JPH0660118B2 - ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 - Google Patents
４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法Info
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- JPH0660118B2 JPH0660118B2 JP18522186A JP18522186A JPH0660118B2 JP H0660118 B2 JPH0660118 B2 JP H0660118B2 JP 18522186 A JP18522186 A JP 18522186A JP 18522186 A JP18522186 A JP 18522186A JP H0660118 B2 JPH0660118 B2 JP H0660118B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は式(I) で示される４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロヘキサノールおよびその製造方法に関する。
シクロヘキサノールおよびその製造方法に関する。
式(I)で示される本発明の化合物は、新規化合物であ
り、液晶用，耐熱性樹脂用のモノマー等として有用であ
る４，４′−ビフェノールの前駆物質として有用な化合
物である。
り、液晶用，耐熱性樹脂用のモノマー等として有用であ
る４，４′−ビフェノールの前駆物質として有用な化合
物である。
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サン、または４−メチル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサ
ン環にアルキル基を持つ化合物は公知である。例えば、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンは融点１８４℃を有する結晶であり、４−メチル−
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンや３，５−ジメチル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサンは、それぞれ融点１８０
℃または１７４℃を有する結晶である。〔メトーデン
デル オルガニイシェン ヒイミー(Methoden der orga
nishen Chemie，Ｖｏｌ６，No.２，１０２８）〕 〔目的及びこれを達成するための手段〕 ４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サノールについては、これまで全く知られていなかった
のであるが、本発明者等は、その合成に成功し、本発明
の目的はこの新規な化合物及びその製造方法を提供する
ことにある。
サン、または４−メチル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサン等のようなシクロヘキサ
ン環にアルキル基を持つ化合物は公知である。例えば、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンは融点１８４℃を有する結晶であり、４−メチル−
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サンや３，５−ジメチル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサンは、それぞれ融点１８０
℃または１７４℃を有する結晶である。〔メトーデン
デル オルガニイシェン ヒイミー(Methoden der orga
nishen Chemie，Ｖｏｌ６，No.２，１０２８）〕 〔目的及びこれを達成するための手段〕 ４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サノールについては、これまで全く知られていなかった
のであるが、本発明者等は、その合成に成功し、本発明
の目的はこの新規な化合物及びその製造方法を提供する
ことにある。
すなわち、本発明は、式(I) で示される４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
シクロヘキサノール、および上記式(I)化合物を４−ヒ
ドロキシシクロヘキサノンとフェノールとを反応させる
ことにより得る製造方法に関する。
シクロヘキサノール、および上記式(I)化合物を４−ヒ
ドロキシシクロヘキサノンとフェノールとを反応させる
ことにより得る製造方法に関する。
本発明の４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シ
クロヘキサノールを製造する方法は、４−ヒドロキシシ
クロヘキサノンとフェノールとを酸性触媒の存在下に反
応させることにより得られる。
クロヘキサノールを製造する方法は、４−ヒドロキシシ
クロヘキサノンとフェノールとを酸性触媒の存在下に反
応させることにより得られる。
また、４−ヒドロキシシクロヘキサノンは、ハイドロキ
ノンを担体に担持されたパラジウム触媒を用いて水中で
水素と反応させる（特開昭５７−４９３２）。または、
シクロヘキサン−１，４−ジオールをクロム化合物を用
いて酸化する（特開昭５９−８８４５０）等の方法で得
ることができる。
ノンを担体に担持されたパラジウム触媒を用いて水中で
水素と反応させる（特開昭５７−４９３２）。または、
シクロヘキサン−１，４−ジオールをクロム化合物を用
いて酸化する（特開昭５９−８８４５０）等の方法で得
ることができる。
４−ヒドロキシシクロヘキサノンとフェノールとの本発
明反応に使用する触媒としては、塩酸のほか、硫酸，リ
ン酸，トルエンスルフォン酸，ＢＦ3，ＺｎＣｌ2，Ａｌ
Ｃｌ3，ＳｎＣｌ4及び移動酸性基を有する陽イオン交換
樹脂などが挙げられる。これらの触媒の使用量は４−ヒ
ドロキシシクロヘキサノン１００重量部あたり０．１〜
３０重量部の範囲である。また、助触媒の添加により反
応速度を高めることも可能であり、メチルメルカプタ
ン，エチルメルカプタン，ｎ−プロピルメルカプタン，
イソプロピルメルカプタン，ｎ−ブチルメルカプタン，
イソブチルメルカプタン，ｔ−ブチルメルカプタンの如
きアルキルメルカプタン又は高分子量アルキルメルカプ
タンなどが活性な助触媒である。
明反応に使用する触媒としては、塩酸のほか、硫酸，リ
ン酸，トルエンスルフォン酸，ＢＦ3，ＺｎＣｌ2，Ａｌ
Ｃｌ3，ＳｎＣｌ4及び移動酸性基を有する陽イオン交換
樹脂などが挙げられる。これらの触媒の使用量は４−ヒ
ドロキシシクロヘキサノン１００重量部あたり０．１〜
３０重量部の範囲である。また、助触媒の添加により反
応速度を高めることも可能であり、メチルメルカプタ
ン，エチルメルカプタン，ｎ−プロピルメルカプタン，
イソプロピルメルカプタン，ｎ−ブチルメルカプタン，
イソブチルメルカプタン，ｔ−ブチルメルカプタンの如
きアルキルメルカプタン又は高分子量アルキルメルカプ
タンなどが活性な助触媒である。
また硫化水素，チオフェノール，チオアルコール，チオ
酸，重合体チオアセトン，ジアルキルスルフィドの如き
他のイオウ化合物やこれらと類似のセレン化合物もまた
用いることができる。
酸，重合体チオアセトン，ジアルキルスルフィドの如き
他のイオウ化合物やこれらと類似のセレン化合物もまた
用いることができる。
本発明反応においては、芳香族炭化水素，塩素化脂肪族
炭化水素，氷酢酸などのような反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒を用いて行なうこともできる。しかしながら、生
成物の収率を高め、かつ副反応を最少にするには過剰量
のフェノールを溶媒とするのが望ましい。使用するフェ
ノールの量は、４−ヒドロキシシクロヘキサノン１重量
部あたり２重量部から１０重量部が適当である。
炭化水素，氷酢酸などのような反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒を用いて行なうこともできる。しかしながら、生
成物の収率を高め、かつ副反応を最少にするには過剰量
のフェノールを溶媒とするのが望ましい。使用するフェ
ノールの量は、４−ヒドロキシシクロヘキサノン１重量
部あたり２重量部から１０重量部が適当である。
また本発明における反応温度は３０℃から１００℃の範
囲、好ましくは４０℃から７０℃の範囲である。反応温
度が高いと副生物が増え、収率が低下するので好ましく
ない。
囲、好ましくは４０℃から７０℃の範囲である。反応温
度が高いと副生物が増え、収率が低下するので好ましく
ない。
本反応によって生成した４，４−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−シクロヘキサノールは、例えばベンゼンな
どの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、反応マスを排
出し、冷却晶出させることによって取出すことができ
る。
フェニル）−シクロヘキサノールは、例えばベンゼンな
どの本発明の化合物を溶解し難い溶媒に、反応マスを排
出し、冷却晶出させることによって取出すことができ
る。
この様にして取り出した4,4-ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサノールは、その大半、若しくは全
部がフェノール付加物となっている。この4,4-ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサノールのフェノ
ール付加物は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、クメン、シメン、オクタン、デカン、ドデカ
ン等の本発明の化合物と反応せずかつ付加物を生成しな
い溶媒と共に加熱することにより、容易にフェノールを
解離することができる。またフェノール類のほか、イソ
プロピルアルコールの如きアルコール類、水などとも、
本発明の化合物は安定な付加物をつくり、フェノール付
加物のまま、4,4-ビフェノールの原料として使用するこ
とができる。勿論、フェノールを解離させたのち使用し
てもよい。
ニル）−シクロヘキサノールは、その大半、若しくは全
部がフェノール付加物となっている。この4,4-ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサノールのフェノ
ール付加物は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、クメン、シメン、オクタン、デカン、ドデカ
ン等の本発明の化合物と反応せずかつ付加物を生成しな
い溶媒と共に加熱することにより、容易にフェノールを
解離することができる。またフェノール類のほか、イソ
プロピルアルコールの如きアルコール類、水などとも、
本発明の化合物は安定な付加物をつくり、フェノール付
加物のまま、4,4-ビフェノールの原料として使用するこ
とができる。勿論、フェノールを解離させたのち使用し
てもよい。
また過剰に使用したフェノールは、中和して晶出した塩
をろ別するか、あるいは減圧下で蒸留するなどの方法に
よって回収，再使用することができる。
をろ別するか、あるいは減圧下で蒸留するなどの方法に
よって回収，再使用することができる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
１００m反応フラスコに４−ヒドロキシシクロヘキサ
ノン１１．４ｇ（０．１０モル）、フェノール４７．１
ｇ（０．５０モル）、３６％塩酸６mを仕込み、６０
℃で４時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応マス
を３００mのベンゼンに排出した。室温で２時間撹拌
したのち、結晶をろ別した。さらに、クメン中で30分間
加熱還留してフェノールを留去したのち、冷却し濾過す
る操作を２度繰り返した。酢酸エチル−ベンゼン中でス
ラッジングを行ない、ろ過，乾燥して白色結晶２２．３
ｇを得た。この結晶をカラム分取して得た精結晶は1Ｈ
−ＮＭＲとＩＲにより４，４−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサノールと同定された。融点２１
８℃であった。
ノン１１．４ｇ（０．１０モル）、フェノール４７．１
ｇ（０．５０モル）、３６％塩酸６mを仕込み、６０
℃で４時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応マス
を３００mのベンゼンに排出した。室温で２時間撹拌
したのち、結晶をろ別した。さらに、クメン中で30分間
加熱還留してフェノールを留去したのち、冷却し濾過す
る操作を２度繰り返した。酢酸エチル−ベンゼン中でス
ラッジングを行ない、ろ過，乾燥して白色結晶２２．３
ｇを得た。この結晶をカラム分取して得た精結晶は1Ｈ
−ＮＭＲとＩＲにより４，４−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−シクロヘキサノールと同定された。融点２１
８℃であった。
粗結晶の純度９８％、取り出し時の収率７７％であっ
た。
た。
４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキ
サノールの1Ｈ−ＮＭＲデータを表−１に示す。又、こ
れの赤外スペクトルを第１図に示した。
サノールの1Ｈ−ＮＭＲデータを表−１に示す。又、こ
れの赤外スペクトルを第１図に示した。
第１図は実施例で得られた４，４−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−シクロヘキサノールの赤外スペクトル。
シフェニル）−シクロヘキサノールの赤外スペクトル。
Claims (2)
- 【請求項１】式(1) で示される4,4-ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサノール。 - 【請求項２】４−ヒドロキシシクロヘキサノンとフェノ
ールとを酸性触媒の存在下30〜100℃で反応させること
を特徴とする4,4-ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シ
クロヘキサノールの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18522186A JPH0660118B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 |
| US07/062,674 US4723046A (en) | 1986-06-23 | 1987-06-16 | Process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| CA000540146A CA1267159A (en) | 1986-06-23 | 1987-06-19 | Process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| AU74516/87A AU603109B2 (en) | 1986-06-23 | 1987-06-19 | 4,4-Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexanol and process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| DE8787305507T DE3770059D1 (de) | 1986-06-23 | 1987-06-22 | Verfahren zur herstellung von 4,4'-bis-phenol. |
| EP87305507A EP0251614B1 (en) | 1986-06-23 | 1987-06-22 | Process for the preparation of 4,4'-biphenol |
| KR1019870006365A KR900001284B1 (ko) | 1986-06-23 | 1987-06-23 | 4,4'-비페놀의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18522186A JPH0660118B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341433A JPS6341433A (ja) | 1988-02-22 |
| JPH0660118B2 true JPH0660118B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=16166996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18522186A Expired - Fee Related JPH0660118B2 (ja) | 1986-06-23 | 1986-08-08 | ４，４−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−シクロヘキサノ−ル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660118B2 (ja) |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP18522186A patent/JPH0660118B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6341433A (ja) | 1988-02-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |