JP2009024212A - 光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Cu:0.1〜3.0質量%、Ga:0.05〜2.0質量%、Ca:0.001〜0.1質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、ターゲット本体1の周囲に鍔2を有する鍔付きターゲットであって、ビッカース硬さが40〜70の範囲内にあることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
そのために、光記録媒体の反射膜としてはAgにその他の元素を添加して粒成長や再結晶速度を遅延させたAg合金が広く使用されており、前記従来の光記録媒体のAg合金反射膜として多種多様なAg合金からなる光記録媒体の反射膜が提案されている。この中でもCu:0.1〜3.0質量%、Ga:0.05〜2.0質量%、Ca:0.001〜0.1質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成のAg合金ターゲットを用いスパッタリングすることにより得られたAg合金反射膜は、レーザー光の高出力高密度化に耐えることができる光記録媒体の優れた反射膜であるとされている(特許文献1参照)。
この現象は、スパッタリング時間が短くスパッタリング初期の鍔付きターゲットにおけるターゲット本体1の厚さがまだ十分にあるときは変形量が少なく、ターゲットとマグネットとの隙間Hは小さいが、長時間スパッタリングを行ってターゲットが消耗し、厚さが薄くなると冷却水の圧力によって鍔付きターゲット10が凸状に大きく変形し、かかる鍔付きターゲット10が大きく凸状に変形すると、ターゲットを通る磁力線が変化し、スパッタリング初期の磁力線とスパッタリング終期の磁力線とでは形状が相違するようになり、スパッタリング初期と終期とでは形成されるAg合金反射膜の膜厚分布が相違するようになるので好ましくない。
(1)Cu:0.1〜3.0質量%、Ga:0.05〜2.0質量%、Ca:0.001〜0.1質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、ビッカース硬さが40〜70の範囲内にある光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
(2)前記(1)記載のAg合金スパッタリングターゲットは、平均結晶粒径:5〜200μmの結晶組織を有する光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット、
(3)前記結晶組織は、再結晶組織である前記(2)記載の光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
(4)前記光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットは、ターゲット本体の周囲に鍔を有する鍔付きターゲットである前記(1)、(2)または(3)記載の光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
前記Ag溶湯またはAg―Cu合金溶湯にGaを添加する方法はGaを予めAg箔で包んで添加することが好ましく、またCaはAgへの固溶が殆どないので、均質なターゲットを作製するためにAg−Ca母合金を予め作製し、これら母合金を高周波真空溶解したAg溶湯またはAg−Cu合金溶湯に添加することが好ましい。
また、その結晶組織または再結晶組織の平均結晶粒径を5〜200μmに規定したのは、平均結晶粒径が5μm未満では熱処理が不十分であり、膜厚分布が不均一となるので好ましくなく、一方、平均結晶粒径が200μmを越えると、ターゲットの反りが大きくなり、そのために膜厚分布が不均一となる悪化傾向を示すので好ましくない、という理由によるものである。
Agを高周波真空溶解炉にて溶解することによりAg溶湯を作製し、さらにAgおよびCuを高周波真空溶解炉にて溶解することによりAg−Cu合金溶湯を作製した。得られたAg溶湯およびAg−Cu合金溶湯に、Ag箔に包んだGa、Ag−5質量%Ca母合金を添加してAg合金溶湯を作製し、得られたAg合金溶湯を黒鉛製鋳型にArガス雰囲気中で鋳造することにより表1に示される成分組成を有するインゴットを作製した。
得られたインゴットを550℃、2時間保持の条件で加熱し水冷した後、所定の大きさに切断し、次いで冷間圧延し、その後、表1に示される温度で1時間保持の条件で熱処理を加えたのち水冷し、その後、機械加工することにより図1に示されるようなターゲット本体1の直径が200mm、厚さが15mm、鍔の直径が210mm、厚さが5mmの寸法を有し、表1に示されるビッカース硬さおよび平均再結晶粒径を有する本発明Ag合金鍔付きターゲット(以下、本発明ターゲットという)1〜6を作製した。
さらに、得られたインゴットを550℃、2時間保持の条件で加熱し水冷した後、所定の大きさに切断し、次いで冷間圧延し、その後、表1に示される温度で1時間保持の条件で熱処理を加えたのち空冷し、その後、機械加工することにより図1に示されるようなターゲット本体1の直径が200mm、厚さが15mm、鍔の直径が210mm、厚さが5mmの寸法を有し、表1に示されるビッカース硬さおよび平均結晶粒径を有する従来Ag合金鍔付きターゲット(以下、従来ターゲットという)1〜6を作製した。
なお、前記実施例および従来例で測定したビッカース硬さはJISZ2244に規定されている測定法により測定したものであり、前記平均結晶粒径は下記の条件の線分法により求めた値である。
平均結晶粒径の測定方法:
本発明ターゲット1〜6および従来ターゲット1〜6より切り出した試料面を鏡面に研磨し、過酸化水素水とアンモニア水からなるエッチング液にてエッチングしたのち、結晶粒界を判別することができる倍率:50〜1000倍の範囲内の光学顕微鏡にて顕微鏡写真を撮り、得られた写真を横切って無造作に4本の直線を描き、この4本の直線にそれぞれ交差する結晶粒界を計数し、下記の計算式:
平均結晶粒径=(3/2)・(L/N)・(1/M)
(ただし、L:4本の線分の長さの合計(μm)、N:4本の線分と結晶粒とが交差する結晶粒界の総数、M:写真の倍率)
を用いて平均結晶粒径を求めた。
Claims (4)
- Cu:0.1〜3.0質量%、Ga:0.05〜2.0質量%、Ca:0.001〜0.1質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、ビッカース硬さが40〜70の範囲内にあることを特徴とする光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット。
- 前記請求項1記載のAg合金スパッタリングターゲットは、平均結晶粒径:5〜200μmの結晶組織を有することを特徴とする光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット。
- 前記結晶組織は、再結晶組織であることを特徴とする請求項2記載の光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット。
- 前記光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットは、ターゲット本体の周囲に鍔を有する鍔付きターゲットであることを特徴とする請求項1、2または3記載の光記録媒体の反射膜形成用高硬度Ag合金スパッタリングターゲット。
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