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、nは1〜3の整数を示す。)
    で表される4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類。
  2. 4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−2−メチル−1−ヒドロキシベンゼン。
JP2002025452A 2001-02-08 2002-02-01 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類 Expired - Fee Related JP4243448B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002025452A JP4243448B2 (ja) 2001-04-27 2002-02-01 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類
EP02712292A EP1375461B1 (en) 2001-02-08 2002-02-07 Diphenol and process for producing the same
US10/467,187 US6872858B2 (en) 2001-02-08 2002-02-07 Diphenol and process for producing the same
PCT/JP2002/001055 WO2002062736A1 (fr) 2001-02-08 2002-02-07 Diphenol et procede de production de ce diphenol
DE60233211T DE60233211D1 (ja) 2001-02-08 2002-02-07

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-133677 2001-04-27
JP2001133677 2001-04-27
JP2002025452A JP4243448B2 (ja) 2001-04-27 2002-02-01 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008129104A Division JP4757281B2 (ja) 2001-04-27 2008-05-16 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003012585A JP2003012585A (ja) 2003-01-15
JP4243448B2 true JP4243448B2 (ja) 2009-03-25

Family

ID=26614557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002025452A Expired - Fee Related JP4243448B2 (ja) 2001-02-08 2002-02-01 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4243448B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI354002B (en) 2003-12-24 2011-12-11 Sumitomo Chemical Co Epoxy compounds and cured epoxy resin obtained by
ATE556063T1 (de) 2006-03-16 2012-05-15 Sumitomo Chemical Co Verfahren zur herstellung einer epoxyverbindung
US20100063182A1 (en) 2007-04-19 2010-03-11 Shinya Tanaka Epoxy composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003012585A (ja) 2003-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6872858B2 (en) Diphenol and process for producing the same
RU2646220C2 (ru) Новое алициклическое диольное соединение и способ его получения
JP4929402B2 (ja) 3−メチル−シクロペンタデセノン類の製造方法、r/s−ムスコンの製造方法および光学活性ムスコンの製造方法
JP4243448B2 (ja) 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類
US4885409A (en) Process for the hydrogenation of bis-phenols
JP4757281B2 (ja) 新規な4−(4’−(4”−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)−1−ヒドロキシベンゼン類
JP2002308809A (ja) 新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類
JP4611287B2 (ja) 脂環式オキセタン化合物の製造方法
JP6372771B2 (ja) トランス‐シクロヘキサンジカルボン酸ビス(2‐ヒドロキシアルキル)の製造方法
US7321054B2 (en) Method of producing poly(ortho-methylphenol)
US5777170A (en) Process for the preparation of a naphthylbutanone
KR0138789B1 (ko) 아미노디페닐아민의 제조방법
JP5377935B2 (ja) 新規なジヒドロキシクォーターフェニル化合物及びその原料化合物
JP4246427B2 (ja) 新規な4,4”−ジヒドロキシ−p−ターフェニル類
JPS63190853A (ja) 4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の製造方法
JP4162615B2 (ja) 4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クォ―ターフェニル類の製造方法。
WO2018078961A1 (ja) トランス‐シクロヘキサンジカルボン酸ビス(2‐ヒドロキシアルキル)の製造方法およびシクロヘキサンジカルボン酸ビス(2‐ヒドロキシアルキル)
JP4757282B2 (ja) 4,4”−ジヒドロキシ−p−ターフェニル類
JP4786082B2 (ja) 新規な4−置換シクロヘキシルフェノール類
JPH07196565A (ja) 4−アルキル−2−フルオロシクロヘキサノールとその製造方法及びその光学分割方法
JPS63152338A (ja) シクロヘキサノンカルボン酸類の製造方法
JPH04257536A (ja) シクロヘキサン環を有するジオール化合物及びシクロヘキサン環を有するジオール化合物の製造方法
JPH09249613A (ja) 新規脂環式化合物及びその製造方法
JP2523140B2 (ja) (4―ヒドロキシフェニル)―シクロヘキサンカルボン酸の製造方法
JP2013256494A (ja) 1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン類の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071002

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071126

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080318

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080704

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080710

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081209

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090105

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150109

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees