JPWO2005095298A1 - 赤外線カットガラス - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 181
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims abstract description 32
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 101
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 48
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 44
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 42
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 23
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 21
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 claims description 15
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 11
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 11
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 8
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 85
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 47
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 46
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 11
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 11
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 10
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 7
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 7
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002565 Polyethylene Glycol 400 Polymers 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N pentaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCO JLFNLZLINWHATN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011928 denatured alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000005336 safety glass Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
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- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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Abstract
Description
これに対して、国際公開第2004/011381号パンフレット記載の赤外線遮蔽ガラスでは、耐熱性に優れたフッ素成分を含有させたITO粉末を用いて350℃以上の高温でもゾル−ゲル法を実行可能にしている。このフッ素成分は、ITO微粒子を熱的に保護した状態でIRカット膜中に導入される。
また、ゾル−ゲル法によって得られる膜は、シリカを構成単位とするシリカ成分から成るシリカ膜から成ることが一般的であるが、有機物及び無機物から成る有機無機複合膜も提案されている(例えば、特許第2574049号公報(日本)、特許第2680434号公報(日本)、及び特開2002−338304号公報(日本)参照)。有機無機複合膜により、シリカ膜では得られない特性をIRカット膜に付与することができ、例えばIRカット膜の厚膜を容易に厚くすることができる。
しかしながら、上記特開昭63−268772号公報(日本)及び特開2002−088304号公報(日本)に記載の膜では、ゾル−ゲル法を250℃以下の低温で実行することにより、IRカットオフ成分のIR遮蔽機能の低下を抑制することはできるが、IRカットガラスの十分な硬度(耐摩耗性)を確保することができない。
また、上記国際公開第2004/011381号パンフレットに記載されているように、350℃以上の高温でゾル−ゲル法を実行するためにITO粉末にフッ素成分を含有させると、フッ素成分を含有させるコストがかかると共に、加熱するためのエネルギーコストが高くなる。また、十分な硬度及び厚さを有する膜を得ようとすると、膜に亀裂(クラック)が発生し易くなり、製造が困難となる。
さらには、上記特許第2574049号公報(日本)、特許第2680434号公報(日本)、及び特開2002−338304号公報(日本)記載の有機無機複合膜では、膜厚を厚くすることはできるが、硬度を高くしようとするとIRカット膜に亀裂が発生して、十分な硬度及び厚さの双方を得ることができない。
本発明の目的は、十分な硬度を確保しつつ且つIRカットオフ成分の機能を十分に保持することができる赤外線カットガラスを提供することにある。
本発明の上述の及びその他の目的、特徴並びに利点は、添付の図面に基づく下記の詳細な説明により一層明らかになるであろう。
上記構成によれば、耐摩耗性試験の後に測定されるヘイズ率が7%以下であるので、十分な硬度を確保しつつ且つIRカットオフ成分の機能を十分に保持することができる。
好ましくは、前記ヘイズ率は4%以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、耐摩耗性試験の後に測定されるヘイズ率が4%以下であるので、さらに十分な硬度を確保することができ、例えば自動車用ガラスに適用することができる。
好ましくは、前記赤外線カットオフ成分の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して20〜45%であることを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カットオフ成分の含有量が赤外線カット膜の総質量に対して20〜45%であるので、赤外線を確実にカットオフすることができる。
好ましくは、前記赤外線カットオフ成分は、フッ素成分を含有しない成分で構成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カットオフ成分がフッ素成分を含有しない成分で構成されているので、フッ素成分を含有させるコストを低減させることができる。
好ましくは、前記赤外線カットオフ成分は、ITO微粒子及び/又はATO微粒子を含有することを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カットオフ成分がITO微粒子及び/又はATO微粒子を含有するので、赤外線カットオフ成分のIR遮蔽機能を確実に確保することができる。
より好ましくは、前記ITO微粒子及び/又はATO微粒子の粒径は100nm以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、ITO微粒子及び/又はATO微粒子の粒径が100nm以下であるので、赤外線カットの効率が良く、且つ微粒子の粒径が大きいことに起因するヘイズの発生を抑制することができる。
好ましくは、前記有機物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して2〜60%であることを特徴とする。
上記構成によれば、有機物の含有量が赤外線カット膜の総質量に対して2〜60%であるので、赤外線カット膜の厚さが厚い場合であってもクラックを発生しにくくすることができる。
より好ましくは、前記有機物は親水性有機ポリマーを含むことを特徴とする。
上記構成によれば、有機物が親水性有機ポリマーを含むので、請求項7記載の赤外線カット膜による効果を確実に奏することができる。
さらに好ましくは、前記親水性有機ポリマーが、ポリアルキレンオキサイド、及び当該ポリアルキレンオキサイドの熱分解物のいずれか一方を含むことを特徴とする。
上記構成によれば、親水性有機ポリマーが、ポリアルキレンオキサイド、及び当該ポリアルキレンオキサイドの熱分解物のいずれか一方の有機物を含むので、上記効果を確実に奏することができる。
好ましくは、前記無機酸化物はシリカであることを特徴とする。
上記構成によれば、無機酸化物がシリカであるので、赤外線カット膜の硬度を向上させることができる。
好ましくは、前記無機酸化物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して20〜78%であることを特徴とする。
上記構成によれば、無機酸化物の含有量が赤外線カット膜の総質量に対して20〜78%であるので、十分な硬度を確保することができる。
より好ましくは、前記無機酸化物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して40〜78%であることを特徴とする。
上記構成によれば、無機酸化物の含有量が赤外線カット膜の総質量に対して40〜78%であるので、上記効果を確実に奏することができる。
好ましくは、前記赤外線カット膜は、その膜厚が200〜4000nmであることを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カット膜の膜厚が200〜4000nmであるので、赤外線カット膜の膜厚方向に配置される赤外線カットオフ成分の含有量が多く、赤外線カットオフ性能を向上させることができる。
好ましくは、前記赤外線カット膜は、その膜厚が600℃の加熱により10%以上減少することを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カット膜の膜厚が600℃の加熱により10%以上減少するので、赤外線カット膜は完全な焼結体ではなく収縮する余地があり、その結果、クラックの発生を抑制することができる。
好ましくは、波長1000〜1600nmの光の透過率が30%以下であり、且つ波長1600〜2500nmの光の透過率が20%以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、波長1000〜1600nmの光の透過率が30%以下であり、且つ波長1600〜2500nmの光の透過率が20%以下であるので、赤外線カットオフ性能の低下を確実に抑制することができる。
好ましくは、移動体用若しくは乗り物用又は建築物用の窓ガラスに適用されることを特徴とする。
上記構成によれば、移動体用若しくは乗り物用又は建築物用の窓ガラスに適用されるので、十分な硬度が確保され、IRカットオフ成分のIR遮蔽機能の低下を抑制され、且つコストが低減された、快適な空間を提供することができる。
好ましくは、前記赤外線カット膜は、ゾル−ゲル法により前記ガラス基板に成膜され、前記ゾル−ゲル法の実行中においてゲル状態にある赤外線カット膜を固化させるときの焼成温度が100℃以上350℃未満であることを特徴とする。
上記構成によれば、焼成温度が100℃以上350℃未満で実行されたゾル−ゲル法により赤外線カット膜がガラス基板の面上に形成されるので、確実に赤外線カットオフ成分の赤外線カットオフ性能を確保することができる。
好ましくは、前記焼成温度が250℃以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、焼成温度が250℃以下であるので、より確実に赤外線カットオフ成分の赤外線カットオフ性能を確保することができる。
好ましくは、前記ガラス基板は、ソーダライムシリカガラスから成ることを特徴とする。
上記構成によれば、ガラス基板が、ソーダライムシリカガラスから成るので、赤外線カットガラスの硬度を確実に向上させることができる。
好ましくは、前記有機無機複合膜はリンを含有することを特徴とする。
図2は、本発明の実施例のIRカットガラスの光学特性を示す図である。
本発明は、上記研究の結果に基づいてなされたものである。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る赤外線カットガラスの構成を概略的に示す断面図である。
図1において、赤外線(IR)カットガラス100は、基材としてのガラス基板20と、後述するゾル−ゲル法によりガラス基板20の表面上に膜厚200〜4000nm(0.2〜4μm)で成膜されたIRカット膜10とを備える。IRカット膜10は、シリカ(SiO2)を構成単位とするシリカ成分及び有機物を含有するマトリクス11と、マトリクス11中に分散されたIRカットオフ成分としてのITO微粒子(インジウム(In)−スズ(Sn)酸化物:Indium Tin Oxide)12とから構成される。上記IRカットオフ成分は、IRをカットオフ(遮蔽)してガラス基板20に熱遮蔽機能やIR遮蔽機能を付与する。
ガラス基板20は、硬度の高いガラスであればいかなるガラスから成ってもよく、例えばソーダライムシリカガラスから成る。ソーダライムシリカガラスには、無色のガラス、グリーン色、グレー色、ブルー色などの有色のガラス、さらには、紫外線をカットする機能を有するガラスや、プライバシーを保つために可視光の透過率を低く抑えたガラスなどがあり、これらは本発明の赤外線カットガラスを車両用として用いる場合に好適に用いられる。
ITO微粒子12をマトリクス11に分散させるためには後述するゾル−ゲル法を用いる。ITO微粒子12は、該ゾル−ゲル法によってゾル状態にあるマトリクス11が固化することによりマトリクス11中に分散された状態で固定される。マトリクス11に固定されている状態でITO微粒子12の含有量は、IRカット膜10全質量に対して20〜45%である。該ITO微粒子12の含有量が20質量%未満であると、赤外線をカットするIR遮蔽機能が低くなり、一方、45質量%を超えると、マトリクス11の硬度が低下する。
また、ITO微粒子12の粒径は、100nm以下、好ましくは40nm以下であり、より好ましくは1〜40nmである。これにより、赤外線カットの効率が良く、且つ微粒子の粒径が大きいことに起因するヘイズの発生を抑制することができる。
ところで、ゾル−ゲル法により硬い膜を得る方法としては、350℃以上の高温で加熱する方法が知られている。しかし、IRカットオフ成分として用いられるITO微粒子12は、250℃より高い温度での加熱により熱遮蔽機能やIR遮蔽機能が低下するため、ゾル−ゲル法を350℃以上の高温下で実行する場合、IRカットオフ成分として、フッ素成分を含有させたITO粉末を用いる必要がある(上記国際公開第2004/011381号パンフレット参照)。フッ素成分を含有させたITO粉末を用いると、フッ素成分を含有させるコストがかかる。したがって、本実施の形態に係る赤外線カットガラスを製造するための製造技術では、コスト低減のため、フッ素成分を含有しないIRカットオフ成分を用い、ゾル−ゲル法を100℃以上350℃未満、好ましくは250℃以下の温度で実行する。このような製造技術であってもIRカット膜10の十分な硬度を確保し、且つITO微粒子12が有する熱遮蔽機能やIR遮蔽機能などの機能を十分に保持する。
IRカット膜10中の有機物としては、親水性有機ポリマー、例えば、ポリアルキレンオキサイド、及び該ポリアルキレンオキサイドの熱分解物のいずれか一方の有機物を用いる。これらの有機物は、シリコンアルコキシドなどのシリカ成分を含む無機酸化物と複合化し、その結果、マトリクス11が形成される。すなわち、マトリクス11は、有機物と無機酸化物とが分子レベルで結合又は組み合わされた有機無機複合化合物から成る有機無機複合膜である。
また、上記有機物の含有量は、IRカット膜10の総質量に対して2〜60%である。該有機物の含有量が2質量%未満であると、後述する収縮緩和効果が十分に得られなくなり、厚い膜を形成する際にクラックが発生する可能性が増大する。一方、60質量%を超えると、IRカット膜中の有機物の含有量が多すぎて、十分な硬度を得ることができなくなる。
IRカット膜10中のシリカ成分の含有量は、IRカット膜10全質量に対して20〜78%、好ましくは40〜78%である。該シリカ成分の含有量が20質量%未満であると、後述する耐摩耗性試験(テーバー摩耗試験)をIRカット膜10形成面に行った後に測定されるIRカットガラス100のヘイズ率(曇価)が7%以下とすることができなくなる。なお、後述するゾル−ゲル法において使用される溶液に添加されるマトリクス11の出発原料におけるシリカ成分の濃度は20〜40質量%である。
上記シリカ成分の濃度(質量%)は、シリカ成分の構成単位であるシリカの含有量で算出する。例えば、上記有機物とシリカ(シリコン酸化物)とが複合化合物としての非晶質体を構成している場合にも、シリカ成分の質量百分率はシリカの含有量で算出する。
上記製造技術では、ITO微粒子12の熱遮蔽機能やIR遮蔽機能を保持可能な温度及び上記機能性材料の分解温度よりも低い温度、例えば200℃での焼成でIRカットガラス100の所望の特性を得ることができる。これにより、熱的に不安定なITO微粒子12や他の機能性材料がそれらの機能を損なうことなくIRカット膜10中に導入されたIRカットガラス100を提供することができる。
IRカット膜10を含むIRカットガラス100は、日本工業規格JIS R 3212(自動車用安全ガラス試験方法:Test method of safety glazing materials for road vehicles)に準拠した後述する耐摩耗性試験(以下、単に「耐摩耗性試験」という)をIRカット膜10形成面に行った後に測定されるヘイズ率が7%以下である。耐摩耗性試験後に測定されるヘイズ率が低いほど、硬度が高いことを示している。このヘイズ率が7%以下であると、例えば移動体用若しくは自動車、電車などの車両用の窓ガラスや建築用の窓ガラスに十分な硬度を確保することができる。好ましくは、耐摩耗性試験後に測定されるヘイズ率が4%以下である。これにより、自動車用ガラスに適した硬度を確実に確保することができる。なお、後述するようなゾル−ゲル法を実行することにより、上述した硬度を確保することができる。
以下、350℃未満の加熱であっても十分な硬度(耐摩耗性試験後のヘイズ率が7%以下)が得られる膜をゾル−ゲル法により形成する方法の一実施形態について説明する。
ゾル−ゲル法は、概略的には以下のように実行される。
ゾル溶液(形成溶液)の調製は、所定の溶媒、例えばエチルアルコールに、マトリクス11の出発原料としてのシリコンアルコキシド、水、酸などの触媒、ITO微粒子12、他の機能性材料など、及び親水性有機ポリマー、などの材料を添加することによって行う。添加されたこれらの材料はゾル溶液中に分散又は溶解している。この溶液において、水と触媒により、シリコンアルコキシドは加水分解及び脱水縮重合反応を起こしてシロキサン結合を有するオリゴマーとなる。なお、ゾル溶液は市販のゾル溶液に必要な材料を添加したものであってもよい。
上記他の機能性材料はIRカット膜10中に分散しやすくするために微粒子であることが好ましい。
上記溶液に親水性有機ポリマーを添加すると、IRカット膜10の膜厚を厚くしても、クラックの発生を抑制することができるので、好ましい。この理由は、親水性有機ポリマーが上記シラノール基の間に入り込むことで、ゲルが固化して細孔が収縮する時に起こる構造変化に柔軟に追随できるようになり、IRカット膜10中の応力を緩和するためと考えられる。
上記親水性有機ポリマーとしては、ポリエーテル基を有する有機化合物、又は末端に親水性の官能基を有するポリエーテルなどが使用可能である。ポリエーテル基を有する有機化合物としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレンオキサイド、又はポリエーテル基を有するリン酸系界面活性剤などを使用することが好ましい。
また、上記ポリエーテルとしては、例えば、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤のように所定の界面活性剤の官能基にリンが導入されたものを用いることができる。上記ゾル溶液にリンを添加するために、例えば、上記ポリアルキレンオキサイドの官能基にリンを導入したり、また、別途、ゾル溶液にリン酸を添加したりしてもよい。リン酸としては、オルトリン酸(正リン酸)が好ましい。ゾル溶液に添加されるリンの量は少量でよい。なお、このリンは、特にIRカット膜10が形成される際の硬化触媒として働く。また、リンは、400℃以下の温度では揮発することなくIRカット膜10中に残存する。さらに、リンは、とりうる価数が複数あるので、IRカット膜10の状態に応じてその価数を変化させることができ、その結果、IRカット膜10の残留応力を大きくすることがなく、さらにIRカット膜10の硬度の低下を防止することができる。したがって、上記ゾル溶液にリンを添加することは好ましい。
また、上記界面活性剤は、IRカット膜10中にITO微粒子12やコロイダルシリカなどの微粒子を分散させる場合には、分散剤として機能する。特に、ポリエーテル基を有するリン酸系界面活性剤は、微粒子の分散性に優れていると共に、膜全体の応力を低減しクラックの発生を抑制する効果があるので、これを使用することが好ましい。
これらの親水性有機ポリマーは、シリコンアルコキシドのシリカ成分の質量百分率(濃度)を超えない範囲内の分量で添加されることが好ましい。これらの親水性有機ポリマーは、ゲルの加熱硬化後もIRカット膜10中に残存するので、その残存量が多いとIRカット膜10の強度や硬度が低下するからである。
続いて、調製したゾル溶液をガラス基板20の表面上に塗布する。その後、ゾル溶液が塗布されたガラス基板20に、必要に応じて熱処理を施して、ゾル溶液を乾燥させる。これにより、ゾル溶液はゲル状態を経て固化し、マトリクス11中にITO微粒子12が分散された状態でIRカット膜10がガラス基板20の表面上に成膜され、IRカットガラス100が製造される。
上記熱処理時には、ガラス基板20表面上に塗布されたゾル溶液から水や溶媒が揮発していくので、ゾル溶液は、流動性を徐々に失って半固形状のゲル状態になっていく(ゲル化)。これにより、ゾル溶液中でオリゴマーであったシリコンアルコキシドは、濃縮されるにつれて上記反応が進行して高分子量のシロキサンポリマーとなる。シロキサンポリマーは、シロキサン結合が拡大したネットワーク(ゲル骨格)を有し、ゲル化直後のゲル骨格は、その隙間に溶媒や水が満たされた状態にある。ゲル骨格の隙間からさらに水や溶媒が揮発してゲルが乾燥すると、上記隙間が収縮しながらシロキサンポリマーは固化してシリカ系膜成分となり、マトリクス11が形成される。
上述したゾル−ゲル法において実行される熱処理における、反応と温度との関係についてさらに詳しく述べる。
まず、熱処理が100〜150℃の温度域で実行されているときは、溶液に含まれていた水や溶媒などが揮発又は蒸発する。つづいて、250〜400℃の温度域にまで加熱すると、溶液にITO微粒子12や他の機能性材料、特に有機物が添加されていると、それらが熱分解したり蒸発したりする。また、250〜400℃の温度域でゲルが固化しても、ゲルの時に溶媒や水が満たされていたゲル骨格の隙間は完全に収縮する(埋まる)ことがないので、ゲル骨格の隙間が細孔として残存し、IRカット膜10の硬度を十分に確保したとはいえない。したがって、細孔がなく硬質なIRカット膜10を得るためには、さらに高温、例えば500℃以上の温度での熱処理を行う必要がある。
通常、ゾル−ゲル法における熱処理は500℃以上の温度で行われるが、本発明の実施の形態のように、溶液中にITO微粒子12が存在する場合、250℃を超える温度では、ITO微粒子12が有するIR遮蔽機能が低下する。従って、本発明の実施の形態では、100℃以上350℃未満、好ましくは250℃以下の温度で熱処理が行われる。
IRカット膜10は、例えば、後述するように、溶液中の酸の濃度と水の分量を調整してpHが後述する所定の範囲内の数値である溶液に対して、100℃以上350℃未満、好ましくは250℃以下の温度で熱処理を行うことにより得られる。このようにして得られたIRカット膜10は、緻密で、溶融ガラス並みの硬度を有し、且つクラックが発生しにくい。
溶液のpHを調製する理由は以下の通りである。
上述したように、ゲル骨格には、溶媒や水が満たされる隙間がある。この隙間の大きさは、溶液中でのシリコンアルコキシドのオリゴマーやシロキサンポリマーといった重合体(縮合体)の形態に依存し、これらの重合体の形態は、溶液のpHによって大きく変化する。
すなわち、アルカリ性の溶液中では、シリコンアルコキシドのオリゴマーは球状の組織に成長しやすい。このような球状の組織を乾燥させていくと、組織が球状であるので複数の球状の組織は折り重なることができず、比較的大きな隙間(細孔)を有するIRカット膜10が得られる。この場合には、IRカット膜10は、大きな隙間から溶媒や水が揮発する際にクラックが発生しにくいが、十分な硬度を確保することができない。
一方、酸性の溶液中では、シリコンアルコキシドのオリゴマーは直鎖状の組織に成長しやすい。このような直鎖状の組織を含む溶液を乾燥させていくと、複数の直鎖状の組織が折り重なっていくので、隙間(細孔)が比較的小さく緻密で十分な硬度が確保されたIRカット膜10が得られる。しかしながら、複数の直鎖状の組織が折り重なった状態であるので、それら組織の隙間から溶媒や水が揮発する際にIRカット膜10にクラックが発生しやすい。
そこで、本発明者は、十分な硬度が確保されたIRカット膜10を形成することができる溶液のpHが酸性領域において、酸の濃度と水の分量を詳細に検討することにより、IRカット膜10が厚い膜であってもIRカット膜10にクラックの発生がない濃度領域を発見した。
ここで、シラノール基を含む化合物、例えばシリコンアルコキシドの等電点は2であることが知られている。これは、溶液のpHが2であるとシラノール基が最も安定して溶液中に存在できることを示している。
例えば、このようなpHの領域では、加水分解により1個のアルコキシル基が分離した1個のシリコンアルコキシドはシラノール基を有する状態で安定化されている。また、シリコンアルコキシドが4つのアルコキシル基を有するテトラアルコキシシランである場合には、そのうちの1つのアルコキシル基が加水分解により分離して、3つのアルコキシル基を有するシリコンアルコキシドはシラノール基を有する状態で安定化されている。
つまり、加水分解されたシリコンアルコキシドが溶液中に多量に存在する場合においても、溶液のpHが2程度の数値であれば、シリコンアルコキシドが、脱水縮合反応によりシロキサン結合を介したオリゴマーの状態で溶液中に存在する確率が非常に低くなり、モノマー又はシロキサン結合を介した低重合体の状態で溶液中に存在する確率が高い。
溶液のpHを2程度の数値にするためには、ゾル溶液に強酸を添加し、当該強酸のプロトンが完全に解離したとしたときのプロトンの質量モル濃度(以下、「プロトン濃度」という)が、0.001〜0.1mol/kgとなるようにする。これにより、溶液のpHを1〜3程度の数値にして、シラノール基が安定した状態の溶液を調製することができる。なお、プロトン濃度を0.001〜0.1mol/kgとした理由は、有機溶媒と水とが混合した混合溶液中では、酸の解離度を正確に求めることが困難だからである。
上記強酸としては、塩酸、硝酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、シュウ酸などを挙げることができる。また強酸は加熱すると溶液から揮発する揮発性の強酸であることが好ましい。その理由は、固化後のIRカット膜10の内部に残存した酸が、IRカット膜10のシリカ成分間の結合、例えばシロキサン結合の妨げとなって、IRカット膜10の硬度を低下させるからである。
上述したように、溶液のpHを1〜3の範囲内の数値に制御することによりシリコンアルコキシドの重合度が制御された溶液をガラス基板20の表面上に塗布して乾燥させるので、部分的に重合したシリコンアルコキシドが緻密に配列されて、細孔が小さく且つクラックが発生しにくいIRカット膜10を形成することができる。
また、溶液中のシリコンアルコキシドの重合体の形態を制御するので、IRカット膜10の膜厚を200〜4000nmの範囲である程度制御することができる。さらには、IRカット膜10が200nmを超えるような膜厚であってもクラックの発生を抑制できることから、膜厚を厚くすることにより、IRカット膜10の膜厚方向に配置されるITO微粒子12の含有量を多くすることができる。従って、IRカットガラス100のIR遮蔽機能を向上させることができる。
このようにして得られたIRカット膜10は緻密ではあるが、このIRカット膜10を200〜300℃で加熱しても、シリコンアルコキシドの加水分解が不十分であることに起因して、ある硬度以上とはならない。そこで、シリコンアルコキシドの加水分解を促進させておいて、低温で硬化(ゲル化)しやすい状態にすることが好ましい。
シリコンアルコキシドの加水分解を促進するために、本実施の形態では、ゾル溶液を調製するときに、シリコンアルコキシドの加水分解に必要な分量と同量又は過剰の分量の水を溶液に予め添加する。即ち、水の分量は、シリコンアルコキシドのシリコン原子のモル数の4倍モル以上である。これにより、シリコンアルコキシドの加水分解反応を十分に進行させ、350℃未満の温度で熱処理するだけでも、硬度の高いIRカット膜10を得ることが可能となる。より好ましくは、水の分量は、シリコンアルコキシドのシリコン原子のモル数の5〜20倍モルである。これにより、確実にシリコンアルコキシドを加水分解させて、IRカット膜10の十分な硬度を確保することができる。
例えば、シリコンアルコキシドがテトラアルコキシシランである場合には、テトラアルコキシシラン1モルに対して、化学量論的に4モルの分量の水を溶液に添加する。
また、テトラアルコキシシランの重合物の場合には、当該重合物に含まれるSi原子のモル数をnとすると、加水分解に必要な水のモル数は、化学量論的に(2n+2)モルとなる。したがって、重合度の高いアルコキシシラン原料を使うほど、Si原子1モルに対して化学量論的に加水分解に必要な水のモル数は少なくすることができる。しかしながら、予め重合されたシリコンアルコキシドを原料として使用する場合でも、Si原子1モルに対して4倍以上のモル数の分量の水を添加するのが好ましい。より好ましくは、5〜20倍のモル数の分量の水を添加する。これにより、350℃未満の温度で熱処理を実行するだけで、確実に硬度の高いIRカット膜10を得ることができる。
この理由は、例えば、溶液が粘度の低く、且つ、溶液中の水の分量がSi原子に対して化学量論的に必要十分な程度である場合は、溶液を加熱する前は、水は溶液中に十分に拡散しているので、シリコンアルコキシドの加水分解反応は進行していくが、溶液を加熱して乾燥させていくと溶液の粘度が高くなって溶液の流動性が低下し、水は、溶液中に十分に拡散しなくなるので、もって、シリコンアルコキシドの加水分解反応は十分に進行できなくなるからである。
本実施の形態において、ゾル−ゲル法において実行される熱処理は、350℃未満、好ましくは250℃以下の温度で行われる。
熱処理の下限温度は、例えばIRカット膜10の要求される硬度に応じて適宜選択することもできる。例えば、常温程度の温度での乾燥では鉛筆硬度試験によって測定される硬度がB程度のIRカット膜10が得られる。また、90℃までの温度での熱処理では同硬度がH程度の、120℃までの温度での熱処理では同硬度が9H以上のIRカット膜10が得られる。さらに、150℃以上の温度での熱処理を施すと、鉛筆硬度試験によって測定可能な硬度の範疇を超える硬度のIRカット膜10が得られる。
なお、鉛筆硬度試験によって測定可能な硬度の範疇を超えるような硬度は、上記耐摩耗性試験で評価することができる。具体的には、市販のテーバー摩耗試験機を用いて、4.9N(500g)の荷重で1000回転の摩耗試験をIRカット膜10形成面に行った後に市販のヘイズメーターを用いてヘイズ率を測定することにより、IRカット膜10の硬度を評価する。150℃以上の温度で熱処理が施されたIRカット膜10の硬度は、耐摩耗性試験後のヘイズ率が4%以下となる。この硬度は、溶融ガラス基板の表面硬度並みの硬度であり、例えば自動車用ガラスに十分な硬度を確保することができる。
本実施の形態では、マトリクス11を形成する出発原料(シリカ成分)は、シリコンアルコキシド(モノマー)としたが、上述したように、シリコンアルコキシドの低重合体(オリゴマー)、及びポリマーを含む重合体、並びにシリコンアルコキシドの一部又は全てのアルコキシル基が加水分解されたシラノール基を有する状態のもの含む。これらは、親水性を有し、マトリクス11の緩衝剤として機能する。
ところで、シリカ成分単独のドライゲルは、多孔質であることが知られている。これに対して、本発明では、マトリクス11を、シリカ成分に有機物を含む有機無機複合膜とすることに1つの特徴がある。この有機無機複合膜は、シリコンアルコキシドに、親水性有機ポリマーとしてのポリアルキレンオキサイドなどの有機物を添加して複合化させたものであるので、有機物がゾル−ゲル反応によって形成されるシリカ成分の粒子の成長を抑制し、その結果、マトリクス11が多孔質になりにくくなり、IRカット膜10の硬度が向上したと考えられる。また、この有機物は、ゾル−ゲル法により膜を形成する際の加熱時における溶媒の蒸発による膜収縮を緩和する(収縮緩和効果)ため、クラックを発生させることなく、1度のゾル−ゲル法でIRカット膜10を膜厚が200〜4000nmの範囲で形成することができる。
また、有機物は、一般的には350℃以上の加熱によりその体積が減少するので、600℃以上の温度でIRカットガラス100を加熱すると、膜厚が10%以上減少する。例えば、620℃の温度でIRカットガラス100を加熱すると、膜厚が20%以上減少する。
本実施の形態によれば、ゾル−ゲル法でガラス基板20に塗布される溶液のpHと水分量を調整することによって、溶液中のシリコンアルコキシドの加水分解の状態や重合体の形態を制御する。また、熱処理時には、溶液のpHが変化するように揮発性の強酸を使用する。このようにすることによって、比較的低温(350℃未満)の熱処理で硬度が高く、クラックがないIRカット膜10を得ることができる。
なお、上記実施の形態では、ガラス基板20の一方の面上にIRカット膜10を形成したが、ガラス基板20の双方の面上にIRカット膜10を形成してもよい。また、IRカットオフ成分としては、ITO微粒子12を用いたが、ATO(アンチモン(Sb)−スズ(Sn)酸化物:Antimony Tin Oxide)微粒子などの導電性酸化物の微粒子を用いてもよいし、導電性酸化物の微粒子をITO微粒子12と併用してもよい。ATO微粒子の粒径は、100nm以下、好ましくは40nm以下であり、より好ましくは1〜40nmであることが好ましい。IRカットオフ成分としてITO微粒子及び/又はATO微粒子を含有するので、IRカット膜10のIR遮蔽機能を確実に確保することができる。
さらに、ITO微粒子、ATO微粒子などの導電性酸化物の微粒子の他に、六ホウ化ランタン(LaB6)などを添加してもよい。六ホウ化ランタンなどを添加することにより、IRカットガラス100の近赤外線のカットオフ性を向上させることができる。
また、上記実施の形態におけるマトリクス11の出発原料としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、エチルシリケート(例えば、コルコート社製のエチルシリケート40やエチルシリケート48)、メチルシリケートなどをシリカ成分として用いることができる。
また、有機修飾された金属アルコキシドを、その金属アルコキシドの金属原子のモル数が、有機修飾されていないシリコンアルコキシドのシリコン原子のモル数の10%以下となるように、上記溶液に添加することも可能である。
上記溶液の溶媒としては、エチルアルコールを用いる代わりに、メチルアルコール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール、又はそれらの混合物を用いてもよい。
また必要に応じて、他の有機溶媒を上記溶液に添加することも可能である。
さらに、機能性材料として、有機分子、有機高分子などの有機物や、無機イオン、無機微粒子などの無機物を、総シリコンアルコキシドのシリカ成分の質量百分率(濃度)を超えない範囲で、上記溶液に添加することが可能である。
さらに、シリコン酸化物以外の金属酸化物をシリコン酸化物の質量百分率を超えない範囲で上記溶液に添加し、複合酸化物としてもよい。その際に、シリコンアルコキシドの反応性に、影響を与えない方法で添加することが望ましい。
また、ゾル−ゲル法では、水又はアルコールに溶解する金属化合物、特に単純に電離して溶解する金属化合物を必要量上記溶液に添加することが好ましい。該金属化合物には、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、コバルト、鉄、ニッケル、銅、アルミニウム、ガリウム、インジウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、セリウム、亜鉛などの金属の、塩化物、酸化物、硝酸塩などがある。
ホウ素(Boron)に関しては、ホウ酸又はホウ素のアルコキシドをアセチルアセトンなどのβ−ジケトンでキレート化して上記溶液に添加することが可能である。
チタン、ジルコニウムに関しては、そのオキシ塩化物、オキシ硝酸化物、又はアルコキシドをβ−ジケトンでキレート化して上記溶液に添加することが可能である。
また、アルミニウムに関しても、そのアルコキシドをβ−ジケトンでキレート化して上記溶液に添加することが可能である。
(実施例1)
ポリエチレングリコール(PEG400:関東化学社製)、純水、高分子分散剤としてのポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤(ソルスパース41000:日本ルーブリゾール社製)、変性アルコール(ソルミックス(登録商標)AP−7:日本アルコール販売社製(以下、「AP−7」という))を順に入れた溶液を1分間攪拌した後、濃塩酸(関東化学社製)を1質量%添加したAP−7(以下、「1質量%AP−7」という)を上記溶液に添加し、1分間攪拌した。
その後、テトラエトキシシラン(KBE−04:信越化学社製、シリカ成分含有量=28.8質量%)を上記溶液に添加して室温で4時間攪拌した。この後、ITO微粒子とエタノールを質量比2:3の割合で混合して4時間攪拌することにより得られたITO分散液を上記溶液に添加して、30分間攪拌を行い、コーティング液を得た。なお、各液の分量は、表1に記載した分量とした。また、ITO分散液中のITO微粒子として、直径が10〜20nm程度の微粒子を用いた。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO微粒子の含有量(以下、「ITO含有量」という)、IRカット膜中の有機物の含有量(以下、「有機分含有量」という)、及びIRカット膜中のシリカ成分の含有量(以下、「シリカ含有量」という)を、コーティング液に添加されている各材料の成分の質量より計算により求めた結果を表2に示す。計算に際し、ITO微粒子の質量は、ITO分散液の40質量%であることに基づき、有機物の質量は、高分子分散剤及びポリエチレングリコールの質量とし、シリカ成分の質量は、テトラエトキシシラン中のシリカ成分の含有量28.8質量%に基づいた。
さらに、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を行ったところ、1.3%であった。ここで、上記耐摩耗性試験の際の荷重は4.9N(500g)、回転数は1000回転とした。
(実施例2)
ポリエチレングリコールをPEG400からPEG200(関東化学社製)へ換え、表1に記載した分量で各材料を用いて表2に示すように有機分含有量を増加した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液を得た。実施例1と同様の方法で、洗浄した厚さ3.1mmのソーダライムシリカガラス基板(紫外線吸収機能を有するグリーンガラス)の表面(305mm×305mm)を該コーティング液でコーティングし、IRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO含有量、有機分含有量、及びシリカ含有量を、実施例1と同様の方法で求めた結果を表2に示す。
また、得られたIRカット膜の膜厚を、実施例1と同様の方法で求めたところ、1400nmであった。
さらに、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、2.6%であった。
(実施例3)
表1に記載した分量で各材料を用いて表2に示すように有機分含有量を増加した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液を得た。実施例1と同様の方法で、洗浄した厚さ3.1mmのソーダライムシリカガラス基板(紫外線吸収機能を有するグリーンガラス)の表面(305mm×305mm)を該コーティング液でコーティングし、IRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO含有量、有機分含有量、及びシリカ含有量を、実施例1と同様の方法で求めた結果を表2に示す。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、2.1%であった。
(実施例4)
ポリエチレングリコールをPEG400からPEG200(関東化学社製)へ換え、表1に記載した分量で各材料を用いて表2に示すように有機分含有量を増加した以外は、実施例1と同様にしてコーティング液を得た。実施例1と同様の方法で、洗浄した厚さ3.1mmのソーダライムシリカガラス基板(紫外線吸収機能を有するグリーンガラス)の表面(305mm×305mm)を該コーティング液でコーティングし、IRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO含有量、有機分含有量、及びシリカ含有量を、実施例1と同様の方法で求めた結果を表2に示す。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、3.7%であった。
(実施例5)
表1に記載した分量で各材料を用いた以外は、実施例1と同様にしてコーティング液を得た。実施例1と同様の方法で、洗浄した厚さ3.1mmのソーダライムシリカガラス基板(紫外線吸収機能を有するグリーンガラス)の表面(305mm×305mm)を該コーティング液でコーティングし、IRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO含有量、有機分含有量、及びシリカ含有量を、実施例1と同様の方法で求めた結果を表2に示す。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、2.7%であった。
(実施例6)
ソーダライムシリカガラス基板を厚さ5mmのプライバシーガラス基板(LEGART(登録商標)50:日本板硝子社製)へ換えた以外は、実施例2と同様の方法でIRカットガラスを得た。
得られたIRカット膜の膜厚を、実施例1と同様の方法で求めたところ、1400nmであった。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、2.1%であった。
(実施例7)
ソーダライムシリカガラス基板を厚さ5mmのプライバシーガラス基板(LEGART(登録商標)35:日本板硝子社製)へ換えた以外は、実施例2と同様の方法でIRカットガラスを得た。
得られたIRカット膜の膜厚を、実施例1と同様の方法で求めたところ、1400nmであった。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、2.7%であった。
(実施例8)
ソーダライムシリカガラス基板を厚さ5mmのプライバシーガラス基板(LEGART(登録商標)50:日本板硝子社製)へ換え、表1に記載した分量で各材料を用いて、すなわちポリエチレングリコールを用いることなく実施例2と同様の方法でIRカットガラスを得た。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、3.5%であり、全面においてIRカット膜の剥離が見られなかった。
(実施例9)
表1に記載した分量で各材料を用いて、実施例8と同様の方法でIRカットガラスを得た。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、3.4%であり、全面においてIRカット膜の剥離が見られなかった。
(実施例10)
ポリエチレングリコール(PEG200)、純水、高分子分散剤、AP−7を順に入れた溶液を1分間撹拌した後、1質量%AP−7を上記溶液に添加し、1分間撹拌した。
その後、テトラエトキシシランを上記溶液に添加して室温で4時間攪拌した。この後、ATO微粒子とエタノールを質量比3:7の割合で混合したATO分散液を上記溶液に添加して、30分間攪拌を行い、コーティング液を得た。なお、各液の分量は、表1に記載した分量とした。
次いで、洗浄した厚さ3.1mmのソーダライムシリカガラス基板(紫外線吸収機能を有するグリーンガラス)の表面(305mm×305mm)上に、相対湿度30%RH、温度20℃の環境下で上記コーティング液をフローコート法にて塗布した。そのまま、室温で5分程度乾燥した後、予め200℃に昇温したオーブンに上記コーティング液を塗布したソーダライムシリカガラス基板を投入し10分間加熱し、その後冷却しIRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のATO微粒子の含有量(以下、「ATO含有量」という)、有機分含有量、及びシリカ含有量を、コーティング液に添加されている各材料の成分の質量より計算により求めた結果を表2に示す。計算に際し、ATO微粒子の質量は、ATO分散液の30質量%であることに基づき、有機物の質量は、高分子分散剤及びポリエチレングリコールの質量とし、シリカ成分の質量は、テトラエトキシシラン中のシリカ成分の含有量28.8質量%に基づいた。
また、得られたIRカット膜の膜厚を、実施例1と同様の方法で求めたところ、1000nmであった。
さらに、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験後のヘイズ率の測定を実施例1と同様の方法で行ったところ、3.5%であった。
(比較例1)
コーティング液を塗布したソーダライムシリカガラス基板を室温で5分程度乾燥した後の加熱温度を200℃から620℃に変更した以外は、実施例1と同様の方法でIRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO含有量、有機分含有量、及びシリカ含有量を、実施例1と同様の方法で求めた結果を表2に示す。また、有機分含有量については620℃の加熱を行っていることから有機物のほとんどが蒸発していると考えられる。従って0とした。
また、得られたIRカット膜の膜厚を、実施例1と同様の方法で求めたところ、1060nmであった。
さらに、得られたIRカットガラスの表面を視認したところ、全面に無数のクラックの発生が確認された。
(比較例2)
コーティング液を塗布したソーダライムシリカガラス基板を室温で5分程度乾燥した後の加熱を行わなかった以外は、実施例1と同様の方法でIRカットガラスを得た。
得られたIRカット膜の膜厚を、実施例1と同様の方法で求めたところ、1340nmであった。
また、得られたIRカットガラスの特性としてIRカット膜を形成した表面の耐摩耗性試験を行ったところ、膜に剥離が発生し、膜の強度が低いことが判明した。
(比較例3)
表1に記載した分量で各材料を用いて表2に示すように有機分含有量を低下させた以外は、実施例1と同様にしてコーティング液を得た。実施例1と同様の方法で、洗浄した厚さ3.1mmのソーダライムシリカガラス基板(紫外線吸収機能を有するグリーンガラス)の表面(305mm×305mm)を該コーティング液でコーティングし、IRカットガラスを得た。
得られたIRカットガラスにおいて、IRカット膜中のITO含有量、有機分含有量、及びシリカ含有量を、実施例1と同様の方法で求めた結果を表2に示す。
また、得られたIRカットガラスの表面を視認したところ、ヘイズが確認され、ヘイズ率は7%より大きいことが判明した。
耐摩耗性試験の結果より明らかなように、本実施例における実施例1〜10によるIRカットガラスのIRカット膜は、耐摩耗性試験後のヘイズ率が7%以下(4%以下)であり十分な硬度を有しているのに対し、比較例1〜3によるIRカット膜は、全面にクラックが発生するか、耐摩耗性試験により膜が剥がれるか、又は耐摩耗性試験を行う前にヘイズ率が7%より大きくなり、硬度が不十分であることが分かった。
実施例1,5,6,7,8,9、及び比較例1,2のIRカットガラスの測定によって得られた、波長300nm〜2500nmにおける透過光のスペクトルを図2に示すと共に、第1の波長領域1000〜1600nm及び第2の波長領域1600〜2500nmにおける光の透過率を表3に示す。また、表3には、実施例10の光の透過率も示されている。
上記IRカットガラス波長300nm〜2500nmにおける光の透過率の測定は、分光光度計を用いて、各波長領域において1nmピッチで測定することにより行った。表3に示す最大値及び最小値の間で定まる範囲は、各波長領域において測定された透過率の値の範囲を示す。
また、表3の結果から、実施例10のIRカットガラスは、第1の波長領域1000〜1600nmの光の透過率が部分的に30%を超え、且つ第2の波長領域1600〜2500nmの光の透過率が20%を超えるものの、赤外線カット機能を有していることが分かる。
さらに、実施例1のIRカットガラスを、予め600℃に昇温したオーブンに投入し10分間加熱し、その後冷却したところ、膜厚は1330nmから1060nmへと約20%膜厚が小さくなった。また、600℃に加熱後のIRカットガラスの膜の表面にはクラックが発生していることが確認された。これは、上述したとおり、本発明のIRカットガラスのIRカット膜は有機物を含有し、その有機物がシリカ成分の粒子の間に存在することで、溶媒の蒸発による膜収縮の影響を緩和していることを表しており、600℃などの高温で加熱した場合、有機物自体も蒸発することによりその緩和能力がなくなり、従って、膜収縮が大きくなり、膜表面にクラックが発生したことを表している。また、600℃に加熱することにより、赤外線カット機能が悪化することも確認された。この結果は、加熱温度が200℃であった実施例1の光学特性と、加熱温度が620℃であった比較例1の光学特性との差異からも容易に推測できる。
[書類名]明細書
[発明の名称]赤外線カットガラス及びその製造方法
[技術分野]
本発明は、赤外線カットガラス及びその製造方法に関し、特に、赤外線カットオフ成分を含む赤外線カット膜がガラス基板の少なくとも一方の面上に形成された赤外線カットガラス及びその製造方法に関する。
[背景技術]
赤外線(IR:Infrared)カットガラスは、IRをカットオフ(遮蔽)する成分を含むIRカット膜がガラス基板の表面上に形成されている。IRカットオフ成分としてはITO(インジウム−スズ酸化物:Indium Tin Oxide)微粒子を用いることができる。このようなIRカット膜を形成するために、ゾル−ゲル法が実行され、ゲル状態にあるIRカット膜が固化することにより当該IRカット膜中に分散された状態でIRカットオフ成分が固定される。ゾル−ゲル法は、IRカットオフ成分のIR遮蔽機能の低下を抑制するために250℃以下の低温で実行される(例えば、特開昭63−268772号公報(日本)及び特開2002−088304号公報(日本)参照)。
これに対して、国際公開第2004/011381号パンフレット記載の赤外線遮蔽ガラスでは、耐熱性に優れたフッ素成分を含有させたITO粉末を用いて350℃以上の高温でもゾル−ゲル法を実行可能にしている。このフッ素成分は、ITO微粒子を熱的に保護した状態でIRカット膜中に導入される。
また、ゾル−ゲル法によって得られる膜は、シリカを構成単位とする
シリカ成分から成るシリカ膜から成ることが一般的であるが、有機物及び無機物から成る有機無機複合膜も提案されている(例えば、特許第2574049号公報(日本)、特許第2680434号公報(日本)、及び特開2002−338304号公報(日本)参照)。有機無機複合膜により、シリカ膜では得られない特性をIRカット膜に付与することができ、例えばIRカット膜の厚膜を容易に厚くすることができる。
しかしながら、上記特開昭63−268772号公報(日本)及び特開2002−088304号公報(日本)に記載の膜では、ゾル−ゲル法を250℃以下の低温で実行することにより、IRカットオフ成分のIR遮蔽機能の低下を抑制することはできるが、IRカットガラスの十分な硬度(耐摩耗性)を確保することができない。
また、上記国際公開第2004/011381号パンフレットに記載されているように、350℃以上の高温でゾル−ゲル法を実行するためにITO粉末にフッ素成分を含有させると、フッ素成分を含有させるコストがかかると共に、加熱するためのエネルギーコストが高くなる。また、十分な硬度及び厚さを有する膜を得ようとすると、膜に亀裂(クラック)が発生し易くなり、製造が困難となる。
さらには、上記特許第2574049号公報(日本)、特許第2680434号公報(日本)、及び特開2002−338304号公報(日本)記載の有機無機複合膜では、膜厚を厚くすることはできるが、硬度を高くしようとするとIRカット膜に亀裂が発生して、十分な硬度及び厚さの双方を得ることができない。
本発明の目的は、十分な硬度を確保しつつ且つIRカットオフ成分の機能を十分に保持することができる赤外線カットガラス及びその製造方法を提供することにある。
本発明の上述の及びその他の目的、特徴並びに利点は、添付の図面に
基づく下記の詳細な説明により一層明らかになるであろう。
[発明の開示]
上記目的を達成するために、本発明のアスペクトでは、ガラス基板の少なくとも一方の面上に赤外線カット膜が形成された赤外線カットガラスにおいて、前記赤外線カット膜は、有機物及び無機酸化物が複合化された有機無機複合膜中に赤外線カットオフ成分を含有する膜から成り、前記赤外線カットガラスは、日本工業規格JIS R 3212に準拠した耐摩耗性試験を前記赤外線カット膜形成面に行った後に測定されるヘイズ率が7%以下であることを特徴とする赤外線カットガラスが提供される。
上記構成によれば、耐摩耗性試験の後に測定されるヘイズ率が7%以下であるので、十分な硬度を確保しつつ且つIRカットオフ成分の機能を十分に保持することができる。
好ましくは、前記ヘイズ率は4%以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、耐摩耗性試験の後に測定されるヘイズ率が4%以下であるので、さらに十分な硬度を確保することができ、例えば自動車用ガラスに適用することができる。
好ましくは、前記赤外線カットオフ成分の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して20〜45%であることを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カットオフ成分の含有量が赤外線カット膜の総質量に対して20〜45%であるので、赤外線を確実にカットオフすることができる。
好ましくは、前記赤外線カットオフ成分は、フッ素成分を含有しないITO微粒子を含有することを特徴とする。
上記構成によれば、赤外線カットオフ成分がフッ素成分を含有しないITO微粒子を含有するので、フッ素成分を含有させるコストを低減さ
せることができる。
好ましくは、前記赤外線カットオフ成分は、250℃を超える温度で赤外線遮蔽機能が低下する赤外線カットオフ成分を含有することを特徴とする。
より好ましくは、上記ITO微粒子の粒径は100nm以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、ITO微粒子の粒径が100nm以下であるので、赤外線カットの効率が良く、且つ微粒子の粒径が大きいことに起因するヘイズの発生を抑制することができる。
好ましくは、前記有機物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して2〜60%であることを特徴とする。
上記構成によれば、有機物の含有量が赤外線カット膜の総質量に対して2〜60%であるので、赤外線カット膜の厚さが厚い場合であってもクラックを発生しにくくすることができる。
より好ましくは、前記有機物は親水性有機ポリマーを含むことを特徴とする。
上記構成によれば、有機物が親水性有機ポリマーを含むので、請求項7記載の赤外線カット膜による効果を確実に奏することができる。
さらに好ましくは、前記親水性有機ポリマーが、ポリアルキレンオキサイド、及び当該ポリアルキレンオキサイドの熱分解物のいずれか一方を含むことを特徴とする。
上記構成によれば、親水性有機ポリマーが、ポリアルキレンオキサイド、及び当該ポリアルキレンオキサイドの熱分解物のいずれか一方の有機物を含むので、上記効果を確実に奏することができる。
%以下であり、且つ波長1600〜2500nmの光の透過率が20%以下であるので、赤外線カットオフ性能の低下を確実に抑制することができる。
好ましくは、移動体用若しくは乗り物用又は建築物用の窓ガラスに適用されることを特徴とする。
上記構成によれば、移動体用若しくは乗り物用又は建築物用の窓ガラスに適用されるので、十分な硬度が確保され、IRカットオフ成分のIR遮蔽機能の低下を抑制され、且つコストが低減された、快適な空間を提供することができる。
好ましくは、前記赤外線カット膜は、ゾル−ゲル法により前記ガラス基板に成膜され、前記ゾル−ゲル法の実行中においてゲル状態にある赤外線カット膜を固化させるときの焼成温度が100℃以上350℃未満であることを特徴とする。
上記構成によれば、焼成温度が100℃以上350℃未満で実行されたゾル−ゲル法により赤外線カット膜がガラス基板の面上に形成されるので、確実に赤外線カットオフ成分の赤外線カットオフ性能を確保することができる。
好ましくは、前記焼成温度が250℃以下であることを特徴とする。
上記構成によれば、焼成温度が250℃以下であるので、より確実に赤外線カットオフ成分の赤外線カットオフ性能を確保することができる。
好ましくは、前記ガラス基板は、ソーダライムシリカガラスから成ることを特徴とする。
上記構成によれば、ガラス基板が、ソーダライムシリカガラスから成るので、赤外線カットガラスの硬度を確実に向上させることができる。
好ましくは、前記有機無機複合膜はリンを含有することを特徴とする。
上記目的を達成するために、本発明の他のアスペクトでは、ゾル溶液を調製する調製ステップと、前記調製されたゾル溶液をガラス基板の少なくとも一方の面上に塗布する塗布ステップと、前記ゾル溶液が塗布されたガラス基板に熱処理を施すことにより前記ゾル溶液を乾燥させる熱処理ステップとを実行することにより、前記ガラス基板の面上に赤外線カット膜が形成された赤外線カットガラスを製造する製造方法において、前記調製ステップでは、シリコンアルコキシド、水、酸、赤外線カットオフ成分の微粒子、及び親水性有機ポリマーを溶媒に添加する添加ステップを含み、当該添加ステップでは、前記親水性有機ポリマーが前記シリコンアルコキシドを構成するシリカ成分の質量百分率を超えない範囲で前記溶媒に添加され、前記酸が、当該酸のプロトンが解離したとしたときの当該プロトンの質量モル濃度が0.001〜0.1mol/kgとなるように前記溶媒に添加され、前記水が前記シリコンアルコキシドのシリコン原子のモル数の4倍モル以上の分量で前記溶媒に添加され、前記赤外線カットオフ成分が前記赤外線カット膜の総質量に対して20〜45%の含有量で前記溶媒に添加され、前記熱処理ステップでは、前記熱処理を350℃未満の温度で実行することを特徴とする赤外線カットガラスの製造方法が提供される。
表3の結果や図2から明らかなように、実施例1,5,6,7,8,9のIRカットガラスは、第1の波長領域1000〜1600nmの光の透過率が30%以下であり、且つ第2の波長領域1600〜2500nmの光の透過率が20%以下であり、赤外線カット機能を有していることが分かる。
また、表3の結果から、実施例10のIRカットガラスは、第1の波長領域1000〜1600nmの光の透過率が部分的に30%を超え、且つ第2の波長領域1600〜2500nmの光の透過率が20%を超えるものの、赤外線カット機能を有していることが分かる。
さらに、実施例1のIRカットガラスを、予め600℃に昇温したオーブンに投入し10分間加熱し、その後冷却したところ、膜厚は1330nmから1060nmへと約20%膜厚が小さくなった。また、600℃に加熱後のIRカットガラスの膜の表面にはクラックが発生していることが確認された。これは、上述したとおり、本発明のIRカットガラスのIRカット膜は有機物を含有し、その有機物がシリカ成分の粒子の間に存在することで、溶媒の蒸発による膜収縮の影響を緩和していることを表しており、600℃などの高温で加熱した場合、有機物自体も蒸発することによりその緩和能力がなくなり、従って、膜収縮が大きくなり、膜表面にクラックが発生したことを表している。また、600℃に加熱することにより、赤外線カット機能が悪化することも確認された。この結果は、加熱温度が200℃であった実施例1の光学特性と、加熱温度が620℃であった比較例1の光学特性との差異からも容易に推測できる。
[産業上の利用可能性]
本発明の実施の形態に係る赤外線カットガラス及びその製造方法は、
建築用の窓ガラスや、移動体用若しくは自動車、電車などの乗り物用の窓ガラス、移動体用のガラスに適用することができ、特に自動車用ガラスのドアガラスの車内側の表面上にIRカット膜が成膜された自動車用ガラスに適用することができる。
Claims (20)
- ガラス基板の少なくとも一方の面上に赤外線カット膜が形成された赤外線カットガラスにおいて、前記赤外線カット膜は、有機物及び無機酸化物が複合化された有機無機複合膜中に赤外線カットオフ成分を含有する膜から成り、前記赤外線カットガラスは、日本工業規格JIS R 3212に準拠した耐摩耗性試験を前記赤外線カット膜形成面に行った後に測定されるヘイズ率が7%以下であることを特徴とする赤外線カットガラス。
- 前記ヘイズ率は4%以下であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記赤外線カットオフ成分の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して20〜45%であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記赤外線カットオフ成分は、フッ素成分を含有しない成分で構成されていることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記赤外線カットオフ成分は、ITO微粒子及び/又はATO微粒子を含有することを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記ITO微粒子及び/又はATO微粒子の粒径は100nm以下であることを特徴とする請求の範囲第5項記載の赤外線カットガラス。
- 前記有機物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して2〜60%であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記有機物は親水性有機ポリマーを含むことを特徴とする請求の範囲第7項記載の赤外線カットガラス。
- 前記親水性有機ポリマーは、ポリアルキレンオキサイド、及び当該ポリアルキレンオキサイドの熱分解物のいずれか一方を含むことを特徴とする請求の範囲第8項記載の赤外線カットガラス。
- 前記無機酸化物はシリカであることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記無機酸化物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して20〜78%であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記無機酸化物の含有量は、前記赤外線カット膜の総質量に対して40〜78%であることを特徴とする請求の範囲第11項記載の赤外線カットガラス。
- 前記赤外線カット膜は、その膜厚が200〜4000nmであることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記赤外線カット膜は、その膜厚が600℃の加熱により10%以上減少することを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 波長1000〜1600nmの光の透過率が30%以下であり、且つ波長1600〜2500nmの光の透過率が20%以下であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 移動体用若しくは乗り物用又は建築物用の窓ガラスに適用されることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記赤外線カット膜は、ゾル−ゲル法により前記ガラス基板に成膜され、前記ゾル−ゲル法の実行中においてゲル状態にある赤外線カット膜を固化させるときの焼成温度が100℃以上350℃未満であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記焼成温度が250℃以下であることを特徴とする請求の範囲第17項記載の赤外線カットガラス。
- 前記ガラス基板は、ソーダライムシリカガラスから成ることを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
- 前記有機無機複合膜はリンを含有することを特徴とする請求の範囲第1項記載の赤外線カットガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006511893A JP4989219B2 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-31 | 赤外線カットガラス及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004104503 | 2004-03-31 | ||
JP2004104503 | 2004-03-31 | ||
JP2004134634 | 2004-04-28 | ||
JP2004134634 | 2004-04-28 | ||
JP2004271618 | 2004-09-17 | ||
JP2004271618 | 2004-09-17 | ||
PCT/JP2005/006826 WO2005095298A1 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-31 | 赤外線カットガラス |
JP2006511893A JP4989219B2 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-31 | 赤外線カットガラス及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005095298A1 true JPWO2005095298A1 (ja) | 2008-02-21 |
JP4989219B2 JP4989219B2 (ja) | 2012-08-01 |
Family
ID=35063671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006511893A Active JP4989219B2 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-31 | 赤外線カットガラス及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070036985A1 (ja) |
EP (1) | EP1736453A4 (ja) |
JP (1) | JP4989219B2 (ja) |
WO (1) | WO2005095298A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007176443A (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 車両用窓ガラス及びその製造方法 |
JP4524249B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2010-08-11 | 日本板硝子株式会社 | 車両用窓ガラス及びその製造方法 |
RU2430896C2 (ru) * | 2006-01-16 | 2011-10-10 | Ниппон Шит Гласс Компани, Лимитед | Стеклянная пластина, имеющая тонкую пленку, сформированную на ней |
WO2007081025A1 (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-19 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | 被膜を備える車両用ガラス板及びその製造方法 |
JP4933780B2 (ja) * | 2006-01-17 | 2012-05-16 | 日本板硝子株式会社 | 車両用窓ガラス及びその製造方法 |
US20070178317A1 (en) * | 2006-02-01 | 2007-08-02 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
JP2007320780A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カット膜が形成された透明物品 |
US8021749B2 (en) * | 2006-12-20 | 2011-09-20 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Article with organic-inorganic composite film |
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WO2015065133A1 (ko) | 2013-11-04 | 2015-05-07 | 조승래 | 입자를 이용한 열 차단 시스템 |
US10106458B2 (en) * | 2014-01-17 | 2018-10-23 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Vehicle window glass and method for producing same |
JP7228825B2 (ja) * | 2018-02-26 | 2023-02-27 | 株式会社Lixil | シリカ系皮膜、及びそれを備える物品 |
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JP4451440B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-04-14 | 日本板硝子株式会社 | 有機無機複合膜が形成された物品およびその製造方法 |
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DE10221518A1 (de) * | 2002-05-14 | 2003-11-27 | Merck Patent Gmbh | Infrarot reflektierendes Material |
-
2005
- 2005-03-31 JP JP2006511893A patent/JP4989219B2/ja active Active
- 2005-03-31 WO PCT/JP2005/006826 patent/WO2005095298A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2005-03-31 EP EP05728892A patent/EP1736453A4/en not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-09-28 US US11/541,144 patent/US20070036985A1/en not_active Abandoned
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WO2004011381A1 (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-05 | Asahi Glass Company, Limited | 赤外線遮蔽ガラス |
JP4451440B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-04-14 | 日本板硝子株式会社 | 有機無機複合膜が形成された物品およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1736453A1 (en) | 2006-12-27 |
WO2005095298A1 (ja) | 2005-10-13 |
JP4989219B2 (ja) | 2012-08-01 |
EP1736453A4 (en) | 2008-09-03 |
US20070036985A1 (en) | 2007-02-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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