JP4451440B2 - 有機無機複合膜が形成された物品およびその製造方法 - Google Patents
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Description
a)前記形成溶液がリン供給源を含む場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.0001〜0.2mol/kgの範囲にあり、
b)前記形成溶液がリン供給源を含まない場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.001〜0.2mol/kgの範囲にあり、かつ前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2の濃度により表示して13質量%未満である。
c)シリコンアルコキシドの濃度が上記SiO2濃度により表示して9質量%以下の場合には、このSiO2に対して30質量%以下とするとよく、
d)シリコンアルコキシドの濃度が上記SiO2濃度により表示して9質量%を超える場合には、上記SiO2濃度をAとして、(5A−15)質量%以下とするとよい。
実施例A1では、コーティング液(形成溶液)にポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤を添加した。ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤は、リン供給源でもある。
実施例A2では、シリカ原料として、テトラエトキシシランとともにエチルシリケートを用いた。
ここで、nの平均値は5である。
実施例A3では、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤に代えて、ポリエチレングリコールを用い、リンの原料としてリン酸を加えた。
実施例A4では、有機無機複合膜中に、ITO微粒子を分散させた。
実施例A5においても、有機無機複合膜中に、ITO微粒子を分散させた。
比較例A6は、実施例A1におけるポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤に代えて、ポリエチレングリコールを用いた。リン供給源は加えていない。
比較例A7は、実施例A1におけるポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤に代えて、リン酸を用いた。親水性有機ポリマーは加えていない。
実施例B1では、プロトン濃度を高め、形成溶液に、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例B2は、実施例B1よりもプロトン濃度をやや低くし、形成溶液に、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例B3では、プロトン濃度を低下させ、形成溶液に、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例B4では、プロトン濃度をさらに低下させ、形成溶液に、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
比較例B5では、プロトン濃度を極度に高め、形成溶液に、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例C1では、形成溶液に、ポリエチレングリコールを添加した。リン酸などのリン供給源は添加していない。
実施例C2では、実施例C1からプロトン濃度をやや低下させた。実施例C2においても、ポリエチレングリコールを添加したが、リン酸などのリン供給源は添加していない。
実施例C3では、実施例C2からプロトン濃度をさらに低下させた。実施例C3においても、ポリエチレングリコールを添加したが、リン酸などのリン供給源は添加していない。
比較例C4では、実施例C3からプロトン濃度をさらに低下させた。比較例C4においても、ポリエチレングリコールを添加したが、リン酸などのリン供給源は添加していない。
実施例D1では、形成溶液に、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例D2では、実施例D1から水の含有量を低下させた。実施例D2においても、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
比較例D3では、実施例D2から水の含有量を低下させた。比較例D3においても、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例E1では、プロトン濃度をやや高め、ITO微粒子を添加した。形成溶液には、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
実施例E2では、実施例E1からプロトン濃度をやや低下させ、ITO微粒子を添加した。形成溶液には、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤およびポリエチレングリコールを添加した。
Claims (25)
- 基材と、前記基材の表面に形成された有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜とを含む、有機無機複合膜が形成された物品であって、
前記有機無機複合膜が前記有機物として親水性有機ポリマーを含み、
前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、
前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とし、
前記有機無機複合膜の表面に対して実施するJIS R 3212に規定されたテーバー摩耗試験の後に、前記有機無機複合膜が前記基材から剥離しない、
有機無機複合膜が形成された物品。 - 前記有機無機複合膜の膜厚が250nmを超え5μm以下である請求項1に記載の物品。
- 前記有機無機複合膜の膜厚が300nmを超え5μm以下である請求項2に記載の物品。
- 前記有機無機複合膜の膜厚が1μm以上5μm以下である請求項3に記載の物品。
- 前記テーバー摩耗試験の後に測定した、当該テーバー摩耗試験を適用した部分のヘイズ率が4%以下である請求項1に記載の物品。
- 前記有機無機複合膜における前記有機物の含有量が、前記有機無機複合膜の総質量に対して0.1〜60%である請求項1に記載の物品。
- 前記有機無機複合膜がリンを含む請求項1に記載の物品。
- 前記親水性有機ポリマーがポリオキシアルキレン基を含む請求項1に記載の物品。
- 前記有機無機複合膜が微粒子を含む請求項1に記載の物品。
- 前記微粒子を1質量%以上含み、かつ前記テーバー摩耗試験の後に測定した、当該テーバー摩耗試験を適用した部分のヘイズ率が4%以下である請求項9に記載の物品。
- 基材と、前記基材の表面に形成された有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜とを含み、前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とする、有機無機複合膜が形成された物品の製造方法であって、
前記基材の表面に前記有機無機複合膜の形成溶液を塗布する工程と、
前記基材に塗布された形成溶液から当該形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する工程と、を含み、
前記形成溶液が、シリコンアルコキシド、強酸、水およびアルコールを含み、
前記形成溶液が、前記強酸の少なくとも一部として、または前記強酸とは別の成分として、前記有機物の少なくとも一部となる親水性有機ポリマーをさらに含み、
前記シリコンアルコキシドの濃度が、当該シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子をSiO2に換算したときのSiO2濃度により表示して3質量%を超え、
a)前記形成溶液がリン供給源を含む場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.0001〜0.2mol/kgの範囲にあり、
b)前記形成溶液がリン供給源を含まない場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.001〜0.2mol/kgの範囲にあり、かつ前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2濃度により表示して13質量%未満であり、
前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の4倍以上であり、
前記基材を400℃以下の温度に保持しながら、前記基材に塗布された形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する、
有機無機複合膜が形成された物品の製造方法。 - 前記親水性有機ポリマーの濃度が、
c)前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2濃度により表示して9質量%以下の場合には、前記SiO2に対して30質量%以下であり、
d)前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2濃度により表示して9質量%を超える場合には、前記SiO2濃度をAとして、(5A−15)質量%以下である、
請求項11に記載の物品の製造方法。 - 前記シリコンアルコキシドが、テトラアルコキシシランおよびその重合体の少なくとも一方を含む請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2濃度により表示して30質量%以下である請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記リン供給源の少なくとも一部が、前記強酸の少なくとも一部として含まれるリン酸である請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記リン供給源の少なくとも一部が、前記親水性有機ポリマーに含まれるリン酸エステル基である請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記親水性有機ポリマーがポリオキシアルキレン基を含む請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の5倍〜20倍である請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記形成溶液が微粒子をさらに含む請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記形成溶液を塗布する工程と、塗布された当該形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する工程と、をそれぞれ1回ずつ実施することにより、膜厚が250nmを超え5μm以下である前記有機無機複合膜を形成する請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記基材がガラス板である請求項1に記載の物品。
- 前記基材がガラス板である請求項11に記載の物品の製造方法。
- 前記有機無機複合膜の表面に対して実施するJIS R 3212に規定されたテーバー摩耗試験の後に、前記有機無機複合膜が前記基材から剥離しない、請求項11に記載の物品の製造方法。
- 基材と、前記基材の表面に形成された有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜とを含み、前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とし、前記有機無機複合膜が微粒子を含まず、前記基材がガラス板である、有機無機複合膜が形成された物品の製造方法であって、
前記基材の表面に前記有機無機複合膜の形成溶液を塗布する工程と、
前記基材に塗布された形成溶液から当該形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する工程と、を含み、
前記形成溶液が、シリコンアルコキシド、強酸、水およびアルコールを含み、
前記形成溶液が、前記強酸の少なくとも一部として、または前記強酸とは別の成分として、前記有機物の少なくとも一部となる親水性有機ポリマーをさらに含み、
前記シリコンアルコキシドの濃度が、当該シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子をSiO2に換算したときのSiO2濃度により表示して3質量%を超え、
a)前記形成溶液がリン供給源を含む場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.0001〜0.2mol/kgの範囲にあり、
b)前記形成溶液がリン供給源を含まない場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.001〜0.2mol/kgの範囲にあり、かつ前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2濃度により表示して9質量%未満であり、
前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の4倍以上であり、
前記基材を400℃以下の温度に保持しながら、前記基材に塗布された形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する、
有機無機複合膜が形成された物品の製造方法。 - 基材と、前記基材の表面に形成された有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜とを含み、前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とし、前記有機無機複合膜が導電性酸化物微粒子を含む、有機無機複合膜が形成された物品の製造方法であって、
前記基材の表面に前記有機無機複合膜の形成溶液を塗布する工程と、
前記基材に塗布された形成溶液から当該形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する工程と、を含み、
前記形成溶液が、シリコンアルコキシド、強酸、水、アルコールおよび導電性酸化物微粒子を含み、
前記形成溶液が、前記強酸の少なくとも一部として、または前記強酸とは別の成分として、前記有機物の少なくとも一部となる親水性有機ポリマーをさらに含み、
前記シリコンアルコキシドの濃度が、当該シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子をSiO2に換算したときのSiO2濃度により表示して3質量%を超え、
a)前記形成溶液がリン供給源を含む場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.0001〜0.2mol/kgの範囲にあり、
b)前記形成溶液がリン供給源を含まない場合には、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.001〜0.2mol/kgの範囲にあり、かつ前記シリコンアルコキシドの濃度が前記SiO2濃度により表示して13質量%未満であり、
前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の4倍以上であり、
前記基材を400℃以下の温度に保持しながら、前記基材に塗布された形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去する、
有機無機複合膜が形成された物品の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2005095298A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットガラス |
JP5038893B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2012-10-03 | 日本板硝子株式会社 | 透明物品およびその製造方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080063325A (ko) * | 2005-10-05 | 2008-07-03 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 유기 무기 복합막 형성 물품 |
JP2007320780A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カット膜が形成された透明物品 |
DE102006046308A1 (de) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Siemens Ag | Transparente poröse SiO2-Beschichtung für ein transparentes Substratmaterial |
JP5249047B2 (ja) | 2006-12-20 | 2013-07-31 | 日本板硝子株式会社 | 有機無機複合膜が形成された物品 |
JP5471441B2 (ja) * | 2007-05-08 | 2014-04-16 | セントラル硝子株式会社 | 手塗り可能なゾルゲル膜形成用塗布液 |
JP5221066B2 (ja) * | 2007-06-26 | 2013-06-26 | リコー光学株式会社 | 膜積層基板および液晶パネル用対向基板および液晶パネル |
US20090206296A1 (en) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Bakul Dave | Methods and compositions for improving the surface properties of fabrics, garments, textiles and other substrates |
JP5700552B2 (ja) | 2011-02-07 | 2015-04-15 | 日本板硝子株式会社 | 紫外線遮蔽能を有するガラス物品および紫外線遮蔽膜形成用微粒子分散組成物 |
US9176259B2 (en) | 2011-03-04 | 2015-11-03 | Intermolecular, Inc. | Sol-gel based antireflective (AR) coatings with controllable pore size using organic nanocrystals and dendrimers |
US9441119B2 (en) * | 2011-03-28 | 2016-09-13 | Intermolecular, Inc. | Sol-gel transition control of coatings by addition of solidifiers for conformal coatings on textured glass |
CN111684030B (zh) * | 2018-02-23 | 2022-11-01 | 旭化成株式会社 | 高耐久防雾涂膜和涂布组合物 |
CN115386254B (zh) * | 2022-07-12 | 2023-05-26 | 山西银光华盛镁业股份有限公司 | 镁合金材料过程保护用疏水性透明防护液及其制备方法和使用方法 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3725079A (en) * | 1967-05-26 | 1973-04-03 | Gaf Corp | Coating formulations containing phosphate esters of glycidol polyethers |
JPS5639672B2 (ja) * | 1974-03-29 | 1981-09-14 | ||
JPS5534258A (en) | 1978-09-01 | 1980-03-10 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | Coating solution for forming silica film |
JPH083074B2 (ja) * | 1986-11-18 | 1996-01-17 | 東京応化工業株式会社 | シリカ系被膜形成用塗布液 |
JPH0832854B2 (ja) | 1987-01-06 | 1996-03-29 | 日本合成ゴム株式会社 | コ−テイング用組成物 |
JPS63268722A (ja) | 1987-04-28 | 1988-11-07 | Dainippon Ink & Chem Inc | 不飽和ポリエステル樹脂組成物 |
DE3828098A1 (de) | 1988-08-18 | 1990-03-08 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und zusammensetzung zur herstellung von kratzfesten materialien |
JP2680434B2 (ja) | 1989-07-25 | 1997-11-19 | 武夫 三枝 | オキサゾリンポリマー/シリカ複合成形体の製造方法 |
JP2574049B2 (ja) | 1990-01-17 | 1997-01-22 | 武夫 三枝 | 有機・無機複合透明均質体及びその製法 |
JP2555797B2 (ja) | 1991-05-13 | 1996-11-20 | トヨタ自動車株式会社 | 撥水ガラス及びその製造方法 |
US5424130A (en) | 1991-05-13 | 1995-06-13 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Water repellent glass and process for producing the same |
JPH0652796A (ja) | 1991-09-30 | 1994-02-25 | Colcoat Eng Kk | 低温焼成によるシリカコート膜の形成法 |
JPH0585714A (ja) | 1991-09-30 | 1993-04-06 | Korukooto Eng Kk | 低温焼成でシリカコート膜を形成し得るアルコール性シリカゾルの製法 |
KR100214428B1 (ko) * | 1993-06-30 | 1999-08-02 | 후지무라 마사지카, 아키모토 유미 | 적외선차단재와 그것에 사용하는 적외선차단분말 |
JPH0827422A (ja) | 1994-07-15 | 1996-01-30 | Mitsubishi Chem Corp | シリカ系被膜形成用組成物 |
JPH08295844A (ja) * | 1995-04-25 | 1996-11-12 | Sekisui Chem Co Ltd | 被覆用組成物及び積層体の製造方法 |
AU1351499A (en) * | 1997-12-04 | 1999-06-16 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Process for the production of articles covered with silica-base coats |
JP3427755B2 (ja) | 1997-12-04 | 2003-07-22 | 日本板硝子株式会社 | シリカ系膜被覆物品を製造する方法 |
DE19811790A1 (de) * | 1998-03-18 | 1999-09-23 | Bayer Ag | Nanopartikel enthaltende transparente Lackbindemittel mit verbesserter Verkratzungsbeständigkeit, ein Verfahren zur Herstellung sowie deren Verwendung |
DE19816136A1 (de) * | 1998-04-09 | 1999-10-14 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Nanostrukturierte Formkörper und Schichten und deren Herstellung über stabile wasserlösliche Vorstufen |
JP3723891B2 (ja) | 1999-09-17 | 2005-12-07 | グンゼ株式会社 | 表面硬質透明シートとその製造方法 |
DE19952040A1 (de) * | 1999-10-28 | 2001-05-03 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Substrat mit einem abriebfesten Diffusionssperrschichtsystem |
US6589457B1 (en) * | 2000-07-31 | 2003-07-08 | The Regents Of The University Of California | Polymer-assisted aqueous deposition of metal oxide films |
JP4745490B2 (ja) | 2000-09-13 | 2011-08-10 | 宇部日東化成株式会社 | シリカ系コーティング剤、シリカ薄膜の製造方法およびシリカ薄膜 |
JP4565438B2 (ja) * | 2000-12-01 | 2010-10-20 | グンゼ株式会社 | 表面硬質透明シートとその製造方法 |
CN100343037C (zh) * | 2000-12-22 | 2007-10-17 | 日本板硝子株式会社 | 具有特定表面形状的物品及其制造方法 |
US6849350B2 (en) * | 2001-02-28 | 2005-02-01 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article having a predetermined surface shape and method for preparation thereof |
JP2002338304A (ja) | 2001-02-28 | 2002-11-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 所定表面形状を有する物品の製造方法 |
JP2002348542A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-12-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 被覆物品、被覆用液組成物および被覆物品を製造する方法 |
WO2002074447A2 (en) | 2001-03-21 | 2002-09-26 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Coated article, coating liquid composition, and method for producing coated article |
DE60232942D1 (de) * | 2001-10-09 | 2009-08-27 | Mitsubishi Chem Corp | Strahlungshärtbare Beschichtungszusammensetzung |
JP3951264B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2007-08-01 | グンゼ株式会社 | 透明耐湿ガスバリアフィルム |
AU2003252287A1 (en) | 2002-07-29 | 2004-02-16 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding glass |
-
2005
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2005095298A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットガラス |
JP4989219B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2012-08-01 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットガラス及びその製造方法 |
JP5038893B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2012-10-03 | 日本板硝子株式会社 | 透明物品およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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