JPS6310745A - ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents
４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6310745A JPS6310745A JP62061333A JP6133387A JPS6310745A JP S6310745 A JPS6310745 A JP S6310745A JP 62061333 A JP62061333 A JP 62061333A JP 6133387 A JP6133387 A JP 6133387A JP S6310745 A JPS6310745 A JP S6310745A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxyphenyl
- bis
- formula
- methyl
- cyclohexanecarboxylic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- ABJQIBXKMUMKTO-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical class C1CC(C(=O)O)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 ABJQIBXKMUMKTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- OWLXUYGCLDGHJJ-UHFFFAOYSA-N 4-oxocyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(=O)CC1 OWLXUYGCLDGHJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- JTGCXYYDAVPSFD-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)benzoic acid Chemical class C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 JTGCXYYDAVPSFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 cyclohexanone-4-carboxylic acid compound Chemical class 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 6
- LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N methylparaben Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NUVBSKCKDOMJSU-UHFFFAOYSA-N ethylparaben Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 NUVBSKCKDOMJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FINKSGWSBJRISB-UHFFFAOYSA-N methyl 4-hydroxy-2-methylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(O)C=C1C FINKSGWSBJRISB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLYKGTCYDJZLFB-UHFFFAOYSA-N methyl 4-oxocyclohexane-1-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCC(=O)CC1 BLYKGTCYDJZLFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- XZDYUNXFZVJOCD-UHFFFAOYSA-N methyl 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1CC(C(=O)OC)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 XZDYUNXFZVJOCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010270 methyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- BDFAOUQQXJIZDG-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-thiol Chemical compound CC(C)CS BDFAOUQQXJIZDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPHDZYSMEITSBA-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-4-methylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1CC(C)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 IPHDZYSMEITSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C(O)=O BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFOHBWFCKVYLES-UHFFFAOYSA-N Butylparaben Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 QFOHBWFCKVYLES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010228 ethyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- OUWFSFKTIKKSDM-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) cyclohexanecarboxylate Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC(=O)C1CCCCC1 OUWFSFKTIKKSDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRXDVQQBDGLLCC-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-3,5-dimethylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(C)CC(C)CC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 NRXDVQQBDGLLCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000005168 4-hydroxybenzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZTCLCSCHTACERP-AWEZNQCLSA-N N-[(1S)-1-[3-chloro-5-fluoro-2-[[2-methyl-4-(2-methyl-1,2,4-triazol-3-yl)quinolin-8-yl]oxymethyl]phenyl]ethyl]-2-(difluoromethoxy)acetamide Chemical compound C1=C(C=C(C(=C1Cl)COC1=CC=CC2=C(C=3N(N=CN=3)C)C=C(C)N=C12)[C@@H](NC(=O)COC(F)F)C)F ZTCLCSCHTACERP-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 1
- 101100323029 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) alc-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- SLUNEGLMXGHOLY-UHFFFAOYSA-N benzene;hexane Chemical compound CCCCCC.C1=CC=CC=C1 SLUNEGLMXGHOLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-M cyclohexanecarboxylate Chemical compound [O-]C(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- ZXYAWONOWHSQRU-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-oxocyclohexanecarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCC(=O)CC1 ZXYAWONOWHSQRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Chemical class 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- BXNNCZHYKRGZCJ-UHFFFAOYSA-N methyl 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)-2-methylcyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C)C(C(=O)OC)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 BXNNCZHYKRGZCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N odevixibat Chemical compound C12=CC(SC)=C(OCC(=O)N[C@@H](C(=O)N[C@@H](CC)C(O)=O)C=3C=CC(O)=CC=3)C=C2S(=O)(=O)NC(CCCC)(CCCC)CN1C1=CC=CC=C1 XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N propane-1-thiol Chemical compound CCCS SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010232 propyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 1
- QELSKZZBTMNZEB-UHFFFAOYSA-N propylparaben Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 QELSKZZBTMNZEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003415 propylparaben Drugs 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N tert-butylthiol Chemical compound CC(C)(C)S WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C57/00—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C57/46—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings and other rings, e.g. cyclohexylphenylacetic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
（式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ１及び
Ｒ２は低級アルキル基を表し、ｍ及びｎはＯ〜４の整数
を表す。）で示される４、４−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその
製造方法に関する。
Ｒ２は低級アルキル基を表し、ｍ及びｎはＯ〜４の整数
を表す。）で示される４、４−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその
製造方法に関する。
本発明の化合物は、ポリマー用□等の極めて有用である
。
。
ＣＩ−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン
、及び４−メチル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサン環に
アルキル基を持つ化合物は公知である０例えば、１．１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンは
融点１８４°Ｃを有する結晶であり、４−メチル−１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン
や３，５−ジメチル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンは、それぞれ融点１８０″Ｃ
または１７４°Ｃを有する結晶である。〔メトーデン
デルオルガニイシエン ヒイミー （Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅ＋ｓｉｃ 、
Ｖｏｌ ６ ＋ Ｎ（１２＋ １０２８） 〕〔目的及
びこれを達成するための手段）４．４−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体に
ついては、これまで全く知られていなかった化合物であ
り、本発明は、このような新規な化合物及びその製造方
法を提供することにある。
、及び４−メチル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサン環に
アルキル基を持つ化合物は公知である０例えば、１．１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンは
融点１８４°Ｃを有する結晶であり、４−メチル−１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン
や３，５−ジメチル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンは、それぞれ融点１８０″Ｃ
または１７４°Ｃを有する結晶である。〔メトーデン
デルオルガニイシエン ヒイミー （Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅ＋ｓｉｃ 、
Ｖｏｌ ６ ＋ Ｎ（１２＋ １０２８） 〕〔目的及
びこれを達成するための手段）４．４−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体に
ついては、これまで全く知られていなかった化合物であ
り、本発明は、このような新規な化合物及びその製造方
法を提供することにある。
すなわち、本発明は式（Ｉ）
（式中、Ｒ％ ＲＩ％ Ｒｇｚ ｍｓ ｎは前記の式（
■）に定義したとおりである。）で示される４、４−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボ
ン酸誘導体、及び上記式（１）化合物に相応する式（ｎ
） Ｃ式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ１は低
級アルキル基、ｍはＯ〜４の整数を表す、）で示される
シクロへキサノン−４−カルボン酸類と式（１）化合物
に相応する式（［［［）（式中、Ｒ２は低級アルキル基
であり、ｎは０〜４の整数を表す。）で示されるフェノ
ールとを反応させることにより得る製造方法に関する。
■）に定義したとおりである。）で示される４、４−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボ
ン酸誘導体、及び上記式（１）化合物に相応する式（ｎ
） Ｃ式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ１は低
級アルキル基、ｍはＯ〜４の整数を表す、）で示される
シクロへキサノン−４−カルボン酸類と式（１）化合物
に相応する式（［［［）（式中、Ｒ２は低級アルキル基
であり、ｎは０〜４の整数を表す。）で示されるフェノ
ールとを反応させることにより得る製造方法に関する。
本発明の式（［）化合物を製造する方法は、式（１１）
化合物のシクロへキサノン−４−カルボン酸類とフェノ
ールとを酸性触媒の存在下に反応させることにより得ら
れる。
化合物のシクロへキサノン−４−カルボン酸類とフェノ
ールとを酸性触媒の存在下に反応させることにより得ら
れる。
式（ＩＩＩ）化合物のフェノール類としては、フェノー
ルのほか、Ｏ−メチルフェノール、０−エチルフェノー
ル、０−プロピルフェノール、ｏ−ｔｅｒＬブチル−フ
ェノール、クレゾール、２．６−キシレノールなどが挙
げられる。
ルのほか、Ｏ−メチルフェノール、０−エチルフェノー
ル、０−プロピルフェノール、ｏ−ｔｅｒＬブチル−フ
ェノール、クレゾール、２．６−キシレノールなどが挙
げられる。
また式（ｎ）化合物のシクロへキサノン−４−カルボン
酸類は、相当する４−ヒドロキシ安息香酸類、例えば４
−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸メチル
、４−ヒドロキシ安息香酸エチル、４−ヒドロキシ安息
香酸プロピル、４−ヒドロキシ安息香酸ブチルや、２−
メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２−メチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸メチルなｋを水、酢酸、アルコール類
などの溶媒中で、担体に担持されたパラジウムなどの触
媒を用いて水素と反応させることにより得られる。
酸類は、相当する４−ヒドロキシ安息香酸類、例えば４
−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸メチル
、４−ヒドロキシ安息香酸エチル、４−ヒドロキシ安息
香酸プロピル、４−ヒドロキシ安息香酸ブチルや、２−
メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２−メチル−４−ヒ
ドロキシ安息香酸メチルなｋを水、酢酸、アルコール類
などの溶媒中で、担体に担持されたパラジウムなどの触
媒を用いて水素と反応させることにより得られる。
本発明の式（１）化合物は、これらの式（ＩＩ）化合物
と弐（ＩＩＩ）化合物のフェノールとの反応生酸物であ
り、式（［）化合物の具体例としては、４．４−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸
、及びそのメチル、エチル、プロピルまたはブチルエス
テルである４、４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロヘキサンカルボン酸エステル、４．４−ビス（３
，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サンカルボン酸メチル、４．４−ビス（３−ｔｅｒｔ、
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン
カルボン酸及び４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−２−メチルシクロヘキサンカルボン酸メチルなどを
挙げることができる。
と弐（ＩＩＩ）化合物のフェノールとの反応生酸物であ
り、式（［）化合物の具体例としては、４．４−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸
、及びそのメチル、エチル、プロピルまたはブチルエス
テルである４、４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロヘキサンカルボン酸エステル、４．４−ビス（３
，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サンカルボン酸メチル、４．４−ビス（３−ｔｅｒｔ、
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン
カルボン酸及び４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−２−メチルシクロヘキサンカルボン酸メチルなどを
挙げることができる。
式（■）化合物とフェノールとの本発明反応に使用しう
る触媒としては塩化水素ガス、塩酸、硫酸、リン酸、ト
ルエンスルホン酸、ＢＦｓ 、ＺｎＣＮ １、ＡｌＣ１
ｘ 、５ｎＣｊ！４及び移動酸性基を有する陽イオン交
換樹脂などが挙げられる。これらの触媒の使用量は式（
ｎ）のシクロヘキサノン−４−カルボン酸類１００重量
部あたり０．１〜３０重量部の範囲である。また、助触
媒の添加により反応速度を高めることも可能である。メ
チルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−プロピル
メルカプタン、イソプロとルメルカブタン、ｎ−ブチル
メルカプタン、イソブチルメルカプクン、ｔ−ブチルメ
ルカプタンの如きアルキルメルカプタン叉は高分子量ア
ルキルメルカプタンなどが活性な助触媒である。硫化水
素、チオフェノール、チオアルコール、チオ酸、重合体
チオアセトン、ジアルキルスルフィドの如き他のイオウ
化合物やこれらと類似のセレン化合物もまた用いること
ができる。
る触媒としては塩化水素ガス、塩酸、硫酸、リン酸、ト
ルエンスルホン酸、ＢＦｓ 、ＺｎＣＮ １、ＡｌＣ１
ｘ 、５ｎＣｊ！４及び移動酸性基を有する陽イオン交
換樹脂などが挙げられる。これらの触媒の使用量は式（
ｎ）のシクロヘキサノン−４−カルボン酸類１００重量
部あたり０．１〜３０重量部の範囲である。また、助触
媒の添加により反応速度を高めることも可能である。メ
チルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−プロピル
メルカプタン、イソプロとルメルカブタン、ｎ−ブチル
メルカプタン、イソブチルメルカプクン、ｔ−ブチルメ
ルカプタンの如きアルキルメルカプタン叉は高分子量ア
ルキルメルカプタンなどが活性な助触媒である。硫化水
素、チオフェノール、チオアルコール、チオ酸、重合体
チオアセトン、ジアルキルスルフィドの如き他のイオウ
化合物やこれらと類似のセレン化合物もまた用いること
ができる。
上記の反応は、芳香族炭化水素、塩素化脂肪族炭化水素
、氷酢酸などの反応に悪影響を及ぼさない溶媒を用いて
行うこともできる。゛しかしながらノー４−カルボン酸
類１重量部あたり２重量部から１０重量部が適当である
。
、氷酢酸などの反応に悪影響を及ぼさない溶媒を用いて
行うこともできる。゛しかしながらノー４−カルボン酸
類１重量部あたり２重量部から１０重量部が適当である
。
また本発明における反応温度は３０゛Ｃから１００°Ｃ
の範囲、好ましくは４０″Ｃから７０゛Ｃの範囲である
。
の範囲、好ましくは４０″Ｃから７０゛Ｃの範囲である
。
反応温度が高いと副生物が増え、収率が低下するので好
ましくない。
ましくない。
本反応によって生成した４、４−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体は、例え
ばベンゼンなどの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、
反応マスを排出し、冷却品出出した塩を濾別するか、あ
るいは減圧下で蒸留するなどの方法によって回収、再使
用することができる。
フェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体は、例え
ばベンゼンなどの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、
反応マスを排出し、冷却品出出した塩を濾別するか、あ
るいは減圧下で蒸留するなどの方法によって回収、再使
用することができる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
〔実施例−１〕
シクロへキサノン−４−カルボン酸の製造＝４−ヒドロ
キシ安患香酸を５％パラジウム−炭素触媒の存在下、イ
ソプロピルアルコール溶媒中で温度１３０〜１４０°Ｃ
１水素圧力２０〜４０ｋｇ／ｃｄ （ゲージ）で２倍モ
ルの水素と反応させる０反応混合物から触媒を濾別回収
したのち、蒸留により溶媒を回収してベンゼン−ヘキサ
ンで再結晶してシクロへキサノン−４−カルボン酸を得
た。融点６７．０〜６８．０″Ｃ０ ４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸の製造： ５００ ｄ反応フラスコにシクロヘキサノン−４−カル
ボン酸３５．５ ｇ 、フェノール２８４．Ｏｒ、 ３
６％塩酸３０ＩＩｉを加え、４０〜４５°Ｃで６時間撹
拌して反応させた０反応終了後、塩酸水をエバポレータ
で除去した０次に蒸留により大部分のフェノールを除去
したのち３００＋＋ｄのベンゼンでスラッシングして残
存するフェノールを除き、濾別、乾燥して白色結晶７４
．９ｇを得た。この結晶をカラム分取して得た精結晶は
’Ｈ−ＮＭＲとＩＨにより、４．４−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸と同定され
た。粗結晶の純度９８％、収率９４％であった。
キシ安患香酸を５％パラジウム−炭素触媒の存在下、イ
ソプロピルアルコール溶媒中で温度１３０〜１４０°Ｃ
１水素圧力２０〜４０ｋｇ／ｃｄ （ゲージ）で２倍モ
ルの水素と反応させる０反応混合物から触媒を濾別回収
したのち、蒸留により溶媒を回収してベンゼン−ヘキサ
ンで再結晶してシクロへキサノン−４−カルボン酸を得
た。融点６７．０〜６８．０″Ｃ０ ４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸の製造： ５００ ｄ反応フラスコにシクロヘキサノン−４−カル
ボン酸３５．５ ｇ 、フェノール２８４．Ｏｒ、 ３
６％塩酸３０ＩＩｉを加え、４０〜４５°Ｃで６時間撹
拌して反応させた０反応終了後、塩酸水をエバポレータ
で除去した０次に蒸留により大部分のフェノールを除去
したのち３００＋＋ｄのベンゼンでスラッシングして残
存するフェノールを除き、濾別、乾燥して白色結晶７４
．９ｇを得た。この結晶をカラム分取して得た精結晶は
’Ｈ−ＮＭＲとＩＨにより、４．４−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸と同定され
た。粗結晶の純度９８％、収率９４％であった。
４．４−ヒス（４−１＝ドロキシフエニル）−シクロヘ
キサンカルボン酸の’）Ｉ−ＮＭＲデータを表＝１に示
す、又、これの赤外スペクトルを第１１１Ｊに示した。
キサンカルボン酸の’）Ｉ−ＮＭＲデータを表＝１に示
す、又、これの赤外スペクトルを第１１１Ｊに示した。
表−１
シグナル ｐｐ＠ 帰 属ｅ
８．２ −Ｃｏｏｌｆ ８．８〜
９．４ −０１１（ン容媒 ： ＤＭＳＯ−ｄ ｈ
） 〔実施例−２〕 シクロヘキサノン−４−カルボン酸メチルの製造： ４−ヒドロキシ安息香酸メチルを５％パラジウム−炭素
触媒の存在下、イソプロピルアルコール溶媒中で温度１
７０〜１８０”Ｃ，水素圧力２０〜４０ｋｇ／ｄで２倍
モルの水素と反応させた０反応混合物から触媒を濾別回
収したのち、蒸留し、１４０”Ｃ／２０■ｌ１ｇの留分
を分取してシクロヘキサノン−４−カルボン酸メチルを
得た。
８．２ −Ｃｏｏｌｆ ８．８〜
９．４ −０１１（ン容媒 ： ＤＭＳＯ−ｄ ｈ
） 〔実施例−２〕 シクロヘキサノン−４−カルボン酸メチルの製造： ４−ヒドロキシ安息香酸メチルを５％パラジウム−炭素
触媒の存在下、イソプロピルアルコール溶媒中で温度１
７０〜１８０”Ｃ，水素圧力２０〜４０ｋｇ／ｄで２倍
モルの水素と反応させた０反応混合物から触媒を濾別回
収したのち、蒸留し、１４０”Ｃ／２０■ｌ１ｇの留分
を分取してシクロヘキサノン−４−カルボン酸メチルを
得た。
４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸メチルの製造： ３００ｄ反応フラスコにシクロへキサノン−４−カルボ
ン酸メチル６２．５ｇ 、フェノール１８７．５ｇ、
３６％塩酸２０ｍを導入し、４０〜４５°Ｃで５時間撹
拌して反応させた０反応終了後、５００ｄのベンゼン中
に排出し２０℃で１時間撹拌した。
サンカルボン酸メチルの製造： ３００ｄ反応フラスコにシクロへキサノン−４−カルボ
ン酸メチル６２．５ｇ 、フェノール１８７．５ｇ、
３６％塩酸２０ｍを導入し、４０〜４５°Ｃで５時間撹
拌して反応させた０反応終了後、５００ｄのベンゼン中
に排出し２０℃で１時間撹拌した。
結晶を濾別、乾燥後、水で洗い塩酸を除き、再び乾燥さ
せて白色結晶１１５．９ｇを得た。この結晶をカラムク
ロマトグラフィー法で分取して得た精結晶は’）Ｉ−Ｎ
ＭＲとＩＲにより、４．４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサンカルボン酸メチルと同定された
。粗結晶の純度８２％、収率６５％であり、副生物の大
部分は加水分解された４、４−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンカルボン酸であった。
せて白色結晶１１５．９ｇを得た。この結晶をカラムク
ロマトグラフィー法で分取して得た精結晶は’）Ｉ−Ｎ
ＭＲとＩＲにより、４．４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサンカルボン酸メチルと同定された
。粗結晶の純度８２％、収率６５％であり、副生物の大
部分は加水分解された４、４−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサンカルボン酸であった。
４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンカルボン酸メチルの’Ｈ−ＮＭＲデータを表−２に
示し、赤外スペクトルを第１図に示す。
サンカルボン酸メチルの’Ｈ−ＮＭＲデータを表−２に
示し、赤外スペクトルを第１図に示す。
表−２
シグナル ｐｐｍ 帰 属ｃ
３．５ Ｃ００ＣＨ！各面積はプロ
トン比に一致した。
３．５ Ｃ００ＣＨ！各面積はプロ
トン比に一致した。
（溶媒： ＤＭＳＯ−ｄ、 ）
〔実施例−３〕
実施例−２のシクロへキサノン−４−カルボン酸メチル
の製造法において、原料の４−ヒドロキシ安息香酸メチ
ルを、４−ヒドロキシ安息香酸エチルにかえたほかは同
様に操作してシクロヘキサノン−４−カルボン酸エチル
を得た（沸点１５０〜１５２℃／４０ａｓＨｇ、 ｎＤ
Ｉｓ−１，４５９４） 。
の製造法において、原料の４−ヒドロキシ安息香酸メチ
ルを、４−ヒドロキシ安息香酸エチルにかえたほかは同
様に操作してシクロヘキサノン−４−カルボン酸エチル
を得た（沸点１５０〜１５２℃／４０ａｓＨｇ、 ｎＤ
Ｉｓ−１，４５９４） 。
これを用いて、実施例−２と全く同様にしてフェノール
と反応させて白色結晶の生成物を得た。
と反応させて白色結晶の生成物を得た。
この生成物は、ＮＭＲ及び赤外スペクトルにより４．４
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカ
ルボン酸エチルであることがｌｉｉ！認された。
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカ
ルボン酸エチルであることがｌｉｉ！認された。
（実施例−４〕
シクロヘキサノン−４−カルボン酸メチル６２．５ｇ
（０，４０モル）、２．６−キシレノール２４４．３ｇ
（２，０モル）、ｎ−ブチルメルカプタン６．３ｇ、
トルエン２００−を反応フラスコに仕込、４０〜４５
℃で８時間、塩酸ガスを２〜１０ｍ／ｗｉｎの速度で吹
き込み反応させた０反応終了後、トルエン２００ｄおよ
び水１００ｄを加えて冷却し、室温で３０分スラッシン
グした。結晶を濾過し、トルエン洗浄、乾燥して１４０
゜３ｇの白色結晶を得た。精製ののちＮＭＲ及び赤外ス
ペクトルによって４．４〜ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸メ
チルであることが確認された。粗結晶の純度７２％、収
率６６％であった。
（０，４０モル）、２．６−キシレノール２４４．３ｇ
（２，０モル）、ｎ−ブチルメルカプタン６．３ｇ、
トルエン２００−を反応フラスコに仕込、４０〜４５
℃で８時間、塩酸ガスを２〜１０ｍ／ｗｉｎの速度で吹
き込み反応させた０反応終了後、トルエン２００ｄおよ
び水１００ｄを加えて冷却し、室温で３０分スラッシン
グした。結晶を濾過し、トルエン洗浄、乾燥して１４０
゜３ｇの白色結晶を得た。精製ののちＮＭＲ及び赤外ス
ペクトルによって４．４〜ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸メ
チルであることが確認された。粗結晶の純度７２％、収
率６６％であった。
〔実施例−５〕
シクロへキサノン−４−カルボン酸５６．９ｇ（０，４
０モル）、ｏｔｅｒｔ−ブチルフェノール４８０．７ｇ
（３，２モル）、ｎ−ブチルメルカプタン５．７ｇを反
応フラスコに仕込み６０℃で６時間、塩酸ガスを２〜１
０Ｉ１１／５ｈｉｎの速度で吹き込み反応させた。
０モル）、ｏｔｅｒｔ−ブチルフェノール４８０．７ｇ
（３，２モル）、ｎ−ブチルメルカプタン５．７ｇを反
応フラスコに仕込み６０℃で６時間、塩酸ガスを２〜１
０Ｉ１１／５ｈｉｎの速度で吹き込み反応させた。
反応終了後５００−のトルエンと２００ｍｆの水の二層
に分離した混合液に排出し、室温で３０分スラッシング
した。結晶を１１遇し、トルエン洗浄、乾燥して１５９
．１ｇの白色結晶を得た。精製ののちＮＭＲ及び赤外ス
ペクトルによって４．４−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン
酸であることがｉ１！認された。粗結晶の純度９５％、
収率８９％であった。
に分離した混合液に排出し、室温で３０分スラッシング
した。結晶を１１遇し、トルエン洗浄、乾燥して１５９
．１ｇの白色結晶を得た。精製ののちＮＭＲ及び赤外ス
ペクトルによって４．４−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン
酸であることがｉ１！認された。粗結晶の純度９５％、
収率８９％であった。
〔実施例−６〕
３−メチルシクロヘキサノン−４−カルボン酸メチルの
製造： ２−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸を硫酸触媒の存在
下、メタノール中で加熱してそのメチルエステルとした
。この２−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸メチルを５
％パラジウム−炭素の存在下、イソプロピルアルコール
溶媒中で温度１５０〜１７０°Ｃ１水素圧力２０〜４０
ｋｇ／ｃｄで２倍モルの水素と反応させた０反応混合物
から触媒を濾別回収したのち、講習し、１１２〜１２０
℃１５ｍｍＨｇの留分を分取して３−メチルシクロヘキ
サノン−４−カルボン酸メチルをえた。
製造： ２−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸を硫酸触媒の存在
下、メタノール中で加熱してそのメチルエステルとした
。この２−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸メチルを５
％パラジウム−炭素の存在下、イソプロピルアルコール
溶媒中で温度１５０〜１７０°Ｃ１水素圧力２０〜４０
ｋｇ／ｃｄで２倍モルの水素と反応させた０反応混合物
から触媒を濾別回収したのち、講習し、１１２〜１２０
℃１５ｍｍＨｇの留分を分取して３−メチルシクロヘキ
サノン−４−カルボン酸メチルをえた。
４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル
シクロヘキサンカルボン酸の製造＝３００ ｍ反応フラ
スコに３−メチルシクロヘキサノン−４−カルボン酸メ
チル６８．１ｇ 、フェノール１８７．５ｇ、 ３６％
塩酸２０ａｄを加え、４０〜４５℃で６時間撹拌して反
応させた０反応終了後、実施例−２と同様の処理を行い
白色結晶１２２．２ｇを得た。
シクロヘキサンカルボン酸の製造＝３００ ｍ反応フラ
スコに３−メチルシクロヘキサノン−４−カルボン酸メ
チル６８．１ｇ 、フェノール１８７．５ｇ、 ３６％
塩酸２０ａｄを加え、４０〜４５℃で６時間撹拌して反
応させた０反応終了後、実施例−２と同様の処理を行い
白色結晶１２２．２ｇを得た。
精製ののち、ＮＭＲ及び赤外スペクトルによって４．４
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルシクロ
ヘキサンカルボン酸メチルであることが確認された。粗
結晶の純度７６％、収率６３％であった。
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルシクロ
ヘキサンカルボン酸メチルであることが確認された。粗
結晶の純度７６％、収率６３％であった。
第１図は実施例−１で得られた４、４−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸の赤外ス
ペクトル。 第２図は実施例−２で得られた４、４−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸メチルの
赤外スペクトルである。
ロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸の赤外ス
ペクトル。 第２図は実施例−２で得られた４、４−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸メチルの
赤外スペクトルである。
Claims (2)
- （１）式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ＿１及
びＲ＿２は低級アルキル基を表し、ｍ及びｎは０〜４の
整数を表す。）で示される４，４−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体。 - （２）式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ＿１及
びＲ＿２は低級アルキル基を表し、ｍ及びｎは０〜４の
整数を表す。）で示される４，４−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体を、式
（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ、Ｒ＿１及びｍは式（ I ）において定義し
たとおりである。）で示されるシクロヘキサノン−４−
カルボン酸類と式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＿２及びｎは式（ I ）において定義したと
おりである。）で示されるフェノールとを酸性触媒の存
在下反応させて得る４，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-58405 | 1986-03-18 | ||
| JP5840586 | 1986-03-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6310745A true JPS6310745A (ja) | 1988-01-18 |
| JPH0692341B2 JPH0692341B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=13083451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62061333A Expired - Fee Related JPH0692341B2 (ja) | 1986-03-18 | 1987-03-18 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4755616A (ja) |
| EP (1) | EP0238305B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0692341B2 (ja) |
| KR (1) | KR890005300B1 (ja) |
| CA (1) | CA1267154A (ja) |
| DE (1) | DE3762849D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4755617A (en) * | 1986-04-04 | 1988-07-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Process for the preparation of 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxyl acid |
| US7635778B2 (en) | 2004-12-17 | 2009-12-22 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Composition, method of authenticating, methods of making authenticatable compositions, authenticatable articles made there from |
| KR20080073718A (ko) | 2005-10-28 | 2008-08-11 | 제네럴 일렉트릭 컴퍼니 | 중합체, 중합체 조성물 및 제조 방법 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB390556A (en) * | 1931-11-03 | 1933-04-13 | Ig Farbenindustrie Ag | The manufacture of nitro compounds of the diphenyl series |
| US4537704A (en) * | 1983-12-21 | 1985-08-27 | International Flavors & Fragrances Inc. | Alkyl substituted and unsubstituted para-carboalkoxy cyclohexanones and organoleptic uses thereof |
-
1987
- 1987-03-12 US US07/024,967 patent/US4755616A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-16 CA CA000532153A patent/CA1267154A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-17 EP EP87302268A patent/EP0238305B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-17 DE DE8787302268T patent/DE3762849D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-18 JP JP62061333A patent/JPH0692341B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-18 KR KR1019870002436A patent/KR890005300B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-10-23 US US07/111,648 patent/US4814488A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0238305B1 (en) | 1990-05-23 |
| KR890005300B1 (ko) | 1989-12-20 |
| EP0238305A1 (en) | 1987-09-23 |
| CA1267154A (en) | 1990-03-27 |
| KR870008828A (ko) | 1987-10-21 |
| JPH0692341B2 (ja) | 1994-11-16 |
| US4814488A (en) | 1989-03-21 |
| DE3762849D1 (de) | 1990-06-28 |
| US4755616A (en) | 1988-07-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4588407B2 (ja) | 環式ジスルホン酸エステルの製造方法 | |
| JP4057704B2 (ja) | ９，９−ビス（アルキル置換−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン類とその製造方法 | |
| JPH1045655A (ja) | フルオレン誘導体の製造方法 | |
| JPS6322540A (ja) | ４−ハイドロキシフエニル４−ハイドロキシベンゾエ−トの製法 | |
| JPS6310745A (ja) | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法 | |
| JPH1045656A (ja) | フルオレン誘導体の製造法 | |
| JP3161669B2 (ja) | トリメリット酸エステル無水物類の製造方法 | |
| JPH0825935B2 (ja) | １，３−ジヒドロキシ−４，６−ビス〔α−メチル−α−（４’−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼンおよびその製造方法 | |
| JP2583241B2 (ja) | ３，３−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法 | |
| JP2636042B2 (ja) | ４，４▲′′′▼―ジヒドロキシクォーターフェニル誘導体およびその製造方法 | |
| JPH035449A (ja) | シアン化アシルの合成方法 | |
| JP3962531B2 (ja) | １，３−ジ（２−ｐ−ヒドロキシフェニル−２−プロピル）ベンゼンの製造方法 | |
| JPWO2002022533A1 (ja) | １，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンの製造方法 | |
| JPS5828874B2 (ja) | ２，２′−ビス（４−置換フエノ−ル）スルフイドの製造法 | |
| JP4077887B2 (ja) | ２，２−ビス（ヒドロキシアリール）プロピオン酸類の製造方法 | |
| JPS62242644A (ja) | アルキルフエノ−ル類の酸化方法 | |
| JP2515354B2 (ja) | ３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサノ―ルの製造方法 | |
| JPH08119939A (ja) | 高純度エーテル型ビスマレイミドの製造方法 | |
| JPS5842866B2 (ja) | ２，２′↓−ビス〔４↓−（１，１，３，３↓−テトラメチルブチル）フェノ−ル〕スルフィドの製造法 | |
| JP2649722B2 (ja) | ４，４’‐（１―フェニルエチリデン）ビスフェノールの製造方法 | |
| JPS6341433A (ja) | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 | |
| JP4388839B2 (ja) | ４，４’’’−ジアルコキシ−ｐ−クォーターフェニル類及びその製造方法 | |
| JPH0453860B2 (ja) | ||
| JP6234367B2 (ja) | ９，９−ビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）フルオレン類の製造方法 | |
| JPS61282388A (ja) | 有機環状りん化合物およびその製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |