JP5343815B2 - 有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 - Google Patents
有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5343815B2 JP5343815B2 JP2009257715A JP2009257715A JP5343815B2 JP 5343815 B2 JP5343815 B2 JP 5343815B2 JP 2009257715 A JP2009257715 A JP 2009257715A JP 2009257715 A JP2009257715 A JP 2009257715A JP 5343815 B2 JP5343815 B2 JP 5343815B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- partition wall
- organic
- forming
- partition
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
Description
つまり、バンク内に塗布された薄膜材料液を乾燥させると、対応して設けた親和層の側壁でピニングされ、非親和層ではピニングされないので、安定した膜断面形状を有する薄膜とその積層構造を実現できるとしている。
この構成によれば、段差部の下方側に成膜された有機薄膜の上にさらに次の有機薄膜を形成するために膜形成領域に液状体を塗布したときに、撥液性を有する段差部の上面を比較的容易に越えることができ、むらなく液状体が充填される。すなわち、次の有機薄膜の断面形状をより安定したものとすることができる。
この構成によれば、隔壁部を下層側を構成する第1隔壁部と上層側を構成する第2隔壁部に分けて設けているため、上面が撥液性を有する段差部を容易に構成できる。
この構成によれば、基板上の構造物を利用し、その上に第2隔壁部を設けているので、構造物を避けて隔壁部を構成する場合に比べて、無駄なスペースを発生させずに、段差部を構成することができる。
なお、構造物としては、陽極を取り囲むように基板上に設けられる各種の配線や有機EL素子の駆動回路を構成するスイッチング素子や保持容量などに用いられる半導体層、これらの配線や半導体層を覆う絶縁膜などが積層されたものが挙げられる。
この構成によれば、構造物を隔壁部の一部として積極的に利用して、第1隔壁部とで段差部を構成することができる。言い換えれば、構造物上に第2隔壁部を設けなくてよいので、隔壁部の構成を簡略化できる。
この構成によれば、構造物と構造物上に設けた第2隔壁部とにより段差部を構成するので、第1隔壁部を設ける場合に比べて、隔壁部の構成を簡略化できる。
前述したように基板上に設けられる構造物は、主に無機材料により構成されているため、液状体に対して親液性を示しやすい。この構成によれば、基板上の高さ方向において、第1隔壁部と第2隔壁部との間に親液性を示す構造物が露出しているので、液状体が第1隔壁部を越えて膜形成領域に充填されると露出した構造物の表面において容易にピニングされる。すなわち、基板上の高さ方向において位置が安定した有機薄膜が得られる。
この構成によれば、構造物を内包して側壁に段差部を有する隔壁部を構成する。とりわけ、構造物が立体的に小さい場合には、構造物を内包することによって所望の高さの隔壁部を無理なく構成できる。
この方法によれば、塗布膜に含まれた撥液剤は、加熱を受け表層に向かって熱拡散する性質があるので、有機材料からなる隔壁部にフッソ系の処理ガスを用いて撥液性を付与する方法に比べて、安定的に撥液性を付与できる。また、加熱後の塗布膜をパターニングして第1隔壁部、第2隔壁部を形成するので、それぞれの上面に撥液性を付与し、それぞれの側壁は上面に比べて撥液性を弱めることができる。したがって、上面と側壁とで液状体に対する濡れ性を異ならせることができる。
この方法によれば、第1隔壁部の撥液性が第2隔壁部に比べて低くなる。したがって、第1隔壁部の下方側に成膜された有機薄膜の上にさらに次の有機薄膜を形成するために膜形成領域に液状体を塗布したときに、撥液性を有する第1隔壁部の上面を比較的容易に越えることができ、むらなく液状体を充填できる。すなわち、次に形成される有機薄膜の断面形状をより安定したものとすることができる。
この方法によれば、撥液性の付与方法を第1隔壁部と第2隔壁部とで変えるので、付与される撥液性を比較的容易に異ならせることができる。例えば、第2隔壁部に比べて、第1隔壁部の撥液性を低くすることが容易にできる。
また、第2隔壁部を撥液剤を含む感光性樹脂材料で形成する場合に比べて、熱処理を必要としないので、省エネルギーに貢献できる。
この方法によれば、基板上の構造物を利用し、その上に第2隔壁部を形成するので、構造物を避けて隔壁部を形成する場合に比べて、無駄なスペースを発生させずに、隔壁部を形成することができる。
この方法によれば、隔壁部における最上面すなわち頭頂部と段差部の上面とに選択的に且つほぼ同時に撥液層を形成することができる。
この方法によれば、構造物の高さよりも低い第1隔壁部の上面に確実に撥液性を付与することができる。
この方法によれば、隔壁部の頭頂部と段差部の上面とにほぼ同時に撥液層を形成できる。
この構成によれば、輝度むらが低減された有機EL素子を有しているので、安定した発光特性が得られる有機EL装置を提供できる。
この構成によれば、安定した発光特性が得られる有機EL装置が搭載されているので、例えば、有機EL装置を表示部として用いるならば、見栄えのよい表示が可能な電子機器を提供できる。
<有機EL装置>
本実施形態の有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子を備えた有機EL装置について、図1〜図3を参照して説明する。図1は有機EL装置の構成を示す概略正面図、図2は有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図、図3は有機EL素子の構成を示す模式図である。
本実施形態の機能層24は、機能層形成材料を含む液状体を画素電極23を含む膜形成領域に塗布して乾燥することにより形成されている。機能層24において輝度むらが少ない安定した発光を得るには、各有機薄膜の断面形状にむらがない状態で成膜されていることが重要である。とりわけ、発光層24Lの断面形状にむらがある、すなわち膜厚むらがあると、膜厚の薄い部分の電気的な抵抗が小さくなり、その部分を流れる電流が大きくなって輝度むらが生ずる。あるいは、発光層24Lにおける発光寿命を縮めてしまうおそれがある。
特許文献1には、このような隔壁部60に対してフッソ系の処理ガスでさらに表面処理を施し、非親和層62のバンク形成面(すなわち側壁)における液状体の接触角をさらに大きくする技術が開示されている。しかしながら、このような表面処理を施せば、液状体80はますます非親和層62を越えることが困難になり、次の親和層61に届き難くなるおそれがある。さらには、親和層61と非親和層62とを積層して得られた隔壁部60の側壁がほぼ面一な状態では余計に難しいと考えられる。つまり、異種の有機薄膜を安定した断面形状で積層することは、なかなか難しい。
図4は実施例1の有機EL素子の構造を示す概略断面図、図5は実施例1の有機EL素子の製造方法を示すフローチャート、図6(a)〜(f)および図7(g)〜(k)は有機EL素子の製造方法を示す概略断面図である。
素子基板1は、透明なガラスやプラスチックなどの基板が用いられている。
画素電極23はITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電膜を用いて形成され、共通電極27は不透明なAl(アルミニウム)などの反射性を有する金属材料を用いて形成されている。すなわち、有機EL素子20は、機能層24における発光が共通電極27により反射して素子基板1側から取り出されるボトムエミッション型である。
隔壁部36は、第1隔壁部34と、第1隔壁部34上に設けられ、第1隔壁部34よりも幅狭に設けられた第2隔壁部35とを有している。第1隔壁部34と第2隔壁部35とにより段差部36aが構成されている。
第1隔壁部34の上面34aと、第2隔壁部35の上面35aとに撥液性が付与されている。また、第2隔壁部35の上面35aに対して第1隔壁部34の上面34aは低い撥液性を有している。
すなわち、隔壁部36は、その断面形状において側壁に段差部36aを有している。その上面34aは、素子基板1の表面に対してほぼ平行で平であると共に、隔壁部36の頭頂部に比べて低い撥液性を有している。撥液性は頭頂部と段差部36aの上面34aとに付与されている。隔壁部36の側壁は、段差部36aの上面34aに比べてその下方側と上方側とで液状体に対してさらに低い撥液性(言い換えれば、親液性)を示す。隔壁部36の頭頂部は、第2隔壁部35の上面35aに相当するので、以降、頭頂部35aと呼ぶこともある。
感光性樹脂材料としては例えばフェノール系やエポキシ系あるいはポリイミド系の所謂レジスト材料が挙げられる。また、撥液剤としては、例えばフッ素系化合物が挙げられ、本実施形態では、DIC社製のフッ素系添加剤R−30を用いた。該撥液剤の主成分はパーフルオロアルキル系材料である。含有量がおよそ0.2wt%となるように上述したレジスト材料の溶液(以降、レジスト溶液と呼ぶ)に該撥液剤を添加した。
素子基板1の表面に平行な方向における第1隔壁部34間の間隔L1に比べて第2隔壁部35間の間隔L2を大きく設定することで、隔壁部36の側壁に段差部36aが形成される。段差部36aの上面34aは撥液性が維持されている。また、隔壁部36の頭頂部すなわち第2隔壁部35の上面35aは、撥液剤の濃度を高くしたことにより、段差部36aの上面34aに比べて高い撥液性を有する。
このような液状体70を用いて加熱乾燥後に膜厚がおよそ50nmの正孔注入層24hを形成した。
なお、PEDOT/PSS以外の正孔注入層形成材料としては、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体が挙げられる。そして、ステップS3へ進む。
そして、図7(i)に示すように、液状体80が塗布された素子基板1を減圧乾燥して、例えば窒素などの不活性ガス雰囲気で熱処理(130℃、1時間程度)を施すことにより、膜厚がおよそ10nmの中間層24mを成膜する。段差部36aを越えた液状体80は、段差部36aの上面34aが平坦であり、且つ第2隔壁部35の側壁35bが親液性を有しているので乾燥に伴って側壁35bとの接触界面が後退し難い。それゆえに側壁35bにおいて確実にピニングされる。その結果、先に成膜された正孔注入層24hの表面に沿って断面形状が安定した中間層24mが得られる。そして、ステップS4へ進む。
実施例1では、溶媒としてのシクロヘキシルベンゼンにポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を0.7wt%含んだ溶液を用いた。粘度はおよそ14mPa・sである。
共通電極27の材料としては、Ca、Ba、Mg、Al等の金属とLiF等のフッ化物とを組み合わせて用いるのが好ましい。特に機能層24に近い側に仕事関数が小さいCa、Ba、LiFの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいMg、Alを形成するのが好ましい。また、共通電極27の上にSiO2、SiN等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、共通電極27の酸化を防止することができる。
共通電極27の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、CVD法等が挙げられる。特に機能層24の熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
実施例1では、Caをおよそ5nm、Alをおよそ300nm、この順に蒸着して反射性を有する共通電極27を形成した。
次に、実施例2の有機EL素子およびその製造方法について図8および図9を参照して説明する。図8は実施例2の有機EL素子の構造を示す概略断面図、図9(a)および(b)は実施例2の変形例の有機EL素子の構造を示す概略断面図である。なお、実施例1と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。また、図8および図9では、共通電極27の図示を省略している。
実施例2の有機EL素子は、実施例1に対して画素電極23の周囲に設けられた構造物を活用した例である。
また、実施例1では、第1隔壁部34の上面34aに第2隔壁部35の前駆体である塗布膜35Pを形成する際に、上面34aの撥液性によってレジスト溶液が弾かれて塗布むらとなるおそれがあった。これに対して、実施例2では、低抵抗金属材料や絶縁層、あるいは半導体層などの無機材料から構成される構造物40上に塗布膜を形成するので、形成面において塗布むらを生ずることなく、安定した形状の第2隔壁部35が得られる。
図10は実施例3の有機EL素子の構造を示す概略断面図、図11(a)〜(c)は実施例3の有機EL素子における隔壁部の形成方法を説明する図である。なお、図10では共通電極27の図示を省略している。
図12は実施例4の有機EL素子の構造を示す概略断面図である。なお、隔壁部の構成が重要なので他の実施例と同じである共通電極27や機能層24の図示を省略している。
隔壁部36Fの側壁において、構造物43と第1隔壁部34dとにより段差部36Faが構成されている。
また、転写法を用いて第1隔壁部34dの上面に撥液層34eを形成すると、該上面の構造物43の側壁43bに近い側には転写され難い。つまり、段差部36Faの側壁43b寄りに撥液層34eがない撥液性が低い部分が形成される。
したがって、隔壁部36Fによって区画された膜形成領域Aに液状体70,80,90を充填する際に、段差部36Faが目安となり、段差部36Faを挟んだ下方側と上方側とに成膜後の断面形状が安定した異種の有機薄膜(正孔注入層24h、中間層24m、発光層24L)が得られる。
図13は実施例5の有機EL素子の構造を示す概略断面図である。なお、隔壁部の構成が重要なので他の実施例と同じである共通電極27や機能層24の図示を省略している。
構造物44は、前述したように主に無機材料が用いられており、その側壁44bは親液性を示す。
また、転写法を用いて構造物44の上面に撥液層44aを形成すると、第2隔壁部35の側壁35bに近い側には転写され難い。つまり、段差部36Gaの側壁35b寄りに撥液層44aがない親液性を有する部分が露出する。
図14は実施例6の有機EL素子の構造を示す概略断面図である。なお、隔壁部の構成が重要なので他の実施例と同じである共通電極27や機能層24の図示を省略している。
隔壁部36Hの側壁において、第1隔壁部34dと構造物45と第2隔壁部35とにより段差部36Haが構成されている。
また、転写法を用いて第1隔壁部34dの上面に撥液層34eを形成すると、該上面の構造物45の側壁に近い側には転写され難い。つまり、段差部36Haの構造物45寄りに撥液層34eがない撥液性が低い部分が形成される。
したがって、隔壁部36Hによって区画された膜形成領域Aに液状体70,80,90を充填する際に、段差部36Haが目安となり、段差部36Haを挟んだ下方側と上方側とに成膜後の断面形状が安定した異種の有機薄膜(正孔注入層24h、中間層24m、発光層24L)が得られる。
図15(a)は実施例7の有機EL素子の構造を示す概略断面図、同図(b)および(c)は実施例7の有機EL素子の製造方法を説明する概略断面図である。なお、図15(a)では他の実施例と同じである共通電極27や機能層24の図示を省略している。
液状体90を膜形成領域Aに塗布して発光層24Lを形成する場合にも、液状体80と同様に塗布すれば、側壁36nの部分でピニングされ、断面形状が安定した発光層24Lが得られる。
膜形成領域Aが短手や長手方向を特定し難い例えば平面的に円形であるならば、円周に沿って段差部36aを有する隔壁部36を形成することが望ましい。
<電子機器>
次に本実施形態の電子機器について、図18を参照して説明する。図18(a)は電子機器の一例としての携帯型電話機を示す図、同図(b)は電子機器の一例としての薄型テレビを示す図である。
表示部501には、上記第1実施形態の有機EL装置10が搭載されている。
したがって、機能層24における異種の有機薄膜が安定した断面形状で形成されている有機EL素子20を有しているので、発光寿命が長く見栄えのよい携帯型電話機500を提供することができる。
したがって、優れた耐久寿命と美しいフルカラー表示が可能な薄型テレビ1000を提供することができる。
Claims (21)
- 基板上において陽極と陰極との間に配置され、発光層を含む異種の有機薄膜が積層された機能層と、前記機能層を区画する隔壁部とを備えた有機EL素子であって、
前記有機薄膜は、前記隔壁部によって区画された膜形成領域に機能層形成材料を含む液状体を塗布し乾燥することにより形成され、
前記隔壁部は、前記隔壁部の厚み方向において側壁に設けられた少なくとも1段の段差部を有し、
前記隔壁部の最上面と前記段差部の上面とに撥液性が付与され、
前記段差部を除く前記側壁の表面は、前記段差部の上面に比べて親液性を有することを特徴とする有機EL素子。 - 前記段差部の上面は、前記隔壁部の最上面に比べて低い撥液性を有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。
- 前記隔壁部は、第1隔壁部と、前記第1隔壁部上に設けられ、前記第1隔壁部よりも幅狭に設けられた第2隔壁部とを有し、
前記第1隔壁部と前記第2隔壁部とにより前記段差部が構成され、
前記第1隔壁部の上面と、前記第2隔壁部の上面とに撥液性が付与されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子。 - 前記隔壁部は、前記基板上において前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物と、前記構造物を挟んだ内側と外側とに設けられた第1隔壁部と、前記構造物上に設けられた第2隔壁部とを有し、
前記第1隔壁部と前記第2隔壁部とにより前記段差部が構成され、
前記第1隔壁部の上面と、前記第2隔壁部の上面とに撥液性が付与されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子。 - 前記隔壁部は、前記基板上において前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物と、前記構造物を挟んだ内側と外側とに設けられ、高さが前記構造物よりも低い第1隔壁部とを有し、
前記構造物と前記第1隔壁部とにより前記段差部が構成され、
前記構造物の上面と、前記第1隔壁部の上面とに撥液性が付与されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子。 - 前記隔壁部は、前記基板上において前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物と、前記構造物上に設けられた第2隔壁部とを有し、
前記構造物と前記第2隔壁部とにより前記段差部が構成され、
前記第2隔壁部の上面と、露出した前記構造物の上面とに撥液性が付与されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子。 - 前記隔壁部は、前記基板上において前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物と、前記構造物を挟んだ内側と外側とに設けられ、高さが前記構造物よりも低い第1隔壁部と、前記構造物上に設けられた第2隔壁部とを有し、
前記構造物と前記第1隔壁部と前記第2隔壁部とにより前記段差部が構成され、
前記第1隔壁部の上面と、前記第2隔壁部の上面とに撥液性が付与されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子。 - 前記隔壁部は、前記基板上において前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物を内包すると共に、前記隔壁部の厚み方向において側壁に設けられた少なくとも1段の段差部を有し、
前記隔壁部の最上面と前記段差部の上面とに撥液性が付与されていることを特徴とする
請求項1に記載の有機EL素子。 - 基板上において陽極と陰極との間に配置され、発光層を含む異種の有機薄膜が積層された機能層を備えた有機EL素子の製造方法であって、
前記陽極を区画すると共に上面が撥液性を有するように第1隔壁部を形成する第1隔壁部形成工程と、
上面が撥液性を有すると共に前記第1隔壁部よりも狭い幅の第2隔壁部を前記第1隔壁部上に形成する第2隔壁部形成工程と、
前記第1隔壁部および前記第2隔壁部とからなる隔壁部によって区画された膜形成領域に、機能層形成材料を含む液状体を塗布して乾燥することにより前記有機薄膜を形成する機能層形成工程と、
前記機能層上に前記陰極を形成する陰極形成工程と、
を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記第1隔壁部形成工程および前記第2隔壁部形成工程は、撥液剤を含有した感光性樹脂材料を用いて前記基板上に塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を熱処理する工程と、
熱処理された前記塗布膜をパターニングして前記第1隔壁部、前記第2隔壁部を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項9に記載の有機EL素子の製造方法。 - 前記第1隔壁部形成工程は、前記第2隔壁部形成工程に比べて前記塗布膜に含まれる撥液剤の量を少なくして前記第1隔壁部を形成することを特徴とする請求項10に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記第2隔壁部形成工程は、感光性樹脂材料を用いて前記第2隔壁部を前記第1隔壁部上にパターニング形成する工程と、前記第2隔壁部の上面に撥液層を転写する工程とを含むことを特徴とする請求項9に記載の有機EL素子の製造方法。
- 基板上において陽極と陰極との間に配置され、発光層を含む異種の有機薄膜が積層された機能層と、前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物とを備えた有機EL素子の製造方法であって、
前記構造物を挟んだ内側と外側とに前記構造物よりも高さが低い第1隔壁部を形成する第1隔壁部形成工程と、
前記第1隔壁部の上面と前記構造物の上面とに撥液性を付与する撥液性付与工程と、
前記第1隔壁部および前記構造物からなる隔壁部によって区画された膜形成領域に、機能層形成材料を含む液状体を塗布して乾燥することにより前記有機薄膜を形成する機能層形成工程と、
前記機能層上に前記陰極を形成する陰極形成工程と、
を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 基板上において陽極と陰極との間に配置され、発光層を含む異種の有機薄膜が積層された機能層と、前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物とを備えた有機EL素子の製造方法であって、
前記構造物上に第2隔壁部を形成する第2隔壁部形成工程と、
前記第2隔壁部の上面と前記構造物の上面とに撥液性を付与する撥液性付与工程と、
前記構造物と前記第2隔壁部とからなる隔壁部によって区画された膜形成領域に、機能層形成材料を含む液状体を塗布して乾燥することにより前記有機薄膜を形成する機能層形成工程と、
前記機能層上に前記陰極を形成する陰極形成工程と、
を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 基板上において陽極と陰極との間に配置され、発光層を含む異種の有機薄膜が積層された機能層と、前記陽極の外周を囲むように設けられた構造物とを備えた有機EL素子の製造方法であって、
前記構造物を挟んだ内側と外側とに前記構造物よりも高さが低い第1隔壁部を形成する第1隔壁部形成工程と、
前記構造物上に第2隔壁部を形成する第2隔壁部形成工程と、
前記第1隔壁部の上面と前記第2隔壁部の上面とに撥液性を付与する撥液性付与工程と、
前記第1隔壁部と前記構造物と前記第2隔壁部とからなる隔壁部によって区画された膜形成領域に、機能層形成材料を含む液状体を塗布して乾燥することにより前記有機薄膜を形成する機能層形成工程と、
前記機能層上に前記陰極を形成する陰極形成工程と、
を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記撥液性付与工程は、撥液性を付与する前記上面に撥液層を転写することを特徴とする請求項13乃至15のいずれか一項に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記第1隔壁部形成工程は、撥液剤を含有した感光性樹脂材料を用いて前記基板上に塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜を熱処理する工程と、
熱処理された前記塗布膜をパターニングして前記第1隔壁部を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項13または請求項15に記載の有機EL素子の製造方法。 - 基板上において陽極と陰極との間に配置され、発光層を含む異種の有機薄膜が積層された機能層と、前記陽極の外周側に設けられた構造物とを備えた有機EL素子の製造方法であって、
前記陽極を区画すると共に、前記構造物を立体的に内包して前記構造物よりも高さが高い頭頂部と前記頭頂部との間の側壁に段差部とを有する隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、
前記隔壁部の前記頭頂部と前記段差部の上面とに撥液性を付与する撥液性付与工程と、
前記隔壁部によって区画された膜形成領域に、機能層形成材料を含む液状体を塗布して乾燥することにより前記有機薄膜を形成する機能層形成工程と、
前記機能層上に前記陰極を形成する陰極形成工程と、
を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記撥液性付与工程は、前記隔壁部の前記頭頂部と前記段差部の上面とに撥液層を転写することを特徴とする請求項18に記載の有機EL素子の製造方法。
- 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の有機EL素子、または請求項9乃至19のいずれか一項に記載の有機EL素子の製造方法を用いて製造された有機EL素子を備えたこと
を特徴とする有機EL装置。 - 請求項20に記載の有機EL装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009257715A JP5343815B2 (ja) | 2009-11-11 | 2009-11-11 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 |
US12/943,346 US8507897B2 (en) | 2009-11-11 | 2010-11-10 | Organic EL element having a partition with a step, method for manufacturing organic EL element, organic EL device, and electronic apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009257715A JP5343815B2 (ja) | 2009-11-11 | 2009-11-11 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011103222A JP2011103222A (ja) | 2011-05-26 |
JP5343815B2 true JP5343815B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=43973508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009257715A Active JP5343815B2 (ja) | 2009-11-11 | 2009-11-11 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8507897B2 (ja) |
JP (1) | JP5343815B2 (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130043482A (ko) | 2011-10-20 | 2013-04-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
JP6057052B2 (ja) * | 2012-07-04 | 2017-01-11 | 株式会社Joled | 表示素子、及び表示素子の製造方法 |
CN102779831B (zh) | 2012-07-10 | 2015-09-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机显示器件及制作的方法 |
WO2014030354A1 (ja) | 2012-08-23 | 2014-02-27 | パナソニック株式会社 | 有機電子デバイスの製造方法および有機elデバイスの製造方法 |
KR101941178B1 (ko) | 2012-09-28 | 2019-01-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR102080008B1 (ko) | 2013-07-12 | 2020-02-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 및 그 제조방법 |
KR102365911B1 (ko) * | 2014-10-17 | 2022-02-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20180076832A (ko) | 2016-12-28 | 2018-07-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 전계 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN106783939B (zh) * | 2017-03-03 | 2020-04-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制造方法 |
KR102507122B1 (ko) * | 2017-11-03 | 2023-03-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이를 이용한 제조 방법 |
US10879327B2 (en) | 2018-07-09 | 2020-12-29 | Joled Inc. | Organic EL display panel and method of manufacturing the same, organic EL display device and electronic apparatus |
CN109103235B (zh) * | 2018-09-25 | 2022-11-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 有机发光二极管显示面板及其制作方法、显示装置 |
JP7334741B2 (ja) | 2018-09-25 | 2023-08-29 | 日産化学株式会社 | 有機機能膜付き基板の製造方法 |
KR20200071429A (ko) * | 2018-12-11 | 2020-06-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법 |
CN114008147B (zh) | 2019-06-26 | 2023-05-02 | 日产化学株式会社 | 电荷传输性清漆 |
CN114008808A (zh) | 2019-06-26 | 2022-02-01 | 日产化学株式会社 | 电荷传输性清漆 |
CN111010468B (zh) * | 2019-12-03 | 2021-02-19 | Oppo广东移动通信有限公司 | 一种显示屏组件以及电子装置 |
CN111146255B (zh) * | 2019-12-13 | 2022-08-16 | 云谷(固安)科技有限公司 | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 |
KR102216680B1 (ko) * | 2020-02-12 | 2021-02-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 |
CN112133734B (zh) * | 2020-09-29 | 2022-08-30 | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 | 显示面板及显示装置 |
WO2022180481A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置および電子機器 |
JPWO2022185150A1 (ja) * | 2021-03-05 | 2022-09-09 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3328297B2 (ja) * | 1998-03-17 | 2002-09-24 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置の製造方法 |
JP3646510B2 (ja) | 1998-03-18 | 2005-05-11 | セイコーエプソン株式会社 | 薄膜形成方法、表示装置およびカラーフィルタ |
JP3879425B2 (ja) * | 2001-04-03 | 2007-02-14 | セイコーエプソン株式会社 | 有機el素子の製造方法 |
JP2004319119A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
JP5105877B2 (ja) * | 2004-10-13 | 2012-12-26 | シャープ株式会社 | 機能基板 |
JP2008066054A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置およびその製造方法 |
JP2008135255A (ja) | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および電子機器 |
JP2008234989A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置、及びラインヘッド |
WO2008149498A1 (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Panasonic Corporation | 有機el素子、およびその製造方法 |
JP4935599B2 (ja) * | 2007-09-26 | 2012-05-23 | カシオ計算機株式会社 | 表示装置の製造方法 |
US8130177B2 (en) * | 2008-03-13 | 2012-03-06 | Panasonic Corporation | Organic EL display panel and manufacturing method thereof |
US7842947B2 (en) * | 2008-06-06 | 2010-11-30 | Panasonic Corporation | Organic EL display panel and manufacturing method thereof |
-
2009
- 2009-11-11 JP JP2009257715A patent/JP5343815B2/ja active Active
-
2010
- 2010-11-10 US US12/943,346 patent/US8507897B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110108880A1 (en) | 2011-05-12 |
JP2011103222A (ja) | 2011-05-26 |
US8507897B2 (en) | 2013-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5343815B2 (ja) | 有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 | |
US8344362B2 (en) | Organic electroluminescent device, method for producing organic electroluminescent device, and electronic apparatus | |
KR100691702B1 (ko) | 유기 일렉트로루미네선스 장치, 그 제조 방법 및 전자 기기 | |
KR100828870B1 (ko) | 표시장치 및 그 제조방법 | |
JP5326999B2 (ja) | 有機el装置、有機el装置の製造方法、電子機器 | |
KR101004856B1 (ko) | 표시장치의 제조방법 | |
JP2007115465A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2009081097A (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
JP5131446B2 (ja) | 表示パネル及びその製造方法 | |
US7294960B2 (en) | Organic electroluminescent device with HIL/HTL specific to each RGB pixel | |
JP5233285B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法および電気光学装置 | |
JP2012160388A (ja) | 有機el表示装置およびその製造方法 | |
JP2011090910A (ja) | 有機el装置用基板およびそれを用いた有機el装置の製造方法 | |
US20190088725A1 (en) | Display device and method of manufacturing display device | |
JP5201484B2 (ja) | 発光装置及びその製造方法並びに電子機器 | |
JP2011146184A (ja) | 有機el装置の製造方法、有機el装置、電子機器 | |
JP6083122B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JP2009238708A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 | |
JP4678400B2 (ja) | アクティブマトリクス基板、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 | |
JP2006172854A (ja) | パターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2011096375A (ja) | 光学装置、その製造方法、および電子機器 | |
JP2010040816A (ja) | 有機el装置および有機el装置の製造方法、ならびに電子機器 | |
JP5201097B2 (ja) | 有機el装置、有機el装置の製造方法、電子機器 | |
JP4697422B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
JP2012079486A (ja) | 有機el素子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120720 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130716 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130729 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5343815 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |