JP4379602B2 - 半透明反射膜または反射膜を構成層とする光記録媒体および前記反射膜の形成に用いられるAg合金スパッタリングターゲット - Google Patents

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Description

この発明は、半導体レーザーなどのレーザービームを用いて音声、映像、文字などの情報信号を再生あるいは記録・再生・消去を行う光記録ディスク(CD−RW,DVD−RAM)などの光記録媒体において、前記光記録媒体の構成層である経時変化の少ない半透明反射膜または反射膜(以下、両者を含めて反射膜と呼ぶ)、および前記反射膜をスパッタリング法にて形成するのに用いられるAg合金スパッタリングターゲットに関するものである。
従来、CD−R,CD−RW,DVD−R,DVD−RW,DVD−RAMなどの光記録媒体において、これの構成層である反射膜としてAgまたはAg合金反射膜が使用されており、このAgまたはAg合金反射膜は400〜830nmの幅広い波長域での反射率が高く、特に他の金属の反射膜にくらべて、CDおよびDVDにおいて使用されている波長:780nmおよび650nmのレーザー光に対する反射率が優れているところから広く使用されている。
上記Ag合金反射膜を、In:0.1〜20原子%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成のAg合金で構成してなる光記録媒体が知られており、さらに前記反射膜が前記組成のAg合金をスパッタリングターゲットとして用いて形成されることも知られている(特許文献1参照)。
特開平10−143917号公報
しかし、光記録媒体の中でも記録層に相変化記録材料を用い、繰り返し記録・再生・消去を行う光記録媒体においては、記録・再生・消去の繰り返し回数が増大するにつれて、従来のAgまたはAg合金反射膜は反射率が低下し、長期に亘る十分な記録再生耐性が得られなかった。
この原因として従来のAgまたはAg合金反射膜は、腐食しやすいこと(すなわち、耐食性が十分でないこと)、光記録媒体に繰り返し記録・再生・消去を行うと、レーザー光の照射によりAg反射膜の加熱冷却が繰り返され、それによってAg反射膜が再結晶化し、結晶粒が粗大化するためにエラーの増大は避けられないこと、などを突き止めたのである。
そこで本発明者らは、従来の光記録媒体の構成層であるAg合金反射膜がかかえる問題点を解決することのできるAg合金反射膜を得るべく研究を行なっていたところ、光記録媒体の構成層であるAg合金反射膜を、質量%(以下、%は質量%を示す)で、
In:0.1〜2.0質量%、
Ca:0.01〜0.1質量%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金スパッタリングターゲットを用いて形成すると、得られたAg合金反射膜は、前記Ag合金スパッタリングターゲットと同じ成分組成、すなわち
In:0.1〜2.0質量%、
Ca:0.01〜0.1質量%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するものとなり、前記問題点の発生を一層抑制することができるようになるという研究結果が得られたのである。
この発明は、かかる研究結果に基づいて成されたものであって、
(1) Ag合金ターゲットをスパッタリングすることにより形成された反射膜を構成層とする光記録媒体において、前記反射膜を
In:0.1〜2.0%、
Ca:0.01〜0.1%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成してなる光記録媒体
(2) 光記録媒体の構成層である反射膜のスパッタリング形成に用いられ、かつ、Ag合金の溶解鋳造インゴットを熱間加工し、機械加工してなると共に
In:0.1〜2.0%、
Ca:0.01〜0.1%、
を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成してなるAg合金スパッタリングターゲット。
に特徴を有するものである。
この発明のAg合金スパッタリングターゲットは、原料として純度:9999%以上の高純度Agおよびいずれも純度:999%以上のInおよびCaを用意し、まず、Agを高真空または不活性ガス雰囲気中で溶解し、得られた溶湯にInを添加したのち、またはIn添加と同時にCaを所定の含有量となるように添加し、その後、真空または不活性ガス雰囲気中で鋳造してインゴットを作製し、これらインゴットを熱間加工したのち機械加工することにより製造することができる。
Caを含むAg合金のインゴットは、CaがAgへの固溶が殆どないので、Ag−Caの母合金を作製し、このAg−Caの母合金を高周波真空溶解したAg溶湯に添加して作製する。
次に、この発明のAg合金反射膜を構成層とする光記録媒体および前記反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲットにおける成分組成を前記の如く限定した理由を説明する。
In:
Inは、スパッタにより形成された膜中の結晶粒を微細化し、膜の表面粗さを小さくする効果、およびAgに固溶して結晶粒の強度を高め、結晶粒の再結晶粒化を防止し、スパッタにより形成された反射膜の反射率の低下を抑制する効果があるが、Inを0.1%未満含んでも十分に結晶粒を微細化することと結晶粒の再結晶粒化を防止することができないので、光記録媒体に繰り返し記録、再生、消去を行うことによる反射膜の反射率の低下を抑止することができず、一方、Inが2.0%を越えて含有すると、反射率の低いInの特性が現れるようになり、スパッタにより形成されたAg合金反射膜の反射率が低下するので好ましくない。また、Inを2.0%を越えて含有すると、スパッタにより形成されたAg合金反射膜の熱伝導率が低下し、高速記録に支障をきたすようになるので好ましくない。したがって、Ag合金反射膜およびこのAg合金反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに含まれるこれらInの含有量は0.1〜2.0%一層好ましくは0.2〜1.0%に定めた。
Ca:
Caは、Agに殆ど固溶せず、結晶粒界に析出することにより結晶粒同士の結合を防止し、Ag合金反射膜の再結晶化防止をさらに促進すると共にInの再結晶粒化防止効果を促進する成分であるが、Caを0.01%未満含んでも格段の効果が得られず、一方、0.1%を越えて含有すると、ターゲットが著しく硬化し、ターゲットの作製が困難になるので好ましくない。また、Caを0.1%を越えて含有すると、スパッタにより形成されたAg合金反射膜の熱伝導率が低下し、高速記録に支障をきたすようになるので好ましくない。したがって、Ag合金反射膜およびこのAg合金反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに含まれるこれら成分の含有量は001〜0.1%一層好ましくは0.03〜0.07%に定めた。
この発明のAg合金スパッタリングターゲットを用いて形成した反射膜を構成層とする光記録媒体は、従来のCaを含有しないAg合金スパッタリングターゲットを用いて形成した反射膜を構成層とする光記録媒体に比べて、前記反射膜の経時変化による反射率の低下が少ないので、光記録媒体は長期にわたっての使用が可能となり、メディア産業の発展に大いに貢献し得るものである。
実施例1
原料として純度:9999質量%以上の高純度Ag、純度:999質量%以上のIn、およびAg−0.2質量%Ca母合金を用意し、まず、Agを高周波真空溶解炉にて溶解したのちInおよびAg−0.2質量%Ca母合金をAg溶湯に添加し、溶解後炉内圧力が大気圧となるまでArガスを充填したのち黒鉛製鋳型に鋳造することによりインゴットを作製し、得られたインゴットを600℃、2時間加熱した後、熱間圧延し、機械加工することにより直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有し、表1に示される成分組成を有する本発明ターゲット1〜8、比較ターゲット1〜4を作製した。その結果、Caを過剰に含む比較ターゲット4はターゲットが硬化し、熱間成形時に割れが発生し、いわゆる健全なターゲットを作製できなかった。
さらに、前記Ag溶湯にInを添加して同様にして表1に示される成分組成を有する従来ターゲットを製造した。
そこで、割れが発生して成形できなかった比較ターゲット4を除く本発明ターゲット1〜8、比較ターゲット1〜3および従来ターゲットをそれぞれ無酸素銅製のバッキングプレートにはんだ付けし、これを直流マグネトロンスパッタ装置に装着し、真空排気装置にて直流マグネトロンスパッタ装置内を1×10-4Paまで排気した後、Arガスを導入して1.0Paのスパッタガス圧とし、続いて直流電源にてターゲットに100Wの直流スパッタ電力を印加し、前記ターゲットに対向し、かつ70mmの間隔を設けてターゲットと平行に配置した縦:30mm、横:30mm、厚さ:0.5mmの無アルカリガラス基板と前記ターゲットの間にプラズマを発生させ、厚さ:100nmの表に示される成分組成のAg合金からなる本発明反射膜試料1〜8、比較反射膜試料1〜3および従来反射膜試料を形成した。
このようにして形成した厚さ:100nmの本発明反射膜試料1〜8、比較反射膜試料1〜3および従来反射膜試料について、下記の試験を行った。
(a)耐食性試験
上記反射膜試料の成膜直後の反射率を分光光度計により測定して、その結果を表に示し、その後、形成したAg合金からなる反射膜試料を温度:80℃、相対湿度:85%の恒温恒湿槽にて200時間保持したのち、再度同じ条件で反射率を測定した。得られた反射率データから、波長:405nmおよび650nmにおける各反射率を求め、その結果を同じく表に示して光記録媒体の反射膜として耐食性を評価した。
(b)熱伝導率試験
上記反射膜試料の比抵抗を四探針法により測定し、ウィーデマンフランツの法則に基づく式:κ=2.44×10−8T/ρ(ただし、κ:熱伝導率、T:絶対温度、ρ:比抵抗)により比抵抗値から熱伝導率を計算により求め、その結果を表に示した。
(c)結晶粒の粗大化試験
上記反射膜試料の成膜直後の平均面粗さを走査型プローブ顕微鏡により測定してその結果を表1に示し、その後、形成した反射膜を真空中、温度:250℃、30分間保持したのち、再度同じ条件で表面粗さを測定し、その結果を表に示して結晶粒の粗大化のしやすさを評価した。
ただし、走査型プローブ顕微鏡にはセイコーインスツルメンツ株式会社製SPA−400AFMを用い、1μm×1μmの領域の平均面粗さ(Ra)を測定した。 平均面粗さはJISB0601で定義される中心線平均粗さを面に対して適用できるように三次元に拡張したものであり、次式で表されるものである。
Ra=1/S∫∫|F(X,Y)−Z|dXdY
ただし、F(X,Y):全測定データの示す面、
:指定面が理想的にフラットであると仮定したときの面積、
:指定面内のZデータの平均値。
Figure 0004379602
Figure 0004379602
表1および表に示される通り、合金成分としてInと共にCaを含有するAg合金で構成された本発明ターゲット1〜8を用いてスパッタリングを行うことにより得られた本発明反射膜試料1〜8は、合金成分としてInだけを含有し、Caを含有しないAg合金で構成された従来ターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより得られた、従来光記録媒体の反射膜に相当する従来反射膜試料に比して、いずれも温度:80℃、相対湿度:85%の恒温恒湿槽にて200時間保持後の反射率の低下が少なく、熱伝導率に優れ、さらに結晶粒が粗大化しにくいことが明確に示されており、これらの結果から光記録媒体の反射膜として組み込んだ場合にも従来反射膜に比して、長期に亘って十分な記録再生耐性を維持することが明らかである
しかし、この発明の範囲から外れてInおよびCaを含む比較ターゲット1〜3を用いてスパッタリングを行うことにより得られた比較反射膜試料1〜3には、反射率が低下したり、熱伝導率が低下したり、さらに結晶粒が粗大化したりして好ましくない特性が現れることが示されている。

Claims (2)

  1. Ag合金ターゲットをスパッタリングすることにより形成された半透明反射膜または反射膜を構成層とする光記録媒体において、前記半透明反射膜または反射膜を、質量%で、
    In:0.1〜2.0%、
    Ca:0.01〜0.1%、
    を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成したことを特徴とする光記録媒体
  2. 光記録媒体の構成層である半透明反射膜または反射膜のスパッタリング形成に用いられ、かつ、Ag合金の溶解鋳造インゴットを熱間加工し、機械加工してなると共に、質量%で、
    In:0.1〜2.0%、
    Ca:0.01〜0.1%、
    を含有し、残部がAgと不可避不純物からなる組成を有するAg合金で構成したことを特徴とするAg合金スパッタリングターゲット。
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