JP4460643B2 - 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Description
[1] 複数の有機EL素子を含む有機ELディスプレイパネルであって、
前記有機EL素子のそれぞれは、基板と、前記基板上に配置された陽極と、前記陽極上に配置された有機発光層と、前記有機発光層上に配置された陰極と、前記有機発光層の領域を規定し、前記陽極に接触する順テーパ状でありかつ全体が有機絶縁材料からなるバンクと、前記バンクの上表面およびバンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜とを有し、かつ前記有機EL素子のバンクのテーパ下部の表面に撥液性有機膜を有さず、
前記有機発光層は塗布形成され、前記有機発光層の陰極側の表面が、前記バンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜を有する領域と、撥液性有機膜を有しない領域との境界において、前記バンクのテーパの表面と接している、
有機ELディスプレイパネル。
[2] 前記順テーパ状のバンクのテーパ角度は、20°〜70°である、[1]に記載の有機ELディスプレイパネル。
[4] 前記バンクの表面に配置された撥液性有機膜は、単分子膜である、[1]に記載の有機ELディスプレイパネル。
[5] 前記有機EL素子のバンクのテーパ下部の表面に配置された親液性有機膜を有する、[1]に記載の有機ELディスプレイパネル。
[7] 複数の陽極が配置された基板を準備するステップと、
前記陽極の少なくとも一部を囲み、かつ前記陽極に接触し、順テーパ状でありかつ全体が有機絶縁材料からなるバンクを形成するステップと、
前記バンクの表面に、撥液性有機膜を形成するステップと、
前記バンクのテーパ下部の表面に形成された撥液性有機膜に、選択的に光を照射して、前記撥液性有機膜の撥液性を低下させるかまたは前記撥液性有機膜を除去するステップと、
前記バンクで規定された領域に、有機発光材料を含むインクを塗布して、有機発光層を形成するステップと、
前記有機発光層の上に、陰極を形成するステップと、を有し、
前記有機発光層の陰極側の表面が、前記バンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜を有する領域と、撥液性有機膜を有しない領域との境界において、前記バンクのテーパの表面と接している、
有機ELディスプレイパネルの製造方法。
[9] 前記撥水性有機膜は、撥水機能を有する感光性の自己組織化膜である、[7]に記載の製造方法。
[10] 前記照射する光は、紫外線である、[7]に記載の製造方法。
[11] 前記バンクを形成するステップの前に、前記陽極の上に正孔注入層を形成するステップをさらに含む、[7]に記載の製造方法。
基板と、前記基板上に配置されたソース電極およびドレイン電極と、前記ソース電極およびドレイン電極とを接続する有機半導体層と、前記有機半導体層の領域を規定する順テーパ状のバンクと、前記有機半導体層に絶縁膜を介して接続するゲート電極とを有する有機薄膜トランジスタであって、
前記有機薄膜トランジスタ素子のバンクの上表面、およびバンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜を有し、かつ前記バンクのテーパ下部の表面は撥液性有機膜を有さない、有機薄膜トランジスタ。
本発明の有機ELディスプレイパネルは複数の有機EL素子を含み、通常、複数の有機EL素子はマトリックス状に配置されている。有機EL素子のそれぞれは、1)基板と、2)画素電極(陽極)と、3)有機発光層などの機能層と、4)陰極と、5)順テーパ状のバンクと、6)バンクの上表面、およびバンクのテーパ上部の表面(「テーパ面の上部」ともいう)に配置された撥液性有機膜とを有する。
さらに、特開2006−168606号公報に記載の有機コーティング膜を作製してもよい。
本発明の有機ELディスプレイパネルは、例えば、
1)複数の陽極が配置された基板を準備するステップ、
2)前記陽極の少なくとも一部を囲むように、テーパ状のバンクを形成するステップ、
3)前記バンクの表面に、撥液性有機膜を形成するステップ、
4)前記バンクのテーパ下部の表面に形成された撥液性有機膜に、選択的に光を照射して、その撥液性を低下させるか、または撥液性有機膜を除去するステップ、
5)前記バンクで規定された領域に、有機発光材料を含むインクを塗布して、有機発光層を形成するステップ、
6)前記有機発光層の上に、陰極を形成するステップ、を有する。
親液性にするべき領域は、機能層(特に有機発光層)の膜均一性を達成するように、1)バンクのテーパ角度、2)機能層を形成するために塗布する液状物質の性質(後退角など)、3)除外領域の設定、などに応じて適宜設定すればよい。親液化するべき領域の、具体的な設定については、後に詳細に説明する。
以下に、撥液性有機膜が形成されたバンク表面の、親液性にするべき領域の設定の仕方の例を説明する。もちろん、前記領域の設定法が、これに限定されるわけではない。バンクのテーパ面のうち、バンクの底からの一定高さ(以下において「ピンニング高さ」ともいう)までを、親液性とするべき領域とする。
2 TFT
3 平坦化膜
4 反射陽極
5 正孔注入層
6 インターレイヤー
7 発光層
8 電子注入層
9 バンク
9−1 バンク上面
9−2 バンク内側面
9−3 バンクエッジ
10 陰極
11 封止膜
12 撥液性膜
12’ 親液性膜
13 ピンニングポイント
20 基板
21 ゲート電極
22 ゲート絶縁膜
23 ソース電極
24 ドレイン電極
25 有機半導体層
26 バンク
28 オーバーコート層
29 撥液性膜
29’ 親液性膜
30 ピンニングポイント
31 マスク
32 照射光
40 液滴
45 有効画素部端
Claims (11)
- 複数の有機EL素子を含む有機ELディスプレイパネルであって、
前記有機EL素子のそれぞれは、基板と、前記基板上に配置された陽極と、前記陽極上に配置された有機発光層と、前記有機発光層上に配置された陰極と、前記有機発光層の領域を規定し、前記陽極に接触する順テーパ状でありかつ全体が有機絶縁材料からなるバンクと、前記バンクの上表面およびバンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜とを有し、かつ前記有機EL素子のバンクのテーパ下部の表面に撥液性有機膜を有さず、
前記有機発光層は塗布形成され、前記有機発光層の陰極側の表面が、前記バンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜を有する領域と、撥液性有機膜を有しない領域との境界において、前記バンクのテーパの表面と接している、
有機ELディスプレイパネル。 - 前記順テーパ状のバンクのテーパ角度は、20°〜70°である、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
- 前記バンクの表面に配置された撥液性有機膜は、自己組織化膜である、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
- 前記バンクの表面に配置された撥液性有機膜は、単分子膜である、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
- 前記有機EL素子のバンクのテーパ下部の表面に配置された親液性有機膜を有する、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
- 前記バンクは、ラインバンクである、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
- 複数の陽極が配置された基板を準備するステップと、
前記陽極の少なくとも一部を囲み、かつ前記陽極に接触し、順テーパ状でありかつ全体が有機絶縁材料からなるバンクを形成するステップと、
前記バンクの表面に、撥液性有機膜を形成するステップと、
前記バンクのテーパ下部の表面に形成された撥液性有機膜に、選択的に光を照射して、前記撥液性有機膜の撥液性を低下させるかまたは前記撥液性有機膜を除去するステップと、
前記バンクで規定された領域に、有機発光材料を含むインクを塗布して、有機発光層を形成するステップと、
前記有機発光層の上に、陰極を形成するステップと、を有し、
前記有機発光層の陰極側の表面が、前記バンクのテーパ上部の表面に配置された撥液性有機膜を有する領域と、撥液性有機膜を有しない領域との境界において、前記バンクのテーパの表面と接している、
有機ELディスプレイパネルの製造方法。 - 前記順テーパ状のバンクのテーパ角度は、20°〜70°である、請求項7に記載の製造方法。
- 前記撥水性有機膜は、撥水機能を有する感光性の自己組織化膜である、請求項7に記載の製造方法。
- 前記照射する光は、紫外線である、請求項7に記載の製造方法。
- 前記バンクを形成するステップの前に、前記陽極の上に正孔注入層を形成するステップをさらに含む、請求項7に記載の製造方法。
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