JP5201484B2 - 発光装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、発光装置及びその製造方法並びに電子機器に関し、特に、高分子系の有機材料からなる発光機能層を有する発光素子が配列された発光パネルを備えた発光装置及びその製造方法、並びに、該発光装置を備えた電子機器に関する。

近年、携帯電話や携帯音楽プレーヤ等の電子機器の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する）等の発光素子を２次元配列した表示パネル（発光素子型表示パネル）を適用したものが知られている。特に、アクティブマトリクス駆動方式を適用した発光素子型表示パネルにおいては、広く普及している液晶表示装置に比較して、表示応答速度が速く、視野角依存性も小さく、また、高輝度・高コントラスト化、表示画質の高精細化等が可能であるという特長を有している。加えて、発光素子型表示パネルは、液晶表示装置のようにバックライトや導光板を必要としないので、一層の薄型軽量化が可能であるという特長も有している。

このような表示パネルに適用される発光素子として、近年、高分子系の有機材料を発光機能層に用いた有機ＥＬ素子の開発が進んでいる。この高分子系有機ＥＬ素子は、概略、有機ＥＬ層（発光機能層）を挟むように、アノード電極（陽極）とカソード電極（陰極）を形成した構造を有している。そして、有機ＥＬ層に発光しきい値を越えるようにアノード電極とカソード電極に電圧を印加することにより、有機ＥＬ層内でホールと電子が再結合する際に生じるエネルギーに基づいて光（励起光）が放射される。

ところで、高分子系有機ＥＬ素子における発光機能層の形成方法としては、例えばインクジェット法（液体吐出法）やノズルプリンティング法（又は、ノズルコーティング法）等を用いて、基板上に発光機能層を形成するための有機材料を塗布する手法が知られている。このような発光機能層の形成方法においては、基板上に配列される各有機ＥＬ素子の形成領域を画定するとともに、各形成領域における有機材料の塗布状態（すなわち発光機能層の成膜状態）を均一化するために、基板上の各形成領域間（境界領域）に隔壁を設けた基板構造を適用することが知られている。このような隔壁を備えた有機ＥＬ表示パネルについては、例えば、特許文献１、２等に記載されている。これらの特許文献には、基板上に格子状に突出して形成された隔壁を設けた基板構造が開示されている。

特開２００１−０７６８８１号公報 特開２００８−１０８７３７号公報

上述した特許文献１、２に開示されたような発光機能層の形成方法においては、次のような問題を有していた。すなわち、基板に配列される各有機ＥＬ素子間の境界領域に格子状に隔壁を設けた基板構造の場合、有機材料を塗布する際に、各有機ＥＬ素子の形成領域に有機材料を均一に塗布するためにインクジェット法が用いられている。ここで、インクジェット法は、所望の吐出量の有機材料を、各有機ＥＬ素子の形成領域に直接かつ精度良く塗布して、均一な発光機能層を形成することができるという特長を有している。

しかしながら、インクジェット法においては、各有機ＥＬ素子の形成領域に有機材料を直接塗布するため、基板表面への着滴時に有機材料の跳ね返りや飛散が発生する場合があるという問題を有していた。また、インクジェット法においては、各有機ＥＬ素子の形成領域にインクノズルのヘッドを高精度に位置合わせする必要があるため、例えば高精細の表示パネルの製造に適用する場合、制御が複雑かつ煩雑になるという問題も有していた。そのため、高い製造効率で、表示パネルを量産化することができる技術が求められている。

なお、上述したような問題を解決する手法として、インクジェット法に換えてノズルコーティング法（又はノズルプリンティング法）を用い、有機材料を塗布する方法も考えられる。しかしながら、基板上に格子状の隔壁を設けた基板構造の場合、ノズルから吐出される有機材料の液流の一部が隔壁により不均等に分流されたり、隔壁上に残留したりするため、各形成領域に有機材料が均一に塗布されず、有機ＥＬ素子機能層の膜厚にばらつきが生じる。そのため、有機ＥＬ素子の寿命や発光特性の劣化を招いて、発光輝度のばらつきが生じるという問題を有していた。なお、ノズルコーティング法を用いた場合の問題については、後述する発明の実施形態において詳しく説明する。

そこで、本発明は、上述した問題点に鑑み、高い製造効率で量産化することができ、素子寿命や発光特性に優れ、発光輝度のばらつきを抑制することができる発光パネルを備えた発光装置及びその製造方法、並びに、該発光装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。

請求項１記載の発明は、基板上に第一電極、少なくとも一層からなる発光機能層、第二電極が積層された発光素子を備える複数の画素が配列された発光装置の製造方法において、前記複数の画素の前記第一電極が露出するような開口部を備えた隔壁を形成する工程と、前記基板の特定の方向に配列された前記画素間の前記隔壁上で且つ、前記特定の方向において互いに等間隔に配置され、前記画素間の前記隔壁上に塗布される液体を前記画素の前記開口部内に流す複数の液体制御部を形成する工程と、前記特定の方向に沿って、前記特定の方向に配列された前記画素及び前記特定の方向に配列された前記画素間の前記隔壁に液体を塗布して、前記画素の形成領域に前記発光機能層を成膜する工程と、を含むことを特徴とする。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の発光装置の製造方法において、前記液体を塗布する工程に先立って、前記液体制御部及び前記隔壁を、前記液体に対して撥液化する工程を含むことを特徴とする。
請求項３記載の発明は、請求項1又は２に記載の発光装置の製造方法において、前記液体制御部は、前記隔壁上から前記開口部内に流される前記液体の量を制御することを特徴とする。
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発光装置の製造方法において、塗布された前記液体が加熱されることによって前記画素の前記形成領域に前記発光機能層が成膜されることを特徴とする。
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発光装置の製造方法において、前記液体制御部は、導電性材料により形成され、前記隔壁を貫通して前記隔壁の下層に配設された配線に電気的に接続されていることを特徴とする。

請求項６記載の発明は、基板上に第一電極、少なくとも一層からなる発光機能層、第二電極が積層された発光素子からなる複数の画素が配列された発光装置において、前記複数の画素の前記第一電極がそれぞれ露出するような略矩形の複数の開口部を備えた隔壁と、前記開口部における対向する二辺を結ぶ方向に配列された前記画素間の前記隔壁上に、前記方向において互いに等間隔で設けられる複数の液体制御部と、を有し、前記対向する二辺は当該開口部の他の対向する二辺より短い辺となり、前記開口部と、当該開口部の前記他の対向する二辺のうちの少なくとも一辺側に隣接する他の前記開口部との間の前記隔壁上には前記液体制御部が設けられていないことを特徴とする。

請求項７記載の発明は、請求項６記載の発光装置において、前記液体制御部は、導電性材料により形成され、前記隔壁を貫通して前記隔壁の下層に配設された配線に電気的に接続されていることを特徴とする。
請求項８記載の発明は、請求項６又は７記載の発光装置において、前記液体制御部及び前記隔壁は、前記発光素子の発光機能層を形成するための液体に対して撥液性を有していることを特徴とする。
請求項９記載の発明は、請求項６乃至８のいずれかに記載の発光装置において、前記液体制御部は、前記隔壁と同一の材質により形成されていることを特徴とする。
請求項１０記載の発明に係る電子機器は、前記請求項請求項６乃至９のいずれかに記載の発光装置が実装されてなることを特徴とする。

本発明に係る発光装置及びその製造方法によれば、高い製造効率で量産化することができ、かつ、素子寿命や発光特性に優れ、発光輝度のばらつきを抑制することができる。また、本発明に係る電子機器によれば、該発光装置を備えることにより、良好な画像表示を実現することができる。

本発明に係る発光装置を表示装置に適用した場合の表示パネル（発光パネル）の第１の実施形態を示す概略平面図である。 第１の実施形態に係る表示装置（表示パネル）を示す概略断面図である。 第１の実施形態に係る表示装置（表示パネル）の製造方法の一例を示す工程断面図（その１）である。 第１の実施形態に係る表示装置（表示パネル）の製造方法の一例を示す工程断面図（その２）である。 第１の実施形態に係る表示装置（表示パネル）の製造方法の一例を示す工程断面図（その３）である。 第１の実施形態に係る表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の具体例を示す基板平面図である。 第１の実施形態に係る表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の要部具体例を示す工程断面図（その１）である。 第１の実施形態に係る表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の要部具体例を示す工程断面図（その２）である。 第１の実施形態に係る表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の要部具体例を示す工程断面図（その３）である。 比較対象となる表示パネルの一例を示す概略構成図である。 比較対象となる表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の一例を示す工程断面図である。 第２の実施形態に係る表示装置に適用される表示パネル（発光パネル）を示す概略構成図である。 第２の実施形態に係る表示パネルに適用される画素の一例を示す等価回路図である。 第２の実施形態に係る表示パネルに適用される配線構造の一例を示す概略平面図である。 第２の実施形態に係る表示パネルの製造方法の一例を示す工程断面図である。 第３の実施形態に係るデジタルカメラの構成を示す斜視図である。 第３の実施形態に係るモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。 第３の実施形態に係る携帯電話の構成を示す図である。

以下、本発明に係る発光装置及びその製造方法、該発光装置を備えた電子機器について、実施形態を示して詳しく説明する。ここでは、本発明に係る発光装置を表示装置に適用した場合について説明する。
＜第１の実施形態＞
（表示装置）

図１は、本発明に係る発光装置を表示装置に適用した場合の表示パネル（発光パネル）の第１の実施形態を示す概略平面図である。図２は、本実施形態に係る表示装置（表示パネル）を示す概略断面図である。ここで、図２（ａ）は、図１における表示パネルのIIＡ−IIＡ線（本明細書においては図１中に示したローマ数字の「２」に対応する記号として便宜的に「II」を用いる）に沿った断面を示す概略断面図であり、図２（ｂ）は、図１における表示パネルのIIＢ−IIＢ線に沿った断面を示す概略断面図であり、図２（ｃ）は、図１における表示パネルのIIＣ−IIＣ線に沿った断面を示す概略断面図である。なお、図１に示す平面図においては、説明の都合上、表示パネル（基板）の一面側（有機ＥＬ素子の形成面側）から見た場合の、各画素に設けられる画素電極と、各画素の形成領域（ＥＬ素子形成領域）を画定する隔壁（バンク）との配置関係のみを示し、その上層に設けられる対向電極や保護絶縁膜の表記を省略した。また、図１に示す平面図においては、隔壁の配置及びその構造を明瞭にするために、便宜的にハッチングを施して示した。

図１、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施形態に係る表示装置に適用される表示パネル（発光パネル）１０Ａは、ガラス等の絶縁性の基板１１の一面側（図１の紙面手前側）に設定された画素アレイ領域Ｒpxに、発光素子である有機ＥＬ素子ＯＥＬを備えた複数の画素ＰＩＸが、行方向（図１の左右方向）及び列方向（図１の上下方向）に配列されている。

また、表示パネル１０Ａは、図１、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、基板１１の一面側から突出し、略矩形の複数の開口部１３ａが設けられた格子状の隔壁（バンク）１３により、基板１１の一面側に配列された各画素ＰＩＸの有機ＥＬ素子ＯＥＬの形成領域（以下、「ＥＬ素子形成領域」と記す）Ｒelが画定される。ここで、格子状の平面パターンを有する隔壁１３は、上記のＥＬ素子形成領域Ｒelを個別の領域として画定する役割に加え、当該隔壁１３が形成される境界領域に、有機ＥＬ素子ＯＥＬを発光駆動するための回路素子（薄膜トランジスタ等）や配線層を配置して、表示パネル１０Ａの開口率を確保するという役割も有している。尚、隔壁１３は、有機ＥＬ素子ＯＥＬを発光駆動するための回路素子や配線層を配置して、表示パネル１０Ａの開口率を確保するための第一隔壁と、ＥＬ素子形成領域Ｒelを個別の領域として画定するための第二隔壁と、の二層構造からなるものでもよい。

各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelには、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、画素電極（例えばアノード電極）１２と、有機ＥＬ層１４（例えば正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂ；発光機能層）と、対向電極（例えばカソード電極）１６と、が積層された有機ＥＬ素子ＯＥＬが設けられている。ここで、有機ＥＬ層１４（正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂ）は、後述する表示パネルの製造方法において説明するように、ノズルコーティング法により所定のインク（液体）を列方向に配列された各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに連続的に塗布することにより形成される。また、対向電極１６は、各画素ＰＩＸの有機ＥＬ層１４を介して各画素電極１２に共通して対向するように、単一の平面電極（べた電極）により形成されている。

そして、本実施形態に係る表示パネル１０Ａにおいては、図１、図２（ａ）、（ｃ）に示すように、列方向に配列された画素ＰＩＸ間の境界領域に形成された隔壁１３上に、各々独立した液体制御部１５が設けられている。液体制御部１５は、境界領域となる隔壁１３上の略中央に配置され、かつ、液体制御部１５間のピッチが等間隔になるように設けられている。また、液体制御部１５の幅は、隔壁１３の開口部１３ａから露出する画素電極１２の幅寸法（厳密には、後述する表示装置の製造方法において、列方向に連続的に塗布されるインクの幅）よりも小さくなるように設けられている。また、液体制御部１５の平面形状は、図１に示したような正方形に限定されるものではなく、長方形や菱形、円形等であってもよい。また、隔壁１３上面からの突出形状（断面形状）についても、図２（ａ）、（ｃ）に示したような正方形の他、長方形や台形、三角形等であってもよいし、針状に細く突出しているものであってもよい。ここで、液体制御部１５は、上述した隔壁１３と同じ材質、例えば感光性の樹脂材料等により形成される。

なお、図２（ａ）〜（ｃ）において、１７は保護絶縁膜又は封止樹脂層である。また、表示パネル１０Ａは、保護絶縁膜（又は封止樹脂層）１７上に、封止基板（図示を省略）がさらに設けられているものであってもよい。また、本実施形態においては、便宜的に、基板１１上に有機ＥＬ素子ＯＥＬの画素電極１２が直接形成された素子構造を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明に係る表示パネル（発光パネル）１０Ａは、基板１１上に絶縁膜を介して画素電極１２が形成された素子構造を有するものであってもよい（後述する第２実施形態参照）。

また、表示パネル（発光パネル）１０Ａは、アクティブマトリクス駆動型であってもよいし、単純マトリクス（パッシブマトリクス）駆動型であってもよい。表示パネル１０Ａがアクティブマトリクス駆動型の場合には、例えば、基板１１上に有機ＥＬ素子ＯＥＬを発光駆動するための回路素子（薄膜トランジスタやキャパシタ等）や配線層が形成され、これらを被覆する層間絶縁膜や平坦化膜上に、画素電極１２が形成された素子構造を有するものであってもよい。

さらに、表示パネル１０Ａに設けられる有機ＥＬ素子ＯＥＬは、ボトムエミッション型の発光構造を有するものであってもよいし、トップエミッション型の発光構造を有するものであってもよい。有機ＥＬ素子ＯＥＬがボトムエミッション型の発光構造を有する場合、有機ＥＬ層１４で発光した光は、画素電極１２及び基板１１を介して、基板１１の他面側（図２の下方）に出射される。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬがトップエミッション型の発光構造を有する場合、有機ＥＬ層１４で発光した光は、対向電極１６及び保護絶縁膜（又は封止樹脂層）１７を介して、基板１１の一面側（図２の上方）に出射される。

（表示装置の製造方法）
次に、本実施形態に係る表示装置（表示パネル）の製造方法について説明する。ここでは、表示パネル１０Ａに形成される有機ＥＬ素子ＯＥＬがボトムエミッション型の発光構造を有する場合について説明する。

図３〜図５は、本実施形態に係る表示装置（表示パネル）の製造方法の一例を示す工程断面図である。ここで、図３は、図１に示した表示パネル１０ＡのIIＡ−IIＡ線に沿った断面における工程断面図である。図４は、図１に示した表示パネル１０ＡのIIＢ−IIＢ線に沿った断面における工程断面図である。図５は、図１に示した表示パネル１０ＡのIIＣ−IIＣ線に沿った断面における工程断面図である。

図６は、本実施形態に係る表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の具体例を示す基板平面図である。なお、図６においては、便宜的に、特定の列の画素に対応する領域に対してのみ、有機溶液を塗布する場合について示す。また、図６に示す平面図においては、隔壁と液体制御部の配置関係、並びに、有機溶液の塗布状態（塗布領域）を明瞭にするために、便宜的にハッチングを施して示した。

本実施形態に係る表示パネル（発光パネル）１０Ａの製造方法、まず、図３（ａ）、図４（ａ）、図５（ａ）に示すように、ガラス基板等からなる絶縁性の基板１１の一面側（図面上面側）であって、各画素ＰＩＸの有機ＥＬ素子ＯＥＬの形成領域（ＥＬ素子形成領域）Ｒelに、画素電極（例えばアノード電極）１２を形成する。ここで、画素電極１２は、例えば錫ドープ酸化インジウム（Indium Thin Oxide；ＩＴＯ）や亜鉛ドープ酸化インジウム等の透明電極材料を用いて形成される。

次いで、隣接して配列される画素ＰＩＸ（ＥＬ素子形成領域Ｒel）との境界領域に、隔壁（バンク）１３を形成する。具体的には、隔壁１３は、基板１１上に例えば感光性の樹脂材料等からなる樹脂層を形成した後、露光、現像処理を施すことにより形成される。ここで、隔壁１３は、図３（ａ）、図４（ａ）、図５（ａ）に示すように、基板１１の表面から連続的に突出した断面形状を有している。また、隔壁１３は、図１に示したように、各画素ＰＩＸの画素電極１２の上面が露出するように、複数の開口部１３ａが格子状に配列された平面形状を有している。なお、隔壁１３の高さは、後述する有機溶液の塗布工程において、塗布される有機溶液の量や特性、隔壁１３表面の撥液性の度合い等に基づいて設定されるが、例えば１〜５μｍ程度の高さに設定される。尚、隔壁１３は、有機ＥＬ素子ＯＥＬを発光駆動するための回路素子や配線層を配置して、表示パネル１０Ａの開口率を確保するための第一隔壁と、ＥＬ素子形成領域Ｒelを個別の領域として画定するための第二隔壁と、の二層構造であってもよい。この場合、まず、回路素子や配線層を覆うように、第一隔壁を成膜する。なお、第一隔壁は、プラズマＣＶＤによって窒化シリコン等を成膜したものである。この第一隔壁をフォトリソグラフィーでパターニングすることで画素電極１２の上面が露出するように、複数の開口部１３ａを形成する。次いで、ポリイミド等の感光性樹脂を堆積後、露光してＥＬ素子形成領域Ｒelを個別の領域として画定するための第二隔壁を形成する。

次いで、上記隔壁１３のうち、表示パネル１０Ａの列方向に配列される画素ＰＩＸ（ＥＬ素子形成領域Ｒel）間の境界領域の隔壁１３上に、各々独立した液体制御部１５を形成する。具体的には、液体制御部１５は、隔壁１３と同様に、基板１１上に例えば感光性の樹脂材料等からなる樹脂層を形成した後、露光、現像処理を施すことにより形成される。なお、液体制御部１５は、隔壁１３に密着して形成することができ、かつ、後述する撥液化処理において、隔壁と同様に表面が撥液化する材質であれば、他の材料を適用するものであってもよい。また、液体制御部１５の高さは、後述する有機溶液の塗布工程において、塗布される有機溶液の量や特性、液体制御部１５表面の撥液性の度合い等に基づいて適宜設定されるが、例えば１〜５μｍ程度の高さに設定される。

次いで、上記画素電極１２、隔壁１３及び液体制御部１５が形成された基板１１を、純水やアルコールにより洗浄した後、例えば酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理等を施すことにより、各ＥＬ素子形成領域Ｒelに露出する画素電極１２の表面を親液化処理する。これにより、画素電極１２の表面が、少なくとも後述する有機ＥＬ層１４（例えば正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂ）を形成する際に塗布される有機溶液（インク）１４ｘに対して親液化する。

次いで、基板１１を例えば四フッ化炭素ＣＦ_４等のフッ化ガスによるプラズマ処理を行うことにより、隔壁１３及び液体制御部１５の表面が撥水、撥油性を示し、塗布される有機溶液１４ｘに対して撥液化する。尚、隔壁１３が、第一隔壁と第二隔壁をもつ二層構造である場合、上層である第二隔壁のみを撥液化しても良い。隔壁１３及び液体制御部１５を感光性ポリイミドで形成した場合、四フッ化炭素ＣＦ_４によるプラズマ処理を行うことにより、ポリイミド表面の接触角は、有機溶液の溶剤として用いる水の場合で１００°程度、キシレンで５０°程度の数値を示し、隔壁１３及び液体制御部１５は良好に撥液化される。ここで、フッ化ガスによるプラズマ処理を用いた撥液化処理においては、酸化膜や窒化膜とは反応しないので、ＥＬ素子形成領域Ｒel内に露出する、ＩＴＯ等の金属酸化物からなる画素電極１２の表面は撥液化しない。したがって、画素電極１２の表面は、上述した親液化処理（酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理）により付与された親液性を保持する。

なお、本実施形態において使用する「撥液性」とは、後述する正孔輸送層１４ａとなる正孔輸送材料を含む有機溶液１４ｘや、電子輸送性発光層１４ｂとなる電子輸送性発光材料を含む有機溶液、もしくは、これらの溶液に用いる有機溶媒を基板１１上等に滴下して、接触角の測定を行った場合に、当該接触角が５０°以上になる状態と規定する。また、「撥液性」に対する「親液性」とは、本実施形態においては、上記接触角が４０°以下になる状態と規定する。

次いで、基板１１に配列される複数の画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに対してノズルコーティング法を用いて有機溶液を塗布して有機ＥＬ層１４（正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂ）を成膜する。具体的には、図３（ｃ）、図４（ｃ）、図５（ｃ）、図６（ａ）に示すように、ノズルコート成膜装置（図示を省略）のノズルヘッド１０１を基板１１の列方向（図３（ｃ）の左右方向、図６（ａ）の上下方向；矢印Ｘｍ方向）に走査させつつ、該ノズルヘッド１０１から正孔輸送材料を含む有機溶液（インク）１４ｘを連続的に吐出して基板１１に塗布する。ここで、有機溶液１４ｘとしては、例えばポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ；導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェンＰＥＤＯＴと、ドーパントであるポリスチレンスルホン酸ＰＳＳを水系溶媒に分散させた分散液）を用いることができる。これにより、図６（ａ）に示すように、基板１１の列方向に配列された複数の画素ＰＩＸの各ＥＬ素子形成領域Ｒelを含む帯状の領域に、正孔輸送材料を含む有機溶液１４ｘが塗布される。

このような特定の列の画素ＰＩＸ（ＥＬ素子形成領域Ｒel）に対して有機溶液１４ｘを塗布する処理を、全ての列について繰り返すことにより、基板１１上の全ての画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに有機溶液１４ｘが塗布される。

次いで、全ての画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに有機溶液１４ｘが塗布された基板１１を、図示を省略した乾燥処理室内で例えば１００℃以上の温度条件で加熱処理する。これにより、有機溶液１４ｘの溶媒を気化させて、図３（ｃ）、図４（ｃ）、図６（ｂ）に示すように、隔壁１３に形成された各開口部１３ａに露出する各画素ＰＩＸの画素電極１２上に有機高分子系の正孔輸送材料を定着させて、正孔輸送層１４ａを形成する。

次いで、上述した正孔輸送層１４ａの成膜工程と同様に、ノズルコート成膜装置のノズルヘッド１０１を基板１１の列方向に走査させつつ、該ノズルヘッド１０１から電子輸送性発光材料を含む有機溶液（インク）を連続的に吐出して基板１１に塗布する。ここで、有機溶液としては、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む赤（Ｒ）又は緑（Ｇ）又は青（Ｂ）色の発光材料を、適宜水系溶媒或いはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解または分散した０．１ｗｔ％〜５ｗｔ％の溶液を用いることができる。これにより、基板１１の列方向に配列された複数の画素ＰＩＸの各ＥＬ素子形成領域Ｒelを含む帯状の領域に、電子輸送性発光材料を含む有機溶液が塗布される。

そして、全ての列の画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに当該有機溶液が塗布された基板１１を加熱処理して、有機溶液の溶媒を気化させることにより、図３（ｄ）、図４（ｄ）に示すように、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒel（画素電極１２上）に形成された正孔輸送層１４ａ上に、電子輸送性発光層１４ｂを形成する。これにより、各画素ＰＩＸの画素電極１２上に、正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂからなる有機ＥＬ層１４が形成される。

ここで、本実施形態に係る有機ＥＬ層１４の成膜方法（すなわち、上述した有機溶液１４ｘを塗布した後、加熱乾燥して有機ＥＬ層１４を成膜する一連の処理工程）と、基板１１の隔壁１３上に設けられた液体制御部１５との関係について、さらに詳しく説明する。

図７〜図９は、本実施形態に係る表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の要部具体例を示す工程断面図である。ここで、図７は、図６（ａ）に示す基板１１のVIIＤ−VIIＤ線（本明細書においては図６（ａ）中に示したローマ数字の「７」に対応する記号として便宜的に「VII」を用いる）に沿った断面における工程断面図である。図８は、図６（ａ）に示す基板１１のVIIIＥ−VIIIＥ線（本明細書においてはローマ数字の「８」に対応する記号として便宜的に「VIII」を用いる）に沿った断面における工程断面図である。図９は、図６（ａ）に示す基板１１のIXＦ−IXＦ線（本明細書においてはローマ数字の「９」に対応する記号として便宜的に「IX」を用いる）に沿った断面における工程断面図である。

本実施形態に係る有機ＥＬ層１４の成膜工程においては、図３（ｂ）、図６（ａ）に示したように、基板１１上に配列される各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに沿って、ノズルヘッド１０１を列方向（図面上下方向；図中矢印Ｘｍ）に走査しつつ、有機溶液１４ｘを連続的に吐出する。これにより、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒel、及び、列方向の画素ＰＩＸ相互の境界領域に設けられた隔壁１３上に有機溶液１４ｘが連続的に塗布される。

ここで、上述したように、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに露出する画素電極１２の表面は親液性を有するのに対して、隔壁１３及び液体制御部１５の表面は撥液性を有している。そのため、ノズルヘッド１０１から吐出された有機溶液１４ｘは、親液性を有する各画素電極１２上では馴染んで拡がる。一方、撥液性を有する隔壁１３及び液体制御部１５に接する部分でははじかれる挙動を示す。これにより、有機溶液１４ｘの塗布直後においては、図７（ａ）、図８（ａ）、図９（ａ）に示すように、列方向のＥＬ素子形成領域Ｒel間の隔壁１３及び液体制御部１５上にも有機溶液１４ｘがつながって連続的に滞留する。

その後、図７（ｂ）、図８（ｂ）、図９（ｂ）に示すように、境界領域の隔壁１３の略中央から突出し、撥液性を有する液体制御部１５を境界として、有機溶液１４ｘの表面張力が略均等に分断されることにより、隔壁１３上に滞留していた有機溶液１４ｘが列方向（図７の左右方向）に隣接する各ＥＬ素子形成領域Ｒelに略均等に二分されて流れ込む。ここで、列方向の各隔壁１３上に設けられる液体制御部１５が均等なピッチ（間隔）で配置されていることにより、隣接する各ＥＬ素子形成領域Ｒelに流れ込む有機溶液１４ｘの量が略均一化されるので、図７（ｃ）、図８（ｃ）、図９（ｃ）に示すように、最終的に各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒel間の隔壁１３上から有機溶液１４ｘが退くとともに、各ＥＬ素子形成領域Ｒel内に滞留する有機溶液１４ｘの量が略均一になる。

このような状態で、基板１１を減圧下にて加熱処理して、有機溶液１４ｘを乾燥させ、有機溶液１４ｘの溶媒を気化させることにより、図６（ｂ）、図７（ｄ）、図８（ｄ）、図９（ｄ）に示すように、隔壁１３により囲まれた各ＥＬ素子形成領域Ｒel内にのみ、正孔輸送材料又は電子輸送性発光材料が薄膜状に定着し、画素電極１２上に膜質及び膜厚が均一な正孔輸送層１４ａ又は電子輸送性発光層１４ｂが成膜される。

次いで、図３（ｅ）、図４（ｅ）、図５（ｅ）に示すように、基板１１上に単一の平面電極（べた電極）からなる対向電極（例えばカソード電極）１６を形成する。ここで、対向電極１６は、少なくとも表示パネル１０Ａの画素アレイ領域Ｒpxに対応する形状及び大きさを有し、上述した正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂからなる有機ＥＬ層１４を介して、各画素ＰＩＸの画素電極１２に共通に対向するように形成される。その後、図２（ａ）〜（ｃ）に示したように、対向電極１６を含む基板１１上に、保護絶縁膜（又は封止樹脂層）１７を形成する。これにより、図１、図２に示したように、有機ＥＬ素子ＯＥＬを備えた画素ＰＩＸが基板１１上に２次元配列された表示パネル１０Ａが完成する。

このように、本実施形態に係る表示パネル（発光パネル）１０Ａ及びその製造方法（有機ＥＬ層１４の成膜工程）においては、ノズルヘッド１０１の走査方向（この場合は列方向）に隣接する画素ＰＩＸ間の境界領域の略中央に突出して設けられた液体制御部１５により、塗布された有機溶液（インク）１４ｘの表面張力が均等に分断されて、当該走査方向に隣接する画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに均等に流れ込むので、各ＥＬ素子形成領域Ｒelに滞留する有機溶液１４ｘの量が略均一になる。

したがって、本実施形態によれば、ノズルコーティング法（又はノズルプリンティング法）を用いた高い製造効率で、各画素の画素電極上に略均一な膜質及び膜厚を有する有機ＥＬ層（例えば正孔輸送層及び電子輸送性発光層）を形成することができる。このような有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ素子（発光素子）においては、有機ＥＬ層の膜質や膜厚のばらつきに起因する、発光輝度や開口率のばらつき、素子寿命の劣化を抑制することができるので、発光特性に優れ、表示品質が良好な表示パネル（発光パネル）を量産化することができる。

（作用効果の検証）
次に、上述したようなパネル構造を有する表示パネルとその製造方法（有機ＥＬ層の成膜方法）を用いた場合の作用効果について、さらに詳しく説明する。ここでは、まず、比較対象として本実施形態に示した液体制御部１５を有していない表示パネルについて説明し、その後、本実施形態における作用効果の優位性について説明する。

図１０は、比較対象となる表示パネルの一例を示す概略構成図である。ここで、図１０（ａ）は、比較対象となる表示パネルの平面図であり、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）における表示パネルのＸＧ−ＸＧ線（本明細書においてはローマ数字の「１０」に対応する記号として便宜的に「Ｘ」を用いる）に沿った断面を示す概略断面図である。なお、図１０（ａ）に示す平面図においては、各画素に設けられる画素電極と隔壁との配置関係を明瞭にするために、便宜的にハッチングを施して示した。

図１１は、比較対象となる表示パネルの製造方法（有機ＥＬ層の成膜工程）の一例を示す工程断面図である。ここで、図１１は、図１０に示す表示パネルのＸＧ−ＸＧ線に沿った断面における工程断面図である。なお、図１０、図１１において、上述した実施形態と同等の構成については、同一又は同等の符号を付して示す。

ここでは、上述した本発明が解決しようとする課題において言及したように、格子状の平面パターンを有する隔壁を設けた基板に対して、本実施形態に示したような画素間の境界領域に液体制御部を設けることなく、ノズルコーティング法により直接有機溶液を塗布して有機ＥＬ層を成膜する場合を、比較対象とする。

比較対象となる表示パネル１０Ｐは、具体的には、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、基板１１上に２次元配列される各画素ＰＩＸの境界領域に、格子状の隔壁１３が設けられた構成を有している。すなわち、比較対象に係る表示パネル１０Ｐは、上述した実施形態に示したような、隔壁１３上から突出する液体制御部を有していない。

そして、このような構造を有する基板１１において、図１０（ａ）、図１１（ａ）に示すように、特定の列の画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに沿って、ノズルヘッド１０１を列方向（図１０（ａ）の上下方向；矢印Ｘｍ）に走査しつつ、有機溶液１４ｘを吐出する。これにより、当該列の各ＥＬ素子形成領域Ｒel及びそれらの境界領域の隔壁１３上に有機溶液１４ｘが塗布される。

ここで、上述した表示パネルの製造方法に示した場合と同様に、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに露出する画素電極１２の表面は親液性を有し、一方、隔壁１３の表面は撥液性を有している。そのため、ノズルヘッド１０１から吐出された有機溶液１４ｘは、親液性を有する各画素電極１２上では馴染んで拡がる一方、撥液性（撥水、撥油性）を有する隔壁１３に接する部分では弾かれる挙動を示す。

特に、正孔注入層を形成するための有機溶液として、正孔輸送材料であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを、水やエタノール、エチレングリコール等の水系溶媒に溶解又は分散させた強酸性の水系インクを用いる場合や、電子輸送性発光層を形成するための有機溶液として、電子輸送性発光材料であるポリフェニレンビニレン系ポリマーやポリフルオレン系ポリマー等の共役系高分子を、水やテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン、トルエン等の芳香族系の有機溶媒に溶解又は分散させた水系インク或いは有機溶剤系インクを用いる場合には、当該有機溶液は、撥液性を有する隔壁１３表面では非常に良く弾かれる。これにより、隔壁１３上に滞留していた有機溶液１４ｘは、図１１（ｂ）、（ｃ）に示すように、隔壁１３上から隣接する各ＥＬ素子形成領域Ｒel方向に流れ込む。このとき、隔壁１３上から隣接するＥＬ素子形成領域Ｒelに不均一に流れ込むため、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに滞留する有機溶液１４ｘの量にばらつきが生じる。なお、隔壁１３表面の撥液性が十分でない場合には、隔壁１３上に塗布された有機溶液１４ｘが、そのまま滞留（残留）して、本来ＥＬ素子形成領域Ｒelに流れ込んで滞留するはずの有機溶液１４ｘの量が変化する場合もある。

このような状態で、基板１１を加熱処理して溶媒を気化させ、有機溶液１４ｘを乾燥させると、隔壁１３により囲まれた各ＥＬ素子形成領域Ｒel内において、図１１（ｄ）に示すように、各画素電極１２上に正孔輸送材料又は電子輸送性発光材料が薄膜状に定着する。このとき、上述したように、各ＥＬ素子形成領域Ｒel内に滞留する有機溶液１４ｘの量にばらつきがあるため、成膜される正孔輸送層１４ａ又は電子輸送性発光層１４ｂの膜質や膜厚が不均一になるという問題を有している。

これに対して、本実施形態による表示パネル及び有機ＥＬ層の成膜方法においては、基板１１上に塗布された有機溶液１４ｘは、隔壁１３上に突出して形成された、撥液性を有する液体制御部１５により、その表面張力が均等に分断されて、隣接する画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに略均等に流れ込む。また、このとき、本実施形態では、隣接する画素ＰＩＸ間の境界領域に設けられた隔壁１３上に、塗布された有機溶液１４ｘがそのまま滞留（残留）する現象は観測されなかった。

したがって、本実施形態によれば、各ＥＬ素子形成領域Ｒelに滞留する有機溶液１４ｘの量を略均一にすることができるので、各画素ＰＩＸの画素電極１２上に略均一な膜質及び膜厚を有する有機ＥＬ層１４（例えば正孔輸送層及び電子輸送性発光層）を形成することができる。そして、このような有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ素子（発光素子）が配列された表示パネル（発光パネル）によれば、発光輝度や開口率のばらつき、素子寿命の劣化を抑制して、良好な表示品質を実現することができる。

＜第２の実施形態＞
次に、本発明に係る発光装置（表示装置）の第２の実施形態について説明する。
（表示装置）

図１２は、第２の実施形態に係る表示装置に適用される表示パネル（発光パネル）を示す概略構成図である。ここで、図１２（ａ）は、本実施形態に係る表示パネルの平面図であり、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）における表示パネルのXIIＨ−XIIＨ線（本明細書においてはローマ数字の「１２」に対応する記号として便宜的に「XII」を用いる）に沿った断面を示す概略断面図である。なお、図１０（ａ）に示す平面図においては、各画素に設けられる画素電極と隔壁及び液体制御部との配置関係を明瞭にするために、便宜的にハッチングを施して示した。

上述した第１の実施形態においては、表示パネル１０Ａ（基板１１）に配列される列方向の画素ＰＩＸ（ＥＬ素子形成領域Ｒel）間の隔壁１３上に、隔壁１３と同一の材質からなる、各々独立した液体制御部１５を設けた構成について説明した。第２の実施形態においては、隔壁１３上に突出する液体制御部が、導電性材料により形成され、かつ、当該隔壁１３を貫通して、隔壁１３の下層に配設された給電ライン（カソードライン）に接続された構成を有している。

第２の実施形態に係る表示装置に適用される表示パネル（発光パネル）１０Ｂは、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、基板１１の一面側（図１２（ａ）の紙面手前側、図１２（ｂ）の上面側）に設けられた絶縁膜（又はゲート絶縁膜）１９上に、上述した第１の実施形態と同様に、複数の開口部１３ａが設けられた格子状の隔壁１３が形成されている。尚、上述した第１の実施形態と同様に、隔壁１３は二層構造であっても良い。そして、各開口部１３ａ（すなわちＥＬ素子形成領域Ｒel）には、画素電極（アノード電極）１２と、有機ＥＬ層１４と、対向電極（カソード電極）１６と、が積層された有機ＥＬ素子ＯＥＬが設けられている。

そして、本実施形態に係る表示パネル１０Ｂにおいては、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、列方向に配列された画素ＰＩＸ間の境界領域に形成された隔壁１３上に突出するように、各々独立した液体制御部１８が設けられている。液体制御部１８は、上述した第１の実施形態と同様に、境界領域となる隔壁１３上の略中央に配置され、かつ、液体制御部１８間のピッチが等間隔になるように設けられている。

特に、本実施形態に適用される液体制御部１８は、例えば金属等の導電性材料により形成されている。そして、液体制御部１８は、図１２（ｂ）に示すように、隔壁１３上に所定の高さで突出するとともに、当該隔壁１３を貫通して、隔壁１３の下層に配設された特定の配線（例えば給電ラインＬｃ）に接続されている。これにより、液体制御部１８は、隔壁１３上で有機ＥＬ層１４上に形成される対向電極（カソード電極）１６に電気的に接続されるとともに、隔壁１３の下層において、給電ライン（カソードライン）Ｌｃに電気的に接続される。すなわち、液体制御部１８は、上述した第１の実施形態に示したように、塗布された有機溶液１４ｘの表面張力を均等に分断する機能に加え、対向電極１６と給電ラインＬｃとを接続するコンタクト電極としての機能を有している。ここで、液体制御部１８と給電ラインＬｃとの接続箇所を、便宜的に接続点１８ｘとして図１２（ｂ）に表記する。

なお、本実施形態においては、図１２（ａ）に示すように、基板１１の一端側の縁辺部に、後述する選択ラインＬｓ、電源電圧ライン（アノードライン）Ｌａ、給電ラインＬｃ及びデータラインＬｄ（図１３、図１４参照）を介して、画素アレイ領域Ｒpxに配列される各画素ＰＩＸに、所定の制御信号や駆動電圧を供給するための接続端子２１が設けられている。

ここで、このようなパネル構造を有する表示パネル１０Ｂに適用可能な画素と基板の配線構造の具体例について図面を参照して説明する。
図１３は、本実施形態に係る表示パネルに適用される画素の一例を示す等価回路図である。なお、図１３に示す画素ＰＩＸの回路構成は、有機ＥＬ素子を備えた画素に適用される一例を示すものに過ぎず、他の回路構成を有するものであってもよいことはいうまでもない。また、図１４は、本実施形態に係る表示パネルに適用される配線構造の一例を示す概略平面図である。なお、図１４に示す平面図においては、各画素に設けられる画素電極と各配線層及び接続端子との配置関係のみを示し、相互の接続状態については表記を省略した。また、図１４においては、図１２（ｂ）に示した断面構造において、絶縁膜（ゲート絶縁膜）１９の上層側に配設される配線（選択ラインＬｓ、電源電圧ラインＬａ、給電ラインＬｃ）を実線で示し、絶縁膜１９の下層側に配設される配線（データラインＬｄ）を破線で示す。

図１３に示すように、本実施形態に係る表示パネル１０Ｂに適用される画素ＰＩＸは、発光素子である有機ＥＬ素子ＯＥＬと、該有機ＥＬ素子ＯＥＬを駆動するための発光駆動回路ＤＣと、を備えている。

発光駆動回路ＤＣは、例えば、トランジスタ（選択トランジスタ）Ｔｒ１１と、トランジスタ（駆動トランジスタ）Ｔｒ１２と、キャパシタＣｓと、を備えている。トランジスタＴｒ１１は、ゲート端子が選択ラインＬｓに接続され、ドレイン端子がデータラインＬｄに接続され、ソース端子が接点Ｎ１１に接続されている。トランジスタＴｒ１２は、ゲート端子が接点Ｎ１１に接続され、ドレイン端子が電源電圧ライン（アノードライン）Ｌａに接続され、ソース端子が接点Ｎ１２に接続されている。キャパシタＣｓは、トランジスタＴｒ１２のゲート端子（接点Ｎ１１）及びソース端子（接点Ｎ１２）間に接続されている。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬは、アノードが上記発光駆動回路ＤＣの接点Ｎ１２に接続され、カソードが接点Ｎ１３を介して給電ライン（カソードライン）Ｌｃに接続されている。ここで、接点Ｎ１３は、上述した表示パネル１０Ｂの断面構造（図１２（ｂ））における液体制御部１８と給電ラインＬｃとの接続点１８ｘに対応する。

ここで、トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２は、いずれもｎチャネル型の薄膜トランジスタが適用されている。また、キャパシタＣｓは、トランジスタＴｒ１２のゲート・ソース間に形成される寄生容量であり、該ゲート・ソース間に付加的に補助容量が設けられているものであってもよい。

なお、図１３に示した画素ＰＩＸにおいて、選択ラインＬｓは、図示を省略した選択ドライバに接続され、所定のタイミングで画素ＰＩＸを選択状態に設定するための選択電圧Ｓselが印加される。また、データラインＬｄは、図示を省略したデータドライバに接続され、画素ＰＩＸの選択状態に同期するタイミングで画像データに応じた階調信号（データ電圧）Ｖpixが印加される。また、電源電圧ラインＬａは、所定の高電位電源に接続され、トランジスタＴｒ１２により有機ＥＬ素子ＯＥＬのアノードに画像データに応じた発光駆動電流を流すために、有機ＥＬ素子ＯＥＬのカソードに印加される基準電圧Ｖssより電位の高い供給電圧Ｖddが印加される。給電ラインＬｃは、所定の低電位電源（基準電圧Ｖss；例えば接地電位Ｖgnd）に接続されている。

このような回路構成を有する複数の画素ＰＩＸが、基板１１上に２次元配列された表示パネル１０Ｂにおける配線構造は、例えば図１４に示すように、列方向に配列された各画素ＰＩＸの画素電極１２間の領域（境界領域）に、基板１１の行方向（図面左右方向）に、各々、選択ラインＬｓと電源電圧ライン（アノードライン）Ｌａと給電ライン（カソードライン）Ｌｃとが平行に配設されている。また、行方向に配列された各画素ＰＩＸの画素電極１２間の領域（境界領域）には、基板１１の列方向（図面上下方向）に、データラインＬｄが配設されている。各配線は、各々、基板１１の縁辺部に配列された接続端子２１に個別に接続されている。

そして、図１２（ａ）、（ｂ）、図１４に示すように、列方向に配列された各画素ＰＩＸ（画素電極１２）間の境界領域の隔壁１３を貫通して設けられた各液体制御部１８が接続点１８ｘにおいて、行方向に配設された給電ライン（カソードライン）Ｌｃに電気的に接続されている。給電ラインＬｃは接続端子２１を介して、図示を省略した外部の電源に接続されている。これにより、対向電極（カソード電極）１６には、給電ラインＬｃ及び液体制御部１８を介して、基準電圧Ｖssが印加される。

（表示装置の製造方法）
次に、本実施形態に係る表示装置（表示パネル）の製造方法について説明する。
図１５は、本実施形態に係る表示パネルの製造方法の一例を示す工程断面図である。ここで、図１５は、図１２（ａ）に示した基板１１のXIIＨ−XIIＨ線に沿った断面における工程断面図である。なお、図１５において、上述した第１の実施形態と同等の構成については、同一又は同等の符号を付して、その説明を簡略化又は省略する。

第２の実施形態に係る表示パネル１０Ｂの製造方法は、まず、図１５（ａ）に示すように、基板１１の一面側に、図１３に示した画素ＰＩＸの発光駆動回路ＤＣ及び配線を形成する。具体的には、基板１１上にゲートメタルを形成した後、これをパターニングして、少なくとも発光駆動回路ＤＣのトランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のゲート電極及びデータラインＬｄを形成する（いずれも図示を省略）。

次いで、基板１１上にゲート絶縁膜となる絶縁膜１９を形成した後、上記ゲート電極に対応する領域に半導体層やソース電極、ドレイン電極等を形成する。このとき、ソース、ドレイン電極を形成するために基板１１上に形成されたソース、ドレインメタルを用いて、選択ラインＬｓ、電源電圧ライン（アノードライン）Ｌａ、給電ライン（カソードライン）Ｌｃが同時に形成される。また、図１２、図１４に示すように、基板１１上に配列される各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelには有機ＥＬ素子ＯＥＬのアノード電極となる画素電極１２が形成される。ここで、発光駆動回路ＤＣの各トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２や配線は、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒel間の境界領域に形成される。

次いで、図１５（ｂ）に示すように、無電界銅メッキ法を用いて、基板１１に形成された給電ラインＬｃ上に、当該基板１１表面に対して垂直に突出する導電性の液体制御部１８を形成する。ここで、液体制御部１８は、図１４に示したように、列方向に配列される画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒel（画素電極１２）間の境界領域において、上記給電ラインＬｃに接続される（接続点１８ｘ）。

次いで、基板１１上に感光性の樹脂材料を厚く形成した後、これをフォトリソグラフィー法によりパターニングして、図１５（ｃ）に示すように、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに形成された画素電極１２が露出する開口部１３ａを有する隔壁１３を形成する。尚、上述した第１の実施形態と同様に、隔壁１３は二層構造であっても良い。ここで、隔壁１３となる感光性樹脂材料の厚みは、上述した液体制御部１８の上部が所定の寸法だけ露出するように設定する。これにより、各画素ＰＩＸ間の境界領域は、液体制御部１８の上部が露出するのみで、発光駆動回路ＤＣのトランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２や各配線が隔壁１３により被覆される。

次いで、基板１１を純水やアルコールにより洗浄した後、例えば酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理等を施すことにより、各ＥＬ素子形成領域Ｒelに露出する画素電極１２の表面を、後述する有機溶液に対して親液化処理する。次いで、基板１１を例えばフッ素系トリアジンジチオール誘導体の水溶液に浸漬処理することにより、隔壁１３から突出する導電性の液体制御部１８の表面を、後述する有機溶液に対して撥液化する。この撥液化処理においては、ＥＬ素子形成領域Ｒel内に露出する画素電極１２の表面は撥液化せず、上述した親液化処理により付与された親液性を保持する。

次いで、上述した第１の実施形態に示した場合と同様に、ノズルコーティング法を用いて、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒel内に、正孔輸送材料又は電子輸送性発光材料を含む有機溶液を塗布し、これを乾燥処理することにより、図１５（ｄ）に示すように、各画素ＰＩＸの画素電極１２上に正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂからなる有機ＥＬ層１４を形成する。

このとき、上述した第１の実施形態と同様に、基板１１上に塗布された有機溶液は、隔壁１３上に突出して形成された、撥液性を有する液体制御部１８により、その表面張力が均等に分断されて、隔壁１３上に滞留（残留）することなく、列方向に隣接する画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに略均等に流れ込む。したがって、各ＥＬ素子形成領域Ｒelに滞留する有機溶液の量が略均一に制御されるので、各画素ＰＩＸの画素電極１２上に略均一な膜質及び膜厚を有する有機ＥＬ層１４が形成される。

次いで、図１５（ｅ）に示すように、基板１１上に単一の平面電極（べた電極）からなり、有機ＥＬ素子ＯＥＬのカソード電極となる対向電極１６を蒸着により形成する。ここで、対向電極１６は、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelだけでなく、各画素ＰＩＸ間の境界領域の隔壁１３上にも形成される。これにより、対向電極（カソード電極）１６は、隔壁１３から突出する導電性の液体制御部１８に電気的に接続されるので、対向電極１６は当該液体制御部１８を介して、隔壁１３の下層に形成された給電ライン（カソードライン）Ｌｃに電気的に接続される。

その後、対向電極１６を含む基板１１上に、保護絶縁膜（又は封止樹脂層）１７を形成する。これにより、図１２（ａ）、（ｂ）に示したように、有機ＥＬ素子ＯＥＬを備えた画素ＰＩＸが基板１１上に２次元配列された表示パネル１０Ｂが完成する。

このように、本実施形態に係る表示パネルにおいては、各列の画素ＰＩＸ間の隔壁１３上に突出する液体制御部１８が導電性を有するとともに、隔壁１３を貫通した構成を有している。これにより、各画素ＰＩＸの有機ＥＬ素子ＯＥＬに共通して設けられた対向電極（カソード電極）１６が、導電性の液体制御部１８を介して、隔壁１３の下層に配設された給電ライン（カソードライン）Ｌｃに電気的に接続された構成を有している。したがって、給電ラインＬｃに印加された基準電圧Ｖssが、各有機ＥＬ素子ＯＥＬの対向電極（カソード電極）１６に略均一に印加されるので、比較的大型の表示パネルであっても、各画素（有機ＥＬ素子）の発光輝度のばらつきを抑制することができ、優れた表示品質を実現することができる。

また、本実施形態によれば、上述した第１の実施形態と同様に、各画素ＰＩＸの有機ＥＬ層を、ノズルコーティング法を用いて略均一な膜質及び膜厚になるように成膜することができるので、発光輝度や開口率のばらつき、素子寿命の劣化を抑制して、表示品質に優れた表示パネル（発光パネル）を高い製造効率で量産することができる。

なお、上述したように、本発明に係る表示装置（表示パネル）及びその製造方法においては、基板１１上への有機溶液１４ｘの塗布時に、各画素ＰＩＸ（ＥＬ素子形成領域Ｒel）間の境界領域に設けられた隔壁１３上に塗布された有機溶液１４ｘを、撥液性を有する液体制御部１５、１８により分流して、隣接する画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに均等に流れ込むようにすることを特徴としている（図７（ｂ）参照）。一方、上述した各実施形態においては、図１や図１２（ａ）に示したように、有機溶液１４ｘが塗布される列方向の、基板１１（又は画素アレイ領域Ｒpx）の両端部で、画素ＰＩＸ間の境界領域になっていない隔壁１３上に液体制御部１５、１８が配置されている。そのため、当該基板１１の両端部においては、塗布された有機溶液１４ｘの挙動（流れ方）が、画素アレイ領域Ｒpx内部の、画素ＰＩＸ（ＥＬ素子形成領域Ｒel）が隣接して配置されている領域とは異なる可能性がある。

具体的には、基板１１の両端部においては、液体制御部１５、１８が設けられた隔壁１３の一方側にのみＥＬ素子形成領域Ｒelが配置されることになるため、ＥＬ素子形成領域Ｒelに流れ込む有機溶液１４ｘの量が、基板１１の両端部以外のＥＬ素子形成領域Ｒelとは同等にならず、膜質及び膜厚が均一にならない場合がある。そこで、このような場合には、実質的に画像表示に寄与する画素アレイ領域Ｒpxの外方の基板上に、有機溶液１４ｘを均等に流し込むためのダミー画素（又は、ダミーのＥＬ素子形成領域）を配置した構成を有するものであってもよい。これによれば、上述した各実施形態に示した有機ＥＬ層の成膜工程を適用した場合であっても、画素アレイ領域Ｒpxの端部に配置される画素ＰＩＸの有機ＥＬ層の膜質及び膜厚を均一化することができる。

＜第３の実施形態＞
次に、上述した第１及び第２の実施形態に係る表示パネル（発光パネル）を適用した電子機器について、第３の実施形態として図面を参照して説明する。上述した有機ＥＬ素子ＯＥＬからなる発光素子を各画素ＰＩＸに備える表示パネル１０Ａ又は１０Ｂは、例えばデジタルカメラやモバイル型のパーソナルコンピュータ、携帯電話等、種々の電子機器に適用できるものである。

図１６は、本実施形態に係るデジタルカメラの構成を示す斜視図であり、図１７は、本実施形態に係るモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図であり、図１８は、本実施形態に係る携帯電話の構成を示す図である。

図１６において、デジタルカメラ２００は、概略、本体部２０１と、レンズ部２０２と、操作部２０３と、上述した各実施形態に示した表示パネル１０Ａ又は１０Ｂを備える表示部２０４と、シャッターボタン２０５とを備えている。これによれば、表示部２０４において、表示パネル１０Ａ又は１０Ｂの各画素の発光素子が画像データに応じた適切な輝度階調で発光動作するので、良好かつ均質な画像表示を実現することができる。

また、図１７において、パーソナルコンピュータ２１０は、概略、本体部２１１と、キーボード２１２と、上述した各実施形態に示した表示パネル１０Ａ又は１０Ｂを備える表示部２１３とを備えている。この場合においても、表示部２１３において、表示パネル１０Ａ又は１０Ｂの各画素の発光素子が画像データに応じた適切な輝度階調で発光動作するので、良好かつ均質な画像表示を実現することができる。

また、図１８において、携帯電話２２０は、概略、操作部２２１と、受話口２２２と、送話口２２３と、上述した各実施形態に示した表示パネル１０Ａ又は１０Ｂを備える表示部２２４とを備えている。この場合においても、表示部２２４において、表示パネル１０Ａ又は１０Ｂの各画素の発光素子が画像データに応じた適切な輝度階調で発光動作するので、良好かつ均質な画像表示を実現することができる。

なお、上述した各実施形態においては、本発明を有機ＥＬ素子ＯＥＬからなる発光素子を各画素ＰＩＸに有する表示パネル１０Ａ、１０Ｂに適用した場合について説明したが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、本発明は、例えば有機ＥＬ素子ＯＥＬからなる発光素子を有する複数の画素ＰＩＸが一方向に配列された発光素子アレイを備え、感光体ドラムに画像データに応じて発光素子アレイから出射した光を照射して露光する露光装置に適用するものであってもよい。この場合においても、発光素子アレイの各画素の発光素子を画像データに応じた適切な輝度で発光動作させることができるので、良好な露光状態を実現することができる。

また、上述した各実施形態においては、有機ＥＬ素子ＯＥＬの素子構造として、有機ＥＬ層１４が正孔輸送層１４ａ及び電子輸送性発光層１４ｂからなる場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明に適用される有機ＥＬ素子ＯＥＬは、有機ＥＬ層１４が例えば正孔輸送兼電子輸送性発光層のみからなる素子構造を有するものでもよく、あるいは、正孔輸送性発光層及び電子輸送層からなるものでもよく、また、これらの層の間に適宜電荷輸送層が介在するものでもよく、さらに、その他の電荷輸送層の組合せを有するものであってもよい。

また、上述した各実施形態においては、ノズルヘッド１０１を基板１１の列方向に走査させつつ液体を塗布する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、ノズルヘッド１０１を固定して、基板１１を載置したステージを基板の列方向に走査させつつ液体を塗布するものであってもよい。

また、上述した各実施形態においては、液体制御部１５は、境界領域となる隔壁１３上の略中央に配置すると説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、液体制御部１５間のピッチが等間隔になるように設けられていれば１つの液体制御部上から列方向に隣り合う画素に流れ込むインク量の比がそれぞれ一定になるので、各ＥＬ素子形成領域Ｒelに滞留する有機溶液１４ｘの量を略均一にすることができ、各画素ＰＩＸの画素電極１２上に略均一な膜質及び膜厚を有する有機ＥＬ層１４を形成することができるという効果を奏し得る。

また、上述した各実施形態においては、単一の平面電極である対向電極１６を形成する際、液体制御部１５上で段切れが起こってしまうことが考えられる。しかし、液体制御部１５はインクを連続的に塗布する方向と直交する画素ＰＩＸ間には設けられておらず、且つ、インクを連続的に塗布する方向の画素ＰＩＸ間にのみ独立して形成されているものであるため、対向電極１６が液体制御部１５上で部分的に段切れてしまったとしても、その他大部分では段切れすることがないので、表示品質を損ねることがない。

１０Ａ、１０Ｂ 表示パネル
１１ 基板
１２ 画素電極
１３ 隔壁
１３ａ 開口部
１４ 有機ＥＬ層
１４ａ 正孔輸送層
１４ｂ 電子輸送性発光層
１４ｘ 有機溶液
１５、１８ 液体制御部
１６ 対向電極
１０１ ノズルヘッド
ＰＩＸ 画素
ＯＥＬ 有機ＥＬ素子
Ｌｃ 給電ライン
Ｒel ＥＬ素子形成領域

Claims (10)

1. 基板上に第一電極、少なくとも一層からなる発光機能層、第二電極が積層された発光素子を備える複数の画素が配列された発光装置の製造方法において、
   前記複数の画素の前記第一電極が露出するような開口部を備えた隔壁を形成する工程と、
   前記基板の特定の方向に配列された前記画素間の前記隔壁上で且つ、前記特定の方向において互いに等間隔に配置され、前記画素間の前記隔壁上に塗布される液体を前記画素の前記開口部内に流す複数の液体制御部を形成する工程と、
   前記特定の方向に沿って、前記特定の方向に配列された前記画素及び前記特定の方向に配列された前記画素間の前記隔壁に液体を塗布して、前記画素の形成領域に前記発光機能層を成膜する工程と、
   を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
2. 前記液体を塗布する工程に先立って、前記液体制御部及び前記隔壁を、前記液体に対して撥液化する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置の製造方法。
3. 前記液体制御部は、前記隔壁上から前記開口部内に流される前記液体の量を制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置の製造方法。
4. 塗布された前記液体が加熱されることによって前記画素の前記形成領域に前記発光機能層が成膜されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の発光装置の製造方法。
5. 前記液体制御部は、導電性材料により形成され、前記隔壁を貫通して前記隔壁の下層に配設された配線に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。
6. 基板上に第一電極、少なくとも一層からなる発光機能層、第二電極が積層された発光素子からなる複数の画素が配列された発光装置において、
   前記複数の画素の前記第一電極がそれぞれ露出するような略矩形の複数の開口部を備えた隔壁と、
   前記開口部における対向する二辺を結ぶ方向に配列された前記画素間の前記隔壁上に、前記方向において互いに等間隔で設けられる複数の液体制御部と、を有し、
   前記対向する二辺は当該開口部の他の対向する二辺より短い辺となり、
   前記開口部と、当該開口部の前記他の対向する二辺のうちの少なくとも一辺側に隣接する他の前記開口部との間の前記隔壁上には前記液体制御部が設けられていないことを特徴とする発光装置。
7. 前記液体制御部は、導電性材料により形成され、前記隔壁を貫通して前記隔壁の下層に配設された配線に電気的に接続されていることを特徴とする請求項６に記載の発光装置。
8. 前記液体制御部及び前記隔壁は、前記発光素子の発光機能層を形成するための液体に対して撥液性を有していることを特徴とする請求項６又は７記載の発光装置。
9. 前記液体制御部は、前記隔壁と同一の材質により形成されていることを特徴とする請求項６乃至８のいずれかに記載の発光装置。
10. 前記請求項６乃至９のいずれかに記載の発光装置が実装されてなることを特徴とする電子機器。

Images