JP2001199920A - ビスシクロヘキシルアルカン類とその製造方法 - Google Patents
ビスシクロヘキシルアルカン類とその製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 高い融点を持ち、種々の溶剤への溶解性に優
れた新規ビスシクロヘキシルアルカン化合物の提供。 【解決手段】シクロヘキシル置換フェノールを有機溶媒
中、酸触媒下にビスシクロヘキサノンと脱水縮合させて
一般式Ｉの化合物を製造する。 （Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立に水素又はＣ１〜４のアル
キル基を示す。） 【効果】この化合物は感光性レジスト、感光性ポリイミ
ド等の原料として有用である。
れた新規ビスシクロヘキシルアルカン化合物の提供。 【解決手段】シクロヘキシル置換フェノールを有機溶媒
中、酸触媒下にビスシクロヘキサノンと脱水縮合させて
一般式Ｉの化合物を製造する。 （Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立に水素又はＣ１〜４のアル
キル基を示す。） 【効果】この化合物は感光性レジスト、感光性ポリイミ
ド等の原料として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なビスシクロヘキ
シルアルカン類に関し、詳しくは４つのシクロヘキシル
置換フェノール基を持つビスシクロヘキシルアルカン化
合物に関する。このようなビスシクロヘキシルアルカン
化合物は高い融点を持ち、しかも種々の溶剤への溶解性
に優れているので、感光性レジスト、、感光性ポリイミ
ド等の原料として有用である。さらに、本発明は、この
ようなビスシクロヘキシルアルカン類の製造方法に関す
る。
シルアルカン類に関し、詳しくは４つのシクロヘキシル
置換フェノール基を持つビスシクロヘキシルアルカン化
合物に関する。このようなビスシクロヘキシルアルカン
化合物は高い融点を持ち、しかも種々の溶剤への溶解性
に優れているので、感光性レジスト、、感光性ポリイミ
ド等の原料として有用である。さらに、本発明は、この
ようなビスシクロヘキシルアルカン類の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ビスシクロヘキシルアルカン類
は、例えば特開昭４９−２５０号公報、特開平７−６９
９５４号公報にその製造法と共に記載されている。しか
しながら上記公報には種々のヒドロキシフェニル類を含
有するビスシクロヘキシルアルカン類が記載されている
ものの、それらのヒドロキシフェニル基はフェノールな
いし低級アルキル置換ヒドロキシフェニル基であり、シ
クロヘキシル置換ヒドロキシフェニル基を含有するもの
は記載されていない。
は、例えば特開昭４９−２５０号公報、特開平７−６９
９５４号公報にその製造法と共に記載されている。しか
しながら上記公報には種々のヒドロキシフェニル類を含
有するビスシクロヘキシルアルカン類が記載されている
ものの、それらのヒドロキシフェニル基はフェノールな
いし低級アルキル置換ヒドロキシフェニル基であり、シ
クロヘキシル置換ヒドロキシフェニル基を含有するもの
は記載されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これらのヒドロキシフ
ェニルないし低級アルキル置換ヒドロキシフェニル基を
有するビスシクロヘキシルアルカン類は、溶剤への溶解
性に制限があり、感光性レジスト、感光性ポリイミド等
の反応性原料に要求される、高い融点を持ち、しかも種
々の溶剤への溶解性に優れているという要求性能は満た
されていない。本発明は、上述の問題点を改良した、す
なわち高い融点を持ち、しかも種々の溶剤への溶解性に
優れたビスシクロヘキシルアルカン化合物を提供するこ
とである。更に、本発明はこのような新規なビスシクロ
ヘキシルアルカン化合物を高収率で得ることができる製
造方法を提供することである。
ェニルないし低級アルキル置換ヒドロキシフェニル基を
有するビスシクロヘキシルアルカン類は、溶剤への溶解
性に制限があり、感光性レジスト、感光性ポリイミド等
の反応性原料に要求される、高い融点を持ち、しかも種
々の溶剤への溶解性に優れているという要求性能は満た
されていない。本発明は、上述の問題点を改良した、す
なわち高い融点を持ち、しかも種々の溶剤への溶解性に
優れたビスシクロヘキシルアルカン化合物を提供するこ
とである。更に、本発明はこのような新規なビスシクロ
ヘキシルアルカン化合物を高収率で得ることができる製
造方法を提供することである。
【０００４】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有
する化合物が上述の目的を満足することを見出し、本発
明を完成した。すなわち、本発明によれば、一般式
（Ｉ）
題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有
する化合物が上述の目的を満足することを見出し、本発
明を完成した。すなわち、本発明によれば、一般式
（Ｉ）
【化４】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基
を示し、Ｒ2 及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子又は炭
素数１〜４のアルキル基を示す。）で表される新規なビ
スシクロヘキシルアルカン類が提供される。また、本発
明によれば、一般式（II）
を示し、Ｒ2 及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子又は炭
素数１〜４のアルキル基を示す。）で表される新規なビ
スシクロヘキシルアルカン類が提供される。また、本発
明によれば、一般式（II）
【化５】 （式中Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
示す。）で表されるシクロヘキシル置換フェノール類を
有機溶媒中、酸触媒の存在下に
示す。）で表されるシクロヘキシル置換フェノール類を
有機溶媒中、酸触媒の存在下に
【化６】 （式中Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素原子又は炭素
数１〜４のアルキル基を示す。）で表されるビスシクロ
ヘキサノン類と脱水縮合させることによって一般式
（Ｉ）で表されるビスシクロヘキシルアルカン類の製造
方法が提供される。
数１〜４のアルキル基を示す。）で表されるビスシクロ
ヘキサノン類と脱水縮合させることによって一般式
（Ｉ）で表されるビスシクロヘキシルアルカン類の製造
方法が提供される。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
よる新規なビスシクロヘキシルアルカン類は上記一般式
（Ｉ）で表され、ここに、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１
〜４のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基であり、炭素数３以上のア
ルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。Ｒ2 及びＲ3
はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル
基を示し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基又はブチル基であり、炭素数３以上のアルキル基は直
鎖状でも分岐鎖状でもよい。本発明によるビスシクロヘ
キシルアルカン類の好ましい具体例として、下記のもの
を例示することができる。 （１）ビス［４，４−ビス（３−シクロヘキシルー４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］メタン （２）ビス［４，４−ビス（２−メチルー５−シクロヘ
キシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］メ
タン （３）ビス［４，４−ビス（２，６−ジメチルー５−シ
クロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシ
ル］メタン （４）２，２−ビス［４，４−ビス（３−シクロヘキシ
ルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパ
ン （５）２，２−ビス［４，４−ビス（２−メチルー５−
シクロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
シル］プロパン （６）２，２−ビス［４，４−ビス（２，６−ジメチル
ー５−シクロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキシル］プロパン
よる新規なビスシクロヘキシルアルカン類は上記一般式
（Ｉ）で表され、ここに、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１
〜４のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基であり、炭素数３以上のア
ルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。Ｒ2 及びＲ3
はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４のアルキル
基を示し、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基又はブチル基であり、炭素数３以上のアルキル基は直
鎖状でも分岐鎖状でもよい。本発明によるビスシクロヘ
キシルアルカン類の好ましい具体例として、下記のもの
を例示することができる。 （１）ビス［４，４−ビス（３−シクロヘキシルー４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］メタン （２）ビス［４，４−ビス（２−メチルー５−シクロヘ
キシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］メ
タン （３）ビス［４，４−ビス（２，６−ジメチルー５−シ
クロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシ
ル］メタン （４）２，２−ビス［４，４−ビス（３−シクロヘキシ
ルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパ
ン （５）２，２−ビス［４，４−ビス（２−メチルー５−
シクロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
シル］プロパン （６）２，２−ビス［４，４−ビス（２，６−ジメチル
ー５−シクロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキシル］プロパン
【０００６】本発明によれば、前記一般式（Ｉ）で表さ
れるビスシクロヘキシルアルカン類は、前記一般式（I
I）で表されるシクロヘキシル置換フェノール類を有機
溶媒中、酸触媒の存在下に前記一般式（III）で表され
るビスシクロヘキサノン類と脱水縮合させることにより
得ることができる。上記ビスシクロヘキシルアルカン類
の原料である、一般式（II）で表されるシクロヘキシル
基置換フェノール類において、Ｒ1 が炭素数１〜４のア
ルキル基であるとき、それらの具体例として、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を挙げるこ
とができる。プロピル基及びブチル基は、直鎖状でも、
分岐鎖状でもよい。このようなシクロヘキシル基置換フ
ェノール類の具体例として、例えば２−シクロヘキシル
フェノール、３ーシクロヘキシルフェノール、２−メチ
ルー６−シクロヘキシルフェノール、３−メチルー６−
シクロヘキシルフェノール、２，５−ジメチル６−シク
ロヘキシルフェノール、２−エチルー６−シクロヘキシ
ルフェノール、２−イソプロピルー６シクロヘキシルフ
ェノール、３−イソプロピルー６シクロヘキシルフェノ
ール、２−イソブチルー６−シクロヘキシルフェノー
ル、３−イソブチルー６−シクロヘキシルフェノール等
を挙げることができる。これらのうち、２−シクロヘキ
シルフェノールが好ましく用いられる。
れるビスシクロヘキシルアルカン類は、前記一般式（I
I）で表されるシクロヘキシル置換フェノール類を有機
溶媒中、酸触媒の存在下に前記一般式（III）で表され
るビスシクロヘキサノン類と脱水縮合させることにより
得ることができる。上記ビスシクロヘキシルアルカン類
の原料である、一般式（II）で表されるシクロヘキシル
基置換フェノール類において、Ｒ1 が炭素数１〜４のア
ルキル基であるとき、それらの具体例として、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を挙げるこ
とができる。プロピル基及びブチル基は、直鎖状でも、
分岐鎖状でもよい。このようなシクロヘキシル基置換フ
ェノール類の具体例として、例えば２−シクロヘキシル
フェノール、３ーシクロヘキシルフェノール、２−メチ
ルー６−シクロヘキシルフェノール、３−メチルー６−
シクロヘキシルフェノール、２，５−ジメチル６−シク
ロヘキシルフェノール、２−エチルー６−シクロヘキシ
ルフェノール、２−イソプロピルー６シクロヘキシルフ
ェノール、３−イソプロピルー６シクロヘキシルフェノ
ール、２−イソブチルー６−シクロヘキシルフェノー
ル、３−イソブチルー６−シクロヘキシルフェノール等
を挙げることができる。これらのうち、２−シクロヘキ
シルフェノールが好ましく用いられる。
【０００７】またビスシクロヘキシルアルカン類のもう
一方の原料である一般式（III）で表されるビスシクロ
ヘキサノン類において、Ｒ2 及びＲ3 が炭素数１〜４の
アルキル基であるとき、それらの具体例として、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を挙げる
ことができる。プロピル基及びブチル基は、直鎖状で
も、分岐鎖状でもよい。このようなビスシクロヘキサン
類の具体例とし、例えば、ビス（４−オキソシクロヘキ
シル）メタン、１，１−ビス（４−オキソシクロヘキシ
ル）エタン、２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシ
ル）ブタン等が挙げられる。これらのうち、２，２−ビ
ス（４−オキソシクロヘキシル）プロパンが好ましく用
いられる。
一方の原料である一般式（III）で表されるビスシクロ
ヘキサノン類において、Ｒ2 及びＲ3 が炭素数１〜４の
アルキル基であるとき、それらの具体例として、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を挙げる
ことができる。プロピル基及びブチル基は、直鎖状で
も、分岐鎖状でもよい。このようなビスシクロヘキサン
類の具体例とし、例えば、ビス（４−オキソシクロヘキ
シル）メタン、１，１−ビス（４−オキソシクロヘキシ
ル）エタン、２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシ
ル）ブタン等が挙げられる。これらのうち、２，２−ビ
ス（４−オキソシクロヘキシル）プロパンが好ましく用
いられる。
【０００８】シクロヘキシル置換フェノール類とビスシ
クロヘキサノン類の縮合反応に際して用いられる酸触媒
としては、例えば、塩化水素ガス、塩酸、硫酸、Ｐ−ト
ルエンスルホン酸、シュウ酸、リン酸等を挙げることが
できる。これらのなかでは、特に反応速度などの理由に
より塩化水素ガスが好ましく用いられる。塩化水素ガス
の場合は、反応系内を塩化水素ガスで置換し、飽和させ
る量程度で用いられることが好ましい。上記触媒と共に
適当な助触媒、例えばドデシルメルカプタン、オクチル
メルカプタン等を添加して反応を促進させることができ
る。これらの助触媒は、原料ビスシクロヘキサノン類に
対し通常１〜１０ｗｔ％の範囲、好ましくは２〜６ｗｔ
％で用いられる。上記反応に用いられる有機溶媒として
は、用いる反応原料、得られる生成物の溶解度、反応条
件に適合した沸点、反応の経済性等の理由により例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、メタ
ノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類などを適宣単
独であるいは混合して使用される。これらの中でも特に
トルエン、メタノールが好ましく用いられる。
クロヘキサノン類の縮合反応に際して用いられる酸触媒
としては、例えば、塩化水素ガス、塩酸、硫酸、Ｐ−ト
ルエンスルホン酸、シュウ酸、リン酸等を挙げることが
できる。これらのなかでは、特に反応速度などの理由に
より塩化水素ガスが好ましく用いられる。塩化水素ガス
の場合は、反応系内を塩化水素ガスで置換し、飽和させ
る量程度で用いられることが好ましい。上記触媒と共に
適当な助触媒、例えばドデシルメルカプタン、オクチル
メルカプタン等を添加して反応を促進させることができ
る。これらの助触媒は、原料ビスシクロヘキサノン類に
対し通常１〜１０ｗｔ％の範囲、好ましくは２〜６ｗｔ
％で用いられる。上記反応に用いられる有機溶媒として
は、用いる反応原料、得られる生成物の溶解度、反応条
件に適合した沸点、反応の経済性等の理由により例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、メタ
ノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類などを適宣単
独であるいは混合して使用される。これらの中でも特に
トルエン、メタノールが好ましく用いられる。
【０００９】また、反応温度は、特に制限はないが、反
応温度が低すぎるときは反応速度が実用上遅すぎ、他
方、高すぎるときは、望ましくない副反応が起こって、
目的とするビスシクロヘキシルアルカン類の収率が低下
する。従って、反応は通常１０〜８０℃の範囲、好まし
くは３０〜５０℃の範囲の温度で、反応器中の反応混合
物に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、３〜
２０時間、通常５〜１０時間程度行えばよい。反応の終
了後、得られた反応混合物を水酸化ナトリウム等のアル
カリ水溶液を加えて酸触媒を中和した後、水層を分離除
去し、得られた油層を常圧又は減圧下に蒸留し、溶媒、
未反応原料等、低沸成分を留去させ粗製品を得ることが
できる。また必要に応じて、この粗製品を適当な晶析溶
剤を用いて再結晶させ、これを濾過、乾燥することによ
って目的とする、ビスシクロヘキシルアルカン類の高純
度品を得ることができる。
応温度が低すぎるときは反応速度が実用上遅すぎ、他
方、高すぎるときは、望ましくない副反応が起こって、
目的とするビスシクロヘキシルアルカン類の収率が低下
する。従って、反応は通常１０〜８０℃の範囲、好まし
くは３０〜５０℃の範囲の温度で、反応器中の反応混合
物に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、３〜
２０時間、通常５〜１０時間程度行えばよい。反応の終
了後、得られた反応混合物を水酸化ナトリウム等のアル
カリ水溶液を加えて酸触媒を中和した後、水層を分離除
去し、得られた油層を常圧又は減圧下に蒸留し、溶媒、
未反応原料等、低沸成分を留去させ粗製品を得ることが
できる。また必要に応じて、この粗製品を適当な晶析溶
剤を用いて再結晶させ、これを濾過、乾燥することによ
って目的とする、ビスシクロヘキシルアルカン類の高純
度品を得ることができる。
【００１０】以下に本発明を実施例によってさらに具体
的に説明する。
的に説明する。
【実施例】（ ２，２−ビス［４，４−ビス（３−シク
ロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシ
ル］プロパンの合成 ） 反応器にｏ−シクロヘキシルフェノール１５２．４ｇ、
ドデシルメルカプタン０．７１ｇ、トルエン２６．４
ｇ、メタノール２６．４ｇを仕込み室温にて約２時間系
内を塩化水素ガスで置換した。その後、これに、攪拌
下、塩化水素ガスを吹き込みながら、２，２−ビス（４
−オキソシクロヘキシル）プロパン２３．６ｇをOーシ
クロヘキシルフェノール２３．６ｇ、メタノール１１．
８ｇに溶解した溶液を３０度℃に保ちながら２．５時間
で滴下し、反応させた。滴下終了後さらに３０度℃で
４．５時間反応させた。反応終了後、反応液に水酸化ナ
トリウム水溶液を加えて中和し、65度℃に昇温した後、
水層を分液した。残った油層にメチルイソブチルケトン
を加え、これを水洗した。その後蒸留し、残液を、晶
析、濾過、乾燥して、目的物の２，２−ビス［４，４−
ビス（３−シクロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキシル］プロパン７５．８ｇ（液体クロマトグ
ラフィーによる純度９４．４％）を白色結晶として得た
（収率７６．５モル％対２，２−ビス（４−オキソシク
ロヘキシル）プロパン）。 融 点 ２６３．７℃（ＤＳＣ法） 分子量 ９０４．６（Ｍ+ 、質量分析法） プロトンＮＭＲ分析（ＤＭＳＯ溶媒、４００ＭＨＺ）
ロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシ
ル］プロパンの合成 ） 反応器にｏ−シクロヘキシルフェノール１５２．４ｇ、
ドデシルメルカプタン０．７１ｇ、トルエン２６．４
ｇ、メタノール２６．４ｇを仕込み室温にて約２時間系
内を塩化水素ガスで置換した。その後、これに、攪拌
下、塩化水素ガスを吹き込みながら、２，２−ビス（４
−オキソシクロヘキシル）プロパン２３．６ｇをOーシ
クロヘキシルフェノール２３．６ｇ、メタノール１１．
８ｇに溶解した溶液を３０度℃に保ちながら２．５時間
で滴下し、反応させた。滴下終了後さらに３０度℃で
４．５時間反応させた。反応終了後、反応液に水酸化ナ
トリウム水溶液を加えて中和し、65度℃に昇温した後、
水層を分液した。残った油層にメチルイソブチルケトン
を加え、これを水洗した。その後蒸留し、残液を、晶
析、濾過、乾燥して、目的物の２，２−ビス［４，４−
ビス（３−シクロヘキシルー４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキシル］プロパン７５．８ｇ（液体クロマトグ
ラフィーによる純度９４．４％）を白色結晶として得た
（収率７６．５モル％対２，２−ビス（４−オキソシク
ロヘキシル）プロパン）。 融 点 ２６３．７℃（ＤＳＣ法） 分子量 ９０４．６（Ｍ+ 、質量分析法） プロトンＮＭＲ分析（ＤＭＳＯ溶媒、４００ＭＨＺ）
【００１１】
【化７】
【００１２】
【表１】
【００１３】
【発明の効果】本発明による、新規なビスシクロヘキシ
ルアルカン化合物はビスシクロヘキシル骨格のそれぞれ
のシクロヘキサン環に一対のシクロヘキシル基置換ヒド
ロキシフェニルが結合されなる対称的な構造を有し、例
えば低級アルキル置換ヒドロキシフェニル等に比べ高い
融点を持ち、しかも種々の溶剤への溶解性に優れたビス
シクロアルカン化合物を得ることができる。
ルアルカン化合物はビスシクロヘキシル骨格のそれぞれ
のシクロヘキサン環に一対のシクロヘキシル基置換ヒド
ロキシフェニルが結合されなる対称的な構造を有し、例
えば低級アルキル置換ヒドロキシフェニル等に比べ高い
融点を持ち、しかも種々の溶剤への溶解性に優れたビス
シクロアルカン化合物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神田 一浩 和歌山県和歌山市小雑賀二丁目５番115号 本州化学工業株式会社内総合研究所内 (72)発明者 前田 豊彦 和歌山県和歌山市小雑賀二丁目５番115号 本州化学工業株式会社内総合研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB76 AC25 AD15 AD17 BA28 BA32 BA35 BA37 BA53 BC10 BC19 FC22 FE13 4H039 CA19 CA60 CG10
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基
を示し、Ｒ2 及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子又は炭
素数１〜４のアルキル基を示す。）で表されるビスシク
ロヘキシルアルカン類 - 【請求項２】一般式（II） 【化２】 （式中Ｒ1 は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
示す。）で表されるシクロヘキシル置換フェノール類を
有機溶媒中、酸触媒の存在下に一般式（III） 【化３】 （式中Ｒ2 及びＲ3 はそれぞれ独立に水素原子又は炭素
数１〜４のアルキル基を示す。）で表されるビスシクロ
ヘキサノン類と脱水縮合させることを特徴とする一般式
（Ｉ）で表されるビスシクロヘキシルアルカン類の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000009803A JP2001199920A (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | ビスシクロヘキシルアルカン類とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000009803A JP2001199920A (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | ビスシクロヘキシルアルカン類とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001199920A true JP2001199920A (ja) | 2001-07-24 |
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ID=18537906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000009803A Pending JP2001199920A (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | ビスシクロヘキシルアルカン類とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001199920A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス（４−オキソシクロヘキシル）化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
| JP2010001252A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | テトラキス（ヒドロキシメチルフェノール）類およびそのホルミル化誘導体のテトラキス（ホルミルフェノール）類 |
| WO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
-
2000
- 2000-01-19 JP JP2000009803A patent/JP2001199920A/ja active Pending
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