JPH0692341B2 - 4,4−ビス(4−ヒドロキシフエニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents
4,4−ビス(4−ヒドロキシフエニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- ABJQIBXKMUMKTO-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical class C1CC(C(=O)O)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 ABJQIBXKMUMKTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 11
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000005379 cyclohexanecarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- OWLXUYGCLDGHJJ-UHFFFAOYSA-N 4-oxocyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(=O)CC1 OWLXUYGCLDGHJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 8
- -1 4,4-bis (3,5-dimethyl-4 -Hydroxyphenyl) cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N methylparaben Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- BLYKGTCYDJZLFB-UHFFFAOYSA-N methyl 4-oxocyclohexane-1-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCC(=O)CC1 BLYKGTCYDJZLFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NUVBSKCKDOMJSU-UHFFFAOYSA-N ethylparaben Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 NUVBSKCKDOMJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XZDYUNXFZVJOCD-UHFFFAOYSA-N methyl 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1CC(C(=O)OC)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 XZDYUNXFZVJOCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 235000010270 methyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- BDFAOUQQXJIZDG-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-thiol Chemical compound CC(C)CS BDFAOUQQXJIZDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPHDZYSMEITSBA-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-4-methylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1CC(C)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 IPHDZYSMEITSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C(O)=O BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 2
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFOHBWFCKVYLES-UHFFFAOYSA-N Butylparaben Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 QFOHBWFCKVYLES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000010228 ethyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- FINKSGWSBJRISB-UHFFFAOYSA-N methyl 4-hydroxy-2-methylbenzoate Chemical class COC(=O)C1=CC=C(O)C=C1C FINKSGWSBJRISB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQWPRMPSCMSAJU-UHFFFAOYSA-N methyl cyclohexanecarboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCCCC1 ZQWPRMPSCMSAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJRCEJOSASVSRA-UHFFFAOYSA-N propane-2-thiol Chemical compound CC(C)S KJRCEJOSASVSRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- OUWFSFKTIKKSDM-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) cyclohexanecarboxylate Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC(=O)C1CCCCC1 OUWFSFKTIKKSDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYXOCJXPGUREQF-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(C2(CCC(CC2)C(O)=O)C=2C=C(C(O)=CC=2)C(C)(C)C)=C1 PYXOCJXPGUREQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTGCXYYDAVPSFD-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)benzoic acid Chemical class C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 JTGCXYYDAVPSFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRXDVQQBDGLLCC-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-3,5-dimethylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(C)CC(C)CC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 NRXDVQQBDGLLCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005168 4-hydroxybenzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTCLCSCHTACERP-AWEZNQCLSA-N N-[(1S)-1-[3-chloro-5-fluoro-2-[[2-methyl-4-(2-methyl-1,2,4-triazol-3-yl)quinolin-8-yl]oxymethyl]phenyl]ethyl]-2-(difluoromethoxy)acetamide Chemical compound C1=C(C=C(C(=C1Cl)COC1=CC=CC2=C(C=3N(N=CN=3)C)C=C(C)N=C12)[C@@H](NC(=O)COC(F)F)C)F ZTCLCSCHTACERP-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- SLUNEGLMXGHOLY-UHFFFAOYSA-N benzene;hexane Chemical compound CCCCCC.C1=CC=CC=C1 SLUNEGLMXGHOLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane carboxylic acid Natural products OC(=O)C1CCCCCC1 VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- MHWSGEKTWMABIG-UHFFFAOYSA-N ethyl 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1CC(C(=O)OCC)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 MHWSGEKTWMABIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJOYCHKVKWDMEA-UHFFFAOYSA-N ethyl cyclohexanecarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCCCC1 JJOYCHKVKWDMEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Chemical class 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- SHFHIIIQSRLAET-UHFFFAOYSA-N methyl 4,4-bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1CC(C(=O)OC)CCC1(C=1C=C(C)C(O)=C(C)C=1)C1=CC(C)=C(O)C(C)=C1 SHFHIIIQSRLAET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXNNCZHYKRGZCJ-UHFFFAOYSA-N methyl 4,4-bis(4-hydroxyphenyl)-2-methylcyclohexane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C)C(C(=O)OC)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 BXNNCZHYKRGZCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N odevixibat Chemical compound C12=CC(SC)=C(OCC(=O)N[C@@H](C(=O)N[C@@H](CC)C(O)=O)C=3C=CC(O)=CC=3)C=C2S(=O)(=O)NC(CCCC)(CCCC)CN1C1=CC=CC=C1 XULSCZPZVQIMFM-IPZQJPLYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N propane-1-thiol Chemical compound CCCS SUVIGLJNEAMWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010232 propyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 1
- QELSKZZBTMNZEB-UHFFFAOYSA-N propylparaben Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 QELSKZZBTMNZEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003415 propylparaben Drugs 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N tert-butylthiol Chemical compound CC(C)(C)S WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTNXQVCPQMQLHK-UHFFFAOYSA-N thioacetone Chemical compound CC(C)=S JTNXQVCPQMQLHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C57/00—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C57/46—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings and other rings, e.g. cyclohexylphenylacetic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は式(I) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1及びR2
は低級アルキル基を表し、m及びnは0〜4の整数を表
す。)で示される4,4−ビス(4−ヒドロキシェニル)
−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法
に関する。
は低級アルキル基を表し、m及びnは0〜4の整数を表
す。)で示される4,4−ビス(4−ヒドロキシェニル)
−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法
に関する。
本発明の化合物は、ポリマー用等の極めて有用なモノマ
ーである4−ヒドロキシビフェニル−4′−カルボン酸
類の前駆物質として有用な新規化合物である。
ーである4−ヒドロキシビフェニル−4′−カルボン酸
類の前駆物質として有用な新規化合物である。
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、及び4−メチル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサン環に
アルキル基を持つ化合物は公知である。例えば、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンは融
点184℃を有する結晶であり、4−メチル−1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン及び3,5
−ジメチル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
シクロヘキサンは、それぞれ融点180℃及び174℃を有す
る結晶である。〔メト−デン デルオルガニイシエン
ヒイミ− (Methoden derorganishen Chemic,Vol6,No.
2,1028)〕 〔目的及びこれを達成するための手段〕 4,4−ビス(4−ヒドロキキシフェニル)−シクロヘキ
サンカルボン酸誘導体については、これまで全く知られ
ていなかった化合物であり、本発明は、このような新規
な化合物及びその製造方法を提供することにある。
ン、及び4−メチル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサン環に
アルキル基を持つ化合物は公知である。例えば、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンは融
点184℃を有する結晶であり、4−メチル−1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン及び3,5
−ジメチル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
シクロヘキサンは、それぞれ融点180℃及び174℃を有す
る結晶である。〔メト−デン デルオルガニイシエン
ヒイミ− (Methoden derorganishen Chemic,Vol6,No.
2,1028)〕 〔目的及びこれを達成するための手段〕 4,4−ビス(4−ヒドロキキシフェニル)−シクロヘキ
サンカルボン酸誘導体については、これまで全く知られ
ていなかった化合物であり、本発明は、このような新規
な化合物及びその製造方法を提供することにある。
すなわち、本発明は式(I) (式中、R、R1、R2、m、nは前記の式(I)に定義し
たとおりである。)で示される4,4−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体、及
び上記式(II)化合物に相応する式(II) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1は低級
アルキル基、mは0〜4の整数を表す。)で示されるシ
クロヘキサノン−4−カルボン酸類と式(I)化合物に
相応する式(III) (式中、R2は低級アルキル基であり、nは0〜4の整数
を示す。)で示されるフェノール類とを反応させること
により式(I)化合物を得る製造方法に関する。
たとおりである。)で示される4,4−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体、及
び上記式(II)化合物に相応する式(II) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1は低級
アルキル基、mは0〜4の整数を表す。)で示されるシ
クロヘキサノン−4−カルボン酸類と式(I)化合物に
相応する式(III) (式中、R2は低級アルキル基であり、nは0〜4の整数
を示す。)で示されるフェノール類とを反応させること
により式(I)化合物を得る製造方法に関する。
本発明の式(I)化合物を製造する方法は、式(II)化
合物のシクロヘキサノン−4−カルボン酸類とフェノー
ル類とを酸性触媒の存在下に反応させることにより得ら
れる。
合物のシクロヘキサノン−4−カルボン酸類とフェノー
ル類とを酸性触媒の存在下に反応させることにより得ら
れる。
式(III)化合物のフェノール類としては、フェノール
のほか、o−メチルフェノール、o−エチルフェノー
ル、o−プロピルフェノール、o−tertブチル−フェノ
ール、クレゾール、2,6−キシレノールなどが挙げられ
る。
のほか、o−メチルフェノール、o−エチルフェノー
ル、o−プロピルフェノール、o−tertブチル−フェノ
ール、クレゾール、2,6−キシレノールなどが挙げられ
る。
また式(II)化合物のシクロヘキサノン−4−カルボン
酸類は、相当する4−ヒドロキシ安息香酸類、例えば4
−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香酸メチ
ル、4−ヒドロキシ安息香酸エチル、4−ヒドロキシ安
息香酸プロピル、、4−ヒドロキシ安息香酸ブチルや、
2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4
−ヒドロキシ安息香酸メチルなどを水、酢酸、アルコー
ル類などの溶媒中で、担体に担持されたパラジウムなど
の触媒を用いて水素と反応させることにより得られる。
酸類は、相当する4−ヒドロキシ安息香酸類、例えば4
−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香酸メチ
ル、4−ヒドロキシ安息香酸エチル、4−ヒドロキシ安
息香酸プロピル、、4−ヒドロキシ安息香酸ブチルや、
2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4
−ヒドロキシ安息香酸メチルなどを水、酢酸、アルコー
ル類などの溶媒中で、担体に担持されたパラジウムなど
の触媒を用いて水素と反応させることにより得られる。
本発明の式(I)化合物は、これらの式(II)化合物と
式(III)化合物のフェノールとの反応生成物であり、
式(I)化合物の具体例としては、4,4−ビス(4−ヒ
ドロキシフェル)−シクロヘキサンカルボン酸、及びそ
のメチル、エチル、プロピルまたはブチルエステルであ
る4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキ
サカルボン酸エステル、4,4−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンカルボン酸メチ
ル、4,4−ビス(3−tert.−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−シクロヘキサンカルボン酸及び4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキサ
ンカルボン酸メチルなどを挙げることができる。
式(III)化合物のフェノールとの反応生成物であり、
式(I)化合物の具体例としては、4,4−ビス(4−ヒ
ドロキシフェル)−シクロヘキサンカルボン酸、及びそ
のメチル、エチル、プロピルまたはブチルエステルであ
る4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキ
サカルボン酸エステル、4,4−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンカルボン酸メチ
ル、4,4−ビス(3−tert.−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−シクロヘキサンカルボン酸及び4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキサ
ンカルボン酸メチルなどを挙げることができる。
式(II)化合物とフェノール類との本発明反応に使用し
うる触媒としては塩化水素ガス、塩酸、硫酸、リン酸、
トルエンスルホン酸、BF3、ZnCl2、AlCl3、SnCl4及び移
動酸性基を有する陽イオン交換樹脂などが挙げられる。
これらの触媒の使用量は式(II)のシクロヘキサノン−
4−カルボン酸類100重量部あたり0.1〜30重量部の範囲
である。また、助触媒の添加により反応速度を高めるこ
とも可能である。メチルメルカプタン、エチルメルカプ
タン、n−プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカ
プタン、n−ブチルメルカプタン、イソブチルメルカプ
タン、t−ブチルメルカプタンの如きアルキルメルカプ
タン叉は高分子量アルキルメルカプタンなどが活性な助
触媒である。硫化水素、チオフェノール、チオアルコー
ル、チオ酸、重合体チオアセトン、ジアルキルスルフィ
ドの如き他のイオウ化合物やこれらと類似のセレン化合
物もまた用いることができる。
うる触媒としては塩化水素ガス、塩酸、硫酸、リン酸、
トルエンスルホン酸、BF3、ZnCl2、AlCl3、SnCl4及び移
動酸性基を有する陽イオン交換樹脂などが挙げられる。
これらの触媒の使用量は式(II)のシクロヘキサノン−
4−カルボン酸類100重量部あたり0.1〜30重量部の範囲
である。また、助触媒の添加により反応速度を高めるこ
とも可能である。メチルメルカプタン、エチルメルカプ
タン、n−プロピルメルカプタン、イソプロピルメルカ
プタン、n−ブチルメルカプタン、イソブチルメルカプ
タン、t−ブチルメルカプタンの如きアルキルメルカプ
タン叉は高分子量アルキルメルカプタンなどが活性な助
触媒である。硫化水素、チオフェノール、チオアルコー
ル、チオ酸、重合体チオアセトン、ジアルキルスルフィ
ドの如き他のイオウ化合物やこれらと類似のセレン化合
物もまた用いることができる。
上記の反応は、芳香族炭化水素、塩素化脂肪族炭化水
素、氷酢酸などの反応に悪影響を及ぼさない溶媒を用い
て行うこともできる。しかしながら、生成物の収量を高
め、かつ副反応を最少にするには過剰量のフェノール類
を溶媒とするのが望ましい。使用するフェノール類の量
は、シクノヘキサノン−4−カルボン酸類1重量部あた
り2重量部から10重量部が適当である。
素、氷酢酸などの反応に悪影響を及ぼさない溶媒を用い
て行うこともできる。しかしながら、生成物の収量を高
め、かつ副反応を最少にするには過剰量のフェノール類
を溶媒とするのが望ましい。使用するフェノール類の量
は、シクノヘキサノン−4−カルボン酸類1重量部あた
り2重量部から10重量部が適当である。
また本発明における反応温度は30℃から100℃の範囲、
好ましくは40℃から40℃の範囲である。反応温度が高い
と副生物が増え、収率が低下する傾向にある。
好ましくは40℃から40℃の範囲である。反応温度が高い
と副生物が増え、収率が低下する傾向にある。
本反応によって生成した4,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体は、例えば
ベンゼンなどの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、応
マスを排出し、冷却晶出させることによって取り出すこ
とができる。
ェニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体は、例えば
ベンゼンなどの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、応
マスを排出し、冷却晶出させることによって取り出すこ
とができる。
また過剰使用したフェノール類は、中和して晶出した塩
を濾別するか、あるいは減圧下で蒸留するなどの方法に
よって回収、再使用することができる。
を濾別するか、あるいは減圧下で蒸留するなどの方法に
よって回収、再使用することができる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
〔実施例−1〕 シクロヘキサノン−4−カルボン酸の製造: 4−ヒドロキシ安息香酸を5%パラジウム−炭素触媒の
存在下、イソプロピルアルコール溶媒中で温度130〜140
℃、水素圧力20〜40kg/cm2(ゲージ)で2倍モルの水素
と反応させる。反応混合物から触媒を濾別回収したの
ち、蒸留により溶媒を回収してベンゼン−ヘキサンで再
結晶してシクロヘキサノン−4−カルボン酸を得た。こ
のものの融点は67.0〜68.0℃であった。
存在下、イソプロピルアルコール溶媒中で温度130〜140
℃、水素圧力20〜40kg/cm2(ゲージ)で2倍モルの水素
と反応させる。反応混合物から触媒を濾別回収したの
ち、蒸留により溶媒を回収してベンゼン−ヘキサンで再
結晶してシクロヘキサノン−4−カルボン酸を得た。こ
のものの融点は67.0〜68.0℃であった。
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸の製造: 500ml反応フラスコにシクロヘキサノン−4−カルボン
酸35.5g、フェノール284.0g、36%塩酸30mlを加え、40
〜45℃で6時間攪拌して反応させた。反応終了後、塩酸
水をエバポレータで除去した。次に蒸留により大部分の
フェノールを除去したのち300mlのベンゼンでスラッジ
ングして残存するフェノールを除き、濾別、乾燥して白
色結晶74.9gを得た。この結晶をカラム分取して得た精
結晶は1H−NMRとIRにより、4,4−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−シクロヘキサンカルボン酸と同定された。
粗結晶の純度98%、収率94%であった。
ンカルボン酸の製造: 500ml反応フラスコにシクロヘキサノン−4−カルボン
酸35.5g、フェノール284.0g、36%塩酸30mlを加え、40
〜45℃で6時間攪拌して反応させた。反応終了後、塩酸
水をエバポレータで除去した。次に蒸留により大部分の
フェノールを除去したのち300mlのベンゼンでスラッジ
ングして残存するフェノールを除き、濾別、乾燥して白
色結晶74.9gを得た。この結晶をカラム分取して得た精
結晶は1H−NMRとIRにより、4,4−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−シクロヘキサンカルボン酸と同定された。
粗結晶の純度98%、収率94%であった。
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸の1H−NMRデータを表−1に示す。又、こ
れの赤外スペクトルを第1図に示した。
ンカルボン酸の1H−NMRデータを表−1に示す。又、こ
れの赤外スペクトルを第1図に示した。
(溶媒:DMSO-d6) 〔実施例−2〕 シクロヘキサノン−4−カルボン酸メチルの製造: 4−ヒドロキシ安息香酸メチルを5%パラジウム−炭素
触媒の存在下、イソプロピルアルコール溶媒中で温度17
0〜180℃、水素圧力20〜40kg/cm2で2倍モルの水素と反
応させた。反応混合物から触媒を濾別回収したのち、蒸
留し、140℃/20mmHgの留分を分取してシクロヘキサノン
−4−カルボン酸メチルを得た。
触媒の存在下、イソプロピルアルコール溶媒中で温度17
0〜180℃、水素圧力20〜40kg/cm2で2倍モルの水素と反
応させた。反応混合物から触媒を濾別回収したのち、蒸
留し、140℃/20mmHgの留分を分取してシクロヘキサノン
−4−カルボン酸メチルを得た。
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸メチルの製造: 300ml反応フラスコにシクロヘキサノン−4−カルボン
酸メチル62.5g、フェノール187.5g、36%塩酸20mlを導
入し、40〜45℃で5時間攪拌して反応させた。反応終了
後、500mlのベンゼン中に排出し20℃で1時間攪拌し
た。
ンカルボン酸メチルの製造: 300ml反応フラスコにシクロヘキサノン−4−カルボン
酸メチル62.5g、フェノール187.5g、36%塩酸20mlを導
入し、40〜45℃で5時間攪拌して反応させた。反応終了
後、500mlのベンゼン中に排出し20℃で1時間攪拌し
た。
結晶を濾別、乾燥後、水で洗い塩酸を除き、再び乾燥さ
せて白色結晶115.9gを得た。この結晶をカラムクロマト
グラフィー法で分取して得た精結晶は1H-NMRとIRによ
り、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘ
キサンカルボン酸メチルと同定された。粗結晶の純度82
%、収率65%であり、副生物の大部分は加水分解された
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸であった。
せて白色結晶115.9gを得た。この結晶をカラムクロマト
グラフィー法で分取して得た精結晶は1H-NMRとIRによ
り、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘ
キサンカルボン酸メチルと同定された。粗結晶の純度82
%、収率65%であり、副生物の大部分は加水分解された
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸であった。
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸メチルの1H-NMRデータを表−2に示し、赤
外スペクトルを第1図に示す。
ンカルボン酸メチルの1H-NMRデータを表−2に示し、赤
外スペクトルを第1図に示す。
(溶媒:DMSO-d6) 〔実施例−3〕 シクロヘキサン−4−カルボン酸エチルの製造: 実施例−2のシクロヘキサノン−4−カルボン酸メチル
の製造法において、原料の4−ヒドロキシ安息香酸メチ
ルを、4−ヒドロキシ安息香酸エチルにかえたほかは同
様に操作してシクロヘキサン−4−カルボン酸エチルを
得た(沸点150〜152℃/40mmHg、nD25=1.4594)。
の製造法において、原料の4−ヒドロキシ安息香酸メチ
ルを、4−ヒドロキシ安息香酸エチルにかえたほかは同
様に操作してシクロヘキサン−4−カルボン酸エチルを
得た(沸点150〜152℃/40mmHg、nD25=1.4594)。
4.4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ンカルボン酸エチルの製造: これを用いて、実施例−2と全く同様にしてフェノール
と反応させて白色結晶の生成物を得た。
ンカルボン酸エチルの製造: これを用いて、実施例−2と全く同様にしてフェノール
と反応させて白色結晶の生成物を得た。
この生成物は、NMR及び赤外スペクトルにより4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンカルボン
酸エチルであることが確認された。
(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンカルボン
酸エチルであることが確認された。
〔実施例−4〕 4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
−シクロヘキサンカルボン酸メチルの製造: シクロヘキサノン−4−カルボン酸メチル62.5g(0.40
モル)、2,6−キシレノール244.3g(2.0モル)、n−ブ
チルメルカプタン6.3g、トルエン200mlを反応フラスコ
に仕込、40〜45℃で8時間、塩酸ガスを2〜10ml/minの
速度で吹き込み反応させた。反応終了後、トルエン200m
lおよび水100mlを加えて冷却し、室温で30分スラッジン
グした。結晶を濾過し、トルエン洗浄、乾燥して140.3g
の白色結晶を得た。精製ののちNMR及び赤外スペクトル
によって4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−シクロヘキサンカルボン酸メチルであること
が確認された。粗結晶の純度72%、収率66%であった。
−シクロヘキサンカルボン酸メチルの製造: シクロヘキサノン−4−カルボン酸メチル62.5g(0.40
モル)、2,6−キシレノール244.3g(2.0モル)、n−ブ
チルメルカプタン6.3g、トルエン200mlを反応フラスコ
に仕込、40〜45℃で8時間、塩酸ガスを2〜10ml/minの
速度で吹き込み反応させた。反応終了後、トルエン200m
lおよび水100mlを加えて冷却し、室温で30分スラッジン
グした。結晶を濾過し、トルエン洗浄、乾燥して140.3g
の白色結晶を得た。精製ののちNMR及び赤外スペクトル
によって4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−シクロヘキサンカルボン酸メチルであること
が確認された。粗結晶の純度72%、収率66%であった。
〔実施例−5〕 4,4−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−シクロヘキサンカルボン酸の製造: シクロヘキサノン−4−カルボン酸56.9g(0.40モ
ル)、o−tert−ブチルフェノール480.7g(3.2モ
ル)、n−ブチルメルカプタン5.7gを反応フラスコに仕
込み60℃で6時間、塩酸ガスを2〜10ml/minの速度で吹
き込み反応させた。
ル)−シクロヘキサンカルボン酸の製造: シクロヘキサノン−4−カルボン酸56.9g(0.40モ
ル)、o−tert−ブチルフェノール480.7g(3.2モ
ル)、n−ブチルメルカプタン5.7gを反応フラスコに仕
込み60℃で6時間、塩酸ガスを2〜10ml/minの速度で吹
き込み反応させた。
反応終了後500mlのトルエンと200mlの水の二層に分離し
た混合液に排出し、室温で30分スラッジングした。結晶
を濾過し、、トルエン洗浄、乾燥して159.1gの白色結晶
を得た。精製ののちNMR及び赤外スペクトルによって4,4
−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−シクロヘキサンカルボン酸であることが確認された。
粗結晶の純度95%、収率89%であった。
た混合液に排出し、室温で30分スラッジングした。結晶
を濾過し、、トルエン洗浄、乾燥して159.1gの白色結晶
を得た。精製ののちNMR及び赤外スペクトルによって4,4
−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−シクロヘキサンカルボン酸であることが確認された。
粗結晶の純度95%、収率89%であった。
〔実施例−6〕 3−メチルシクロヘキサノン−4−カルボン酸メチルの
製造: 2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸を硫酸触媒の存在
下、メタノール中で加熱してそのメチルエステルとし
た。この2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸メチルを
5%パラジウム−炭素の存在下、イソプロピルアルコー
ル溶媒中で温度150〜170℃、水素圧20〜40kg/cm2で2倍
モルの水素と反応させた。反応混合物から触媒を濾別回
収したのち、蒸留し、112〜120℃/5mmHgの留分を分取し
て33−メチルシクロヘキサノン−4−カルボン酸メチル
をえた。
製造: 2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸を硫酸触媒の存在
下、メタノール中で加熱してそのメチルエステルとし
た。この2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸メチルを
5%パラジウム−炭素の存在下、イソプロピルアルコー
ル溶媒中で温度150〜170℃、水素圧20〜40kg/cm2で2倍
モルの水素と反応させた。反応混合物から触媒を濾別回
収したのち、蒸留し、112〜120℃/5mmHgの留分を分取し
て33−メチルシクロヘキサノン−4−カルボン酸メチル
をえた。
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシ
クロヘキサンカルボン酸の製造: 300ml反応フラスコに3−メチルシクロヘキサノン−4
−カルボン酸メチル68.1g、フェノール187.5g、36%塩
酸20mlを加え、40〜45℃で6時間攪拌して反応させた。
反応終了後、実施例−2と同様の処理を行い白色結晶12
2.2gを得た。
クロヘキサンカルボン酸の製造: 300ml反応フラスコに3−メチルシクロヘキサノン−4
−カルボン酸メチル68.1g、フェノール187.5g、36%塩
酸20mlを加え、40〜45℃で6時間攪拌して反応させた。
反応終了後、実施例−2と同様の処理を行い白色結晶12
2.2gを得た。
精製ののち、NMR及び赤外スペクトルによって4,4−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキサ
ンカルボン酸メチルであることが確認された。粗結晶の
純度76%、収率63%であった。
(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルシクロヘキサ
ンカルボン酸メチルであることが確認された。粗結晶の
純度76%、収率63%であった。
第1図は実施例−1で得られた4,4−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−シクロヘキサンカルボン酸の赤外スペ
クトル。 第2図は実施例−2で得られた4,4−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−シクロヘキサンカルボン酸メチルの赤
外スペクトルである。
キシフェニル)−シクロヘキサンカルボン酸の赤外スペ
クトル。 第2図は実施例−2で得られた4,4−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−シクロヘキサンカルボン酸メチルの赤
外スペクトルである。
Claims (2)
- 【請求項1】式(I) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1及びR2
は低級アルキル基を表し、m及びnは0〜4の整数を表
す。)で示される4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体。 - 【請求項2】式(I) (式中、Rは水素原子または低級アルキル基、R1及びR2
は低級アルキル基を表し、m及びnは0〜4の整数を表
す。)で示される4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体を、式(II) (式中、R,R1及びmは式(I)において定義したとおり
である。で示されるシクロヘキサン−4−カルボン酸と
式(III) (式中、R2及びnは式(I)において定義したとおりで
ある。)で示されるフェノール類とを酸性触媒の存在下
反応させて得る4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−シクロヘキサンカルボン酸誘導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5840586 | 1986-03-18 | ||
JP61-58405 | 1986-03-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6310745A JPS6310745A (ja) | 1988-01-18 |
JPH0692341B2 true JPH0692341B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=13083451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62061333A Expired - Fee Related JPH0692341B2 (ja) | 1986-03-18 | 1987-03-18 | 4,4−ビス(4−ヒドロキシフエニル)−シクロヘキサンカルボン酸誘導体およびその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4755616A (ja) |
EP (1) | EP0238305B1 (ja) |
JP (1) | JPH0692341B2 (ja) |
KR (1) | KR890005300B1 (ja) |
CA (1) | CA1267154A (ja) |
DE (1) | DE3762849D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4755617A (en) * | 1986-04-04 | 1988-07-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Process for the preparation of 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxyl acid |
US7635778B2 (en) | 2004-12-17 | 2009-12-22 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Composition, method of authenticating, methods of making authenticatable compositions, authenticatable articles made there from |
EP1940771B1 (en) * | 2005-10-28 | 2012-06-13 | SABIC Innovative Plastics IP B.V. | Polymers, polymer compositions and method of preparation |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB390556A (en) * | 1931-11-03 | 1933-04-13 | Ig Farbenindustrie Ag | The manufacture of nitro compounds of the diphenyl series |
US4537704A (en) * | 1983-12-21 | 1985-08-27 | International Flavors & Fragrances Inc. | Alkyl substituted and unsubstituted para-carboalkoxy cyclohexanones and organoleptic uses thereof |
-
1987
- 1987-03-12 US US07/024,967 patent/US4755616A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-16 CA CA000532153A patent/CA1267154A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-17 DE DE8787302268T patent/DE3762849D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-17 EP EP87302268A patent/EP0238305B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-18 KR KR1019870002436A patent/KR890005300B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-03-18 JP JP62061333A patent/JPH0692341B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-23 US US07/111,648 patent/US4814488A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0238305A1 (en) | 1987-09-23 |
EP0238305B1 (en) | 1990-05-23 |
US4814488A (en) | 1989-03-21 |
KR870008828A (ko) | 1987-10-21 |
DE3762849D1 (de) | 1990-06-28 |
CA1267154A (en) | 1990-03-27 |
KR890005300B1 (ko) | 1989-12-20 |
JPS6310745A (ja) | 1988-01-18 |
US4755616A (en) | 1988-07-05 |
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