JPH03128341A - 2,2―ジメトキシ―2―フェニルアセトフェノンの製造方法 - Google Patents
2,2―ジメトキシ―2―フェニルアセトフェノンの製造方法Info
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- JPH03128341A JPH03128341A JP2174602A JP17460290A JPH03128341A JP H03128341 A JPH03128341 A JP H03128341A JP 2174602 A JP2174602 A JP 2174602A JP 17460290 A JP17460290 A JP 17460290A JP H03128341 A JPH03128341 A JP H03128341A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフ
ェノンすなわち、ベンジルジメチルケタールの新規な製
造方法に関する。
ェノンすなわち、ベンジルジメチルケタールの新規な製
造方法に関する。
2.2−ジメトキシ−2−7エニルアセトフエノンは次
の構造式 で示される化合物であって、紫外部の光の照射によりラ
ジカルが発生して重合が開始される重合反応系における
光増感剤として広く使用されている化合物である。この
化合物を利用する紫外線硬化重合反応システムの応用分
野としては、例えばリソグラフィー フレキングラフイ
ーシルクスクリーンのUV硬化インキ、ソルダーレジス
ト、電子工業用材料などのためのエッチレジスト、木工
製品の仕上塗料、金属コーティングなど多岐に亘ってい
る。
の構造式 で示される化合物であって、紫外部の光の照射によりラ
ジカルが発生して重合が開始される重合反応系における
光増感剤として広く使用されている化合物である。この
化合物を利用する紫外線硬化重合反応システムの応用分
野としては、例えばリソグラフィー フレキングラフイ
ーシルクスクリーンのUV硬化インキ、ソルダーレジス
ト、電子工業用材料などのためのエッチレジスト、木工
製品の仕上塗料、金属コーティングなど多岐に亘ってい
る。
この2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン
は従来、 a)ベンジルにチオニルクロライドおよびメタノールを
反応させる方法(特公昭57−56456)、b)ベン
ジルlこオルトギ酸メチル、又はオルトケイ酸メチルを
反応させる方法(特開昭56−128729) 23よ
び、 C)ベンジルにジメチル硫酸とナトリウムメチラートを
反応させる方法(特開昭52−125151)などによ
って製造されるが、上記したa)の方法では安価な原料
を使用することができるものの、生成する亜硫酸ジメチ
ルを減圧蒸留によって留去することが必要である他に、
副生ずる亜硫酸ガスの完全な捕捉が必要であるなどの工
程上の解決すべき問題を伴うものであり、b)の方法は
高価なオルトギ酸メチルやオルトケイ酸メチルを必要と
して経済的に有利な方法であるとはなしがたく、まf:
c)の方法は比較的安価に入手できるジメチル硫酸とナ
トリウムメチラートを用い、温和な反応条件下で反応を
進めるものであるが溶媒に大量のジオキサンを用いかつ
反応液に大量の水を添加するためジオキサン回収工程で
ジオキサン−水共沸混合物の脱水蒸留が必要になるとい
う不利がある。
は従来、 a)ベンジルにチオニルクロライドおよびメタノールを
反応させる方法(特公昭57−56456)、b)ベン
ジルlこオルトギ酸メチル、又はオルトケイ酸メチルを
反応させる方法(特開昭56−128729) 23よ
び、 C)ベンジルにジメチル硫酸とナトリウムメチラートを
反応させる方法(特開昭52−125151)などによ
って製造されるが、上記したa)の方法では安価な原料
を使用することができるものの、生成する亜硫酸ジメチ
ルを減圧蒸留によって留去することが必要である他に、
副生ずる亜硫酸ガスの完全な捕捉が必要であるなどの工
程上の解決すべき問題を伴うものであり、b)の方法は
高価なオルトギ酸メチルやオルトケイ酸メチルを必要と
して経済的に有利な方法であるとはなしがたく、まf:
c)の方法は比較的安価に入手できるジメチル硫酸とナ
トリウムメチラートを用い、温和な反応条件下で反応を
進めるものであるが溶媒に大量のジオキサンを用いかつ
反応液に大量の水を添加するためジオキサン回収工程で
ジオキサン−水共沸混合物の脱水蒸留が必要になるとい
う不利がある。
さらにこれらの従来技術に共通して、生成物の2,2−
ジメトキシ−2−7エニルアセトフエノン中には出発原
料のベンジルが残留することがあり、かかる不純な2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンの使用に
よって重合体製品にベンジルの存在に基づく黄色の着色
が見られることがあった。
ジメトキシ−2−7エニルアセトフエノン中には出発原
料のベンジルが残留することがあり、かかる不純な2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンの使用に
よって重合体製品にベンジルの存在に基づく黄色の着色
が見られることがあった。
従ってこれらの従来方法による2、2−ジメトキシ−2
−フェニルアセトフェノンの製造において上述したa)
、b)またはC)の方法に必然的に付随する不利な点の
解消された方法が求められるのである。
−フェニルアセトフェノンの製造において上述したa)
、b)またはC)の方法に必然的に付随する不利な点の
解消された方法が求められるのである。
ところでC)の方法自体は比較的安価に入手できるジメ
チル硫酸とナトリウムメチラートとを用い温和な反応条
件下で反応を進めることができることから、使用するジ
オキサンの分離回収操作の点を除いては好ましい方法で
あるということができる。そしてこのC)の方法におい
てジオキサンを反応溶媒として使用する理由はこの溶剤
はベンジルを溶解することができ、従って反応は均一系
の反応で進行するという点にある。
チル硫酸とナトリウムメチラートとを用い温和な反応条
件下で反応を進めることができることから、使用するジ
オキサンの分離回収操作の点を除いては好ましい方法で
あるということができる。そしてこのC)の方法におい
てジオキサンを反応溶媒として使用する理由はこの溶剤
はベンジルを溶解することができ、従って反応は均一系
の反応で進行するという点にある。
ところでこの反応の終了後に未反応のジメチル硫酸、お
よびナトリウムメチラート並びに副生ずるモノメチル硫
酸ナトリウムは水洗によって分離する必要があり、必然
的にジオキサンは水洗水によって希釈されてしまうので
ある。ここで水洗工程において水とは混じり合わない溶
媒、例えば炭化水素系の溶媒が使用可能であれば水洗と
引き続く溶媒の分離工程がきわめて簡単なものとなるは
ずである。しかしながら炭化水素系の溶媒にはベンジル
は溶解し難いためこのものを反応溶媒として用いる場合
には不均一系の反応となりアセタール化の進行を著しく
阻害する結果となる。そこで、炭化水素系の溶媒を用い
しかも反応を円滑に進行させる技術的手段の解明が求め
られる。
よびナトリウムメチラート並びに副生ずるモノメチル硫
酸ナトリウムは水洗によって分離する必要があり、必然
的にジオキサンは水洗水によって希釈されてしまうので
ある。ここで水洗工程において水とは混じり合わない溶
媒、例えば炭化水素系の溶媒が使用可能であれば水洗と
引き続く溶媒の分離工程がきわめて簡単なものとなるは
ずである。しかしながら炭化水素系の溶媒にはベンジル
は溶解し難いためこのものを反応溶媒として用いる場合
には不均一系の反応となりアセタール化の進行を著しく
阻害する結果となる。そこで、炭化水素系の溶媒を用い
しかも反応を円滑に進行させる技術的手段の解明が求め
られる。
本発明者らは、ベンジルとジメチル硫酸とアルカリ金属
メチラートとの反応を水とは混じり合わない溶媒を用い
て行うことについて鋭意研究した結果、反応系内に反応
体および反応生成物とは化学的に不活性であるアルキル
化反応促進剤および/または極性効果向上剤を存在させ
ることによって反応が著しく促進され、しかして反応終
了後において反応混合物を水洗して未反応のアルカリ金
属メチラート、並びに副生物のモノメチル硫酸ナトリウ
ムを除去し、かつ溶媒を分離することがきわめて容易に
行なわれ、従って簡単な操作によって生成物の2.2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンがきわめて高
純度の状態でかつ高収率で得られることを見出して本発
明を完成したのである。
メチラートとの反応を水とは混じり合わない溶媒を用い
て行うことについて鋭意研究した結果、反応系内に反応
体および反応生成物とは化学的に不活性であるアルキル
化反応促進剤および/または極性効果向上剤を存在させ
ることによって反応が著しく促進され、しかして反応終
了後において反応混合物を水洗して未反応のアルカリ金
属メチラート、並びに副生物のモノメチル硫酸ナトリウ
ムを除去し、かつ溶媒を分離することがきわめて容易に
行なわれ、従って簡単な操作によって生成物の2.2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンがきわめて高
純度の状態でかつ高収率で得られることを見出して本発
明を完成したのである。
すなわち、本発明は、ベンジルとジメチル硫酸とアルカ
リ金属メチラートとを、ポリエチレングリコール、ポリ
エチレングリコールジアルキルエーテルおよびクラウン
エーテルから選ばれる触媒の1種または2種以上の存在
下に、非極性溶媒中で反応させて2,2−ジメトキシ−
2−フェニルアセトフェノンを得ることから成るもので
ある。
リ金属メチラートとを、ポリエチレングリコール、ポリ
エチレングリコールジアルキルエーテルおよびクラウン
エーテルから選ばれる触媒の1種または2種以上の存在
下に、非極性溶媒中で反応させて2,2−ジメトキシ−
2−フェニルアセトフェノンを得ることから成るもので
ある。
この方法において用いられるアルカリ金属メチラートの
具体例としては、ナトリウムメチラート、カリウムメチ
ラートが挙げられ、ナトリウムメチラートが安価に入手
できるので好ましい。これらは固体物質として、または
メタノール中の濃厚溶液例えば28%溶液として用いう
る。
具体例としては、ナトリウムメチラート、カリウムメチ
ラートが挙げられ、ナトリウムメチラートが安価に入手
できるので好ましい。これらは固体物質として、または
メタノール中の濃厚溶液例えば28%溶液として用いう
る。
この方法における反応は、理論上はベンジル1モルに対
してジメチル硫酸172モルおよびアルカリ金属メチラ
ート1モルを反応させれば足りるものであるが、通常は
ベンジルに対して若干の過剰量のジメチル硫酸およびア
ルカリ金属メチラートを用いて反応は行なわれる。すな
わち、ベンジル1モルに対してジメチル硫酸1/2〜5
モル、好ましくは1/、〜2モル、アルカリ金属メチラ
ート1−1Oモル、好ましくは1〜4モルの範囲の量で
用いられる。
してジメチル硫酸172モルおよびアルカリ金属メチラ
ート1モルを反応させれば足りるものであるが、通常は
ベンジルに対して若干の過剰量のジメチル硫酸およびア
ルカリ金属メチラートを用いて反応は行なわれる。すな
わち、ベンジル1モルに対してジメチル硫酸1/2〜5
モル、好ましくは1/、〜2モル、アルカリ金属メチラ
ート1−1Oモル、好ましくは1〜4モルの範囲の量で
用いられる。
この反応は通常−50°〜150℃の温度、好ましくは
一20°〜100℃の温度で行なわれる。反応時間は反
応体の使用割合、反応温度その他の条件、例えば撹拌の
程度に応じて変動しうるが、通常は数時間内に反応は終
了する。
一20°〜100℃の温度で行なわれる。反応時間は反
応体の使用割合、反応温度その他の条件、例えば撹拌の
程度に応じて変動しうるが、通常は数時間内に反応は終
了する。
この方法で使用する非極性溶媒は、水とは混じり合うこ
とがなく、そして反応体および反応生成物とは反応性で
はない極性を有しない溶媒であることが必要で、この条
件に適合する溶媒として 脂肪族炭化水素系溶媒、例えばn−ヘキサン、2−メチ
ルペンタン、2.2−ジメチルブタン、ヘプタン、デカ
ン、ドデカン、石油エーテル、リグロインなど、 脂環式炭化水素系溶媒、例えばシクロヘキサン、シクロ
ペンクン、メチルシクロベンクン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサン、テトラリン、デカリンなど
、および 芳香族炭化水素溶媒、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、クメン、メシチレンなど を挙げることができる。そしてとり分けこの方法で好ま
しく使用される溶媒はへブタン、トルエン、キシレン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどである。
とがなく、そして反応体および反応生成物とは反応性で
はない極性を有しない溶媒であることが必要で、この条
件に適合する溶媒として 脂肪族炭化水素系溶媒、例えばn−ヘキサン、2−メチ
ルペンタン、2.2−ジメチルブタン、ヘプタン、デカ
ン、ドデカン、石油エーテル、リグロインなど、 脂環式炭化水素系溶媒、例えばシクロヘキサン、シクロ
ペンクン、メチルシクロベンクン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサン、テトラリン、デカリンなど
、および 芳香族炭化水素溶媒、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、クメン、メシチレンなど を挙げることができる。そしてとり分けこの方法で好ま
しく使用される溶媒はへブタン、トルエン、キシレン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどである。
この方法で使用される触媒のポリエチレングリコールは
重合体中にエチレングリコール単位を4〜210個、好
ましくは4〜40個の範囲で有するもので、例えばポリ
エチレングリコール400、ポリエチレングリコール1
000、ポリエチレングリコール1540、の呼称で市
販されていて入手しうるものが挙げられる。
重合体中にエチレングリコール単位を4〜210個、好
ましくは4〜40個の範囲で有するもので、例えばポリ
エチレングリコール400、ポリエチレングリコール1
000、ポリエチレングリコール1540、の呼称で市
販されていて入手しうるものが挙げられる。
この方法で使用される触媒の他の1つであるポリエチレ
ングリコールジアルキルエーテルは、重合体鎖中にエチ
レングリコール単位を2〜10個の範囲で有し、末端が
炭素原子1〜4個のアルキル基で封鎖されt;ポリエチ
レングリコールで、例えばポリエチレングリコールジメ
チルエーテル(n−2〜10) 、ポリエチレングリコ
ールジエチルエーテル(n−2〜8)、ポリエチレング
リコールジn−ブチルエーテル(n−2〜8)の呼称で
市販されていて入手しうるものが挙げられる。
ングリコールジアルキルエーテルは、重合体鎖中にエチ
レングリコール単位を2〜10個の範囲で有し、末端が
炭素原子1〜4個のアルキル基で封鎖されt;ポリエチ
レングリコールで、例えばポリエチレングリコールジメ
チルエーテル(n−2〜10) 、ポリエチレングリコ
ールジエチルエーテル(n−2〜8)、ポリエチレング
リコールジn−ブチルエーテル(n−2〜8)の呼称で
市販されていて入手しうるものが挙げられる。
この方法で使用される触媒の他の1つであるクラウンエ
ーテルは12−クラウン−4,14−クラウン−5,1
8−クラウン−6などで代表される(o−CHx−CH
zhを繰返し単位にもつ大環状エーテル化合物およびべ
/シー9−クラウンー3、シヘンソ−20−クラウン−
4、ジベンゾ−18−クラウン−6などを挙げることが
できる。
ーテルは12−クラウン−4,14−クラウン−5,1
8−クラウン−6などで代表される(o−CHx−CH
zhを繰返し単位にもつ大環状エーテル化合物およびべ
/シー9−クラウンー3、シヘンソ−20−クラウン−
4、ジベンゾ−18−クラウン−6などを挙げることが
できる。
これらの触媒化合物はこの方法ではその一種類を単独で
使用しても良いが、二種類以上を混合して使用すること
もできる。
使用しても良いが、二種類以上を混合して使用すること
もできる。
特にポリエチレングリコール(n−4〜40)とポリエ
チレングリコールジメチルエーテル(n−2または3、
即ち、ジグライムまたはトリグライム)との混合物が好
適である。この場合ジグライムまたはトリグライムはポ
リエチレングリコールに対して容量で5〜20の割合で
使用される。
チレングリコールジメチルエーテル(n−2または3、
即ち、ジグライムまたはトリグライム)との混合物が好
適である。この場合ジグライムまたはトリグライムはポ
リエチレングリコールに対して容量で5〜20の割合で
使用される。
これらの触媒は、この方法で使用する非極性溶媒に対し
て容量で0.01−0.1の割合で使用される。
て容量で0.01−0.1の割合で使用される。
本発明の方法の反応操作の一具体例として例えば、ベン
ジルとジメチル硫酸に非極性溶媒の例えばキシレン、お
よび触媒のポリエチレングリコールが加えられ、更に必
要によってはジグライムまたはトリグライムが加えられ
、室温で撹拌しながらこれに粉末のナトリウムメチラー
トが数回に分けて加えられる。撹拌を強力に行うことは
反応の進行に効果が大であることがたしかめられている
。反応の終点はナトリウムメチラートの添加後に未反応
のベンジルの量をガスクロマトグラフィー分析でモニタ
ーすることによって定められるが、通常はベンジルの濃
度が最低限の定常状態となっl;とさとされる。
ジルとジメチル硫酸に非極性溶媒の例えばキシレン、お
よび触媒のポリエチレングリコールが加えられ、更に必
要によってはジグライムまたはトリグライムが加えられ
、室温で撹拌しながらこれに粉末のナトリウムメチラー
トが数回に分けて加えられる。撹拌を強力に行うことは
反応の進行に効果が大であることがたしかめられている
。反応の終点はナトリウムメチラートの添加後に未反応
のベンジルの量をガスクロマトグラフィー分析でモニタ
ーすることによって定められるが、通常はベンジルの濃
度が最低限の定常状態となっl;とさとされる。
反応が終了(またのち、反応混合物に水が添加され、生
成したモノメチル硫酸ナトリウム及びアルカリ分は水相
に移行するのでこれを取り除き、更に同様の水洗処理を
繰り返して油層が分離される。この分離された油層には
生成物の22−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ンと少量の未反応のベンジルが含まれるが、この油層は
公知の方法例えば、特公昭57−56456号記載の炭
酸カリウムとトリメチル亜リン酸を加えて未反応のベン
ジルを付加物として除去することができる。油層は更に
水洗を繰り返し行い、分液したのち、減圧下に溶媒のキ
シレンを留去する。かくして残留物として分析的にほぼ
純粋の2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ンが得られる。このようにして得られた生成物は結晶形
状、色相、揮発分などの点で充分に市場の要求を満たす
純品であるが、なお必要によっては溶剤によって通常の
再結晶を行なっても良い。
成したモノメチル硫酸ナトリウム及びアルカリ分は水相
に移行するのでこれを取り除き、更に同様の水洗処理を
繰り返して油層が分離される。この分離された油層には
生成物の22−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ンと少量の未反応のベンジルが含まれるが、この油層は
公知の方法例えば、特公昭57−56456号記載の炭
酸カリウムとトリメチル亜リン酸を加えて未反応のベン
ジルを付加物として除去することができる。油層は更に
水洗を繰り返し行い、分液したのち、減圧下に溶媒のキ
シレンを留去する。かくして残留物として分析的にほぼ
純粋の2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ンが得られる。このようにして得られた生成物は結晶形
状、色相、揮発分などの点で充分に市場の要求を満たす
純品であるが、なお必要によっては溶剤によって通常の
再結晶を行なっても良い。
以下に本発明の方法を実施例によって更に詳細に説明す
ることにする。
ることにする。
実施例 l
キシレン600mff中にベンジル105.1g、ジメ
チル硫酸81.6gを加える。更にポリエチレングリコ
ール(PEG−400) 5 gを添加し、室温にて効
率よく撹はん、混合を行なう。反応温度を15〜20’
Oに保ちながら、粉末ナトリウムメチラート38.4g
を数回に分けて4時間かけて添加する。
チル硫酸81.6gを加える。更にポリエチレングリコ
ール(PEG−400) 5 gを添加し、室温にて効
率よく撹はん、混合を行なう。反応温度を15〜20’
Oに保ちながら、粉末ナトリウムメチラート38.4g
を数回に分けて4時間かけて添加する。
添加後間−条件で3時間熟成を行なっt;後、反応液に
水200+12を加え水洗を行なう。下層にある水溶液
を静置、分液後除去する。次に油層を200mQの水で
2回洗浄する。得られた油層を炭酸カリl1gとトリメ
チル亜リン酸3.5gで処理した後、再度200m4の
水で2〜3度洗浄を行なう。
水200+12を加え水洗を行なう。下層にある水溶液
を静置、分液後除去する。次に油層を200mQの水で
2回洗浄する。得られた油層を炭酸カリl1gとトリメ
チル亜リン酸3.5gで処理した後、再度200m4の
水で2〜3度洗浄を行なう。
得られた油分より液温を80°C以下に保ちながらキシ
レンを減圧留去する。残留物として、融点65〜66°
C1純度99.9%の標的物113gを得た。収率はベ
ンジルに対し理論値の88.2%であった。
レンを減圧留去する。残留物として、融点65〜66°
C1純度99.9%の標的物113gを得た。収率はベ
ンジルに対し理論値の88.2%であった。
実施例 2
キシレン525+++12中にベンジル929とジメチ
ル硫酸71.5g並びに触媒としてポリエチレングリコ
ール(PEG −1000)を0.35gとジグライム
6gを添加し、室温で十分に撹はん混合を続ける。反応
温度を20〜25°Cに保ちながら粉末ナトリウムメチ
ラート33.6gを数回に分けて4時間かけて添加する
。添加後向−条件で4.5時間熟成した後、反応液に水
400mmを2回に分けて水洗を繰り返し約600++
Iffの油分を得た。この油分に炭酸カリウム10gに
トリメチル亜リン酸3gを添加する。次いで水100m
+2を2回、水200m12を2回にわたり水洗し、油
分を分離する。油分は液温80℃以下に保ち減圧濃縮を
行ない、キシレンを留去する。残留物として、融点65
〜66℃、純度99.9%の標的物102gを得た。収
率はベンジルに対し理論値の90.5%であった。
ル硫酸71.5g並びに触媒としてポリエチレングリコ
ール(PEG −1000)を0.35gとジグライム
6gを添加し、室温で十分に撹はん混合を続ける。反応
温度を20〜25°Cに保ちながら粉末ナトリウムメチ
ラート33.6gを数回に分けて4時間かけて添加する
。添加後向−条件で4.5時間熟成した後、反応液に水
400mmを2回に分けて水洗を繰り返し約600++
Iffの油分を得た。この油分に炭酸カリウム10gに
トリメチル亜リン酸3gを添加する。次いで水100m
+2を2回、水200m12を2回にわたり水洗し、油
分を分離する。油分は液温80℃以下に保ち減圧濃縮を
行ない、キシレンを留去する。残留物として、融点65
〜66℃、純度99.9%の標的物102gを得た。収
率はベンジルに対し理論値の90.5%であった。
実施例 3
キシレン52SrAff中にベンジル92gとジメチル
硫酸71.5g並びに触媒としてポリエチレングリコー
ルジエチルエーテル(PEG −400DE)を7g添
加し、室温で十分に撹はん混合を続ける。反応温度を2
0〜30℃に保ちながら粉末ナトリウムメチラート33
.69を数回に分けて5時間かけて添加する。添加後向
−条件で5時間熟成した後、反応液に水400+(lを
2回に分けて水洗を繰り返し約600mCの油分を得た
。以下、実施例1に記載した方法に従い、融点65〜6
6°C1純度99.9%の標的物を989 (87,3
%)を得た。
硫酸71.5g並びに触媒としてポリエチレングリコー
ルジエチルエーテル(PEG −400DE)を7g添
加し、室温で十分に撹はん混合を続ける。反応温度を2
0〜30℃に保ちながら粉末ナトリウムメチラート33
.69を数回に分けて5時間かけて添加する。添加後向
−条件で5時間熟成した後、反応液に水400+(lを
2回に分けて水洗を繰り返し約600mCの油分を得た
。以下、実施例1に記載した方法に従い、融点65〜6
6°C1純度99.9%の標的物を989 (87,3
%)を得た。
実施例 4
メチルシクロヘキサン600ncQ中にベンジル929
とジメチル硫酸71.59並びに触媒としてクラウンエ
ーテル(12クラウン−4) 0.35gとジグライム
6gを添加し、室温で十分に撹はん混合を続ける。以下
実施例1の方法に従い、融点65〜66°C1純度99
.9%の標的物を1059 (93,2%)を得 を二
。
とジメチル硫酸71.59並びに触媒としてクラウンエ
ーテル(12クラウン−4) 0.35gとジグライム
6gを添加し、室温で十分に撹はん混合を続ける。以下
実施例1の方法に従い、融点65〜66°C1純度99
.9%の標的物を1059 (93,2%)を得 を二
。
実施例 5
シクaヘキサン600n+j2中にベンジル92gとジ
メチル硫酸71.5y並びに触媒としてポリエチレング
リコール(PEG −400)を0.35gとトリグラ
イム6gを添加し、室温で十分に撹拌混合を続ける。反
応温度を20〜25°Cに保ちながら粉末ナトリウムメ
チラート33.69を数回に分けて4時間熱酸した後、
反応液に水400mQを2回に分けて水洗を繰り返し約
600m(2の油分を得I;。油分は液1!80℃以下
に保ち、減圧濃縮を行ない、シクロヘキサンを留去する
。残留物として融点65〜66°C1純度99.9%の
標的物1019を得た。収率はベンジルに対し理論値の
89.5%であった。
メチル硫酸71.5y並びに触媒としてポリエチレング
リコール(PEG −400)を0.35gとトリグラ
イム6gを添加し、室温で十分に撹拌混合を続ける。反
応温度を20〜25°Cに保ちながら粉末ナトリウムメ
チラート33.69を数回に分けて4時間熱酸した後、
反応液に水400mQを2回に分けて水洗を繰り返し約
600m(2の油分を得I;。油分は液1!80℃以下
に保ち、減圧濃縮を行ない、シクロヘキサンを留去する
。残留物として融点65〜66°C1純度99.9%の
標的物1019を得た。収率はベンジルに対し理論値の
89.5%であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ベンジルとジメチル硫酸とアルカリ金属メチラート
とを、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ルジアルキルエーテルおよびクラウンエーテルから選ば
れる触媒の1種または2種以上の存在下に、非極性有機
溶媒中で反応させることを特徴とする2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノンの製造方法。 2)非極性有機溶媒が、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水
素および芳香族炭化水素から選ばれる溶媒の1種または
2種以上の混合物である請求項1に記載の方法。 3)前記ポリエチレングリコールジアルキルエーテルが
ジグライムまたはトリグライムである請求項1に記載の
方法。 4)前記触媒がジグライムまたはトリグライムとポリエ
チレングリコールとの混合物である請求項1に記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18041089 | 1989-07-14 | ||
JP1-180410 | 1989-07-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03128341A true JPH03128341A (ja) | 1991-05-31 |
JP2877154B2 JP2877154B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=16082764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2174602A Expired - Fee Related JP2877154B2 (ja) | 1989-07-14 | 1990-07-03 | 2,2―ジメトキシ―2―フェニルアセトフェノンの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5081307A (ja) |
JP (1) | JP2877154B2 (ja) |
KR (1) | KR920004603B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100604751B1 (ko) * | 2001-08-24 | 2006-07-26 | 주식회사 하이닉스반도체 | 산 확산 방지용 포토레지스트 공중합체 및 이를 함유하는포토레지스트 조성물 |
CN104817443B (zh) * | 2015-03-04 | 2017-01-11 | 绍兴佳英感光材料科技有限公司 | 一种安息香双甲醚的合成工艺 |
CN113461507A (zh) * | 2021-06-09 | 2021-10-01 | 漯河市新旺化工有限公司 | 安息香双甲醚连续化生产方法及用于该方法的生产装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI60194C (fi) * | 1972-07-28 | 1981-12-10 | Ciba Geigy Ag | Foerfarande foer framstaellning av bensil-monoketaler |
US4287367A (en) * | 1976-04-14 | 1981-09-01 | Basf Aktiengesellschaft | Manufacture of symmetrical or unsymmetrical monoacetals of aromatic 1,2-diketones |
FR2348180A1 (fr) * | 1976-04-14 | 1977-11-10 | Basf Ag | Procede de preparation de monoacetals de 1,2-dicetones aromatiques et utilisation de ces substances comme photo-inducteurs pour des melanges durcissables sous l'action de radiations |
US4101584A (en) * | 1976-12-10 | 1978-07-18 | Napp Chemicals Inc. | Bisbenzoin ethers and method of producing benzoin ethers |
JPS56128729A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-08 | Shin Nisso Kako Co Ltd | Preparation of benzyl-beta-dimethyl ketal |
JPS5756454A (en) * | 1980-09-20 | 1982-04-05 | Santen Pharmaceut Co Ltd | Disulfide type cysteine derivative |
US4749804A (en) * | 1981-12-11 | 1988-06-07 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Preparation of stereoisomers of ketals |
-
1990
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