JP5114952B2 - エレクトロルミネッセンス素子、及びエレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
エレクトロルミネッセンス素子、及びエレクトロルミネッセンス素子の製造方法 Download PDFInfo
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Description
される有機EL素子に関する。
陰極との間に有機物からなる発光層を設けた構造の発光素子)の開発が加速度的に進んで
いる。有機EL素子の発光層材料としては、低分子量の有機材料であるアルミキノリノー
ル錯体(Alq3)等と、高分子量の有機材料であるポリパラフェニレンビニレン(PP
V)等がある。
(12),21 September 1987 913頁」に記載されているように、
蒸着法で成膜される。高分子量の有機材料からなる発光層は、例えば「Appl.Phy
s.Lett.71(1),7 July 1997 34頁〜」に示されているように
、塗布法で成膜される。
の正孔輸送層に向けて陽極から正孔が注入され、正孔輸送層はこの正孔を発光層まで輸送
する。発光層が正孔輸送性を有する場合には正孔輸送層を設けないこともある。正孔注入
層と正孔輸送層を別の層として設けることもある。PPV等の高分子材料で発光層を構成
する際には、正孔輸送層として、多くの場合、ポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導
体等の導電性高分子が使用されている。Alq3等の低分子材料で発光層を構成する際に
は、正孔輸送層として、多くの場合フェニルアミン誘導体等が使用されている。
極の上に発光層および正孔輸送層を配置する必要がある。したがって、この発光層および
正孔輸送層の配置をインクジェット法で行うことができれば、塗布とパターニングが同時
にできるため、短時間で精度の高いパターニングができる。しかも、用いる材料が必要最
小限で済むため、材料に無駄がなく製造コストを低くするという点でも有効である。
する必要があるが、発光層材料としてPPV等の高分子材料を用いる場合は、例えばその
前駆体溶液を使用することでインクジェット法による配置が可能である。PPV系高分子
材料からなる発光層をインクジェット法で配置することについては、特開平11−403
58号公報、特開平11−54270号公報、特開平11−339957号公報等に記載
されている。
、この隔壁で囲われた領域に向けて液状の材料を吐出することにより、前記領域に液状の
材料を配置する。この隔壁としては、例えば国際公開WO99/48229に、下層(基
板側)が酸化シリコン等の無機系絶縁からなり、上層がポリイミド等の有機高分子からな
る二層構造の隔壁が記載されている。
陽極2の周縁部を取り囲むように酸化シリコンからなる下層隔壁31が形成されている。
さらに、この下層隔壁31の上に、ポリイミドからなる上層隔壁32が形成されている。
下層隔壁31および上層隔壁32は薄膜形成とパターニングとにより、例えば1〜3μm
の厚さ(合計厚)で形成されている。
撥液化処理することも記載されている。
や、インクジェット法で吐出された液体(発光層形成材料を含む液体)とポリイミドとの
親和性の点から、隔壁近傍と中央部とで発光層の厚さが不均一になる恐れがある。発光層
の厚さが不均一になると、発光色、発光量が画素内で不均一になったり不安定になったり
して、発光効率が低下することになる。
り合う画素に別々の液体を確実に配置して、全ての画素内の液体が隣の画素用の液体で汚
染されないようにする必要があるが、前記構造の隔壁ではこの点においても改善の余地が
ある。汚染された画素は発光色の純度が低下することになる。
が、この方法ではプラズマ処理を行う必要があるため、コスト等の点で改善の余地がある
。
をなす発光層や正孔輸送層の配置をインクジェット法等の液体配置工程で行う際に、液体
が所定の領域内に確実に(隣の領域に配置されることなく)、且つ領域内で均一な厚さに
配置されるようにすることを課題とする。
これによれば、有機EL素子の発光効率を高めることができる。また、有機EL素子の耐久性を高めることができる。なお、第1の膜は正孔が移動可能であるため、有機EL素子の性能を大きく低下させることはない。
これによれば、有機EL素子の発光効率や耐久性をさらに高めることができる。
する。このような有機極薄膜としては、例えば自己組織化膜が挙げられる。前記有機極薄
膜パターンは自己組織化膜からなるパターンであることが好ましい。
分子に結合されている化合物を、気体または液体の状態で膜形成面と共存させることによ
り、前記官能基が膜形成面に吸着して膜形成面の構成原子と結合し、直鎖分子を外側に向
けて形成された単分子膜である。この単分子膜は、化合物の膜形成面に対する自発的な化
学吸着によって形成されることから、自己組織化膜と称される。
n to Ultrathin Organic Film from Langmui
r−Blodgett to Self−Assembly」(Academic Pr
ess Inc.Boston,1991)の第3章に詳細に記載されている。
ルオロアルキルシランを用いて形成された自己組織化膜から構成されるパターンが挙げら
れる。この場合、膜形成面は親水性になっている必要がある。
アルキルシランを用いて自己組織化膜を形成すると、膜形成面のヒドロキシル基との間に
脱水反応によってシロキサン結合が生じ、直鎖分子の末端にフルオロアルキル基(CF3
(CF2)n(CH2)n−)が配置されるため、得られる自己組織化膜の表面は撥液性(液
体によって濡れ難い性質)となる。
薄膜を全面に形成する工程と、当該有機極薄膜に対してフォトマスクを介して紫外線を照
射することで当該有機極薄膜の構成層形成領域に対応する部分を除去する工程と、によっ
て行うことができる。
る材料からなる自己組織化膜であることが好ましい。アミノ基またはカルボキシル基が表
面にあると、正孔輸送層形成材料の溶媒として通常使用される水やアルコール等との親和
性が高い。
ォン酸との混合物、銅フタロシアニン等が用いられる。そのため、正孔輸送層の下地とし
て形成される親液性有機極薄膜としては、親液性の官能基としてアミノ基またはカルボキ
シル基を有するアルキルシランを用いて形成された自己組織化膜を用いることが好ましい
。これにより、得られる自己組織化膜の表面にアミノ基またはカルボキシル基が存在する
ため、正孔輸送層形成材料の密着性が向上する。
等が用いられる。そのため、発光層の下地として形成される親液性有機極薄膜としては、
親液性の官能基としてアリル基、ビニル基、フェニル基、またはベンジル基等を有するア
ルキルシランを用いて形成された自己組織化膜を用いることが好ましい。これにより、得
られる自己組織化膜の表面にアリル基、ビニル基、フェニル基、またはベンジル基が存在
するため、ポリフルオレン系高分子やポリフェニレンビニレン系高分子からなる発光層の
密着性が向上する。
提供する。すなわち、赤緑青の3色の画素が隣り合って配置されるカラーディスプレーの
画素をなす素子として有機EL素子を作製する際に、発光層および/または正孔輸送層の
形成材料を含む液体の配置をインクジェット法で行う場合には、本発明の方法を採用する
ことが好ましい。
する有機EL素子において、絶縁薄膜層と、当該絶縁薄膜層上に、膜形成面の構成原子と
結合可能な官能基および撥液性の官能基を有する化合物を用いて形成された、表面が撥液
性である有機極薄膜層と、で構成された二層構造の隔壁により、発光層と正孔注入層およ
び/または正孔輸送層とのうちの少なくとも一方が囲われていることを特徴とする有機E
L素子を提供する。
薄膜層の膜厚は3nm以下であることが好ましい。
図1〜8を用いて本発明の第1実施形態について説明する。ここでは、有機EL素子を
画素として備えたディスプレーを例にとって、本発明の方法の一実施形態を説明する。各
図において(a)は1つの画素の断面図であり、(b)はその平面図である。この有機E
L素子は、陽極と陰極との間に、構成層として正孔輸送層と発光層の2層を有する。
する。このガラス基板1には、予め、有機EL素子の駆動用半導体装置等が形成されてい
る。
トリソグラフィー工程とエッチング工程とからなる通常のパターニング工程を行うことに
より、このSiO2薄膜の構成層形成領域(ITO電極2上の所定領域)に開口部3aを
形成する。これにより、ガラス基板1の最表面にSiO2薄膜パターン3が形成される。
図2はこの状態を示す。ここでは、開口部3aを円形とし、SiO2薄膜厚さを150n
mとした。
しているITO電極2の上面、開口部3aの内壁面)に、ヘプタデカフルオロテトラヒド
ロデシルトリメトキシシランを用いて自己組織化膜4を形成する。この自己組織化膜4の
表面全体には撥液性のフルオロアルキル基が存在する。ここでは、図2の状態のガラス基
板1を、ヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリメトキシシランの雰囲気中に96時
間放置することにより、厚さ約1nmの自己組織化膜4を形成した。図3はこの状態を示
す。
る。この凹部4aの開口形状は、SiO2薄膜パターン3の開口部3aと同じ円形であり
、その半径は自己組織化膜4の厚さ分だけ開口部3aより小さい。
マスク5を介して、ガラス基板1上の自己組織化膜4に紫外線(波長172nm)を照射
する。これにより、紫外線が照射された部分、すなわちITO電極2の上面および開口部
3aの内壁面の自己組織化膜4が除去されて、図5に示すように、SiO2薄膜パターン
3の上面にのみ自己組織化膜4が残る。
ーン41が形成される。この有機極薄膜パターン41の開口部4bは、その内壁面が、S
iO2薄膜パターン3の開口部3aの内壁面と同じか少し外側に配置されるようにする。
法により、有機極薄膜パターン41の上側からその開口部4bに向けて吐出する。ここで
は、この液体6として、正孔輸送層形成材料であるポリエチレンジオキシチオフェンとポ
リスチレンスルフォン酸とが溶解している水溶液を用いた。
は有機極薄膜パターン41の上面には止まらず、全て開口部3a内に入る。液体6が開口
部3aから溢れる場合には、図5に2点鎖線で示すように、液体6の上面が、有機極薄膜
パターン41の開口部4b上に盛り上がった状態となる。したがって、或る開口部4bに
向けて吐出された液体6が隣の開口部4bに入ることはない。
する。これにより、SiO2薄膜パターン3の開口部3a内に、ポリエチレンジオキシチ
オフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物からなる正孔輸送層61が形成される。
図6はこの状態を示す。ここでは、この正孔輸送層61の厚さを60nmとした。
ト法により、有機極薄膜パターン41の上側からその開口部4bに向けて吐出する。発光
層形成材料を含む液体7としては、ポリパラフェニレンビニレン(発光層形成材料)をキ
シレンにとかした液体を使用した。
出された液体7は有機極薄膜パターン41の上面には止まらず、全て開口部3a内に入る
。したがって、或る開口部4bに向けて吐出された液体7が隣の開口部4bに入ることは
ない。
する。これにより、SiO2薄膜パターン3の開口部3a内に、例えばポリフルオレン系
高分子からなる発光層71が形成される。図7はこの状態を示す。ここでは、この発光層
71の厚さを80nmとした。
。この陰極8は、発光層に応じて適切な仕事関数を有する材料を選択して形成される。こ
こでは、この陰極8を、厚さ10nmのカルシウム薄膜を蒸着法で形成した上に、さらに
厚さ400nmのアルミニウム薄膜を蒸着法で形成することにより、2層構造の陰極層と
した。この陰極8の上に、必要に応じて保護膜の形成や封止ガラスの接着等を行う。
に正孔輸送層61と発光層71を有する有機EL素子が形成される。また、この有機EL
素子は、SiO2薄膜パターン(絶縁薄膜層)3と有機極薄膜パターン(表面が撥液であ
る有機極薄膜層)41とからなる二層構造の隔壁により、発光層71および正孔輸送層6
1が囲われている。ここで、SiO2薄膜パターン3は、ITO電極(陽極)2と陰極8
との間の電気的なリークを防ぐために形成されている。
この有機極薄膜パターン41の開口部4bに向けて、インクジェット法により、正孔輸送
層61および発光層71の形成材料を含む液体6,7が吐出される。そのため、或る開口
部4bに向けて吐出された液体6,7が、隣の開口部4bに入ることが防止される。した
がって、この実施形態の方法で、赤緑青の3色の画素が隣り合って配置されるカラーディ
スプレーの有機EL素子を作製することにより、各色の画素の発光色の純度を高くするこ
とができる。
オーダーであることやプラズマ処理による表面状態の制御が難しいことから、吐出された
液体が、撥液性パターンの開口部内で凸状または凹状の液滴で存在することがある。この
凸状または凹状の液滴には、撥液性パターンの膜厚に応じたμmオーダーの高さの差があ
る。すなわち、一つの開口部3a内で液滴の高さが不均一となる場合がある。また、複数
の開口部の間で、液滴の形状が異なる場合もある。
も優れた撥液性を有することから、吐出された液体が、有機極薄膜パターン41の開口部
4b内で凸状または凹状の液滴で存在することはなく、開口部4b上に上面が盛り上がっ
た状態となる。その結果、上記従来の撥液性パターンと比較して、一つの開口部3a内お
よび複数の開口部間における正孔輸送層61および発光層71の膜厚の均一性を高くする
ことができる。
図9〜14を用いて本発明の第2実施形態について説明する。ここでは、有機EL素子
を画素として備えたディスプレーを例にとって、本発明の方法の一実施形態を説明する。
各図において(a)は1つの画素の断面図であり、(b)はその平面図である。この有機
EL素子は、陽極と陰極との間に、構成層として正孔輸送層と発光層の2層を有する。
板1上の各画素位置にITO電極(陽極)2を形成し、その上に開口部3aを有するSi
O2薄膜パターン3を形成し、このSiO2薄膜パターン3の上に、表面が撥液性である有
機極薄膜パターン41を形成する。この状態を図9に示す。
プロピルトリエトキシシランを用いて自己組織化膜9を形成する。図10はこの状態を示
す。この自己組織化膜9の表面全体には、親液性のアミノ基が存在する。ここでは、図9
の状態のガラス基板1を、アミノプロピルトリエトキシシランを含むメタノール1%溶液
に浸漬し、さらにメタノール、水にてリンスを行い、厚さ約0.5nmの自己組織化膜9
を形成した。
インクジェット法により、有機極薄膜パターン41の上側からその開口部4bに向けて吐
出する。ここで、有機極薄膜パターン41の表面は撥液性になっているため、吐出された
液体6は有機極薄膜パターン41の上面には止まらず、全て開口部3a内に入る。したが
って、或る開口部4bに向けて吐出された液体6が隣の開口部4bに入ることはない。
9が形成されているため、吐出された液体6は、この自己組織化膜9上に均一に広がった
状態で密に配置される。
する。これにより、SiO2薄膜パターン3の開口部3a内に、ポリエチレンジオキシチ
オフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物からなる正孔輸送層61が形成される。
図11はこの状態を示す。この例でも、この正孔輸送層61の厚さを60nmとした。
に浸漬し、さらにメタノール、水にてリンスを行い、開口部3aに露出している正孔輸送
層61の上面に、自己組織化膜10を厚さ約0.4nmで形成する。この自己組織化膜1
0の表面全体にはアリル基が存在する。図12はこの状態を示す。
を含む液体)を、インクジェット法により、有機極薄膜パターン41の上側からその開口
部4bに向けて吐出する。この時も前述のように、有機極薄膜パターン41の表面が撥液
性になっているため、吐出された液体7は有機極薄膜パターン41の上面には止まらず、
全て開口部3a内に入る。したがって、或る開口部4bに向けて吐出された液体7が隣の
開口部4bに入ることはない。
レン溶液)に対して親液性であるアリル基を有する自己組織化膜(表面が親液性である有
機極薄膜)10が形成されているため、吐出された液体7は、この自己組織化膜10上に
均一に広がった状態で配置される。
する。これにより、SiO2薄膜パターン3の開口部3a内に、ポリパラフェニレンビニ
レンからなる発光層71が形成される。図13はこの状態を示す。
。図14はこの状態を示す。ここでも、第1実施形態と同様に、厚さ10nmのカルシウ
ム薄膜と厚さ400nmのアルミニウム薄膜からなる2層構造の陰極層を形成した。この
陰極8の上に、必要に応じて保護膜の形成や封止ガラスの接着等を行う。
発光層71を有する有機EL素子が形成される。なお、この有機EL素子では、ITO電
極2と正孔輸送層61との間および正孔輸送層61と発光層71との間に、自己組織化膜
9,10が存在するが、これらの自己組織化膜9,10は膜厚が薄く正孔が容易に移動可
能な孔を有するため、有機EL素子の性能を大きく低下させることはない。
ーン(表面が撥液である有機極薄膜層)41とからなる二層構造の隔壁により、発光層7
1および正孔輸送層61が囲われている。
組織化膜9,10の存在により、ITO電極2と正孔輸送層61との間の密着性、および
正孔輸送層61と発光層71との間の密着性が高くなるため、有機EL素子の耐久性が高
くなる効果が得られる。また、前記第1実施形態で得られた有機EL素子と比較して、S
iO2薄膜パターン3の開口部3a内での正孔輸送層61および発光層71の膜厚の均一
性をより高くすることができる。
図15〜20を用いて本発明の第3実施形態について説明する。ここでは、有機EL素
子をバックライト等の面光源装置に適用した例について説明する。各図において(a)は
平面図であり、(b)は(a)のA−A線断面図である。この有機EL素子は、陽極と陰
極との間に、構成層として正孔輸送層と発光層の2層を有する。
する。このITO電極2は、構成層を挟む長方形の挟持部分21と、この挟持部分21か
ら突出している端子部分22とからなる。このITO電極2は、スパッタリング法等によ
るITO薄膜の形成後に、フォトリソグラフィー工程とエッチング工程とからなる通常の
パターニング工程を行うことにより形成される。ここでは、このITO電極2の厚さを1
50nmとした。
ヒドロデシルトリエトキシシランを用いて、自己組織化膜4を形成する。この自己組織化
膜4の表面全体には、撥液性のフルオロアルキル基が存在する。ここでは、図15の状態
のガラス基板1を、ヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリエトキシシランの雰囲気
中に96時間放置することにより、約1nmの膜厚で自己組織化膜4を形成した。
り大きな長方形の領域)に対応させた光透過部を有するフォトマスク5を介して、ガラス
基板1上の自己組織化膜4に紫外線(波長172nm)を照射する。これにより、紫外線
が照射された部分の自己組織化膜が除去されて、図17に示すように、構成層の形成領域
に対応させた開口部4bを有する、表面が撥液性である有機極薄膜パターン41が形成さ
れる。
(正孔輸送層形成材料)の水溶液を、スピンコート法によりガラス基板1の上面に塗布す
る。ここで、有機極薄膜パターン41の表面は撥液性になっているため、前記液体は有機
極薄膜パターン41の上面には止まらず開口部4b内にのみ入り、開口部4b内にあるI
TO電極2上に付着する。
て、ITO電極2上に正孔輸送層61を形成する。図18はこの状態を示す。ここでは、
この正孔輸送層61の厚さを60nmとした。
スピンコート法によりガラス基板1の上面に塗布する。この時も、前記液体は、表面が撥
液性である有機極薄膜パターン41に弾かれて開口部4b内にのみ入り、開口部4b内に
ある正孔輸送層61上に付着する。次に、このガラス基板1を所定温度で加熱することに
より、塗布された液膜を乾燥させて、正孔輸送層61の上に発光層71を形成する。図1
9はこの状態を示す。ここでは、この発光層71の厚さを80nmとした。
挟持部分81と、この挟持部分81から突出している端子部分82とからなり、端子部分
82が陽極2の端子部分82と同じ側に、互いに重ならない位置に配置する。この例でも
、第1実施形態と同様に、厚さ10nmのカルシウム薄膜と厚さ400nmのアルミニウ
ム薄膜からなる2層構造の陰極層を形成した。
の陰極8の上に、必要に応じて保護膜の形成や封止ガラスの接着等を行う。
を有する有機EL素子が、面光源装置として形成される。
体をスピンコート法により塗布する際に、表面が撥液性である有機極薄膜パターン41で
両層61,71の形成領域以外の部分が覆われているため、ガラス基板1の裏面等に各液
体が付着することが防止される。
71の形成材料を含む各液体の塗布方法としては、スピンコート法以外に、前記液体にガ
ラス基板1の上面を浸漬する方法(浸漬法)も好適に採用できる。
成材料を含む液体の塗布方法としては、スピンコート法や浸漬法も好適に採用できる。デ
ィスプレーの画素用の有機EL素子の作製方法において、発光層71の形成材料を含む液
体の塗布方法としては、赤緑青の3色の画素が隣り合って配置されるカラーディスプレー
の場合以外では、スピンコート法や浸漬法も好適に採用できる。
基を有するアルキルシランを、メタノールあるいはエタノール等の溶剤に溶かした溶液中
に、ガラス基板1を浸漬する方法で形成してもよい。
行うこともできる。先ず、図1の状態のガラス基板1をヘプタデカフルオロテトラヒドロ
デシルトリエトキシシランの雰囲気中に96時間放置することにより、表面が撥液性であ
る自己組織化膜を形成する。次に、構成層形成領域に対応する部分が光遮蔽部であり、そ
れ以外の部分が光透過部となっているフォトマスクを介して、この自己組織化膜に紫外線
(波長172nm)を照射する。これにより、ITO電極2上の構成層形成領域のみに自
己組織化膜が残る。
をスピンコート法で塗布する。これにより、この溶液は、表面が撥液性である自己組織化
膜上に止まらずに、自己組織化膜の開口部(ITO電極2上の構成層形成領域以外の部分
)に配置される。次に、この状態のガラス基板を所定温度で加熱することにより、前記部
分に主成分が酸化シリコンからなる絶縁薄膜層を形成する。
、ITO電極2上の構成層形成領域に残っていた自己組織化膜を除去する。その結果、図
2に示すように、ITO電極2上に、構成層形成領域に開口部3aを有する絶縁薄膜層3
が形成される。
孔輸送層)の形成材料を含む液体を、構成層の形成領域内に確実に(隣の領域に配置され
ることなく)、且つ領域内で均一な厚さに配置することができる。また、本発明の方法に
よれば、プラズマ処理を行う方法と比較してコストを低く抑えることができる。
、赤緑青の3色の画素が隣り合って配置されるカラーディスプレーの画素用の有機EL素
子を作製する方法に適用することにより、各色の画素の発光色の純度を高くし、発光効率
も高くすることができる。
部分、3…SiO2薄膜パターン、3a…SiO2薄膜パターンの開口部、31…下層隔壁
、32…ポリイミドからなる上層隔壁、4…表面が撥液性である自己組織化膜、41…表
面が撥液性である有機極薄膜パターン、4a…凹部、4b…有機極薄膜パターンの開口部
、5…フォトマスク、5a…光透過部、6…正孔輸送層形成材料を含む液体、61…正孔
輸送層(構成層)、7…発光層形成材料を含む液体、71…発光層(構成層)、8…陰極
、81…陰極の挟持部分、82…陰極の端子部分、9…表面が親液性である自己組織化膜
、10…表面が親液性である自己組織化膜。
Claims (13)
- 第1の電極と、
第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に位置する正孔輸送層と、
前記正孔輸送層と前記第2電極との間に位置するアリル基を有する第1の自己組織化膜と、
前記第1の自己組織化膜と前記第2の電極との間に位置し、前記第1の自己組織化膜に親液性を有する液体材料を利用して形成された発光層と、
前記第1の電極の一部と重なり、前記正孔輸送層を囲む隔壁と、を有すること、
を特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1に記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記正孔輸送層が前記第1の自己組織化膜より厚く、前記発光層が前記第1の自己組織化膜より厚い、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1または2に記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記第1の自己組織化膜の膜厚が3nm以下である、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記第1の自己組織化膜がトリエトキシシランを用いて形成されることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記発光層がポリフルオレン系高分子またはポリフェニレンビニレン系高分子を含む、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記正孔輸送層がポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物または銅フタロシアニンを含む、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記第1の電極を駆動する半導体装置を含む、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記第1の電極と前記正孔輸送層との間に第2の自己組織化膜を有し、
前記正孔輸送層が前記第2の自己組織化膜より厚く、前記発光層が前記第2の自己組織化膜より厚い、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項8に記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記第2の自己組織化膜がアミノ基またはカルボキシル基を有する、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし9のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子において、
前記隔壁が、無機層である第1の隔壁上と、前記第1の隔壁上に位置する有機層である第2の隔壁と、を含む、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンス素子を含むことを特徴とする光源装置。
- 第1の電極を形成する工程と、
前記第1の電極の一部に重なるように隔壁を形成する工程と、
前記第1の電極上に第1の液体を塗布し、正孔輸送層を形成する工程と、
前記正孔輸送層上に第2の液体を塗布し、アリル基を有する第1の自己組織化膜を形成する工程と、
前記第1の自己組織化膜上に、前記第1の自己組織化膜に親液性を有する第3の液体を塗布し、発光層を形成する工程と、を有すること、
を特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 請求項12に記載のエレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
前記第1の自己組織化膜がトリエトキシシランを用いて形成され、前記第3の液体と前記正孔輸送層との親和性より、前記第3の液体と前記第1の自己組織化膜との親和性のほうが大きい、ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
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