JPS5828874B2 - ２，２′−ビス（４−置換フエノ−ル）スルフイドの製造法 - Google Patents
２，２′−ビス（４−置換フエノ−ル）スルフイドの製造法Info
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- JPS5828874B2 JPS5828874B2 JP54098054A JP9805479A JPS5828874B2 JP S5828874 B2 JPS5828874 B2 JP S5828874B2 JP 54098054 A JP54098054 A JP 54098054A JP 9805479 A JP9805479 A JP 9805479A JP S5828874 B2 JPS5828874 B2 JP S5828874B2
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- sulfide
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光安定剤、ポリオレフィン改質剤、潤滑油添加
剤およびそれらの中間体として重要な２・グービス（４
一置換フェノール）スルフィドの製造法に関する。
剤およびそれらの中間体として重要な２・グービス（４
一置換フェノール）スルフィドの製造法に関する。
一般に、２・２′−ビス（４一置換フエノール）スルフ
ィドの製造に関しては、相当する４一置換フエノールと
二塩化イオウとの反応により行われるが、さらにスルフ
ィド体の６−位にスルフィド化反応が同時に進行して多
核体類が生成する一方、二塩化イオウは次式に 示されるように化学平衡が存在する事実から、反応は一
層複雑となり、ジスルフィド化物等ポリイオウ含有化合
物を副生ずるために、目的物は樹脂状物として得られる
場合が多く、また目的物の収量が低いという欠点がある
。
ィドの製造に関しては、相当する４一置換フエノールと
二塩化イオウとの反応により行われるが、さらにスルフ
ィド体の６−位にスルフィド化反応が同時に進行して多
核体類が生成する一方、二塩化イオウは次式に 示されるように化学平衡が存在する事実から、反応は一
層複雑となり、ジスルフィド化物等ポリイオウ含有化合
物を副生ずるために、目的物は樹脂状物として得られる
場合が多く、また目的物の収量が低いという欠点がある
。
従来、本発明の対象である２・２７−ビス（４ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）スルフィド（一般式（ＩＩ）にお
いてＲ＝ ｔｅｒｔ −Ｃ４Ｈｇ ）の製造に関しても
同様に４ ｔｅｒｊ−ブチルフェノールと二塩化イオ
ウとの反応により行われてきた。
−ブチルフェノール）スルフィド（一般式（ＩＩ）にお
いてＲ＝ ｔｅｒｔ −Ｃ４Ｈｇ ）の製造に関しても
同様に４ ｔｅｒｊ−ブチルフェノールと二塩化イオ
ウとの反応により行われてきた。
たとえば、四塩化炭素中２０〜３０℃で反応を行なった
結果、目的物は樹脂状物として得られ、分子量測定によ
り概略目的物であることを想定しているに過ぎない（勝
井五一部、久山宏、ビタミン第７巻、第１４５頁（１９
５４））。
結果、目的物は樹脂状物として得られ、分子量測定によ
り概略目的物であることを想定しているに過ぎない（勝
井五一部、久山宏、ビタミン第７巻、第１４５頁（１９
５４））。
また２・２′−ビス（４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール
）スルフィド（一般式（ＩＩＩ）においてＲ＝ｔｅｒｔ
Ｃ５Ｈ］、１）の製造については４− ｔｅｒｔ−アミ
ルフェノールと二塩化イオウとをジクロロエタン中にお
いて加熱還流下に反応させた後、減圧下に分別蒸留を行
ない、さらに再結晶精製して目的物を得ている。
）スルフィド（一般式（ＩＩＩ）においてＲ＝ｔｅｒｔ
Ｃ５Ｈ］、１）の製造については４− ｔｅｒｔ−アミ
ルフェノールと二塩化イオウとをジクロロエタン中にお
いて加熱還流下に反応させた後、減圧下に分別蒸留を行
ない、さらに再結晶精製して目的物を得ている。
しかしながら収率は１１％と極めて低い（米国特許第２
９７１９４０号）。
９７１９４０号）。
さらに２・２′−ビス（４−メチルフェノール）スルフ
ィド（一般式（ＩＩ）においてＲ＝ＣＨ３）の製造に関
してもｐ−クレゾールと二塩化イオウとを石油エーテル
中において、室温で反応を行なった後、トルエンで結晶
化させて収率２２％で目的物を得ている（Ｗ、 Ｓ、Ｇ
ｕｍｐ 、 Ｊ、 Ｃ，Ｖｉｔｕｃｃｉ 、 Ｊ 、Ａ
ｍ。
ィド（一般式（ＩＩ）においてＲ＝ＣＨ３）の製造に関
してもｐ−クレゾールと二塩化イオウとを石油エーテル
中において、室温で反応を行なった後、トルエンで結晶
化させて収率２２％で目的物を得ている（Ｗ、 Ｓ、Ｇ
ｕｍｐ 、 Ｊ、 Ｃ，Ｖｉｔｕｃｃｉ 、 Ｊ 、Ａ
ｍ。
Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、 、６７．２３８（１９４５）。
このような公知製造法を一般に、２・２′−ビス（４一
置換フエノール）スルフィドの製造法に適用した場合、
このような方法は反応混合物が樹脂状物として得られ、
また目的物の単離収率は非常に低くしかも単離操作も極
めてめんどうである為経済的でなく、工業的には有利な
方法とは言い難い。
置換フエノール）スルフィドの製造法に適用した場合、
このような方法は反応混合物が樹脂状物として得られ、
また目的物の単離収率は非常に低くしかも単離操作も極
めてめんどうである為経済的でなく、工業的には有利な
方法とは言い難い。
これら技術水準からみて、４一置換フエノールト二塩化
イオウとの反応によって、実質的に副生物の生成を抑制
し、本来のモノスルフィド体自身の生成割合を向上させ
、なおかつ通常の後処理の操作によって、比較的容易に
、しかも好収率で２・２′−ビス（４一置換フエノール
）スルフィドラ製造することが工業的に要望されている
技術的課題である。
イオウとの反応によって、実質的に副生物の生成を抑制
し、本来のモノスルフィド体自身の生成割合を向上させ
、なおかつ通常の後処理の操作によって、比較的容易に
、しかも好収率で２・２′−ビス（４一置換フエノール
）スルフィドラ製造することが工業的に要望されている
技術的課題である。
本発明はこのような技術的課題を解決するために、２・
２′−ビス（４一置換フエノール）スルフィドの改良製
造法を提供しようとするものである。
２′−ビス（４一置換フエノール）スルフィドの改良製
造法を提供しようとするものである。
本発明者らは一般式（］ＩＩで表わされる２・２′−ビ
ス（４一置換フエノール）スルフィドの工業的に有利な
製造法として一般式（Ｉ）で表わされる４一置換フエノ
ール（以下原料フェノールと略記する）と二塩化イオウ
とをルイス酸触媒の存在下に炭化水素溶剤中で一１０〜
４０℃の温度において反応させることにより、極めて容
易に製造できることを見出した。
ス（４一置換フエノール）スルフィドの工業的に有利な
製造法として一般式（Ｉ）で表わされる４一置換フエノ
ール（以下原料フェノールと略記する）と二塩化イオウ
とをルイス酸触媒の存在下に炭化水素溶剤中で一１０〜
４０℃の温度において反応させることにより、極めて容
易に製造できることを見出した。
本発明によれば原料フェノールは有機溶剤中に溶解させ
て反応を行うが、場合によっては原料フェノールを有機
溶剤中に完全にまたは部分的に、竿に懸濁させた状態で
二塩化イオウと反応を行なっても何ら差支えない。
て反応を行うが、場合によっては原料フェノールを有機
溶剤中に完全にまたは部分的に、竿に懸濁させた状態で
二塩化イオウと反応を行なっても何ら差支えない。
本発明の方法によれば、反応終了後、水蒸気蒸留によっ
て溶剤を留去し、粗生成物を固体として容易に単離でき
る。
て溶剤を留去し、粗生成物を固体として容易に単離でき
る。
また生成物が直接反応混合物から沈殿している場合はそ
のまま濾過によって直接分離できるため工業上極めて有
利である。
のまま濾過によって直接分離できるため工業上極めて有
利である。
また生成物が直接反応混合物から沈殿している場合には
、生成物を分離した後、残る母液には未反応フェノール
と副生物の存在が極めて少量のため、２・２′−ビス（
４一置換フエノール）スルフィドの性状を少しも低下さ
せることもなく母液を循環使用できる。
、生成物を分離した後、残る母液には未反応フェノール
と副生物の存在が極めて少量のため、２・２′−ビス（
４一置換フエノール）スルフィドの性状を少しも低下さ
せることもなく母液を循環使用できる。
さらには、生成物が母液中に僅かに溶解しているような
場合には、母液を循環すれば生成物の単離収率はさらに
向上する。
場合には、母液を循環すれば生成物の単離収率はさらに
向上する。
このことは公知技術と比較してコストの低下をみちびく
溶剤の節減に役立つばかりでなく、循環保護に関連する
問題を提起することが少ないことも工業上極めて有利で
ある。
溶剤の節減に役立つばかりでなく、循環保護に関連する
問題を提起することが少ないことも工業上極めて有利で
ある。
本発明の方法で用いられる炭化水素溶剤としては、ベン
ゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、およびク
ロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、メタン、ペンタン
、ヘキサン、ヘプタン、シクロペンタンおよびシクロヘ
キサンなどの脂肪族および脂環族飽和炭化水素、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、トリクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素が用いら
れる。
ゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、およびク
ロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、メタン、ペンタン
、ヘキサン、ヘプタン、シクロペンタンおよびシクロヘ
キサンなどの脂肪族および脂環族飽和炭化水素、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、トリクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素が用いら
れる。
これら溶剤は混合物として用いることもできる。
使用する溶剤の量は広い範囲に変えることができるが、
一般に原料フェノール１重量部当り０．５〜１０好まし
くは約２〜５容量部の溶剤が用いられる。
一般に原料フェノール１重量部当り０．５〜１０好まし
くは約２〜５容量部の溶剤が用いられる。
本発明において原料フェノール２モルに対して二塩化イ
オウ１モルを反応させるのが好ましいが、０．８〜１．
５モル範囲であってもさしつかえない。
オウ１モルを反応させるのが好ましいが、０．８〜１．
５モル範囲であってもさしつかえない。
原料フェノールと二塩化イオウとを反応させる場合、原
料フェノールと有機溶剤との溶液中に滴下するのが本発
明の目的上好ましい。
料フェノールと有機溶剤との溶液中に滴下するのが本発
明の目的上好ましい。
滴下速度は反応で生じる塩化水素ガスが絶えず発生する
ように調節するのが好ましい。
ように調節するのが好ましい。
場合によっては二塩化イオウと有機溶剤との混合物を滴
下してもよい。
下してもよい。
本発明において、反応温度は一１Ｏ〜４０°Ｃの範囲と
することが必要である。
することが必要である。
反応温度が一１０℃より低いと反応に長時間を要し、一
方反応温度が４０℃より高いと生成物の純度および収率
は極端に低下する。
方反応温度が４０℃より高いと生成物の純度および収率
は極端に低下する。
好ましくは、−１０〜２０′Ｃ％に好ましい反応温度は
０〜１０℃である。
０〜１０℃である。
本発明に係る原料フェノールと二塩化イオウとの反応は
無触媒でも起るが、反応は極めて遅く、また複雑となっ
て反応混合物は樹脂状物として得られる場合が多く、ま
た純度および収率も極端に低いことは公知技術からも明
らかである。
無触媒でも起るが、反応は極めて遅く、また複雑となっ
て反応混合物は樹脂状物として得られる場合が多く、ま
た純度および収率も極端に低いことは公知技術からも明
らかである。
本発明においては、触媒としてルイス酸を使用すること
により反応は著しく円滑に進行し粗生成物の純度および
収率が極めて向上することも本発明の特徴である。
により反応は著しく円滑に進行し粗生成物の純度および
収率が極めて向上することも本発明の特徴である。
触媒の使用により、二塩化イオウは滴下と同時に消費さ
れて、滴下終了時に反応は実質的に完了する。
れて、滴下終了時に反応は実質的に完了する。
用いられるルイス酸としては、例えば塩化アルミニウム
、塩化亜鉛、塩化第二スズおよび塩化第二鉄等が挙げら
れるが、塩化亜鉛がとくに好ましい。
、塩化亜鉛、塩化第二スズおよび塩化第二鉄等が挙げら
れるが、塩化亜鉛がとくに好ましい。
触媒の使用量は微量で十分であり、通常、二塩化イオウ
１モルで対して０．００１〜０．１モル程度使用する。
１モルで対して０．００１〜０．１モル程度使用する。
本発明の方法の実施に際しては、一般に原料フェノール
を上記溶剤中に溶解させるか、あるいは懸濁させて、触
媒の存在下で−１Ｏ〜４０’Ｃ１好ましくは一１０〜２
０℃の温度に保ちながら、二塩化イオウを徐々に滴下す
る。
を上記溶剤中に溶解させるか、あるいは懸濁させて、触
媒の存在下で−１Ｏ〜４０’Ｃ１好ましくは一１０〜２
０℃の温度に保ちながら、二塩化イオウを徐々に滴下す
る。
滴下終了後同温度で１〜５時間かく拌した後、溶剤に溶
解している塩化水素ガスを空気を吹き込んで追い出す。
解している塩化水素ガスを空気を吹き込んで追い出す。
つＬ）で
（１１目的物が溶剤中に溶解している場合には、水蒸気
蒸留によって溶剤を留去した後室温まで放冷し、沈殿を
濾過、水洗、乾燥する。
蒸留によって溶剤を留去した後室温まで放冷し、沈殿を
濾過、水洗、乾燥する。
なお粗結晶を少量の石油エーテル、ｎ−ヘキサン等の低
沸点脂肪低炭化水素を用いて室温で懸濁か（拌処理を行
なえば、高純度品（通常９５％以上）を好収率で得るこ
とができる。
沸点脂肪低炭化水素を用いて室温で懸濁か（拌処理を行
なえば、高純度品（通常９５％以上）を好収率で得るこ
とができる。
（２）目的物が反応溶液から結晶として析出している場
合は、そのま又濾過し、少量の使用した溶剤で洗浄した
後、水洗、乾燥される。
合は、そのま又濾過し、少量の使用した溶剤で洗浄した
後、水洗、乾燥される。
いずれの場合も再結晶により極めて高純度の目的物が得
られる。
られる。
本発明の方法を以下の実施例によってさらに詳細に説明
する。
する。
なお製品の純度は高速液体クロマトグラフィーまたはガ
スクロマトグラフィーにより分析した。
スクロマトグラフィーにより分析した。
実施例 １
ｐ−クレゾール４３．２ （０，４モル）をシクロヘキ
サン９０ｍ１！に溶解させる。
サン９０ｍ１！に溶解させる。
これに塩化亜鉛０，５グを加えた後Ｏ〜１０℃の温度に
保ちながら二塩化イオウ２２．６Ｐ（０，２２モル）を
約２時間かげて滴下する。
保ちながら二塩化イオウ２２．６Ｐ（０，２２モル）を
約２時間かげて滴下する。
その後同温度で２時間かきませる。沈殿全濾過し、３０
ｍ１のシクロヘキサンで洗浄した後、水洗し乾燥すると
白色の２・２−ビス（４〜メチルフエノール）スルフィ
ド（純度９７．５重量％）が得られた。
ｍ１のシクロヘキサンで洗浄した後、水洗し乾燥すると
白色の２・２−ビス（４〜メチルフエノール）スルフィ
ド（純度９７．５重量％）が得られた。
収量４２．８′？（収率８７％）。融点１１２〜１１４
℃ なおトルエンから再結晶して白色プリズム状結晶の純品
を得る。
℃ なおトルエンから再結晶して白色プリズム状結晶の純品
を得る。
融点１１６〜１１７℃。元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％
） Ｓ（％）計算値 ６８．３ ５．６９ １３
．０測定値 ６８．５ ５．７５ １３．４実施例
２ 実施例１で残った母液と洗浄液の内がら１００ｍ１をと
り、溶媒として再使用した。
） Ｓ（％）計算値 ６８．３ ５．６９ １３
．０測定値 ６８．５ ５．７５ １３．４実施例
２ 実施例１で残った母液と洗浄液の内がら１００ｍ１をと
り、溶媒として再使用した。
この溶液に新たにｐ〜クレゾール４３．２ Ｐ （０，
４モル）を溶解させ、塩化亜鉛０．５Ｐを加え、実施例
１と全く同様の操作をして、純度９７５％の２・２〜ビ
ス（４−メチルフェノール）スルフィドを得た。
４モル）を溶解させ、塩化亜鉛０．５Ｐを加え、実施例
１と全く同様の操作をして、純度９７５％の２・２〜ビ
ス（４−メチルフェノール）スルフィドを得た。
収量４５５グ（収率９２．５％）。
融点１１２〜１１４℃。
実施例 ３
４− ｔｅｒ ｔ−ブチルフェノール６（１（０，４モ
ル）および塩化第二スズ１ｔｉ？をｎ−ヘキサン８ｏｒ
ｎｌに懸濁させる。
ル）および塩化第二スズ１ｔｉ？をｎ−ヘキサン８ｏｒ
ｎｌに懸濁させる。
これに５〜１５℃の温度に保ちながら二塩化イオウ２２
．６？（０，２２モル）を約２時間かげて滴下する。
．６？（０，２２モル）を約２時間かげて滴下する。
その後同温度で３時間がきまぜる。
沈殿を濾過し、３Ｑｍｇのｎ−ヘキサンで洗浄した後、
水洗し乾燥すると白色の２・２′−ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）スルフィト（純度９８０重量％）
が得られた。
水洗し乾燥すると白色の２・２′−ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）スルフィト（純度９８０重量％）
が得られた。
収量５３．８？（収率８１．５％）。
融点９７〜９８℃。ｎ−ヘキサンから再結晶して白色プ
リズム状結晶の純品を得る。
リズム状結晶の純品を得る。
融点９９〜１ｏｏ℃。元素分析 Ｃ（％） Ｈ（％）
Ｓ（％）計算値 ７２．７ ７，８７ ９．６
９測定値 ７２．７ ７，９９ ９．５０実施例
４ 実施例３で残った母液と洗浄液の内から９０ｒｄをとり
、溶媒として再使用した。
Ｓ（％）計算値 ７２．７ ７，８７ ９．６
９測定値 ７２．７ ７，９９ ９．５０実施例
４ 実施例３で残った母液と洗浄液の内から９０ｒｄをとり
、溶媒として再使用した。
この溶液に新たに４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール６０
Ｐおよび塩化第二スズ１グを懸濁させ、実施例３と全く
同様の操作をして純度９８０％の２・グービス（４ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール）スルフィドを得た。
Ｐおよび塩化第二スズ１グを懸濁させ、実施例３と全く
同様の操作をして純度９８０％の２・グービス（４ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノール）スルフィドを得た。
収量５９．５１（収率９０％）融点９７〜９９℃。
実施例 ５
４−ｔｅｒｔ−アミルフェノール３２．８１ （０，２
モル）および塩化亜鉛０．Ｆｌをｎ−ヘキサン６５ｍ１
に懸濁させる。
モル）および塩化亜鉛０．Ｆｌをｎ−ヘキサン６５ｍ１
に懸濁させる。
これに０〜１０℃の温度に保ちながら二塩化イオウ１１
．３Ｐ （０，１１モル）を約１時間かげて滴下する。
．３Ｐ （０，１１モル）を約１時間かげて滴下する。
その後、同温度で２時間かきまぜる。
沈殿を濾過し３０ｍ１のｎ−ヘキサンで洗浄した後、水
洗し乾燥すると白色の２・２′〜ビス（４−ｔｅｒｔ−
アミルフェノール）スルフィド（純度９８．５重量％）
が得られた。
洗し乾燥すると白色の２・２′〜ビス（４−ｔｅｒｔ−
アミルフェノール）スルフィド（純度９８．５重量％）
が得られた。
収量３２．０？（収率８９．５％）融点９８〜ｉｏｏ℃
０ｎ−ヘキサンから再結晶して白色プリズム状結晶の純
品を得る。
０ｎ−ヘキサンから再結晶して白色プリズム状結晶の純
品を得る。
融点１００〜１０１℃。元素分析 Ｃ（％） ■（％）
Ｓ（％）計算値 ７３．７ ８．４３ ８．
９４測定値 ７３．４ ８，６１ ８．９６実施
例 ６ ４−α・α−ジメチルベンジルフェノール４２．４−
Ｐ （０，２モル）および無水塩化アルミニラＡ０．５
Ｐをベンゼン１５０ｍ１に溶解させる。
Ｓ（％）計算値 ７３．７ ８．４３ ８．
９４測定値 ７３．４ ８，６１ ８．９６実施
例 ６ ４−α・α−ジメチルベンジルフェノール４２．４−
Ｐ （０，２モル）および無水塩化アルミニラＡ０．５
Ｐをベンゼン１５０ｍ１に溶解させる。
これに０〜１０℃の温度に保ちながら二塩化イオウ］、
］、、３Ｐ（０，１１モル）を約１．５時間かげて滴下
する。
］、、３Ｐ（０，１１モル）を約１．５時間かげて滴下
する。
その後同温度で２時間攪拌する。空気を吹込み塩化水素
ガスを追い出した後、水蒸気蒸留によりベンゼンを留去
し、室温に放冷した。
ガスを追い出した後、水蒸気蒸留によりベンゼンを留去
し、室温に放冷した。
沈殿を濾過し、水洗、乾燥して２・／−ビス（４−α・
α−ジメチルベンジルフェノール）スルフィド（純度９
１５重量％）を得る。
α−ジメチルベンジルフェノール）スルフィド（純度９
１５重量％）を得る。
収量４４．３Ｐ（理論収量４５．４′ｉＩ）。
融点７５〜７８°Ｃ０この粗結晶４４グをｎ−ヘキサン
５ｏｍｌｌに懸濁させて室温で５分間かきまぜた後、濾
過、乾燥して、純度９８％の目的物を得た。
５ｏｍｌｌに懸濁させて室温で５分間かきまぜた後、濾
過、乾燥して、純度９８％の目的物を得た。
収量４０ｒ（収率８８％）、融点８１〜８２°Ｃ８
ｎ−ヘキサンから白色針状結晶の純品を得る。
融点８２〜８３℃。
元素分析 Ｃ（％） ■（％） ｃ（％）計算値 ７
９．３ ６，６５ ７．０５測定値 ７９．５
６．７］、 ７．２０実施例 ７ ４−シクロヘキシルフェノール３５？（０，２モル）お
よび塩化亜鉛０．５１を四塩化炭素１７０ｍ１に溶解さ
せる。
９．３ ６，６５ ７．０５測定値 ７９．５
６．７］、 ７．２０実施例 ７ ４−シクロヘキシルフェノール３５？（０，２モル）お
よび塩化亜鉛０．５１を四塩化炭素１７０ｍ１に溶解さ
せる。
これに０〜１０℃の温度に保ちながら二塩化イオウ１１
．：Ｉ （０，１１モル）を約１時間かげて滴下する。
．：Ｉ （０，１１モル）を約１時間かげて滴下する。
その後同温度で３時間かく拌する。
空気を吹き込み塩化水素ガスを追い出した後水蒸気蒸留
により四塩化炭素を留去し、室温に放冷した。
により四塩化炭素を留去し、室温に放冷した。
沈殿を濾過し、水洗、乾燥して２・／−ヒス（４−シク
ロヘキシルフェノール）スルフィド（純度９０．０重量
％）を得る。
ロヘキシルフェノール）スルフィド（純度９０．０重量
％）を得る。
収量３６．８２（理論収量３８グ）融点１１５〜１１９
℃。
℃。
この粗結晶をシクロヘキサン５０ｍ１に懸濁させて室温
で１０分間かきまぜた後、濾過、乾燥して、純度９８．
５％の目的物を得た。
で１０分間かきまぜた後、濾過、乾燥して、純度９８．
５％の目的物を得た。
収量３２グ（収率８４％）、融点１２１〜１２２℃。
シクロヘキサンから再結晶して白色針状結晶の純品を得
る。
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（１） （式中Ｒはｔｅｒｔ−オクチル基を除＜Ｃ１〜ＣＩＯの
アルキル基もしくはシクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１１の
アラルキル基を表わす）で表わされる４置換フエノール
と二塩化イオウとをルイス酸触媒の存在下に、炭化水素
溶剤中で一１０〜４０℃の温度において反応させること
を特徴とする一般式（） （式中Ｒは一般式（Ｉ）におけると同じ意味を有する）
で表わされる ２・グービス（４一置換フエノール）スルフィドの製造
法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54098054A JPS5828874B2 (ja) | 1979-08-02 | 1979-08-02 | ２，２′−ビス（４−置換フエノ−ル）スルフイドの製造法 |
| GB7931450A GB2031422B (en) | 1978-09-14 | 1979-09-11 | Preparation of 2,2'-bis(4-substituted-phenol sulfides |
| AU50788/79A AU526442B2 (en) | 1978-09-14 | 1979-09-12 | Preparation of 2,2: -bis (4-substituted phenol) sulphides |
| IT25694/79A IT1123138B (it) | 1978-09-14 | 1979-09-12 | Processo per la preparazione di 2,2'-bis(fenol 4-sostituito)solfuri |
| NLAANVRAGE7906800,A NL186632C (nl) | 1978-09-14 | 1979-09-12 | Werkwijze ter bereiding van 2,2'-bis-(4-gesubstitueerd fenol)sulfiden, alsmede een 2,2'-bis(4-gesubstitueerd fenol)sulfide. |
| FR7922784A FR2436137A1 (fr) | 1978-09-14 | 1979-09-12 | Procede de preparation de sulfures de 2,2'-bis (phenol substitue en 4) |
| DE2937294A DE2937294C2 (de) | 1978-09-14 | 1979-09-14 | Verfahren zur Herstellung von 2,2'-Thiobis-(4-hydrocarbyl)-phenolen |
| US06/288,428 US4380671A (en) | 1978-09-14 | 1981-07-30 | Process for the preparation of 2,2'-bis(4-substituted phenol)sulfides |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54098054A JPS5828874B2 (ja) | 1979-08-02 | 1979-08-02 | ２，２′−ビス（４−置換フエノ−ル）スルフイドの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5622762A JPS5622762A (en) | 1981-03-03 |
| JPS5828874B2 true JPS5828874B2 (ja) | 1983-06-18 |
Family
ID=14209535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54098054A Expired JPS5828874B2 (ja) | 1978-09-14 | 1979-08-02 | ２，２′−ビス（４−置換フエノ−ル）スルフイドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5828874B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6268179U (ja) * | 1985-10-16 | 1987-04-28 | ||
| JPS6284077U (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | ||
| JPS62143500U (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-10 | ||
| JPH0315089A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-23 | Katoo Seiko:Kk | シール及びシールシートの加工方法 |
-
1979
- 1979-08-02 JP JP54098054A patent/JPS5828874B2/ja not_active Expired
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6268179U (ja) * | 1985-10-16 | 1987-04-28 | ||
| JPS6284077U (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | ||
| JPS62143500U (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-10 | ||
| JPH0315089A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-23 | Katoo Seiko:Kk | シール及びシールシートの加工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5622762A (en) | 1981-03-03 |
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