JP4693104B2 - 光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット - Google Patents
光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット Download PDFInfo
- Publication number
- JP4693104B2 JP4693104B2 JP2005204503A JP2005204503A JP4693104B2 JP 4693104 B2 JP4693104 B2 JP 4693104B2 JP 2005204503 A JP2005204503 A JP 2005204503A JP 2005204503 A JP2005204503 A JP 2005204503A JP 4693104 B2 JP4693104 B2 JP 4693104B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- translucent reflective
- reflective film
- mass
- alloy
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
こうした特性を付与するのに最も好適な材料として純Agが知られているが、半透明反射膜が純Agからなる場合、記録、または記録/再生/消去の際に加熱されると膜が凝集することにより半透明反射膜に穴があいてしまうという問題点があり、一方、従来のCu:0.5〜3質量%を含有し、さらにCa:0.005〜0.05質量%を含有し、残部がAgからなるAg合金の半透明反射膜は、記録、または記録/再生/消去の際に加熱されても膜が凝集することはないが、熱伝導率が低くかつ吸収率が純Agに比べて高いという問題点があった。
(イ)Cu:0.1〜0.5質量%未満、Ca:0.01〜0.1質量%を含有し、さらにPr,Eu,Smの内から選ばれる1種または2種以上を合計で0.01〜0.3質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成のAg合金膜は、低吸収率、高耐凝集性、高耐腐食性を有し、このAg合金膜は光記録媒体の半透明反射膜として優れた特性を有する、
(ロ)前記(イ)記載の光記録媒体の半透明反射膜は、該光記録媒体の半透明反射膜の成分組成と同じ成分組成を有するAg合金ターゲットを用いてスパッタリングすることにより得られる、という研究結果が得られたのである。
(1)Cu:0.1〜0.5質量%未満、Ca:0.01〜0.1質量%を含有し、さらにPr,Eu,Smの内から選ばれる1種または2種以上を合計で0.01〜0.3質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる光記録媒体の半透明反射膜、
(2)Cu:0.1〜0.5質量%未満、Ca:0.01〜0.1質量%を含有し、さらにPr,Eu,Smの内から選ばれる1種または2種以上を合計で0.01〜0.3質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる光記録媒体の半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
そして、まず、高純度Agを高真空もしくは不活性ガス雰囲気中で溶解して得られたAg溶湯を作製し、これらのAg溶湯にCaを所定の含有量となるように添加し、その後、真空または不活性ガス雰囲気中で鋳造することによりAg−Ca母合金を予め作製する。
さらに、高純度Agを高真空もしくは不活性ガス雰囲気中で溶解して得られたAg溶湯を作製し、これらのAg溶湯にCuを所定の含有量となるように添加しさらにPr,Eu,Smを所定の含有量となるように添加し、このようにして得られたCu含有Ag合金溶湯に予め作製したAg−Ca母合金を添加してCa含有を所定の成分組成となるように成分調整し、その後、得られたAg合金溶湯を鋳型に鋳造してインゴットを作製し、これらインゴットを冷間加工したのち機械加工することによりAg合金スパッタリングターゲットを製造することができる。このようにして作製したAg合金ターゲットを用い、通常のスパッタリング装置を用いてこの発明のAg合金からなる半透明反射膜を形成することができる。
Cuは、Agに固溶して半透明反射膜の耐凝集性を高める作用を有するが、Cuを0.1質量%未満含んでも半透明反射膜の耐凝集性を高めるに十分な作用がなく、、一方、0.5質量%以上を含有すると、半透明反射層の吸収率が大きくなり、光記録ディスクなどの特性を十分維持できなくなるので好ましくない。したがって、Ag合金半透明反射層およびこのAg合金半透明反射層を形成するためのスパッタリングターゲットに含まれるこれらCuの含有量は0.1〜0.5質量%未満に定めた。一層好ましい範囲は0.2〜0.4質量%である。
Caは、Agにほとんど固溶しないが、スッパッタリングにより膜を形成することによりAgによって形成される結晶粒内に強制的に固溶され、それによって半透明反射膜の結晶粒内でのAgの自己拡散を抑制し、さらに結晶粒界にも析出し、Ag内部への強制固溶と結晶粒界ヘの析出と言う両者の効果により膜が加熱されても結晶粒同士の結合を防止し、半透明反射膜の凝集防止を促進する効果を有するが、Caを0.01質量%未満含んでも所望の効果が得られず、一方、Caが0.1質量%を越えて含有すると、Ag合金半透明反射膜の熱伝導率を低下させるので好ましくない。したがって、Ag合金半透明反射膜およびこのAg合金半透明反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに含まれるこれらCaの含有量は0.01〜0.1質量%に定めた。一層好ましい範囲は0.01〜0.03質量%である。
これら成分は、Agと反応し、結晶粒内および/または結晶粒界に金属間化合物を形成し、凝集抑制効果を発揮するとともに耐腐食性を向上させるのでCaと共に添加するが、これら成分の添加量が0.01質量%未満含んでも凝集を抑制する格段の効果が得られず、一方、0.3質量%を越えて含有すると熱伝導率が低下し、高熱伝導率を有する半透明反射膜とはならないので好ましくない。したがって、Ag合金からなる半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲットに含まれるこれら成分の含有量は0.01〜0.3質量%に定めた。
まず、Agを高周波真空溶解炉で溶解してAg溶湯を作製し、このAg溶湯にCaが5質量%となるように添加し、溶解後炉内圧力が大気圧になるまでArガスを充填し、その後、黒鉛鋳型に鋳造し、Ag−5質量%Ca母合金を作製した。
次に、Agを高周波真空溶解炉で溶解してAg溶湯を作製し、このAg溶湯にCu、Pr,Eu,Smを添加し、さらに前記Ag−5質量%Ca母合金を添加して溶解し鋳造することによりインゴットを作製し、得られたインゴットを600℃、2時間加熱した後、圧延し、次いで機械加工することにより直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有し、表1〜2に示される成分組成を有する本発明ターゲット1〜18、比較ターゲット1〜10および従来ターゲット1を作製した。
さらに比較のために、Agを高周波真空溶解炉にて溶解することによりAg溶湯を作製し、得られたAg溶湯を黒鉛製鋳型にArガス雰囲気中で鋳造することによりインゴットを作製し、得られたインゴットを所定の大きさに切断した後、室温にて冷間圧延し、その後550℃、1時間保持の条件で熱処理を加え、次いで機械加工することにより直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有し、表2に示される純Agからなる従来ターゲット2を製造した。
本発明ターゲット1〜18、比較ターゲット1〜10および従来ターゲット1〜2をそれぞれ無酸素銅製のバッキングプレートにはんだ付けし、これを直流マグネトロンスパッタ装置に装着し、真空排気装置にて直流マグネトロンスパッタ装置内を1×10-4Paまで排気した後、Arガスを導入して1.0Paのスパッタガス圧とし、続いて直流電源にてターゲットに100Wの直流スパッタ電力を印加し、前記ターゲットに対抗しかつ70mmの間隔を設けて前記ターゲットと平行に配置した直径:30mm、厚さ:1mmの酸化膜付きSiウエハ基板と前記ターゲットの間にプラズマを発生させ、厚さ:100nmの表2〜3に示される成分組成を有する本発明半透明反射膜1〜18、比較半透明反射膜1〜10および従来半透明反射膜1〜2を形成した。
このようにして形成した厚さ:100nmの半透明反射膜の比抵抗を四探針法により測定し、ウィーデマンフランツの法則に基づく式:κ=2.44×10−8T/ρ(ただし、κ:熱伝導率、T:絶対温度、ρ:比抵抗)により比抵抗値から熱伝導率を計算により求め、その結果を表3〜4に示した。
反射率・透過率を測定するために直径:30mm、厚さ:0.6mmのポリカーボネート基板と前記本発明ターゲット1〜18、比較ターゲット1〜10および従来ターゲット1〜2の間にプラズマを発生させ、ポリカーボネート基板に厚さ:5〜15nmの表3〜4に示される成分組成を有する本発明半透明反射膜1〜18、比較半透明反射膜1〜10および従来半透明反射膜1〜2を形成し、波長:300〜800nmの範囲の反射率と透過率を分光光度計にて測定し、波長:650nmでのスパッタ側での反射率、および透過率を求め、「100−(反射率+透過率)」を吸収率と定義して求め、その結果を表3〜4に示した。
直径:120mm、厚さ:0.6mmのポリカーボネート基板と前記本発明ターゲット1〜18、比較ターゲット1〜10および従来ターゲット1〜2の間にプラズマを発生させ、ポリカーボネート基板に厚さ:5〜15nmの表3〜4に示される成分組成を有する本発明半透明反射膜1〜18、比較半透明反射膜1〜10および従来半透明反射膜1〜2を形成し、これら膜を温度:90℃、相対湿度:85%の恒温恒湿槽にて300時間保持したのち、原子間力顕微鏡による表面形態を観察することにより膜に発生する穴の有無を調査し、その結果を表3〜4に示して膜の耐凝集性を評価した。
Claims (2)
- Cu:0.1〜0.5質量%未満、Ca:0.01〜0.1質量%を含有し、さらにPr,Eu,Smの内から選ばれる1種または2種以上を合計で0.01〜0.3質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなることを特徴とする光記録媒体の半透明反射膜。
- Cu:0.1〜0.5質量%未満、Ca:0.01〜0.1質量%を含有し、さらにPr,Eu,Smの内から選ばれる1種または2種以上を合計で0.01〜0.3質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなることを特徴とする光記録媒体の半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005204503A JP4693104B2 (ja) | 2005-07-13 | 2005-07-13 | 光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005204503A JP4693104B2 (ja) | 2005-07-13 | 2005-07-13 | 光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007026501A JP2007026501A (ja) | 2007-02-01 |
JP4693104B2 true JP4693104B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=37787098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005204503A Expired - Fee Related JP4693104B2 (ja) | 2005-07-13 | 2005-07-13 | 光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4693104B2 (ja) |
-
2005
- 2005-07-13 JP JP2005204503A patent/JP4693104B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007026501A (ja) | 2007-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8936856B2 (en) | AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film | |
WO2005020222A1 (ja) | 光記録媒体の反射膜および反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
JP3772972B2 (ja) | 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
JP2007066417A (ja) | 耐食性および表面平滑性に優れた光記録媒体用アルミニウム合金反射膜およびこの反射膜を形成するためのスパッタリングターゲット | |
JP4864538B2 (ja) | 光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JP4186221B2 (ja) | 光記録媒体用反射膜および半透明反射膜並びにこれら反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JP3915114B2 (ja) | 光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
JP4693104B2 (ja) | 光記録媒体用半透明反射膜およびこの半透明反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JPWO2010090137A1 (ja) | 酸化チタンを主成分とする薄膜及び酸化チタンを主成分とする焼結体スパッタリングターゲット | |
JP4186223B2 (ja) | 光記録媒体用反射膜および半透明反射膜並びにこれら反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JP4186224B2 (ja) | 光記録媒体用反射膜およびその反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JP3770156B2 (ja) | 光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成された反射膜 | |
US8815149B2 (en) | Semi-reflective film and reflective film for optical recording medium, and Ag alloy sputtering target for forming semi-reflective film or reflective film for optical recording medium | |
JP4186222B2 (ja) | 光記録媒体用反射膜および半透明反射膜並びにこれら反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JP4553149B2 (ja) | 光記録媒体用半透明反射膜および反射膜、並びにこれら半透明反射膜および反射膜を形成するためのAg合金スパッタリングターゲット | |
JP2003160860A (ja) | 光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
JP2003293055A (ja) | 銀合金薄膜および薄膜製造用銀合金 | |
JP3968662B2 (ja) | 光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
WO2004081929A1 (ja) | 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
JP3772971B2 (ja) | 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
JP5287028B2 (ja) | 光記録媒体の半透明反射膜形成用Ag合金スパッタリングターゲット | |
JP4069661B2 (ja) | 光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲット | |
US20060219549A1 (en) | Sputtering target of silver alloy for producing reflection layer of optical recording medium | |
JP2012238365A (ja) | 光記録媒体用半透明反射膜およびその製造方法 | |
TWI504770B (zh) | An aluminum alloy reflective film for optical recording media, and a sputtering target used to form the reflective film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080321 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090129 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090420 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110218 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4693104 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |