JP4570446B2 - 半導体ウェハーおよびその検査方法 - Google Patents
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Description
以下に位置合せパターン5を用いたプローブ3群と電極端子4群との適正位置検出法を説明する。検出部電極端子8に電気的接続された電極端子9と導通部電極端子12とに、異なる電圧を印加された2本のプローブ3のそれぞれを接触させて両プローブ3間に流れる電流をモニターする。
(実施形態1)
図1は、本発明の第1の実施形態における半導体ウェハーと、半導体素子をウェハーレベルで検査するコンタクターの平面図であり、図1(a)は半導体ウェハーの平面図、図1(b)はコンタクターの平面図である。
図2は位置合わせパターン25の平面図である。図3および図4は、図1(a)のA−A矢視断面図であり、検査時にスクライブライン23において半導体ウェハー21とコンタクター30を接触させた状態を示し、図3、図4はそれぞれ、半導体ウェハー21の位置合わせパターン25とコンタクター30のバンプ電極31とが正常位置で接触した場合と、位置ずれを生じて接触した場合を示している。
図6および図7はそれぞれ、本発明の位置合わせパターン25の第2の実施形態を示す平面図及び図5のB−B矢視断面図である。
39の一端に接触する位置まで設けても良い。これにより位置合わせパターン5の表面の凹凸が小さくなる。
図9は本発明の位置合わせパターン25の第3の実施形態を示す平面図である。図9において、位置合わせパターン25は、下層絶縁層32上に導体層で形成された矩形の導通部電極端子39と、1辺において導通部電極端子39と空間を隔てて対向する検出部電極端子38とからなる。
(実施形態4)
図10は本発明の位置合わせパターン25の第4の実施形態を示す平面図である。図10において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上に導体層で形成された矩形の導通部電極端子39と、空間を隔てて導通部電極端子39を囲み4辺で対向する検出部電極端子38とからなる。
(実施形態5)
図11は本発明の位置合わせパターン25の第5の実施形態を示す平面図である。図11において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上にひと続きの導体層33で形成された検出部電極端子38と導通部電極端子39からなる。
(実施形態6)
図12は本発明の位置合わせパターン25の第6の実施形態を示す平面図である。図12において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上に2つの導体層33で別々に形成された検出部電極端子38と導通部電極端子39からなり、検出部電極端子38と導通部電極端子39は下層絶縁層32のコンタクトホールに配置した下層接続配線60を介して接続されている。
(実施形態7)
図13は本発明の位置合わせパターン25の第8の実施形態を示す平面図である。図13において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上にひと続きの導体層33で形成された検出部電極端子38と導通部電極端子39からなる。
(実施形態8)
図14は本発明の位置合わせパターン25の第8の実施形態を示す平面図である。図14において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上にひと続きの導体層33で形成された検出部電極端子38と導通部電極端子39からなり、検出部電極端子38には複数の貫通孔40がある。
半導体ウェハー21とコンタクター30との位置合わせが正常か不正常かの判断は第1の実施形態と同様にして行う。
図15は本発明の位置合わせパターン25の第9の実施形態を示す平面図である。図15において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上に導体層33で形成された4つで一組をなす検出部電極端子38および導通部電極端子39からなる。
その際に、各開口35において各導通部電極端子39と各検出部電極端子38にコンタクター30のバンプ電極31を接触させることにより、半導体ウェハー21とコンタクター30の位置合わせにおいて位置ずれの方向がわかるようになる。
図16は本発明の位置合わせパターン25の第10の実施形態を示す平面図である。図16において、位置合わせパターン25は下層絶縁層32上に導体層33で形成された3組の検出部電極端子38と導通部電極端子39からなり、半導体ウェハー21上に下層絶縁層32を覆って形成する上層絶縁層34は、検出部電極端子38と導通部電極端子39の上方においてそれぞれ開口35が設けられている。
その際に、各開口35において各導通部電極端子39と各検出部電極端子38にコンタクター30のバンプ電極31を接触させることにより、半導体ウェハー21とコンタクター30の位置合わせにおいて、位置ずれの大きさがわかるようになる。
図17は本発明の位置合わせパターン25の第11の実施形態を示す平面図である。この実施の形態は、先に図11に示した実施形態5の位置合わせパターン25の検出部電極端子38と導通部電極端子39を2組用いるものである。
その際に、各開口35において各導通部電極端子39と各検出部電極端子38にコンタクター30のバンプ電極31を接触させることにより、半導体ウェハー21とコンタクター30の位置合わせにおいて位置ずれの方向がわかるようになる。
図18は本発明の位置合わせパターン25の第12の実施形態を示す平面図である。
この実施の形態は、先に図11に示した実施形態5の位置合わせパターン25の検出部電極端子38と導通部電極端子39を4組用いるものである。
その際に、各開口35において各導通部電極端子39と各検出部電極端子38にコンタクター30のバンプ電極31を接触させることにより、半導体ウェハー21とコンタクター30の位置合わせにおいて位置ずれの方向がわかるようになる。
図19は、半導体ウェハー21内で位置合わせパターン25を配置する形態を示すものであり、その実施例1を示す平面図である。図19において、各位置合わせパターン25は、半導体素子22の配置領域内で、かつスクライブライン23の交点領域以外の直線領域65の少なくとも2箇所に配置する。このように各位置合わせパターン25を半導体ウェハー21に配置することで、半導体ウェハー21とコンタクター30の位置合わせを高精度に実現できる。
図20は、半導体ウェハー21内で位置合わせパターン25を配置する形態を示すものであり、その実施例2を示す平面図である。図20において、各位置合わせパターン25は、半導体素子22の配置領域内で、かつスクライブライン23の交点領域66の少なくとも2箇所に配置する。このように各位置合わせパターン25を半導体ウェハー21に配置することで、半導体ウェハー21とコンタクター30の位置合わせを高精度に実現できる。
図21は、半導体ウェハー21内で位置合わせパターン25を配置する形態を示すものであり、その実施例3を示す平面図である。図20において、各位置合わせパターン25は、半導体素子22の配置領域内で、かつスクライブライン23の交点領域66から一定距離隔てた位置で、さらに180°もしくは90°の回転対称の位置に、二方向または三方向あるいは四方向に設ける。そして、この位置合わせパターン25の組み合わせを、少なくともスクライブライン23の2箇所の交点に配置する。
また、位置合わせパターン25として先に各実施形態において示した各種の位置合わせパターン25を用いることにより、位置ずれの方向や大きさを検出できる。例えば、図14に示す位置合わせパターン25を四方向に設けて用いると位置ずれの方向や大きさを検出できる。
図22は、半導体ウェハー21内で位置合わせパターン25を配置する形態を示すものであり、その実施例4を示す平面図である。図22において、各位置合わせパターン25は、半導体素子22の配置領域で少なくとも2箇所の半導体素子22内に配置する。
(実施形態17)
図23は、半導体ウェハー21内で位置合わせパターン25を配置する形態を示すものであり、その実施例5を示す平面図である。図23において、各位置合わせパターン25は、半導体素子22の配置領域外で、少なくとも2箇所の周辺部67に配置する。
(実施形態18)
図24は、半導体ウェハー21内で位置合わせパターン25を配置する形態を示すものであり、その実施例6を示す平面図である。図24において、各位置合わせパターン25は、半導体素子22の配置領域内で、かつスクライブライン23の直線領域における概ね両端の位置に少なくとも2箇所に配置する。あるいは、交点領域66、周辺部67の少なくとも2箇所に配置する。
以上、一連の実施形態の説明において、半導体ウェハー21内での位置合わせパターン25の配置方向とそれらの組み合わせを便宜上、検出部電極端子が対向する配置で行ったが、背向もしくはそれ以外の方向であっても同じ効果が得られる。
22 半導体素子
23 スクライブライン
24 電極端子
25 位置合わせパターン
30 コンタクター
31 バンプ電極
32 下層絶縁層
33 導体層
34 上層絶縁層
35 開口
38 検出部電極端子
39 導通部電極端子
40 貫通孔
55 接地配線
56 入力回路配線
60 下層の接続配線
61 凸部
62 配線部
Claims (12)
- 複数の半導体素子および位置合わせパターンを形成した半導体ウェハーであって、位置合わせパターンは半導体ウェハー上に形成した下層絶縁層と導体層と上層絶縁層からなり、導体層の一側をなす検出部電極端子と導体層の他側をなす導通部電極端子がそれぞれに対応して上層絶縁層に形成した開口において露出し、検出部電極端子が下層絶縁層に至る複数の貫通孔を有し、各貫通孔は一列状に干渉しない間隔で配置するとともに、その寸法が一定比率で異なる構造を備えることを特徴とする半導体ウェハー。
- 複数の半導体素子および位置合わせパターンを形成した半導体ウェハーであって、位置合わせパターンは半導体ウェハー上に形成した下層絶縁層と導体層と上層絶縁層からなり、上層絶縁層に形成した一つの開口においてその四辺の各辺側からそれぞれ異なる検出部電極端子の導体層が部分的に露出し、各検出部電極端子に導通する導通部電極端子の導体層がそのそれぞれに対応して上層絶縁層に形成した各開口において露出する構造を備えることを特徴とする半導体ウェハー。
- 複数の半導体素子および位置合わせパターンを形成した半導体ウェハーであって、位置合わせパターンは半導体ウェハー上に形成した下層絶縁層と導体層と上層絶縁層からなり、上層絶縁層に形成した一つの開口において環状に露出する複数の検出部電極端子の導体層を同芯状に間隔をあけて多重に配置し、各検出部電極端子に導通する導通部電極端子の導体層がそのそれぞれに対応して上層絶縁層に形成した各開口において露出する構造を備えることを特徴とする半導体ウェハー。
- 一対の位置合わせパターンを検出部電極端子側もしくは導通部電極端子側の任意の点を原点とする180°対称の位置に位置合わせパターンブロックとして配置した構造を備えることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 複数の位置合わせパターンを検出部電極端子側もしくは導通部電極端子側の任意の点を原点として、原点回りに90°の間隔でT形状もしくは十字形状に位置合わせパターンブロックとして配置した構造を備えることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 位置合わせパターンもしくは位置合わせパターンブロックを半導体ウェハーにおける半導体素子の配置領域内でスクライブラインの交点領域以外の少なくとも2箇所に配置する構造を備えることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 位置合わせパターンもしくは位置合わせパターンブロックを半導体ウェハーにおける半導体素子の配置領域内でスクライブラインの少なくとも2箇所の交点領域に配置する構造を備えることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 位置合わせパターンもしくは位置合わせパターンブロックを半導体ウェハーにおける半導体素子の配置領域内で少なくとも2箇所の半導体素子内に配置する構造を備えることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 位置合わせパターンもしくは位置合わせパターンブロックを半導体ウェハーにおける半導体素子の配置領域外の周辺部で少なくとも2箇所に配置する構造を備えることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 位置合わせパターンもしくは位置合わせパターンブロックを半導体ウェハーにおける半導体素子内、スクライブラインの直線領域、スクライブラインの交点領域、半導体素子の配置領域外の周辺部のうちの少なくとも2箇所に配置する構造を備えることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体ウェハー。
- 請求項1〜10の何れか1項に記載の半導体ウェハーに対して、半導体ウェハー上の半導体素子および位置合わせパターンの電極端子に対してミラー反転状に配置されたバンプ電極群を備えるコンタクターを用いて、バーンイン検査もしくは電気的特性検査をウェハーレベルで行う検査方法であって、コンタクターを半導体ウェハーに位置合わせするのに際し、半導体ウェハーの複数の半導体素子および位置合わせパターンの各電極端子とコンタクターの各バンプ電極を正常位置関係に合わせて接触させる位置合わせ工程において、
半導体ウェハー内の少なくとも2箇所に配置した位置合わせパターンの各電極端子とコンタクターの位置合わせ用バンプ電極との位置ずれ情報を電気的に検出してモニタリングすることを特徴とする半導体ウェハーの検査方法。 - 請求項1〜10の何れか1項に記載の半導体ウェハーに対して、半導体ウェハー上の半導体素子および位置合わせパターンの電極端子に対してミラー反転状に配置されたバンプ電極群を備えるコンタクターを用いて、バーンイン検査もしくは電気的特性検査をウェハーレベルで行う検査方法であって、
プローバーテーブルに被検査の半導体ウェハーを載せる工程と、半導体ウェハーとコンタクターの位置合わせを光学的に行う工程と、コンタクターのバンプ電極群と半導体ウェハーの電極端子群を接触させる行程と、バンプ電極群と電極端子群の位置合わせ精度を確認し合否判定する工程と、検査装置へ投入する工程で構成され、
合否判定する工程において位置合わせ精度の確認が不合格の場合に、半導体ウェハーに配置された位置合わせパターンの各電極端子とコンタクターのバンプ電極の位置関係を正常位置に再設定後に両者を接触させる工程に戻ることを特徴とする半導体ウェハーの検査方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004331293A JP4570446B2 (ja) | 2004-11-16 | 2004-11-16 | 半導体ウェハーおよびその検査方法 |
US11/245,091 US7170189B2 (en) | 2004-11-16 | 2005-10-07 | Semiconductor wafer and testing method therefor |
TW094139264A TW200617410A (en) | 2004-11-16 | 2005-11-09 | Semiconductor wafer and inspection method thereof |
CNB2005101250113A CN100461381C (zh) | 2004-11-16 | 2005-11-11 | 半导体晶片 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004331293A JP4570446B2 (ja) | 2004-11-16 | 2004-11-16 | 半導体ウェハーおよびその検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006147601A JP2006147601A (ja) | 2006-06-08 |
JP4570446B2 true JP4570446B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=36385617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004331293A Expired - Fee Related JP4570446B2 (ja) | 2004-11-16 | 2004-11-16 | 半導体ウェハーおよびその検査方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7170189B2 (ja) |
JP (1) | JP4570446B2 (ja) |
CN (1) | CN100461381C (ja) |
TW (1) | TW200617410A (ja) |
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JPS56114349A (en) * | 1980-02-15 | 1981-09-08 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Detecting method for displacement in testing stage of wafer |
JPS63128636A (ja) * | 1986-11-18 | 1988-06-01 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
JPH0645419A (ja) * | 1992-07-21 | 1994-02-18 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH09213759A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-15 | Sony Corp | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7170189B2 (en) | 2007-01-30 |
US20060103408A1 (en) | 2006-05-18 |
CN1776898A (zh) | 2006-05-24 |
TW200617410A (en) | 2006-06-01 |
CN100461381C (zh) | 2009-02-11 |
JP2006147601A (ja) | 2006-06-08 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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