JP2002308809A - 新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類 - Google Patents
新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類Info
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Abstract
ト、ポリウレタン等の合成樹脂の原料や、表示素子、半
導体等のフォトレジスト等の原料として有用性が期待さ
れ、また、例えば、同様の用途に有用である4,4”−
ジヒドロキシ−p−ターフェニル類の製造原料として有
用である新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−シクロヘキセン類を提供する。 【解決手段】一般式(I) 【化1】 (式中、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、n
は0又は1〜3の整数を示す。)で表される1,4−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン
類。
Description
シフェニル基にも置換基がないか、又は一方のヒドロキ
シフェニル基にのみ、置換基として低級アルキル基を有
する新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
1−シクロヘキセン類に関する。
ル)−1−シクロヘキセン類は、それ自体、液晶ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の合成樹脂
の原料や、表示素子、半導体等のフォトレジスト等の原
料として有用性が期待される。
ニル)−1−シクロヘキセン類は、種々の有用な化合物
の中間体としても有用である。例えば、1,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の
シクロヘキセン部分を脱水素することによって、4,
4”−ジヒドロキシ−p−ターフェニル類とすることが
でき、これもまた、液晶ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン等の合成樹脂の原料や、表示素子、半
導体等のフォトレジスト等の原料として有用である。
キセン類については、例えば、カルボキシメチル基とナ
フチル基が置換されたもの(CAS登録番号10178
9−46−2)や、フェニル基が置換されたもの(CA
S登録番号202266−25−9)等がケミカルアブ
ストラクトに記載されているが、いずれのヒドロキシフ
ェニル基にも置換基がないか、又は一方のヒドロキシフ
ェニル基にのみ、置換基として低級アルキル基を有する
1,4−芳香核置換−1−シクロヘキセン類は知られて
いない。
したような観点から、いずれのヒドロキシフェニル基に
も置換基がないか、又は一方のヒドロキシフェニル基に
のみ、置換基として低級アルキル基を有する新規な1,
4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキ
セン類を提供することにある。
4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキ
セン類は、一般式(I)
基を示し、nは0又は1〜3の整数を示す。)で表され
ることを特徴とする。
(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類
は、一般式(I)
基を示し、nは0又は1〜3の整数を示す。)で表され
る。
数1〜4のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、
エチル基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基
又はブチル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。また、n
は0又は1〜3の整数を示す。
ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の具体例
としては、例えば、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−1−シクロヘキセン、1−(3−メチル−4−
ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−シクロヘキセン、1−(2−メチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(3−エチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1
−シクロヘキセン、1−(2−エチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シ
クロヘキセン、1−(3−n−プロピル−4−ヒドロキ
シフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−
シクロヘキセン、1−(2−n−プロピル−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1
−シクロヘキセン、1−(3−イソプロピル−4−ヒド
ロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−
1−シクロヘキセン、1−(2−イソプロピル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(3−n−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(2−n−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(3−イソブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(2−イソブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(3−s−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(2−s−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(3−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(2−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−シクロヘキセン、1−(3,6−ジメチル−4−
ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−シクロヘキセン、1−(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−1−シクロヘキセン、1−(2,3,6−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−シクロヘキセン、1−(2,3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、1−(3−
イソプロピル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセ
ン、1−(3−イソプロピル−5−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1
−シクロヘキセン、1−(3−t−ブチル−6−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−シクロヘキセン、1−(3−t−ブチル
−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン、1−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセ
ン、1−(3,5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シク
ロヘキセン等を挙げることができる。
4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキ
セン、1−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセ
ン、1−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘ
キセン等が好ましい。
表される1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1
−シクロヘキセン類は、例えば、下記一般式(II)
基を示し、nは0又は1〜3の整数を示す。)で表され
るヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェ
ノール類を、好ましくはアルカリ触媒の存在下に、熱分
解することによって得ることができる。
シフェニル)−1−シクロヘキセン類の製造のための出
発原料である上記一般式(II)で表されるヒドロキシフ
ェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類として
は、具体的には、例えば、1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビ
ス(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−
ビス(3,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,
4−ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4,4−ビス(2,3,6−トリメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−4,4−ビス(3−エチル−4−ヒド
ロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒドロキ
シフェニル)−4,4−ビス(2−エチル−4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒドロキシ
フェニル)−4,4−ビス(3−イソプロピル−4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−4,4−ビス(2−イソプロピル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イソブチル−
4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−
ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−イソブチル
−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4
−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−s−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−
(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(2−s−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1
−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−イ
ソプロピル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン、1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,
4−ビス(3−イソプロピル−5−メチル)−4−ヒド
ロキシフェニル)シクロヘキサン、1−(4−ヒドロキ
シフェニル)−4,4−ビス(3−t−ブチル−6−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1−
(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン等を挙げることができる。
ェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類は、例
えば、特開2000−63308号公報に記載されてい
るように、酸触媒の存在下に、4−(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサノンに置換フェノール類を反応さ
せることによって容易に得ることができる。
リデンビスフェノール類の熱分解は、触媒の不存在下に
行ってもよいが、好ましくは、アルカリ触媒の存在下に
行われる。このアルカリ触媒としては、特に、限定され
るものではないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸
塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカ
リ金属炭酸水素塩、ナトリウムフェノキシド、カリウム
フェノキシド等のアルカリ金属フェノキシド、水酸化マ
グネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のア
ルカリ土類金属水酸化物等を挙げることができる。これ
らのなかでは、特に、水酸化ナトリウム又は水酸化カリ
ウムが好ましく用いられる。
は、アルカリ触媒は、ヒドロキシフェニル置換シクロヘ
キシリデンビスフェノール類100重量部に対して、通
常、0.01〜30重量部、好ましくは、0.1〜10重量
部の範囲で用いられる。触媒の使用形態は、特に制限は
ないが、仕込み操作が容易である点から、好ましくは、
10〜50重量%の水溶液として用いられる。
リデンビスフェノール類の熱分解は、上記出発原料であ
るヒドロキシフェニル置換シクロヘキシリデンビスフェ
ノール類及び/又は目的物である1,4−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の融点が高
いので、熱分解温度においてその液状性の改善を図るた
め、更には、生成した目的物の熱重合を防止するため
に、好ましくは、反応溶媒の存在下に行われる。
て不活性であり、しかも、反応混合物から留出しない溶
媒であれば、特に限定されるものではないが、例えば、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ペンタエチレングリコール等のポリエチレングリコール
類、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリ
コール等のポリプロピレングリコール類、グリセリン等
の多価アルコール類が用いられる。また、市販の有機熱
媒体である「サームエス」(新日鉄化学(株)製)や
「SK−OIL」(綜研化学(株)製)等も用いられ
る。
ニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類100重
量部に対して、通常、10〜150重量部、好ましく
は、30〜100重量部の範囲で用いられる。
ンビスフェノール類の熱分解は、通常、150〜300
℃の範囲、好ましくは、180〜250℃の範囲の温度
で行われる。熱分解温度が低すぎるときは、反応速度が
遅すぎ、他方、熱分解温度が高すぎるときは、望ましく
ない副反応が多くなるからである。また、熱分解の反応
圧力は、特に、限定されるものではないが、通常、常圧
乃至減圧下の範囲であり、例えば、1〜760mmHg
ゲージの範囲、好ましくは、30〜50mmHgゲージ
の範囲である。
フェニル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類の熱
分解は、通常、1〜6時間程度で終了する。熱分解反応
は、例えば、分解反応によって生成するアルキルフェノ
ール類の留出がなくなった時点をその終点とすることが
できる。
ル置換シクロヘキシリデンビスフェノール類の熱分解反
応は、例えば、反応容器にヒドロキシフェニル置換シク
ロヘキシリデンビスフェノール類とアルカリ触媒とテト
ラエチレングリコール等の溶媒を仕込み、温度190〜
220℃、圧力30〜50mmHgゲージで3〜6時間
程度、分解反応によって生成したアルキルフェノール類
を留去しながら、撹拌することによって行われる。
シクロヘキシリデンビスフェノール類を熱分解すること
によって、本発明による1,4−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−シクロヘキセン類を、通常、90%程
度の反応収率にて得ることができる。
シフェニル)−1−シクロヘキセン類は、それ自体、液
晶ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の
合成樹脂の原料や、表示素子、半導体等のフォトレジス
ト等の原料として有用性が期待される。更に、本発明に
よる1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シ
クロヘキセン類は、種々の有用な化合物の中間体として
も有用である。
ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類のシクロ
ヘキセン部分を脱水素することによって、一般式(III)
基を示し、nは0又は1〜3の整数を示す。)で表され
る4,4”−ジヒドロキシ−p−ターフェニル類を得る
ことができる。これもまた、液晶ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリウレタン等の合成樹脂の原料や、表示
素子、半導体等のフォトレジスト等の原料として有用で
ある。
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類
は、それ自体、液晶ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリウレタン等の合成樹脂の原料や、表示素子、半導体
等のフォトレジスト等の原料として有用性が期待される
ほか、例えば、本発明による1,4−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−1−シクロヘキセン類のシクロヘキセ
ン部分を脱水素することによって、対応する4,4”−
ジヒドロキシ−p−ターフェニル類を得ることができ
る。これもまた、液晶ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン等の合成樹脂の原料や、表示素子、半
導体等のフォトレジスト等の原料として有用である。
基がいずれもアルキル基をもたず、置換基について対称
である1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
シクロヘキセンからは、分子構造が対称な4,4”−ジ
ヒドロキシ−p−ターフェニルを得ることができる。他
方、分子の一方の末端のヒドロキシフェニル基にのみ、
低級アルキル基を有し、置換基について非対称の分子構
造を有する1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
1−シクロヘキセン類からは、同様に、置換基について
非対称である4,4”−ジヒドロキシ−p−ターフェニ
ル類を得ることができ、このような4,4”−ジヒドロ
キシ−p−ターフェニル類は、その非対称性の故に、例
えば、有機溶剤への溶解性にすぐれることが期待され
る。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
ロヘキセンの製造)1−(4−ヒドロキシフェニル)−
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン30.1g(0.0836モル)と48%水酸化ナト
リウム水溶液0.8gとテトラエチレングリコール1
5.1gとを反応容器(200mL容量四つ口フラス
コ)に仕込み、反応容器内を窒素置換した後、反応容器
内を圧力100mmHgの減圧とし、温度210℃程度
において、約3時間、熱分解反応を行った。留出物が留
出しなくなった時点を熱分解反応の終点とした。反応終
了後、得られた反応混合物に50%酢酸水溶液を加え
て、pH6程度に中和して、含水油状混合物49.2g
を得た。
物に水を加え、晶析濾過を行って、上記酢酸による中和
によって生成した塩と反応溶剤として用いたテトラエチ
レングリコールとを水層として除去した後、得られた油
層にメタノールを加えて、晶析濾過を行った。得られた
固体を乾燥して、純度93.5%(高速液体クロマトグ
ラフィー分析による。)の1,4−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−シクロヘキセン12.0gを白色粉
体として得た。原料1−(4−ヒドロキシフェニル)−
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ンに対する反応収率は57.1モル%であった。
(δ(ppm)):1.69〜1.80(1H,m),
1.89〜1.95(1H,m),2.13〜2.23
(1H,m),2.33〜2.50(3H,m),2.
63〜2.73(1H,m),6.05(1H,d,J
=3.2Hz),6.70(4H,t,J=8.0H
z),7.07(2H,d,J=8.0Hz),7.2
4(2H,d,J=8.4Hz),9.15(1H,
s),9.35(1H,s)
実施例1で得た1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−シクロヘキセン5.3gにα−メチルスチレ
ン6.0gと5%パラジウム/カーボン担持触媒(50
重量%含水品)0.5gを反応容器(200mL容量四
つ口フラスコ)に仕込み、反応容器内を窒素置換した
後、常圧下、温度163℃に昇温して、攪拌下に3時間
反応させた。
ルホルムアミド136gを加え、混合した。この後、こ
の混合物からパラジウム/カーボン触媒を濾別し、更
に、溶媒を蒸留により留去して、目的物を含む蒸留残渣
を得た。この蒸留残渣にメタノールを加え、晶析濾過
し、得られた固体を乾燥して、純度99.0%(高速液
体クロマトグラフィー分析による。)の4,4”−ジヒ
ドロキシ−p−ターフェニル4.5gを白色結晶として
得た。1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
シクロヘキセンに対する反応収率は89.1%であっ
た。
(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセンの製
造) 1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン6
0.9g(0.157モル)と48%水酸化ナトリウム
水溶液0.6gとテトラエチレングリコール18.0g
とを反応容器(300mL容量四つ口フラスコ)に仕込
み、反応容器内を窒素置換した後、反応容器内を圧力4
0mmHgの減圧とし、温度210℃程度において、約
3時間、熱分解反応を行った。留出物の留出がなくなっ
た時点を反応の終点とした。反応終了後、得られた反応
混合物に50%酢酸水溶液を加えて、pH6程度に中和
した後、含水油状混合物63.4gを得た。
物にメチルイソブチルケトンと水とを加え、分液して、
上記酢酸による中和によって生成した塩と反応溶剤とし
て用いたテトラエチレングリコールとを水層として除去
した後、上記メチルイソブチルケトンを留去し、残余の
油層にトルエンを加えて、晶析濾過を行った。得られた
固体を乾燥して、純度97.7%(高速液体クロマトグ
ラフィー分析による。)の1−(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−
1−シクロヘキセン26.5gを白色結晶として得た。
1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対
する反応収率は80.8モル%であった。
(δ(ppm)):1.71〜1.79(1H,m),
1.88〜1.97(1H,m),2.11(3H,
s),2.16〜2.24(1H,m),2.28〜
2.50(4H,m),2.63〜2.72(1H,
m),6.02(1H,d,J=3.2Hz),6.7
0(3H,t,J=9.6Hz),7.06(4H,
d,J=8.0Hz),9.14(1H,s),9.2
2(1H,s)
−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセ
ンの製造)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4’
−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン459g(1.03モル)と48%水酸
化ナトリウム水溶液9.2gとテトラエチレングリコー
ル200gとを反応容器(1L容量四つ口フラスコ)に
仕込み、実施例2と同様にして、含水油状混合物385
gを得た。
物を実施例2と同様に処理して、目的とする1−(3−
イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン112gを
白色結晶として得た。純度は99.4%(高速液体クロ
マトグラフィー分析による。)であり、1−(4−ヒド
ロキシフェニル)−4,4’−ビス(3−イソプロピル
−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収
率は85.1モル%であった。
(δ(ppm)):1.17(6H,d,J=7.2H
z),1.68〜1.81(1H,m),1.89〜
1.97(1H,m),2.13〜2.23(1H,
m),2.31〜2.41(1H,m),2.42〜
2.48(2H,d,J=4.0Hz),2.63〜
2.72(1H,m),3.20(1H,q,J=6.
8Hz),6.03(1H,d,J=2.0Hz),
6.70(2H,d,J=8.8Hz),6.72(1
H,d,J=8.0Hz),7.02〜7.08(3
H,m),7.18(1H,d,J=2.4Hz),
9.14(1H,s),9.22(1H,s)
4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン
の製造)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4’−
ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン581g(1.23モル)と48%水酸化ナ
トリウム水溶液11.7gとテトラエチレングリコール
200gとを反応容器(2L容量四つ口フラスコ)に仕
込み、熱分解温度を205℃、時間を5時間とした以外
は、実施例2と同様にして、含水油状混合物556gを
得た。
物を実施例2と同様に処理して、目的とする1−(3−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン332gを白
色結晶として得た。純度は98.8%(高速液体クロマ
トグラフィー分析による。)であり、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−4,4’−ビス(3−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収率は
82.8モル%であった。
(δ(ppm)):1.36(9H,s),1.70〜
1.82(1H,m),1.89〜1.97(1H,
m),2.13〜2.24(1H,m),2.31〜
2.41(1H,m),2.46(2H,brs),
2.63〜2.73(1H,m),6.02(1H,b
rs),6.70(2H,d,J=8.4Hz),6.
73(1H,d,J=8.4Hz),7.06(3H,
d,J=8.4Hz),7.21(1H,d,J=2.
8Hz),9.14(1H,s),9.29(1H,
s)
−4−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセ
ンの製造)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4’
−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン541g(1.80モル)と48%水酸
化ナトリウム水溶液10.8gとテトラエチレングリコ
ール200gとを反応容器(2L容量四つ口フラスコ)
に仕込み、熱分解時間を2時間とした以外は、実施例2
と同様にして、含水油状混合物676gを得た。
物を実施例2と同様に処理して、目的とする1−(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−(4−
ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン428gを
白色結晶として得た。純度は96.6%(高速液体クロ
マトグラフィー分析による。)であり、1−(4−ヒド
ロキシフェニル)−4,47−ビス(3−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに対する収率
は78.1モル%であった。
(δ(ppm)):1.67〜1.79(1H,m),
1.88〜1.96(1H,m),2.15(6H,
s),2.17〜2.23(1H,m),2.29〜
2.39(1H,m),2.40〜2.46(2H,
m),2.62〜2.71(1H,m),6.02(1
H,d,J=2.2Hz),6.69(2H,d,J=
8.8Hz),6.98(2H,s),7.06(2
H,d,J=8.4Hz),8.14(1H,s),
9.13(1H,s)
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基を示し、n
は0又は1〜3の整数を示す。)で表される1,4−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン
類。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001191006A JP4108946B2 (ja) | 2001-02-08 | 2001-06-25 | 新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類 |
DE60233211T DE60233211D1 (ja) | 2001-02-08 | 2002-02-07 | |
PCT/JP2002/001055 WO2002062736A1 (fr) | 2001-02-08 | 2002-02-07 | Diphenol et procede de production de ce diphenol |
US10/467,187 US6872858B2 (en) | 2001-02-08 | 2002-02-07 | Diphenol and process for producing the same |
EP02712292A EP1375461B1 (en) | 2001-02-08 | 2002-02-07 | Diphenol and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001031961 | 2001-02-08 | ||
JP2001-31961 | 2001-02-08 | ||
JP2001191006A JP4108946B2 (ja) | 2001-02-08 | 2001-06-25 | 新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002308809A true JP2002308809A (ja) | 2002-10-23 |
JP4108946B2 JP4108946B2 (ja) | 2008-06-25 |
Family
ID=26609107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001191006A Expired - Lifetime JP4108946B2 (ja) | 2001-02-08 | 2001-06-25 | 新規な1,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4108946B2 (ja) |
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JP4108946B2 (ja) | 2008-06-25 |
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