JP4379602B2 - 半透明反射膜または反射膜を構成層とする光記録媒体および前記反射膜の形成に用いられるAg合金スパッタリングターゲット - Google Patents
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Description
この原因として従来のAgまたはAg合金反射膜は、腐食しやすいこと(すなわち、耐食性が十分でないこと)、光記録媒体に繰り返し記録・再生・消去を行うと、レーザー光の照射によりAg反射膜の加熱冷却が繰り返され、それによってAg反射膜が再結晶化し、結晶粒が粗大化するためにエラーの増大は避けられないこと、などを突き止めたのである。
In:0.1〜2.0質量%、
Ca:0.01〜0.1質量%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金スパッタリングターゲットを用いて形成すると、得られたAg合金反射膜は、前記Ag合金スパッタリングターゲットと同じ成分組成、すなわち、
In:0.1〜2.0質量%、
Ca:0.01〜0.1質量%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するものとなり、前記問題点の発生を一層抑制することができるようになるという研究結果が得られたのである。
(1) Ag合金ターゲットをスパッタリングすることにより形成された反射膜を構成層とする光記録媒体において、前記反射膜を、
In:0.1〜2.0%、
Ca:0.01〜0.1%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成してなる光記録媒体。
(2) 光記録媒体の構成層である反射膜のスパッタリング形成に用いられ、かつ、Ag合金の溶解鋳造インゴットを熱間加工し、機械加工してなると共に、
In:0.1〜2.0%、
Ca:0.01〜0.1%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成してなるAg合金スパッタリングターゲット。
に特徴を有するものである。
Inは、スパッタにより形成された膜中の結晶粒を微細化し、膜の表面粗さを小さくする効果、およびAgに固溶して結晶粒の強度を高め、結晶粒の再結晶粒化を防止し、スパッタにより形成された反射膜の反射率の低下を抑制する効果があるが、Inを0.1%未満含んでも十分に結晶粒を微細化することと結晶粒の再結晶粒化を防止することができないので、光記録媒体に繰り返し記録、再生、消去を行うことによる反射膜の反射率の低下を抑止することができず、一方、Inが2.0%を越えて含有すると、反射率の低いInの特性が現れるようになり、スパッタにより形成されたAg合金反射膜の反射率が低下するので好ましくない。また、Inを2.0%を越えて含有すると、スパッタにより形成されたAg合金反射膜の熱伝導率が低下し、高速記録に支障をきたすようになるので好ましくない。したがって、Ag合金反射膜およびこのAg合金反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに含まれるこれらInの含有量は0.1〜2.0%一層好ましくは0.2〜1.0%に定めた。
Caは、Agに殆ど固溶せず、結晶粒界に析出することにより結晶粒同士の結合を防止し、Ag合金反射膜の再結晶化防止をさらに促進すると共にInの再結晶粒化防止効果を促進する成分であるが、Caを0.01%未満含んでも格段の効果が得られず、一方、0.1%を越えて含有すると、ターゲットが著しく硬化し、ターゲットの作製が困難になるので好ましくない。また、Caを0.1%を越えて含有すると、スパッタにより形成されたAg合金反射膜の熱伝導率が低下し、高速記録に支障をきたすようになるので好ましくない。したがって、Ag合金反射膜およびこのAg合金反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに含まれるこれら成分の含有量は001〜0.1%一層好ましくは0.03〜0.07%に定めた。
原料として純度:9999質量%以上の高純度Ag、純度:999質量%以上のIn、およびAg−0.2質量%Ca母合金を用意し、まず、Agを高周波真空溶解炉にて溶解したのちInおよびAg−0.2質量%Ca母合金をAg溶湯に添加し、溶解後炉内圧力が大気圧となるまでArガスを充填したのち黒鉛製鋳型に鋳造することによりインゴットを作製し、得られたインゴットを600℃、2時間加熱した後、熱間圧延し、機械加工することにより直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有し、表1に示される成分組成を有する本発明ターゲット1〜8、比較ターゲット1〜4を作製した。その結果、Caを過剰に含む比較ターゲット4はターゲットが硬化し、熱間成形時に割れが発生し、いわゆる健全なターゲットを作製できなかった。
さらに、前記Ag溶湯にInを添加して同様にして表1に示される成分組成を有する従来ターゲットを製造した。
(a)耐食性試験
上記反射膜試料の成膜直後の反射率を分光光度計により測定して、その結果を表2に示し、その後、形成したAg合金からなる反射膜試料を温度:80℃、相対湿度:85%の恒温恒湿槽にて200時間保持したのち、再度同じ条件で反射率を測定した。得られた反射率データから、波長:405nmおよび650nmにおける各反射率を求め、その結果を同じく表2に示して光記録媒体の反射膜として耐食性を評価した。
上記反射膜試料の比抵抗を四探針法により測定し、ウィーデマンフランツの法則に基づく式:κ=2.44×10−8T/ρ(ただし、κ:熱伝導率、T:絶対温度、ρ:比抵抗)により比抵抗値から熱伝導率を計算により求め、その結果を表2に示した。
上記反射膜試料の成膜直後の平均面粗さを走査型プローブ顕微鏡により測定してその結果を表1に示し、その後、形成した反射膜を真空中、温度:250℃、30分間保持したのち、再度同じ条件で表面粗さを測定し、その結果を表2に示して結晶粒の粗大化のしやすさを評価した。
ただし、走査型プローブ顕微鏡にはセイコーインスツルメンツ株式会社製SPA−400AFMを用い、1μm×1μmの領域の平均面粗さ(Ra)を測定した。 平均面粗さはJISB0601で定義される中心線平均粗さを面に対して適用できるように三次元に拡張したものであり、次式で表されるものである。
Ra=1/S0∫∫|F(X,Y)−Z0|dXdY
ただし、F(X,Y):全測定データの示す面、
S0:指定面が理想的にフラットであると仮定したときの面積、
Z0:指定面内のZデータの平均値。
しかし、この発明の範囲から外れてInおよびCaを含む比較ターゲット1〜3を用いてスパッタリングを行うことにより得られた比較反射膜試料1〜3には、反射率が低下したり、熱伝導率が低下したり、さらに結晶粒が粗大化したりして好ましくない特性が現れることが示されている。
Claims (2)
- Ag合金ターゲットをスパッタリングすることにより形成された半透明反射膜または反射膜を構成層とする光記録媒体において、前記半透明反射膜または反射膜を、質量%で、
In:0.1〜2.0%、
Ca:0.01〜0.1%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成したことを特徴とする光記録媒体。 - 光記録媒体の構成層である半透明反射膜または反射膜のスパッタリング形成に用いられ、かつ、Ag合金の溶解鋳造インゴットを熱間加工し、機械加工してなると共に、質量%で、
In:0.1〜2.0%、
Ca:0.01〜0.1%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成したことを特徴とするAg合金スパッタリングターゲット。
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