JP2523140B2 - （４―ヒドロキシフェニル）―シクロヘキサンカルボン酸の製造方法 - Google Patents
（４―ヒドロキシフェニル）―シクロヘキサンカルボン酸の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸の全く新規な製造方法に関する。さらに詳
細には、（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキセン
カルボン酸を還元反応させることを特徴とする、（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸の製
造方法に関する。
ンカルボン酸の全く新規な製造方法に関する。さらに詳
細には、（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキセン
カルボン酸を還元反応させることを特徴とする、（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸の製
造方法に関する。
（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボ
ン酸類は高分子液晶等のポリエステル用のモノマー等に
有用な化合物である。
ン酸類は高分子液晶等のポリエステル用のモノマー等に
有用な化合物である。
（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボ
ン酸としては、４−（４−ヒドロキシフェニル）−シク
ロヘキサンカルボン酸及び２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−シクロヘキサンカルボン酸が公知である。その製
造法として提案されている方法は少なく、次の３通りの
方法が知られているに過ぎない。
ン酸としては、４−（４−ヒドロキシフェニル）−シク
ロヘキサンカルボン酸及び２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−シクロヘキサンカルボン酸が公知である。その製
造法として提案されている方法は少なく、次の３通りの
方法が知られているに過ぎない。
（イ）．シクロヘキセンに低温下で塩化アルミニウム、
塩化アセチルを加えたのちベンゼンと反応させ４−フェ
ニル−ヘキサヒドロアセトフェノンとしたのち酸化して
４−フェニル−シクロヘキサンカルボン酸を合成し、こ
れをニトロ化して４−（４′−ニトロフェニル）シクロ
ヘキサンカルボン酸とし、次に水添して４−（４′−ア
ミノフェニル）シクロヘキサンカルボン酸としたのちジ
アゾ化、加水分解して４−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサンカルボン酸を得る方法。〔ジャーナル
オブ アメリカンケミカル ソサイアティ（J.A.C.
S.,67,1045,（1945）〕 （ロ）.4−メトキシビフェニルをフリーデル・クラフト
反応して４−（４′−メトキシフェニル）−アセトフェ
ノンを得、これを酸化して４−（４′−メトキシフェニ
ル）−安息香酸とし、さらにイソアミルアルコールと金
属ナトリウムを作用させて４−（４′−メトキシフェニ
ル）−シクロヘキサンカルボン酸とし、臭化水素酸で処
理して４−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸を得る方法。〔ジャーナル オブ アミリ
カン ケミカル ソサイアティ（J.A.C.S.,68,1648,（1
946）〕 （ハ）１−（４−ニトロフェニル）−1,3−ブタジエン
とアクリル酸のディールス アルダー反応で２−（４−
ニトロフェニル）−1,2,5,6−テトラヒドロ安息香酸と
し、これを水添したのちジアゾ化分解して２−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸を得る
方法。〔ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サイアティ（J.A.C.S.,72,3960,（1950）〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、上記のような従来法においては、どの
方法も多工程を要し、且つ各工程で使用する原料が高価
であり、通算収率も満足のゆくものではない。さらに、
排水処理等の面からも多くの問題点を有する。従って必
然的に、得られる４−（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサンカルボン酸あるいは２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンカルボン酸は極めて高価なも
のとならざるを得ず、工業的な製造方法はいまだ提案さ
れていないと言っても過言ではない。
塩化アセチルを加えたのちベンゼンと反応させ４−フェ
ニル−ヘキサヒドロアセトフェノンとしたのち酸化して
４−フェニル−シクロヘキサンカルボン酸を合成し、こ
れをニトロ化して４−（４′−ニトロフェニル）シクロ
ヘキサンカルボン酸とし、次に水添して４−（４′−ア
ミノフェニル）シクロヘキサンカルボン酸としたのちジ
アゾ化、加水分解して４−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサンカルボン酸を得る方法。〔ジャーナル
オブ アメリカンケミカル ソサイアティ（J.A.C.
S.,67,1045,（1945）〕 （ロ）.4−メトキシビフェニルをフリーデル・クラフト
反応して４−（４′−メトキシフェニル）−アセトフェ
ノンを得、これを酸化して４−（４′−メトキシフェニ
ル）−安息香酸とし、さらにイソアミルアルコールと金
属ナトリウムを作用させて４−（４′−メトキシフェニ
ル）−シクロヘキサンカルボン酸とし、臭化水素酸で処
理して４−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸を得る方法。〔ジャーナル オブ アミリ
カン ケミカル ソサイアティ（J.A.C.S.,68,1648,（1
946）〕 （ハ）１−（４−ニトロフェニル）−1,3−ブタジエン
とアクリル酸のディールス アルダー反応で２−（４−
ニトロフェニル）−1,2,5,6−テトラヒドロ安息香酸と
し、これを水添したのちジアゾ化分解して２−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸を得る
方法。〔ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サイアティ（J.A.C.S.,72,3960,（1950）〕 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、上記のような従来法においては、どの
方法も多工程を要し、且つ各工程で使用する原料が高価
であり、通算収率も満足のゆくものではない。さらに、
排水処理等の面からも多くの問題点を有する。従って必
然的に、得られる４−（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサンカルボン酸あるいは２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンカルボン酸は極めて高価なも
のとならざるを得ず、工業的な製造方法はいまだ提案さ
れていないと言っても過言ではない。
また、３−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸は新規な化合物でもある。
サンカルボン酸は新規な化合物でもある。
本発明者等は、前述従来法の欠点を改良すべく鋭意検
討した結果、新規な製造法を見出し本発明に到達した。
即ち、本発明は一般式（Ｉ） で示される（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸を水添触媒の存在下還元反応させることを
特徴とする式（II） で示される（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸の新規な製造方法である。
討した結果、新規な製造法を見出し本発明に到達した。
即ち、本発明は一般式（Ｉ） で示される（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸を水添触媒の存在下還元反応させることを
特徴とする式（II） で示される（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸の新規な製造方法である。
本発明に於いて原料として使用される式（Ｉ）の（４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸は
新規化合物であり、式（III） （式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表す。）
で示されるビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キサンカルボン酸を脱水素触媒及び水素受容体を使用す
ることなく加熱分解反応させることにより得ることがで
き、別に出願した（特開昭64−79135号公報）。
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸は
新規化合物であり、式（III） （式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表す。）
で示されるビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キサンカルボン酸を脱水素触媒及び水素受容体を使用す
ることなく加熱分解反応させることにより得ることがで
き、別に出願した（特開昭64−79135号公報）。
また、式（III）のビス（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサンカルボン酸もまた新規化合物であり、
このものは式（IV） （式中、Ｒは式（III）で定義したとおりである。）で
示されるシクロヘキサノンカルボン酸とフェノールとを
酸性触媒の存在下に反応させることにより得ることがで
きる（特開昭63−10745号公報等）。
−シクロヘキサンカルボン酸もまた新規化合物であり、
このものは式（IV） （式中、Ｒは式（III）で定義したとおりである。）で
示されるシクロヘキサノンカルボン酸とフェノールとを
酸性触媒の存在下に反応させることにより得ることがで
きる（特開昭63−10745号公報等）。
さらに式（IV）のシクロヘキサノンカルボン酸は、ヒ
ドロキシ安息香酸類の接触還元により得ることができる
（特開昭63−152338号公報）。またシクロヘキサノール
カルボン酸類の酸化等の公知方法によっても得ることが
できる。
ドロキシ安息香酸類の接触還元により得ることができる
（特開昭63−152338号公報）。またシクロヘキサノール
カルボン酸類の酸化等の公知方法によっても得ることが
できる。
本発明はこのようにして得られる式（Ｉ）の（４−ヒ
ドロキシフェニル）−シクロヘキセンカルボン酸を水添
触媒の存在下還元反応させることにより式（II）の（４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸を
得るものである。
ドロキシフェニル）−シクロヘキセンカルボン酸を水添
触媒の存在下還元反応させることにより式（II）の（４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸を
得るものである。
（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキセンカルボ
ン酸の還元反応は、水素の外にナトリウム、リチウム等
の金属、水素化ジイソブチルアルミニウム、有機スズ水
素化物等の金属水素化物、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素リチ
ウム、水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物、
ジボラン、アルキルボラン、ヒドラジン、ジイミド、リ
ン化合物等の還元試薬が使用できる。また電解還元も有
効である。この中、操作性、価格等を考慮した場合、水
素を用いた接触還元が好ましく、この際、通常触媒が使
用される。触媒は公知の水添触媒なら特に限定されない
が、例えば、ラネーニッケル、還元ニッケル、ニッケル
を珪藻土、アルミナ、軽石、シリカゲル、酸性白土など
の種々の担体に担持したニッケル担体触媒、ラネーコバ
ルト、還元コバルト、コバルト−担体触媒などのコバル
ト触媒、ラネー銅、還元銅、銅−担体触媒などの銅触
媒、パラジウム黒、酸化パラジウム、コロイドパラジウ
ム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム、パ
ラジウム−酸化マグネシウム、パラジウム−酸化カルシ
ウム、パラジウム−アルミナなどのパラジウム触媒、白
金黒、コロイド白金、酸化白金、硫化白金、白金−炭素
などの白金−担体触媒等の白金触媒、コロイドロジウ
ム、ロジウム−炭素、酸化ロジウムなどのロジウム触
媒、ルテニウム触媒などの白金族触媒、七酸化二レニウ
ム、レニウム−炭素などのレニウム触媒、銅クロム酸化
物触媒、酸化モリブデン触媒、酸化バナジウム触媒、酸
化タングステン触媒、銀触媒などが挙げられる。
ン酸の還元反応は、水素の外にナトリウム、リチウム等
の金属、水素化ジイソブチルアルミニウム、有機スズ水
素化物等の金属水素化物、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素リチ
ウム、水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物、
ジボラン、アルキルボラン、ヒドラジン、ジイミド、リ
ン化合物等の還元試薬が使用できる。また電解還元も有
効である。この中、操作性、価格等を考慮した場合、水
素を用いた接触還元が好ましく、この際、通常触媒が使
用される。触媒は公知の水添触媒なら特に限定されない
が、例えば、ラネーニッケル、還元ニッケル、ニッケル
を珪藻土、アルミナ、軽石、シリカゲル、酸性白土など
の種々の担体に担持したニッケル担体触媒、ラネーコバ
ルト、還元コバルト、コバルト−担体触媒などのコバル
ト触媒、ラネー銅、還元銅、銅−担体触媒などの銅触
媒、パラジウム黒、酸化パラジウム、コロイドパラジウ
ム、パラジウム−炭素、パラジウム−硫酸バリウム、パ
ラジウム−酸化マグネシウム、パラジウム−酸化カルシ
ウム、パラジウム−アルミナなどのパラジウム触媒、白
金黒、コロイド白金、酸化白金、硫化白金、白金−炭素
などの白金−担体触媒等の白金触媒、コロイドロジウ
ム、ロジウム−炭素、酸化ロジウムなどのロジウム触
媒、ルテニウム触媒などの白金族触媒、七酸化二レニウ
ム、レニウム−炭素などのレニウム触媒、銅クロム酸化
物触媒、酸化モリブデン触媒、酸化バナジウム触媒、酸
化タングステン触媒、銀触媒などが挙げられる。
これらの触媒のうちでは、ラネーニッケル触媒、パラ
ジウム触媒、白金触媒が好ましく、さらに好ましくはパ
ラジウム炭素等のパラジウム触媒である。
ジウム触媒、白金触媒が好ましく、さらに好ましくはパ
ラジウム炭素等のパラジウム触媒である。
水添触媒の使用量は、（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロヘキサンカルボン酸１モルに対し前記脱水素触媒
の金属原子として通常0.0001〜0.1グラム原子、好まし
くは0.0005〜0.01グラム原子の範囲である。
シクロヘキサンカルボン酸１モルに対し前記脱水素触媒
の金属原子として通常0.0001〜0.1グラム原子、好まし
くは0.0005〜0.01グラム原子の範囲である。
本発明反応においては通常、溶媒が使用される。溶媒
は反応条件下で還元を受けにくい化合物が選ばれる 例えば、水、苛性水等の水系溶媒、メタノール、エタ
ノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、ブチルアルコール、エチレンングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレ
ングリコール、グリセリン等のアルコール、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クメン、エチルベンゼン、シメン
等の炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の
ニトリル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル等のエーテル、1,3−ジメチル−
２−イミダゾリジン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチル
ホルムアミド等の有機極性溶媒、酢酸等の酸類が挙げら
れる。
は反応条件下で還元を受けにくい化合物が選ばれる 例えば、水、苛性水等の水系溶媒、メタノール、エタ
ノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、ブチルアルコール、エチレンングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレ
ングリコール、グリセリン等のアルコール、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クメン、エチルベンゼン、シメン
等の炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の
ニトリル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル等のエーテル、1,3−ジメチル−
２−イミダゾリジン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチル
ホルムアミド等の有機極性溶媒、酢酸等の酸類が挙げら
れる。
この中最も好ましい溶媒はメタノール等のアルコール
溶媒であり、その使用量は通常、（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキセンカルボン酸の３〜20重量倍の範
囲である。
溶媒であり、その使用量は通常、（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキセンカルボン酸の３〜20重量倍の範
囲である。
本発明反応は反応温度は通常０〜100℃の範囲、好ま
しくは20〜60℃の範囲で実施される。反応温度が100℃
を越える高温では副反応が起こるので収率が低下する傾
向にある。
しくは20〜60℃の範囲で実施される。反応温度が100℃
を越える高温では副反応が起こるので収率が低下する傾
向にある。
また本発明の還元反応を水素を用いた接触還元で実施
する場合、水素の圧力は5Kg/cm2G以下、好ましくは2Kg/
cm2G以下、さらに好ましくは大気圧下で実施できる。圧
力が高いと設備が高価となり得策ではない。また場合に
よっては、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素等の
希釈ガスで希釈した水素を用いても差しつかえない。
する場合、水素の圧力は5Kg/cm2G以下、好ましくは2Kg/
cm2G以下、さらに好ましくは大気圧下で実施できる。圧
力が高いと設備が高価となり得策ではない。また場合に
よっては、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素等の
希釈ガスで希釈した水素を用いても差しつかえない。
本発明反応により生成した（４−ヒドロキシフェニ
ル）−シクロヘキサンカルボン酸は、反応終了後例えば
触媒を濾過したのちに溶媒を留去する等の方法で取り出
すことができる。
ル）−シクロヘキサンカルボン酸は、反応終了後例えば
触媒を濾過したのちに溶媒を留去する等の方法で取り出
すことができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
〔実施例−１〕 4,4−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸の製造： シクロヘキサノン−４−カルボン酸をフェノール中で
塩酸触媒下で、40〜45℃で反応させて4,4−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸を得
た。
ンカルボン酸の製造： シクロヘキサノン−４−カルボン酸をフェノール中で
塩酸触媒下で、40〜45℃で反応させて4,4−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸を得
た。
４−（４−ヒドロキシフェニル）−３−シクロヘキセン
−１−カルボン酸の製造： 4,4−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸を45％苛性ソーダ水触媒下、1,3−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン中210〜220℃で反応させ
た。この際、留出した水は系外に抜き出した。反応終了
後、水に排出し、晶出した結晶を濾過した。この結晶を
塩酸水でスラッジングして４−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−シクロヘキセン−１−カルボ酸を得た。
−１−カルボン酸の製造： 4,4−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸を45％苛性ソーダ水触媒下、1,3−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン中210〜220℃で反応させ
た。この際、留出した水は系外に抜き出した。反応終了
後、水に排出し、晶出した結晶を濾過した。この結晶を
塩酸水でスラッジングして４−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−シクロヘキセン−１−カルボ酸を得た。
４−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカル
ボン酸の製造： 上記のようにして得られた４−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３−シクロヘキセン−１−カルボン酸21.8g
（0.10モル）、５％パラジウム炭素0.22g、メタノール1
00mlをガラス製200ml4ツ口フラスコ（バッフル付）に仕
込、激しく攪拌しながら、温度30〜40℃、大気圧下で水
素を吸収させた。水素の吸収が止まったのち30分間熟成
して反応を完結させた。
ボン酸の製造： 上記のようにして得られた４−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３−シクロヘキセン−１−カルボン酸21.8g
（0.10モル）、５％パラジウム炭素0.22g、メタノール1
00mlをガラス製200ml4ツ口フラスコ（バッフル付）に仕
込、激しく攪拌しながら、温度30〜40℃、大気圧下で水
素を吸収させた。水素の吸収が止まったのち30分間熟成
して反応を完結させた。
パラジウム炭素を濾過により分離回収したのちエバポ
レーターでメタノールを留去し、４−（４−ヒドロキシ
フェニル）−シクロヘキサンカルボン酸22.1gを得た。
純度98.4％、純度換算収率98.7％であった。
レーターでメタノールを留去し、４−（４−ヒドロキシ
フェニル）−シクロヘキサンカルボン酸22.1gを得た。
純度98.4％、純度換算収率98.7％であった。
〔実施例−２〕 ３−（４−ヒドロキシフェニル）−３−シクロヘキセン
−１−カルボン酸の製造： 実施例−１と同様にしてシクロヘキサノン−３−カル
ボン酸とフェノールを塩酸触媒下、40〜45℃で反応し3,
3−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン
カルボン酸を得た。これを、45％苛性水触媒下で実施例
−１と同様に加熱分解反応、取り出しを行い３−（４−
ヒドロキシフェニル）−３−シクロヘキセン−１−カル
ボン酸を得た。
−１−カルボン酸の製造： 実施例−１と同様にしてシクロヘキサノン−３−カル
ボン酸とフェノールを塩酸触媒下、40〜45℃で反応し3,
3−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン
カルボン酸を得た。これを、45％苛性水触媒下で実施例
−１と同様に加熱分解反応、取り出しを行い３−（４−
ヒドロキシフェニル）−３−シクロヘキセン−１−カル
ボン酸を得た。
３−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカル
ボン酸の製造： 上記のようにして得られた３−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３−シクロヘキセン−１−カルボン酸21.8g
（0.10モル）、５％パラジウム炭素0.22g、メタノール1
00mlを実施例−１と同様に反応、処理をして３−（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸21.7
gを得た。純度98.5％、純度換算収率97.0％であった。
ボン酸の製造： 上記のようにして得られた３−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３−シクロヘキセン−１−カルボン酸21.8g
（0.10モル）、５％パラジウム炭素0.22g、メタノール1
00mlを実施例−１と同様に反応、処理をして３−（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸21.7
gを得た。純度98.5％、純度換算収率97.0％であった。
本発明は、このように高収率で高純度の（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸類を得るこ
とができる新規な工業的製造方法である。
キシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸類を得るこ
とができる新規な工業的製造方法である。
Claims (1)
- 【請求項１】式（Ｉ） で示される（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキセ
ンカルボン酸を水添触媒の存在下還元反応させることを
特徴とする式（II） で示される（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサ
ンカルボン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62236145A JP2523140B2 (ja) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | （４―ヒドロキシフェニル）―シクロヘキサンカルボン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62236145A JP2523140B2 (ja) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | （４―ヒドロキシフェニル）―シクロヘキサンカルボン酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6479136A JPS6479136A (en) | 1989-03-24 |
| JP2523140B2 true JP2523140B2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=16996425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62236145A Expired - Fee Related JP2523140B2 (ja) | 1987-09-22 | 1987-09-22 | （４―ヒドロキシフェニル）―シクロヘキサンカルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2523140B2 (ja) |
-
1987
- 1987-09-22 JP JP62236145A patent/JP2523140B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6479136A (en) | 1989-03-24 |
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