JP2006012318A

JP2006012318A - 光記録媒体用積層反射膜およびその製造方法

Info

Publication number: JP2006012318A
Application number: JP2004189300A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Yamaguchi; 山口　　剛; Shozo Komiyama; 昌三小見山; Terushi Mishima; 昭史三島
Original assignee: Mitsubishi Materials Corp
Current assignee: Mitsubishi Materials Corp
Priority date: 2004-06-28
Filing date: 2004-06-28
Publication date: 2006-01-12

Abstract

【課題】光記録ディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙＤｉｓｃ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＡＭなど）などの光記録媒体におけるＡｇ合金反射膜を有する積層反射膜を提供する。
【解決手段】Ａｇ、ＮｉおよびＦｅのうちの１種または２種以上をＡｇ：０．０１〜２．３質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成、Ｎｉを単独で含む場合はＮｉ：０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成、またはＦｅを単独で含む場合はＦｅ：０．０１〜０．５質量％を含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成された表面平滑なＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる。
【選択図】図１

Description

この発明は、半導体レーザーなどのレーザービームを用いて音声、映像、文字などの情報信号を再生あるいは記録・再生・消去を行う光記録ディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙＤｉｓｃ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＡＭなど）などの光記録媒体の構成層である表面平滑なＡｇ合金反射膜層を有する積層反射膜およびその製造方法に関するものである。

一般に、光記録ディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙＤｉｓｃ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＡＭなど）に形成される反射膜としてＡｇからなる反射膜が知られているが、Ａｇ反射膜は粒成長するなどして表面粗さが大きくなることが避けられないために、一般に、Ａｇ合金反射膜が使用されている。Ａｇ合金反射膜として、Ｉｎ：０．１〜２０原子％を含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる反射膜が知られている（特許文献１参照）。
さらに、前記従来のＡｇ合金反射膜として、Ａｇ_ｘＺｎ_ｙ（０．８５＜ｘ＜０．９９９９、０．０００１＜ｙ＜０．１５）によって定義されるＡｇ合金反射膜、Ａｇ_ｘＡｌ_ｚ（０．９５＜ｘ＜０．９９９９、０．０００１＜ｚ＜０．０５）によって定義されるＡｇ合金反射膜、Ａｇ_ｘＺｎ_ｙＡｌ_ｚ（０．８０＜ｘ＜０．９９８、０．００１＜ｙ＜０．１５、０．００１＜ｚ＜０．０５）によって定義されるＡｇ合金反射膜、Ａｇ_ｘＭｎ_ｔ（０．９２５＜ｘ＜０．９９９９、０．０００１＜ｔ＜０．０７５）によって定義されるＡｇ合金反射膜、Ａｇ_ｘＧｅ_ｑ（０．９７＜ｘ＜０．９９９９、０．０００１＜ｚ＜０．０３）によって定義されるＡｇ合金反射膜、Ａｇ_ｘＣｕ_ｐＭｎ_ｔ（０．８２５＜ｘ＜０．９９９８、０．０００１＜ｐ＜０．１０、０．０００１＜ｔ＜０．０７５）によって定義されるＡｇ合金反射膜などが知られている（特許文献２参照）。
さらに、前記従来のＡｇ合金反射膜として、Ａｇを主成分とし、Ａｇ_１−ａＭ_ａ（ただし、ＭはＡｌ，Ａｕ，Ｃｕ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｐｔ，Ｓｉ，Ｎｂ，Ｆｅ，Ｔａ，Ｈｆ，Ｇａ，Ｐｄ，Ｂｉ，Ｉｎ，Ｗ，Ｚｒから選ばれた少なくとも１つの元素）としたとき、０．０１≦ａ≦０．０５（ａ：Ｍの原子比の合計）を満たし、厚さが６０〜１５０ｎｍのＡｇ合金反射膜などが知られている（特許文献３参照）。

前記Ａｇ合金反射膜が形成される光記録ディスクは、図２の断面図に示されるように、ＰＣ（ポリカーボネート）基板１に、保護膜２、記録膜３、保護膜４、Ａｇ合金反射膜５、ダミーＰＣ（ポリカーボネート）基板５の順に積層させた構造を有しており、この光ディスクの書き込み／読み出しは図２のＡ方向からレーザー光を照射することにより行っている。
さらに、近年、光記録ディスクの書き込み／読み出しに青色レーザー光が使用されるようになり、この青色レーザー光を使用する光記録ディスクは膜面反射型光記録ディスクが多く使用され、この膜面反射型光記録ディスクは、図３に示されるように、ＰＣ（ポリカーボネート）基板１に、Ａｇ合金反射膜５、保護膜２、記録膜３、保護膜４、ダミーＰＣ基板６の順に積層させた構造となっている。そして、この膜面反射型光記録ディスクは図３のＢ方向からレーザー光を照射することにより行っている。そして、これら光記録ディスクのＡｇ合金反射膜は、先に述べた成分組成を有するＡｇ合金反射膜が使用されている。
特開平１０−１４３９１７号公報特開２００２−１１７５８７号公報特開２００１−１２６３１５号公報

前記Ａｇ合金反射膜は、一般に、ターゲットをスパッタリングすることにより形成されるが、スパッタリング中に形成されたＡｇ合金反射膜はＡｇ合金が大きく粒成長するためにＡｇ合金反射膜の厚さが厚くなるほどＡｇ合金反射膜の最表面の表面粗さが大きくなることは避けられない。例えば、図２に示される光記録ディスクのＡｇ合金反射膜５は平滑な保護膜４の上に密着して形成されるので、Ａｇ合金反射膜５の裏面８は平滑であるが、Ａｇ合金反射膜の最終蒸着面である最表面７の表面粗さが大きくなることは避けられない。しかし、図２に示されるようなレーザー光をＡ方向から照射する通常の光記録ディスクでは、レーザー光Ａは平滑な保護膜４に密着して最初に形成された粒成長の小さい裏面８を反射面としているので、スパッタリング中に粒成長してＡｇ合金反射膜の最表面７の表面粗さが大きくなってもレーザー光の乱反射の影響を大きく受けることは無い。
ところが、図３に示されるＢ方向から照射される最近開発された膜面反射型光記録ディスクは、スパッタリング中に粒成長してＡｇ合金反射膜５の粗さの最も粗い最表面７を反射面とするので、入射したレーザー光Ｂは乱反射し記録精度が劣化し、特に青色レーザーのような波長の短い青色レーザーを使用して一層記録マークを縮小化しようとすると、ノイズが多く発生して記録精度が著しく劣化する、などの課題があった。

そこで本発明者らは、従来のＡｇ合金反射膜がかかえるこれら問題点を解決することのできる反射膜を得るべく研究を行なっていたところ、
（イ）図１に示されるように、Ａｇ、ＮｉおよびＦｅのうちの１種または２種以上を含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜１１を形成したのち、この下地膜の上にＡｇまたはＡｇ合金反射膜を形成すると表面が著しく平滑なＡｇまたはＡｇ合金反射膜１０が得られ、このＣｕ合金下地膜１１およびＡｇまたはＡｇ合金反射膜１０からなる積層反射膜を膜面反射型記録ディスクの反射膜として使用して光記録媒体用積層反射膜９すると、反射膜の表面粗さによるノイズの発生が著しく少なくなる、
（ロ）前記Ｃｕ合金下地膜は、Ａｇを単独で含む場合は、Ａｇ：０．０１〜２．３質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましく、Ｎｉを単独で含む場合はＮｉ：０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましく、Ｆｅを単独で含む場合はＦｅ：０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましい、
（ハ）前記Ｃｕ合金下地膜は、ＮｉおよびＦｅを共に含む場合はＮｉおよびＦｅを合計で０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましく、ＡｇおよびＦｅを共に含む場合はＡｇおよびＦｅを合計で０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましく、ＡｇおよびＮｉを共に含む場合はＡｇおよびＮｉを合計で０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましく、Ａｇ、ＮｉおよびＦｅを共に含む場合はＡｇ、ＮｉおよびＦｅを合計で０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有することが好ましい、という研究結果が得られたのである。

この発明は、かかる研究結果に基づいて成されたものであって、
（１）Ａｇ：０．０１〜２．３質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、
（２）Ｎｉ：０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、
（３）Ｆｅ：０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、
（４）ＮｉおよびＦｅの合計を０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、
（５）ＡｇおよびＦｅの合計を０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、
（６）ＡｇおよびＮｉの合計を０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、
（７）Ａｇ、ＮｉおよびＦｅの合計を０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなる光記録媒体用積層反射膜、に特徴を有するものである。

前記光記録媒体用積層反射膜９におけるＣｕ合金下地膜１１の上に形成されたＡｇ合金反射膜１０は膜厚：５０〜２００ｎｍの範囲内に有り、かつＡｇ合金反射膜の膜厚／（ＡｇまたはＡｇ合金反射膜の膜厚＋Ｃｕ合金下地膜の膜厚）＝０．３〜０．８の範囲内に有ることことが好ましく、０．５〜０．８の範囲内に有ることことが好ましい。この発明の光記録媒体用積層反射膜におけるＡｇまたはＡｇ合金反射膜は、光記録媒体用反射膜として現在知られているＡｇまたはＡｇ合金反射膜であればいかなる組成のものであっても良い。

この発明の光記録媒体用積層反射膜を形成するには、まず、原料として純度：９９.９９質量％以上の純Ｃｕを高真空または不活性ガス雰囲気中で溶解し、得られた溶湯にＡｇ、ＮｉおよびＦｅのうちの１種または２種以上を所定の含有量となるように添加し、その後、真空または不活性ガス雰囲気中で鋳造してインゴットを作製し、これらインゴットを熱間加工したのち機械加工することによりＡｇ、ＮｉおよびＦｅのうちの１種または２種以上を所定の量含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金ターゲットを作製し、このＣｕ合金ターゲットを用いてスパッタリングすることによりＡｇ、ＮｉおよびＦｅのうちの１種または２種以上を所定量含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜を形成し、ついで、このＣｕ合金下地膜の上に通常のＡｇまたはＡｇ合金反射膜をスパッタリングすることにより形成し作製することができる。

次に、この発明の光記録媒体用積層反射膜に形成するＣｕ合金下地膜の成分組成を前記の如く限定した理由は、Ｃｕ合金下地膜に含まれるＡｇ、ＮｉおよびＦｅはいずれもＣｕに固溶し、Ｃｕ合金下地膜の再結晶化を抑制して表面平滑なＣｕ合金下地膜を形成し、このＣｕ合金下地膜の上に形成して得られるＡｇ合金反射膜の最表面の表面粗さを平滑にするために添加するが、これら成分を０．０１質量％未満含んでも格段の効果が得られず、一方、Ａｇを単独で含む場合はＡｇ：２．３質量％を越え、Ｎｉを単独で含む場合はＮｉ：１．５質量％を越え、Ｆｅを単独で含む場合はＦｅ：０．５質量％を越え、ＮｉおよびＦｅを共に含む場合はＮｉおよびＦｅを合計で０．５質量％を越え、ＡｇおよびＦｅを共に含む場合はＡｇおよびＦｅを合計で０．５質量％を越え、ＡｇおよびＮｉを共に含む場合はＡｇおよびＮｉを合計で１．５質量％を越え、Ａｇ、ＮｉおよびＦｅを共に含む場合はＡｇ、ＮｉおよびＦｅを合計で０．５質量％を越えて含有すると、Ｃｕ合金下地膜の表面粗さは一層小さくなるが、熱伝導率が著しく低下し、そのため、Ａｇ合金反射膜と積層した際に積層反射膜の熱伝導率が低下し、反射膜としての特性を損なうので好ましくないことによるものである。

Ｃｕ合金下地膜の上にＡｇ反射膜またはＡｇ合金反射膜を形成してなるこの発明の光記録媒体用積層反射膜は、Ｃｕ合金下地膜を形成することにより従来の単一層のＡｇ反射膜またはＡｇ合金反射膜に比べて、一層表面平滑な反射膜を提供することができ、光メディア産業の発展に大いに貢献し得るものである。

原料として純度：９９.９９質量％以上の高純度Ａｇ、Ｉｎ，Ｃｕ、Ｎｉ、ＣａおよびＦｅを用意し、まず、Ａｇを高周波真空溶解炉にて溶解してＡｇ溶湯を作製したのち、純Ａｇインゴットを作製し、得られたインゴットを６００℃、２時間加熱した後、熱間圧延し、機械加工することにより直径：１２５ｍｍ、厚さ：５ｍｍの寸法を有する純Ａｇターゲットを作製した。
さらに、前記Ａｇ溶湯にＩｎ：０．５３質量％とＣａ：０．０５質量％を添加し、溶解後炉内圧力が大気圧となるまでＡｒガスを充填したのち黒鉛製鋳型に鋳造することによりインゴットを作製し、得られたインゴットを６００℃、２時間加熱した後、熱間圧延し、機械加工することにより直径：１２５ｍｍ、厚さ：５ｍｍの寸法を有するＩｎ：０．５３質量％とＣａ：０．０５質量％を含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる成分組成のＡｇ合金ターゲットを作製した。

さらに、Ｃｕを高周波真空溶解炉にて溶解してＣｕ溶湯を作製したのちＡｇ、ＮｉおよびＦｅを表１に示される割合となるようにＣｕ溶湯に添加し、溶解後炉内圧力が大気圧となるまでＡｒガスを充填したのち黒鉛製鋳型に鋳造することによりインゴットを作製し、得られたインゴットを６００℃、２時間加熱した後、熱間圧延し、機械加工することにより直径：１２５ｍｍ、厚さ：５ｍｍの寸法を有するＣｕ合金ターゲットＡ〜Ｙを作製した。

これら表１に示される成分組成のＣｕ合金ターゲットＡ〜Ｙをそれぞれ無酸素銅製のバッキングプレートにはんだ付けし、これを直流マグネトロンスパッタ装置に装着し、真空排気装置にて直流マグネトロンスパッタ装置内を１×１０^-4Ｐａまで排気した後、Ａｒガスを導入して１．０Ｐａのスパッタガス圧とし、続いて直流電源にてターゲットに１００Ｗの直流スパッタ電力を印加し、前記ターゲットに対抗しかつ７０ｍｍの間隔を設けてターゲットと平行に配置した縦：３０ｍｍ、横：３０ｍｍ、厚さ：０．５ｍｍのＰＣ基板と前記Ｃｕ合金ターゲットの間にプラズマを発生させ、ＰＣ基板の上に厚さ：１００ｎｍのＣｕ合金下地膜を形成した。

実施例１
次に、先に作製したＡｇ合金ターゲットを直流マグネトロンスパッタ装置内にセットし、Ａｇ合金ターゲットと前記Ｃｕ合金下地膜の間にプラズマを発生させ、同様の条件でスパッタリングを行うことにより前記Ｃｕ合金下地膜の上に厚さ：１００ｎｍ、積層反射膜の膜比率０．５を有するＡｇ合金反射膜を形成し、本発明積層反射膜１〜１９および比較積層反射膜１〜６を作製した。

さらに、前記Ａｇ合金ターゲットを用い、同様の条件でスパッタリングを行うことによりＰＣ基板の上に厚さ：２００ｎｍの単一Ａｇ合金反射膜を形成することにより従来Ａｇ合金反射膜を作製した。

このようにして作製した本発明積層反射膜１〜１９、比較積層反射膜１〜６および従来Ａｇ合金反射膜について、下記の測定を行った。

（ｂ）熱伝導率測定
本発明積層反射膜１〜１９、比較積層反射膜１〜６および従来Ａｇ合金反射膜の比抵抗を四探針法により測定し、ウィーデマンフランツの法則に基づく式：κ＝２．４４×１０^−８Ｔ／ρ（ただし、κ：熱伝導率、Ｔ：絶対温度、ρ：比抵抗）により比抵抗値から熱伝導率を計算により求め、その結果を表２に示した。

（ａ）表面粗さの測定
本発明積層反射膜１〜１９および比較積層反射膜１〜６におけるＡｇ合金反射膜の平均面粗さ並びに従来Ａｇ合金反射膜の平均面粗さを走査型プローブ顕微鏡により測定してその結果を表２に示した。
ただし、走査型プローブ顕微鏡にはセイコーインスツルメンツ株式会社製ＳＰＡ−４００ＡＦＭを用い、1μｍ×1μｍの領域の平均面粗さ（Ｒａ）を測定した。平均面粗さはＪＩＳＢ０６０１で定義される中心線平均粗さを面に対して適用できるように三次元に拡張したものであり、次式で表されるものである。
Ｒａ＝1／Ｓ_０∫∫｜Ｆ（Ｘ，Ｙ）−Ｚ_０｜ｄＸｄＹ
ただし、Ｆ（Ｘ，Ｙ）：全測定データの示す面、
Ｓ_０：指定面が理想的にフラットであると仮定したときの面積、
Ｚ_０：指定面内のＺデータの平均値。

表１〜２に示される結果から、従来の単一Ａｇ合金反射膜はその表面粗さが０．６５ｎｍ以上で大きいのに対し、Ｃｕ合金下地膜の上にＡｇ合金反射膜を形成してなる本発明積層反射膜１〜１９はその表面粗さが０．６５ｎｍ未満であるから、本発明積層反射膜１〜１９は従来の単一Ａｇ合金反射膜に比べて、表面粗さが小さく乱反射が少ないことがわかる。しかし、この発明の条件から外れた比較積層反射膜１〜６は、表面粗さが大きくなったり、表面粗さが小さくても熱伝導率が低下し過ぎたりして好ましくない特性が現れることが分かる。

実施例２
さらに、先に作製した純Ａｇターゲットを直流マグネトロンスパッタ装置内にセットし、純Ａｇターゲットと前記Ｃｕ合金下地膜の間にプラズマを発生させ、同様の条件でスパッタリングを行うことにより前記Ｃｕ合金下地膜の上に厚さ：１００ｎｍ、積層反射膜の膜比率：０．５を有する純Ａｇ反射膜を形成し、本発明積層反射膜２０〜３８および比較積層反射膜７〜１２を作製した。

さらに、前記純Ａｇターゲットを用い、同様の条件でスパッタリングを行うことによりＰＣ基板の上に厚さ：２００ｎｍの単一Ａｇ反射膜を形成することにより従来Ａｇ反射膜を作製した。

このようにして作製した本発明積層反射膜２０〜３８、比較積層反射膜７〜１２および従来Ａｇ反射膜の熱伝導率測定および表面粗さについて実施例１と同様にして測定測定し、その結果を表３に示した。

表１および表３に示される結果から、従来の単一Ａｇ反射膜はその表面粗さが２ｎｍ以上で大きいのに対し、Ｃｕ合金下地膜の上にＡｇ合金反射膜を形成してなる本発明積層反射膜２０〜３８はその表面粗さが２ｎｍ未満であるから、本発明積層反射膜２０〜３８は従来の単一Ａｇ反射膜に比べて、表面粗さが小さく乱反射が少ないことがわかる。しかし、この発明の条件から外れた比較積層反射膜７〜１２は、表面粗さが大きくなったり、表面粗さが小さくても熱伝導率の低下が大きくなり過ぎたりして好ましくないことが分かる。

この発明の光記録媒体用積層反射膜の断面説明図である。従来の光記録媒体の断面説明図である。従来の光記録媒体の断面説明図である。

符号の説明

１：ＰＣ基板、２：保護膜、３：記録膜、４：保護膜、５：Ａｇ合金反射膜、６：ダミーＰＣ基板、７：最表面、８：裏面、９：光記録媒体用積層反射膜、１０：ＡｇまたはＡｇ合金反射膜、１１：Ｃｕ合金下地膜

Claims

Ａｇ：０．０１〜２．３質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
Ｎｉ：０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
Ｆｅ：０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
ＮｉおよびＦｅの合計を０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
ＡｇおよびＦｅの合計を０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
ＡｇおよびＮｉの合計を０．０１〜１．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
Ａｇ、ＮｉおよびＦｅの合計を０．０１〜０．５質量％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成のＣｕ合金下地膜と、このＣｕ合金下地膜の上に形成されたＡｇまたはＡｇ合金反射膜からなることを特徴とする光記録媒体用積層反射膜。
請求項１、２、３、４、５、６または７記載のＣｕ合金下地膜を形成したのち、このＣｕ合金下地膜の上にＡｇまたはＡｇ合金からなる反射膜を形成することを特徴とする光記録媒体用積層反射膜の製造方法。