JP4077601B2 - 単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法 - Google Patents

単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4077601B2
JP4077601B2 JP2000334382A JP2000334382A JP4077601B2 JP 4077601 B2 JP4077601 B2 JP 4077601B2 JP 2000334382 A JP2000334382 A JP 2000334382A JP 2000334382 A JP2000334382 A JP 2000334382A JP 4077601 B2 JP4077601 B2 JP 4077601B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
open pores
carbon
single crystal
pyrolytic carbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000334382A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002145693A (ja
Inventor
政登 中澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokai Carbon Co Ltd
Original Assignee
Tokai Carbon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokai Carbon Co Ltd filed Critical Tokai Carbon Co Ltd
Priority to JP2000334382A priority Critical patent/JP4077601B2/ja
Publication of JP2002145693A publication Critical patent/JP2002145693A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4077601B2 publication Critical patent/JP4077601B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5001Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with carbon or carbonisable materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/00474Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
    • C04B2111/00844Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for electronic applications

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チョコラルスキー法(以下「CZ法」という)によるシリコンなどの単結晶引き上げ装置に使用される石英ルツボを支持するために用いる炭素繊維強化炭素複合材からなるC/Cルツボの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ICやLSIなどの製造に用いるシリコンなどの単結晶は、通常CZ法により製造されている。CZ法は、高純度の石英ルツボの中にシリコン多結晶を入れ、石英ルツボを所定速度で回転させながらヒータによりシリコン多結晶を加熱溶融し、シリコン多結晶の溶融液の表面に種結晶(シリコン単結晶)を接触させて、所定速度で回転させながらゆっくりと引上げることによりシリコン多結晶の溶融液を凝固させて、シリコン単結晶に成長させるものである。
【0003】
しかしながら、石英ルツボは高温においては軟化し、強度も充分でないので、通常、石英ルツボは炭素ルツボ内に嵌合され、炭素ルツボで石英ルツボを支持することにより補強して用いられている。この石英ルツボを嵌合する炭素ルツボとしては高温強度が高く、耐熱性や熱伝導率が大きい黒鉛材が一般的に使用されている。しかしながら、黒鉛材は表面から黒鉛の微粉が離脱、飛散し易いので装置内を浮遊してシリコン溶融液中に混入し、シリコン単結晶の品質を低下させる難点がある。
【0004】
また、石英と黒鉛とは熱膨張率が大きく異なるために、加熱、冷却を繰り返し行っている間に加熱時には石英ルツボが軟化して黒鉛ルツボに密着し、一方冷却時には黒鉛ルツボの収縮量が石英ルツボの収縮量に比べて大きくなることにより石英ルツボから内圧を受けることとなり、黒鉛ルツボの変形、割損などが生じる難点もある。この熱膨張差による割損を防止するため、通常、黒鉛ルツボは分割構成されているが、繰り返し使用するための耐用回数が充分でなく、更に、近年における装置の大型化に伴い耐用寿命が著しく短くなるという問題がある。
【0005】
更に、高温加熱時には石英ルツボ(SiO2 )と黒鉛ルツボ(C)とは接触する嵌合面において反応してSiOガスを発生し、発生したSiOガスは黒鉛ルツボと反応し、特に黒鉛ルツボ表層部の開気孔内を浸透しながら黒鉛ルツボ(C)と反応して黒鉛ルツボの開気孔内を次第にSiC化していく。したがって、このような加熱処理が繰り返し行われると、黒鉛ルツボが徐々にSiCへと転化して材質的に脆弱化してミクロクラックが発生し易く、遂には黒鉛ルツボの割損を招くこととなる。
【0006】
そこで、強度特性に優れ、石英との熱膨張率の差異が少ない炭素繊維強化炭素複合材(以下、C/C材ともいう)を用いて炭素ルツボを構成することにより、上記の問題を解消する提案が行われており、例えば実開昭63−7174号公報には、少なくとも側壁部分が一体のC/C材により構成された単結晶引き上げ用ルツボが、また特開平9−263482号公報には、ルツボ内側を炭素繊維クロス積層体または炭素繊維フェルト積層体を用いたC/C材とし、ルツボ外側をフィラメントワインディング法により成形したC/C材で構成した二層よりなるシリコン単結晶引き上げ用炭素繊維強化炭素ルツボ、などが提案されている。
【0007】
しかしながら、C/C材は黒鉛材などの炭素材と同様に,高温加熱時に石英ルツボ(SiO2 )と接触する嵌合面において、SiO2 +C→SiO+COの反応によりSiOガスを発生する。C/C材の表面には多くの微小開気孔が存在するため、発生したSiOガスはC/Cルツボの表層面の微小開気孔内に浸透しながら気孔内壁面を次第に、SiO+2C→SiC+COの反応によりSiC化するとともに、前記したSiO2 +C→SiO+COの反応によりCを消耗していき、C/Cルツボの損耗やミクロクラックが発生し、遂には割損を招くことになる。
【0008】
そこで、C/CルツボのSiC化を低減させることにより長時間の使用を可能とするために、特開平10−59795号公報には、C/C材料を全部または一部に含んで形成される半導体単結晶引き上げ用ルツボであって、前記C/C材料の少なくとも一部分に熱分解炭素の被膜が形成され、前記被膜は開気孔の内面まで生成することを特徴とする半導体単結晶引き上げ用ルツボ、および、開気孔にCVD法によって0.2μm /hr以下の析出速度で熱分解炭素の被膜を形成する製造方法が提案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
C/Cルツボの開気孔内面に熱分解炭素の被膜を形成することによりSiC化を抑制し、使用寿命の長期化を図るためには、SiOガスの拡散を防ぐために開気孔の内部にまで熱分解炭素を析出、充填することが重要である。一般的に、原料炭化水素を気相熱分解して炭素を析出させる場合、熱分解速度は熱分解時の系内の圧力(真空度)や温度条件などに大きく影響され、熱分解速度が早いと、開気孔内の入口部で熱分解炭素が析出し、開気孔の深層部に熱分解炭素を析出させることが困難となる。一方、熱分解速度を遅くすれば、開気孔内の相対的に深い部分に熱分解炭素を析出させることができるが、能率が悪く、コストアップとなる問題点がある。
【0010】
そこで、本発明者は、この問題点を解消するために鋭意研究を行った結果、開気孔内に析出させる熱分解炭素の充填度合いを開気孔内の深層部から表層部にかけて疎密構造とすることにより、析出した熱分解炭素が開気孔内面に強固に結合して剥離し難く、更に、開気孔内におけるSiC化も均等に進むため耐用寿命も長くなることを見出した。
【0011】
すなわち、本発明はこの知見に基づいて開発されたものであり、その目的は、SiC化を抑制し、耐用寿命が長く、耐久性に優れた単結晶引き上げ用のC/Cルツボの製造方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明の単結晶引き上げ用C/Cルツボの製造方法は、炭素繊維に熱硬化性樹脂を含浸し、硬化したルツボ成形体を非酸化性雰囲気下で焼成炭化して得られた炭素繊維強化炭素複合材を基材とし、該基材をCVI装置にセットして、系内の圧力および温度を段階的に変更して原料炭化水素の熱分解条件を制御することにより、炭素繊維強化炭素複合材の開気孔内の深層部から表層部にかけて疎から密の組織構造へと次第に変化する傾斜機能組織の熱分解炭素層を充填することを構成上の特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
C/C材は、ポリアクリロニトリル系、レーヨン系、ピッチ系などの原料から製造された炭素繊維を強化材として、これらの炭素繊維がフェノール系やフラン系などの熱硬化性樹脂を硬化し、焼成炭化した炭化物により結着され、一体化されたものである。
【0015】
C/C材には、熱硬化性樹脂を加熱硬化、焼成炭化する過程において、熱硬化性樹脂の重縮合により生成した結合水や低沸点成分の揮散により、微細な開気孔や閉気孔が形成される。このC/C材を用いてCZ法による単結晶引き上げ用のC/Cルツボを作製した場合には、高温加熱時に嵌合する石英ルツボとの接触面において石英ルツボと反応してSiOガスを発生し、生成したSiOガスは開気孔内に浸透してC/C材の開気孔の内壁面をSiCに転化する。その結果、C/Cルツボの開気孔内が次第にSiC化されてミクロクラックが発生し易くなり、強度特性に優れたC/C材であっても割損することとなる。
【0016】
そこで、本発明の製造方法により製造される単結晶引き上げ用C/Cルツボは、この開気孔内がCVI法(Chemical Vapor Infiltration ;化学的気相浸透法)により気相析出、沈着させた熱分解炭素により充填され、熱分解炭素の充填層が開気孔内の深層部から表層部にかけて、深層部の疎な組織から表層部の密な組織へと組織性状が変わる傾斜機能組織を形成した構造とするものである
【0017】
この組織性状により、SiOガスとの反応が最も進行し易い開気孔の表層部には熱分解炭素が密に充填され、一方、SiOガス濃度が低下して反応量が表層部に比べて相対的に少ない開気孔の深層部には熱分解炭素が疎に充填されているので、開気孔内におけるSiC化が相対的に均等に進むことになり、開気孔内の不均一なSiC化に伴うミクロクラックの発生を効果的に低減させることが可能となる。
【0018】
すなわち、本発明の単結晶引き上げ用C/Cルツボの製造方法は、炭素繊維に熱硬化性樹脂を含浸して、硬化したルツボ成形体を非酸化性雰囲気下で焼成炭化して得られた炭素繊維強化炭素複合材(C/C材)を基材とし、該基材をCVI装置にセットして、系内の圧力および温度を段階的に変更して原料炭化水素の熱分解条件を制御することにより、C/C材の開気孔内の深層部から表層部にかけて疎から密の組織構造へと次第に変化する傾斜機能組織の熱分解炭素層を充填するものである
【0019】
ルツボ成形体は、常法により炭素繊維クロスをフェノール系樹脂やフラン系樹脂などの高炭化性の熱硬化性樹脂に浸漬する、または熱硬化瀬樹脂を塗布するなどの方法により炭素繊維クロスに熱硬化性樹脂を含浸し、半硬化したプリプレグを所望のルツボ形状に成形し、硬化したのち非酸化性雰囲気に保持した加熱炉中で焼成炭化することにより作製される。あるいは、炭素繊維の連続繊維に熱硬化性樹脂を含浸し、フィラメントワインディング法によりルツボ形状に成形し、硬化したのち非酸化性雰囲気の加熱炉中で焼成炭化して作製することもできる。
【0020】
このようにして作製したC/C材からなるルツボ成形体を基材としてCVI装置にセットし、所定温度に加熱して、メタン、エタン、プロパンなどの直鎖状炭化水素を原料ガスとして送入し、熱分解させることにより、気相析出した熱分解炭素を基材の開気孔内に沈着、充填させる。
【0021】
この場合、開気孔の入口部やその近辺、あるいは開気孔内の途中で熱分解炭素が析出されると開気孔内部への原料ガスの浸透が妨げられることになり、気孔内部、特に開気孔の深層部に熱分解炭素を析出、充填することが困難となる。一般に、原料炭化水素ガスを熱分解して熱分解炭素を気相析出させる場合、CVI反応の圧力や温度条件により析出速度が変化し、圧力および温度が低いほど析出速度が遅くなり、逆に圧力および温度が高くなると析出速度が速くなる。なお、熱分解反応が起こる圧力および温度は、原料となる炭化水素ガスによっても異なるが、概ね、圧力40 kPa以下、温度900℃以上の圧力、温度条件下で熱分解炭素を析出する。
【0022】
したがって、熱分解炭素を気相析出させるCVI反応の圧力および温度条件として、例えば、開気孔内を浸透する原料ガスが、開気孔の入口〜途中の気孔内においては熱分解が相対的に少なく、主に深部において熱分解炭素を気相析出させる条件に設定して所定の時間保持し、次いで、圧力および温度を上げ、開気孔内の中間位置で主に熱分解反応を起生させる条件に設定して所定時間保持し、最後に、開気孔の入口部で熱分解反応を起生させる圧力、温度条件に設定して所定時間保持する、という3段階の圧力および温度条件に熱分解条件を制御することにより製造することができる。
【0023】
このようにして、例えば、熱分解条件を3段階に設定、制御してC/C材の開気孔内に熱分解炭素を気相析出させることにより、開気孔の深部には、相対的に低圧、低温の遅い速度で析出した熱分解炭素が疎な組織構造で充填され、一方、開気孔の入口部である表面部には、相対的に高圧、高温で早い速度で析出した熱分解炭素が密な組織構造で充填される。そして、深部と表面部の中間位置においては疎から密の中間的組織の熱分解炭素が析出、充填される。このようにして、C/C材の開気孔内の深層部から表層部にかけて疎から密の組織構造へと次第に変化する傾斜機能組織の疎密組織構造の熱分解炭素が充填された単結晶引き上げ用C/Cルツボを製造することができる。なお、熱分解条件の設定、制御は3段階に限られるものでなく、適宜なステップに設定する。
【0024】
以下、本発明の実施例を比較例と対比して具体的に説明する。
【0025】
実施例1
PAN系高強度タイプの炭素繊維にフェノール樹脂を含浸し、フィラメントワインディング法によりルツボ形状の成形体を作製し、250℃の温度で樹脂成分を硬化した。次いで、窒素ガス雰囲気の加熱炉に入れ、10℃/hrの昇温速度で2000℃に加熱し、5時間保持して焼成炭化した。更に、2000℃の温度で塩素ガスにより高純度化処理を施し、内径800mm、高さ450mm、直胴部の厚さ7mmのC/C材からなるルツボを作製した。
【0026】
このルツボをCVI装置の反応室内にセットし、系内を真空引きして6.67 kPaの圧力に調整した。次いで、加熱して所定温度に達したのち、常温の原料ガスを送入して熱分解炭素を析出させた。なお、原料ガスにはプロパンガスを用い、水素ガスをキャリアガスとして、プロパン/水素=1/10(vol比) の混合ガスを100l/min.の割合で反応室内に送入した。このようにして、1150℃、1200℃、1250℃の温度に段階的に昇温し、各温度にそれぞれ15時間ずつ保持して、開気孔内に気相析出させた熱分解炭素が充填したC/Cルツボを製造した。このC/Cルツボから試験片を切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、開気孔の深層部まで熱分解炭素が充填されており、またその充填状況は深層部から表層部にかけて次第に密に充填され、傾斜機能組織の熱分解炭素層が形成されていることを確認した。
【0027】
このようにして製造したC/Cルツボ内に石英ルツボを嵌合し、石英ルツボ内にシリコン多結晶を入れて、1500℃の温度に加熱してシリコンを溶融した。この際、シリコン融液がC/Cルツボの深さの1/2になるように調節した。この状態に1時間保持したのち、冷却してシリコン融液を凝固させた。この加熱溶融、冷却凝固の操作を繰り返し行ってC/Cルツボの耐久性を試験したところ、50回繰り返すと全体的に、特にフェノール樹脂が炭化したマトリックス炭素部分のSiC化が進行するものの、まだ継続使用が可能な状態にあった。
【0028】
比較例1
実施例1と同じ方法により作製したC/C材からなるルツボをCVI装置の反応室内にセットし、系内の圧力を20 kPa、温度を1250℃に設定、制御して50時間保持したほかは、実施例1と同一の方法により熱分解炭素を析出、充填した。このC/Cルツボから試験片を切り出し、その断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、開気孔の表層部を中心に熱分解炭素が充填被覆されており、深層部には熱分解炭素が存在しない空洞部も認められた。また、実施例1と同じ方法によりシリコン多結晶の加熱溶融、冷却凝固の操作を繰り返し行って、耐久性試験を行った結果、19回目で熱分解炭素層に一部剥離が認められ、24回目に亀裂が発生し、継続使用が不可能な状態になった。
【0029】
比較例2
実施例1と同じ方法により作製したC/C材からなるルツボに熱分解炭素を気相充填することなく、そのまま使用して、実施例1と同じ方法によりシリコン多結晶の加熱溶融、冷却凝固の操作を繰り返し行って、耐久性試験を行った結果、5回目で亀裂が発生し、継続使用が不可能な状態になった。
【0030】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明の単結晶引き上げ用C/Cルツボの製造方法によれば、CVI反応条件を段階的に設定、制御することによりC/Cルツボの開気孔内が深層部から表層部にかけて疎から密の組織構造へと次第に変化する傾斜機能組織の熱分解炭素層が開気孔内面に強固に結合、充填されており、開気孔内におけるSiC化が抑制されるとともにSiC化が均等に進むため、ミクロクラックの発生および割損が著しく低減し、その結果、耐久性に優れ、耐用寿命の長い、シリコンなどの単結晶引き上げ用C/Cルツボを製造することが可能となる。

Claims (1)

  1. 炭素繊維に熱硬化性樹脂を含浸し、硬化したルツボ成形体を非酸化性雰囲気下で焼成炭化して得られた炭素繊維強化炭素複合材を基材とし、該基材をCVI装置にセットして、系内の圧力および温度を段階的に変更して原料炭化水素の熱分解条件を制御することにより、炭素繊維強化炭素複合材の開気孔内の深層部から表層部にかけて疎から密の組織構造へと次第に変化する傾斜機能組織の熱分解炭素層を充填することを特徴とする単結晶引き上げ用C/Cルツボの製造方法。
JP2000334382A 2000-11-01 2000-11-01 単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法 Expired - Fee Related JP4077601B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000334382A JP4077601B2 (ja) 2000-11-01 2000-11-01 単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000334382A JP4077601B2 (ja) 2000-11-01 2000-11-01 単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002145693A JP2002145693A (ja) 2002-05-22
JP4077601B2 true JP4077601B2 (ja) 2008-04-16

Family

ID=18810308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000334382A Expired - Fee Related JP4077601B2 (ja) 2000-11-01 2000-11-01 単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4077601B2 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1304912C (zh) * 2005-02-21 2007-03-14 西北工业大学 碳/碳复合材料热梯度化学气相渗透过程温度自动控制器
JP5723615B2 (ja) * 2011-02-02 2015-05-27 東洋炭素株式会社 単結晶引上げ装置用黒鉛ルツボ及びその製造方法
US20130305984A1 (en) * 2011-02-02 2013-11-21 Toyo Tanso Co., Ltd. Graphite crucible for single crystal pulling apparatus and method of manufacturing same
KR101933396B1 (ko) * 2016-08-01 2018-12-28 국방과학연구소 밀도 구배를 갖는 탄소 복합재 제조방법
KR101743073B1 (ko) * 2016-11-14 2017-06-02 국방과학연구소 밀도 구배를 갖는 탄소 복합재의 제조방법 및 이에 의해 제조된 탄소 복합재
CN108911760B (zh) * 2018-08-08 2021-07-09 航天材料及工艺研究所 碳纤维增强树脂梯度碳化非烧蚀型热防护材料及制备方法
CN109456063B (zh) * 2018-12-07 2022-07-12 烟台凯泊复合材料科技有限公司 一种单晶硅拉制炉的CF/Si3N4复合材料埚帮及其制备方法
JP2021004150A (ja) * 2019-06-26 2021-01-14 イビデン株式会社 炭素系複合材料
CN110436951A (zh) * 2019-08-27 2019-11-12 中南大学 一种低成本C/C-SiC-BN复合摩擦材料及其制备方法
CN111848219A (zh) * 2020-07-13 2020-10-30 航天特种材料及工艺技术研究所 一种提高rmi工艺制陶瓷基复合材料性能的方法及制得的陶瓷基复合材料
CN114890805A (zh) * 2022-05-27 2022-08-12 湖南晶碳新材料有限公司 一种连续式石墨化炉中碳碳坩埚的制备工艺
CN115286413A (zh) * 2022-07-18 2022-11-04 浙江星辉新材料科技有限公司 一种碳碳复合材料坩埚及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002145693A (ja) 2002-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4077601B2 (ja) 単結晶引き上げ用c/cルツボの製造方法
JP5231316B2 (ja) 炭素繊維強化炭素複合材、単結晶引き上げ装置用部材、及び、炭素繊維強化炭素複合材の製造方法
CN112299865A (zh) 一种改性C/SiC复合材料及其制备方法
JP4700218B2 (ja) 単結晶引き上げ用炭素繊維強化炭素複合材料製ルツボ
JPH1059795A (ja) 半導体単結晶引き上げ用c/cルツボ
CN115094514A (zh) 一种复合材料坩埚及其制备方法
JP2006131451A (ja) 単結晶引き上げ用ルツボとその製造方法
JP3218092B2 (ja) 耐酸化性c/c複合材の製造方法
JP3116005B2 (ja) 半導体単結晶引上げ用c/c製ルツボの製法
JP4358313B2 (ja) 半導体単結晶引き上げ装置のシードチャック
JP2000095567A (ja) 炭素繊維強化炭素複合材及び単結晶引き上げ装置用部材
JP2000086382A (ja) 単結晶引き上げ用c/cルツボ
JP3844273B2 (ja) 耐酸化性c/c複合材及びその製造方法
JP2023006364A (ja) C/Cコンポジット及びSi単結晶引き上げ炉用部材
JPH0292886A (ja) 耐酸化性を有する炭素繊維強化複合材料の製造法
JP4218853B2 (ja) 単結晶引き上げ用炭素質ルツボとその製造方法
JP4170426B2 (ja) 単結晶引上げ装置用高温部材及びその製造方法
JP2579563B2 (ja) 炭素繊維強化炭素複合材の耐酸化処理法
JP4823406B2 (ja) 単結晶引き上げ装置用炭素繊維強化炭素複合材料
JPH10209061A (ja) 半導体拡散炉用の構成部材
JP4152580B2 (ja) Si単結晶引き上げ用C/Cルツボの製造方法および補修方法
JPH06345571A (ja) 高温耐酸化性c/c複合材の製造方法
CN115286393B (zh) 一种低成本长寿命的碳陶热场产品及其制备方法
JP2002173392A (ja) 単結晶引上げ装置用c/c部材
JP2000239079A (ja) 表面を緻密化した炭素材料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050310

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071030

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071107

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071227

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120208

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130208

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140208

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees