JP4038206B2 - リジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶ポリマーを用いたリジッド・フレキシブルプリント回路基板及びその製作方法に関し、より具体的には、液晶ポリマー銅張積層板を用いたオールレイヤ工程により、フレキシブル領域が液晶ポリマーによってカバーレイ成形されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板及びその製造方法に関する。
最近、電子部品の小型化及び集積化に伴い、これらを表面上に装着することが可能な様々な多層のプリント回路基板が開発されている。特に、プリント回路基板の占有空間の最小化及び立体的、空間的変形が可能なリジッド・フレキシブルプリント回路基板(Rigid-Flexible printed circuit board)についての活発な研究が行われている。
上述したリジッド・フレキシブルプリント回路基板は、プレプレグが内在して機械的強度を有するリジッド領域と、前記リジッド領域の相互接続を行うフレキシブル領域とからなるもので、半導体素子の実装密度の向上、小型化及び薄型化が求められるノート型PC(personal computer)、PDA、携帯電話などの携帯型情報機器などに広く用いられている。
この種のリジッド・フレキシブルプリント回路基板について、韓国特許公開第2001−0074011号公報には、リジッド部領域に形成されたカバーレイを除去して、フレキシブル領域にだけポリイミドを利用してカバーレイ成形により仮接合した後、ラミネーションを行うことにより、フレキシブル領域に形成された回路パターンを外部環境から保護するリジッド・フレキシブルプリント回路基板に関する技術が開示されている。
以下、図1及び図2を参照してリジッド・フレキシブルプリント回路基板のカバーレイ成形過程を詳細に説明する。
ここで、図1はリジッド・フレキシブルプリント回路基板を構成するフレキシブル領域の所定の部分にカバーレイを被覆する部分コーティング法を説明するための配置図、図2はリジッド・フレキシブルプリント回路基板を構成するフレキシブル領域の全体にカバーレイを被覆する全面コーティング法を説明するための配置図である。
まず、図1を参照して部分コーティング法によるフレキシブル領域へのカバーレイ成形過程を説明する。
図1に示すように、ポリイミド層11と銅箔層12からなるポリイミド銅張積層板10の銅箔層12に対するマスキング工程を行い、所定形状の内層回路パターン(図示せず)を形成する。
その後、前記ポリイミド銅張積層板10の中でもフレキシブル領域が形成される部分に形成された内層回路パターンを外部環境から保護するために、ポリイミドフィルム20を前記フレキシブル領域より大きいサイズに加工する。
前記加工されたポリイミドフィルム20を、接着剤21を介して、内層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に付着させた後、手作業によって鏝で前記ポリイミドフィルム20を仮接合させるカバーレイ成形を行う。
上述したように、ポリイミドフィルム20を用いてフレキシブル領域に対するカバーレイ成形を行った後、前記ポリイミド銅張積層板10に対する機械的強度及び接着力を提供するためにプレプレグ30を積層させる。
その後、前記積層されたプレプレグ30を介して、ポリイミド層が露出した別の銅張積層板10′を積層させて真空加圧することにより、プレプレグが介在しているリジッド領域と、前記リジッド領域の相互接続を行うと共にポリイミドフィルムによって部分的にカバーレイ成形されたフレキシブル領域とからなる単層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を形成する。
この際、多層のプリント回路基板を形成するために、別のプレプレグ30′を介して単層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を相互対向するように積層させた後、プレスによる加圧工程を行うことにより、プレプレグ30、30′が介在して機械的強度を維持するリジッド領域と、前記リジッド領域の相互接続を行うと共にポリイミドフィルム20によって部分的にカバーレイ成形されたフレキシブル領域とからなる多層のプリント基板を形成する。
その後、前記多層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の層間電気的接続を行うビアホールを形成した後、前記形成されたビアホールに対するホールメッキを施すと共に所定形状の外層回路パターンを形成する。
上述したように所定形状の外層回路パターンを形成した後、前記形成された外層回路パターンの中でもフレキシブル領域に形成された外層回路パターンを前記ポリイミドフィルムを用いてカバーレイ成形する。
その後、前記外層回路パターンを保護し且つ半田付け工程で外層回路パターン150の間に半田ブリッジ現象を防止するために、ソルダレジストマスク用インク(PSR: Photo Image able Solder Resist Mask Ink)を塗布することによりレジストマスク160を形成し、図3に示されているように、フレキシブル領域がポリイミドフィルムによってカバーレイ成形された単層または多層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を最終的に完成した。
ところが、このような方式によって形成されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の場合、カバーレイ加工工程及び仮接合工程などの作業工程が要求されており、これにより多くの作業時間及びコストがかかるうえ、部分付着させたカバーレイフィルムによって形成される段差により回路形成及び積層信頼性が減少するという問題点があった。
このような問題点を解決するための方法として、図2に示すように、リジッド・フレキシブルプリント回路基板を構成するフレキシブル領域の全体にカバーレイ成形を行う方法が用いられた。
ポリイミド層11と銅箔層12からなるポリイミド銅張積層板10の銅箔層12に所定形状の内層回路パターン(図示せず)を形成する。
その後、前記ポリイミド銅張積層板10の中でもフレキシブル領域が形成されるべき部分に形成された内層回路パターンを外部環境から保護するために、ポリイミドフィルム20を前記フレキシブル領域の全体に対して接着剤21を介して付着させるカバーレイ成形を行う。
上述したようにポリイミドフィルム20を用いてフレキシブル領域の全体に対するカバーレイ成形を行った後、前記ポリイミド銅張積層板10に対する機械的強度及び接着力を提供するためにプレプレグ30を積層させる。
その後、前記積層されたプレプレグ30を介して、ポリイミド層が露出した別の銅張積層板10′を積層させて真空加圧することにより、プレプレグが介在しているリジッド領域と、前記リジッド領域の相互接続を行うと共に全体領域に対してカバーレイ成形されたフレキシブル領域とからなる単層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を形成する。
この際、多層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を形成するために、別のプレプレグ30′を介して単層のリジッド・フレキシブルプリント回路パターンを相互対向するように積層した後、プレスによる加圧工程を行うことにより、プレプレグ30、30′が介在して機械的強度を維持するリジッド領域と、前記リジッド領域の相互接続を行うと共にポリイミドフィルム20によって全体領域に対してカバーレイ成形されたフレキシブル領域とからなる多層のプリント回路基板を形成する。
その次、前記多層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の層間電気的接続を行うビアホールを形成した後、前記形成されたビアホールに対するホールメッキを施すと共に所定形状の外層回路パターンを形成する。
上述したように所定形状の外層回路パターンを形成した後、前記形成された外層回路パターンの中でもフレキシブル領域に形成された外層回路パターンを前記ポリイミドフィルムを用いてカバーレイ成形する。
その後、前記外層回路パターンを保護し且つ半田付け工程で外層回路パターン150の間に半田ブリッジ現象を防止するために、PSRインク160を塗布することにより、図3に示されているように、フレキシブル領域がポリイミドフィルムによってカバーレイ成形された単層または多層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を最終的に完成した。
上述した方式によってフレキシブル領域がポリイミドフィルムによって全体的にカバーレイ成形されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板を製作する場合、図1を参照して上述した部分コーティング法に比べて仮接合工程及びカバーレイ加工工程などが省略されるので、製造工程の単純化を図ることができるという利点がある。
ところが、接着剤21が塗布されていないカバーレイ用ポリイミドフィルム20の反対部分は、特有の堅い分子構造的特徴による低い界面エネルギーによってプレプレグ30、30′との弱い接着力が向上し、これによりプレプレグ30、30′から容易に剥離することにより、製品の信頼性を低下させるという問題点をもたらした。
すなわち、カバーレイ成形のためのポリイミドフィルム20を接着剤21を介してリジッド・フレキシブルプリント回路基板のフレキシブル領域に付着させる場合、前記ポリイミドフィルム20と接着剤21間の異なる熱膨張性(CTE)及び低い熱安定性による層間剥離現象が発生するという問題点があった。
また、前記ポリイミドフィルム20は、剛直な分子構造上の特徴による低い界面接着力と極性ポリマー鎖による高い吸湿性によって製品の寸法安定性を低めると共に絶縁層の誘電率を高めることにより、最近電子製品で要求する低電力、高周波数化及び軽薄短小化を達成することができないという問題点があった。
また、前記ポリイミドフィルム20は、高価の原資材の価格によって製造コストが上昇し、これにより製品のコスト競争力を低下させるという問題点をもっていた。
韓国特許公開公報第2001−0074011号
本発明は、かかる問題点を解決するためのもので、その目的は、液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によってリジッド・フレキシブルプリント回路基板を製作することにより、層間剥離現象が発生せず且つ軽薄短小化が可能なリジッド・フレキシブルプリント回路基板及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明に係る液晶ポリマーを用いたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法は、液晶ポリマー層と、前記液晶ポリマー層の片面または両面に接着された銅箔層とからなる多数のベース基板を用意する段階と、前記ベース基板を構成する銅箔層に画像形成を行い、内層回路パターンを形成する段階と、前記内層回路パターンが形成されたベース基板のフレキシブル領域に液晶ポリマーを用いたカバーレイ成形を行う段階と、前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された接着部材を介して液晶ポリマー層が対向するように、前記カバーレイ成形された2つのベース基板を積層する段階と、前記接着部材を介して積層された2つのベース基板からなる構造体の上面及び下面のそれぞれに、前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された液晶ポリマー層を有する別のベース基板を、液晶ポリマー層を前記内層回路パターン側に向けて積層して加圧する段階と、前記別のベース基板を構成する銅箔層に画像形成を行い、外層回路パターンを形成する段階と、前記外層回路パターンが形成された別のベース基板のフレキシブル領域に液晶ポリマーを用いたカバーレイ成形を行う段階と、半田付け工程から前記外層回路パターンを保護するソルダマスクを形成する段階とを含んでなることを特徴とする。
また、本発明に係る液晶ポリマーを用いたリジッド・フレキシブルプリント回路基板は、液晶ポリマー層と、前記液晶ポリマー層の片面または両面に接着され内層回路パターンが形成された銅箔層とからなる第1のベース基板と、前記第1のベース基板のフレキシブル領域に形成された内層回路パターンを被覆する、液晶ポリマーからなる第1のカバーレイと、前記カバーレイ成形された2つの第1のベース基板を相互対向する構造で接着させる接着部材と、前記接着部材を介して積層された2つの第1のベース基板からなる構造体の上面と下面にそれぞれ積層され、所定形状の外層回路パターンが形成された第2のベース基板と、前記第2のベース基板のフレキシブル領域に形成された外層回路パターンを被覆する、液晶ポリマーからなる第2のカバーレイと、半田付け工程から前記外層回路パターンを保護するソルダマスクとを含んでなることを特徴とする。
本発明に係る液晶ポリマーを用いたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法によれば、液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によってフレキシブル領域を液晶ポリマーによってカバーレイ成形することにより、層間剥離現象の発生を防止し、これにより信頼性の高いリジッド・フレキシブルプリント回路基板を提供することができるという効果を有する。
また、本発明は、液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によってリジッド・フレキシブルプリント回路基板を製作することにより、最近の電子製品で要求される低電力、高周波数化及び軽薄短小化を達成することができるという効果を有する。
また、本発明は、低価の液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によってリジッド・フレキシブルプリント回路基板を製作することにより、製品の生産コストを引き下げてコスト競争力を強化させることができるという効果も有する。
以下、図4及び図5を参照して、本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって形成されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製作過程を詳細に説明する。
図4は本発明に係るリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製作順序を示す流れ図、図5は本発明に係るリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製作工程図である。
まず、リジッド・フレキシブルプリント回路基板のベース基板として動作する液晶ポリマー銅張積層板100を用意する(S100)。
ここで、ベース基板として動作する前記液晶ポリマー銅張積層板100は、基礎材料として液晶ポリマー層110が使用され、前記液晶ポリマー層110の片面または両面上に所定厚さの銅箔層120が接着された構造を有する(図5a参照)。
次に、説明の便宜上、基礎材料としての液晶ポリマー層110と、前記液晶ポリマー層110の片面上に形成された銅箔層120とからなる液晶ポリマー銅張積層板をベース基板100として用いて、リジッド・フレキシブルプリント回路基板の製作方法を説明する。
この際、本発明の技術的思想はこれに限定されない。液晶ポリマー層110の両面に銅箔層120が形成された液晶ポリマー銅張積層板をベース基板100として用いても、本発明の技術的思想を完成することができるという点に留意すべきである。
上述したような構造を有する液晶ポリマー銅張積層板をベース基板100として投入した後、前記ベース基板100を構成する銅箔層120に画像形成を行う(S200)。
これをより具体的に説明すると、ベース基板100を構成する銅箔層120上に感光性ドライフィルムを加熱ローラなどを用いて熱圧着させた後、所定形状の内層回路パターンが形成されたアートワークフィルムを密着させる。
その後、所定形状の内層回路パターンが形成されたアートワークフィルムを介して感光性ドライフィルムに対する紫外線照射を行い、前記感光性ドライフィルムに対する硬化処理を行う。
次いで、前記硬化処理された感光性ドライフィルムを炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムなどの現像液を用いて現像処理することにより、硬化処理された部分を除いた残りの部分に存在する感光性ドライフィルムを溶解させて液晶ポリマー銅張積層板100の銅箔層120を露出させる。
上述したように液晶ポリマー銅張積層板100の銅箔層120を露出させた後、前記硬化処理されたドライフィルムをエッチングレジストとして用いて液晶ポリマー銅張積層原板100に対するエッチングを行い、前記露出させた銅箔層120を除去し、エッチングレジストとして用いられたドライフィルムを除去することにより、所定形状の内層回路パターン130を形成する(図5b参照)。
上述したように銅箔層120上に所定形状の内層回路パターン130を形成した後、ベース基板100の中でもフレキシブル領域が形成された内層回路パターン130′を外部環境から保護するためのカバーレイ成形を行う(S300)。
この際、前記フレキシブル領域に対するカバーレイ200の成形のために使用される部材は、ベース基板100を構成する液晶ポリマー層110と同一の性質を有する液晶ポリマーであるが、前記液晶ポリマーを所定の成形環境、より具体的には230〜300℃の成形温度で20〜120分間10〜60kgf/cmで加圧して前記フレキシブル領域に部分的もしくは全面的に付着させてカバーレイ200の成形を行う(図5c参照)。
ここで、前記カバーレイ200は、上述したような成形温度(約240℃)を有する液晶ポリマーそれ自体を用いてフレキシブル領域に単層から成形することも、所定の接着剤(図示せず)を介して前記フレキシブル領域に多層から成形することもできる。
この際、接着剤としては、上述したような融点(約240℃)を有する液晶融合体を用いるか、或いはエポキシやアクリルなどを用いることもできる。
すなわち、前記カバーレイ200は、連続線形工程によるフレキシブル部位の層間接合を防止するために、上述したような融点(約240℃)より高い融点(275℃)を有する液晶ポリマーをカバーレイ基材として用い、上述したような融点(約240℃)を有する液晶ポリマーを接着剤として用いた多層構造で成形することもできる。
また、前記カバーレイ200は、エポキシ又はアクリル系接着剤(図示せず)を介してより低い温度、より具体的には120〜150℃の成形温度で20〜120分間10〜60kgf/cmで加圧して前記フレキシブル領域に部分的もしくは全面的に付着させることもできる。
上述したようにフレキシブル領域に対するカバーレイ成形を行った後、前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された接着部材300を介して液晶ポリマー層110が対向するように、前記カバーレイ成形された2つのベース基板100を積層させる(S400)。
ここで、前記カバーレイ成形されたベース基板100を接着させる役割を行う接着部材300は、所定の成形温度下で加圧する場合、強い接着力を示す液晶ポリマーを使用する(図5d参照)。
この際、前記接着部材300として作用する液晶ポリマーは、最終的に製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板に対する機械的強度及び接着力を提供する役割も行う。
上述したように、液晶ポリマー層を対向させるように、接着部材を介して2つのベース基板100を積層させ、別のベース基板100′を積層させた後、所定の画像工程を行って外層回路パターンを形成する(S500)。
これをより具体的に説明すると、内層回路パターン130が形成され、接着部材300を介して液晶ポリマー層110が対向配置された2つのベース基板100からなる構造体の上面及び下面のそれぞれに、所定形状の外層回路パターン510が形成される別のベース基板100′を、その別のベース基板の液晶ポリマー層110′を第1のベース基板の内層回路パターン130側に向けて積層する(図5e参照)。
この際、別のベース基板100′は、基礎材料として液晶ポリマー層110′が使用され、液晶ポリマー層110′の片面または両面上に所定厚さの銅箔層120が接着された構造を有するが、液晶ポリマー層110′は、フレキシブル領域が開放された形を有する。
上述したような構造を有する別のベース基板100′を液晶ポリマー層110′が対向する構造でそれぞれ積層させた後、プレスによる加圧工程を行い、接着部材300が介在して機械的強度を維持するリジッド領域と、前記リジッド領域の相互接続を行うと共にカバーレイ成形されたフレキシブル領域が形成された単層または多層のリジッド・フレキシブルプリント回路基板を形成する(図5f参照)。
その後、前記リジッド・フレキシブルプリント回路基板の層間電気的接続を行うビアホール400を形成する(図5g参照)。
この際、前記ビアホール400の形成は、スピンドル速度 70,000〜120,000RPM、送り速度 1.5〜3.0m/min、戻し速度 11〜13m/minで行われるが、前記液晶ポリマーは、ポリイミド樹脂より寸法安定性が良く、熱膨張性が低くて優れたレーザードリル加工性を示し、側壁の劣化を防止するために加工時に短く多数回行うことが好ましい。
上述したように単層または多層の構造で形成されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板に対するビアホール400の形成を行った後、前記形成されたビアホール400に対するホールメッキを行うと同時に、所定形状の外層回路パターンが形成されるべきメッキ層500を形成し(図5h参照)、メッキ層500に対するマスキング工程を行い、所定形状の外層回路パターン510を形成する(図5i参照)。
ここで、メッキ層500に所定形状の外層回路パターン510を形成する過程は、図4bを参照して上述した内容と同一なので、その詳細な説明を省略する。
上述したように所定形状の外層回路パターン510を形成した後、前記形成された外層回路パターン510の中でもフレキシブル領域に形成された外層回路パターン510′に対して前記液晶ポリマーを用いたカバーレイ200′成形する(S600)。
この際、フレキシブル領域に対するカバーレイ200′成形のために使用される部材は液晶ポリマーであるが、前記液晶ポリマーを所定の成形環境、より具体的には230〜300℃の成形温度で20〜120分間10〜60kgf/cmで加圧して前記フレキシブル領域に部分的もしくは全面的に付着させる(図5j参照)。
ここで、カバーレイ200′は、上述したような成形温度(約240℃)を有する液晶ポリマーそれ自体を用いてフレキシブル領域に単層から成形することもできるが、所定の接着剤(図示せず)を介して前記フレキシブル領域に多層から成形することもできる。
ここで、接着剤としては、上述したような融点(約240℃)を有する液晶融合体を用いるか、或いはエポキシやアクリルなどを用いることもできる。
すなわち、カバーレイ200′は、連続成形工程によるフレキシブル部位の層間接合を防止するために、上述したような融点(約240℃)より高い融点(275℃)を有する液晶ポリマーをカバーレイ基材として用い、上述したような融点(約240℃)を有する液晶ポリマーを接着剤として用いた多層構造で成形することもできる。
また、カバーレイ200′は、エポキシまたはアクリル系接着剤(図示せず)を介してより低い温度、より具体的には120〜150℃の成形温度で20〜120分間10〜60kgf/cmで加圧して前記フレキシブル領域に部分的もしくは全面的に付着させることもできる。
上述したような過程によって形成された外層回路パターン510に対するカバーレイ200′を施した後、半田付け工程から前記外層回路パターン510を保護するためのソルダレジストマスク用インクを塗布することによりレジストマスク600を形成し、図5k及び図5lに示されているように、液晶ポリマーを用いるレイヤ工程によって最終的なリジッド・フレキシブルプリント回路基板を完成する(S700)。この際、レジストマスク600は、外層回路パターン510を保護し且つ半田付け工程で外層回路パターン510の間に半田ブリッジ現象を防止する役割を行う。
ここで、図5kは、基礎材料としての液晶ポリマー層110と、その液晶ポリマー層110の片面に形成された銅箔層120とからなる液晶ポリマー銅張積層板をベース基板100として用いて製作されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の断面図である。リジッド・フレキシブルプリント回路基板は、液晶ポリマー層110と、その液晶ポリマー層110の片面に接着され内層回路パターン130が形成された銅箔層120とからなる第1のベース基板100と、その第1のベース基板100のフレキシブル領域に形成された内層回路パターン130を被覆する第1のカバーレイ200と、カバーレイ成形された2つの第1のベース基板100を相互対向する構造で接着させる接着部材300と、その接着部材300を介して積層された2つの第1のベース基板100からなる構造体の上面と下面にそれぞれ積層され、所定形状の外層回路パターン510が形成された第2のベース基板100′と、その第2のベース基板100′のフレキシブル領域に形成された外層回路パターン510を被覆する第2のカバーレイ200′と、半田付け工程から外層回路パターン510を保護するソルダマスク600とを含む。
また、図5lは基礎材料としての液晶ポリマー層110と、その液晶ポリマー層110の両面に形成された銅箔層120とからなる液晶ポリマー銅張積層板をベース基板100として用いて製作されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の断面図であり、第1のベース基板に、液晶ポリマー層110の両面に形成された銅箔層120からなるベース基板を用いた以外は、図5kの場合と同様の構造を有する。
ここで、上述した本発明では、好適な実施例を参照して説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者は、特許請求の範囲に記載の本発明の思想及び領域から逸脱することなく、本発明を様々に修正及び変更することができることを理解できよう。
従来のポリイミドフィルムを用いた部分コーティング法によってカバーレイ成形されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板を構成するフレキシブル領域の配置図である。 従来のポリイミドフィルムを用いた全面コーティング法によってカバーレイ成形されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板を構成するフレキシブル領域の配置図である。 従来のポリイミドフィルムを用いたカバーレイ成形されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の模式断面図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造流れ図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。 本発明に係る液晶ポリマーを用いたオールレイヤ工程によって製作されるリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造工程図である。
符号の説明
100、100′ ベース基板、
110、110′ 液晶ポリマー層、
120、120′ 銅箔層、
130、130′ 内層回路パターン、
200、200′ カバーレイ、
300 接着部材、
400 ビアホール、
500 メッキ層、
510 外層回路パターン、
600 レジストマスク。

Claims (14)

  1. 液晶ポリマー層と、前記液晶ポリマー層の片面または両面に接着された銅箔層とからなる多数のベース基板を用意する段階と、
    前記ベース基板を構成する銅箔層に画像形成を行い、内層回路パターンを形成する段階と、
    前記内層回路パターンが形成されたベース基板のフレキシブル領域に液晶ポリマーを用いたカバーレイ成形を行う段階と、
    前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された接着部材を介して液晶ポリマー層が対向するように、前記カバーレイ成形された2つのベース基板を積層する段階と、
    前記接着部材を介して積層された2つのベース基板からなる構造体の上面及び下面のそれぞれに、前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された液晶ポリマー層を有する別のベース基板を、液晶ポリマー層を前記内層回路パターン側に向けて積層して加圧する段階と、
    前記別のベース基板を構成する銅箔層に画像形成を行い、外層回路パターンを形成する段階と、
    前記外層回路パターンが形成された別のベース基板のフレキシブル領域に液晶ポリマーを用いたカバーレイ成形を行う段階と、
    半田付け工程から前記外層回路パターンを保護するソルダレジストマスク用インクを塗布してソルダマスクを形成する段階とを含むことを特徴とするリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  2. 前記内層回路パターンを形成する段階は、
    前記ベース基板を構成する銅箔層上に感光性ドライフィルムを圧着させる段階と、
    前記ドライフィルム上に、所定形状の内層回路パターンが形成されたアートワークフィルムを密着させる段階と、
    前記アートワークフィルムを介した紫外線照射を行い、前記感光性ドライフィルムに対する硬化処理を行う段階と、
    前記硬化処理された感光性ドライフィルムに対する現像を行い、硬化処理された部分を除いた残りの部分に存在する感光性ドライフィルムを溶解させて銅箔層を露出させる段階と、
    前記硬化処理されたドライフィルムをエッチングレジストとして用い、前記露出させた銅箔層を除去する段階と、
    前記エッチングレジストとして用いられたドライフィルムを除去して銅箔層上に所定形状の内層回路パターンを形成する段階とを含んでなることを特徴とする請求項1記載のプリント回路基板の製造方法。
  3. 前記内層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
    所定の成形温度の下で前記液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に単層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  4. 前記内層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
    所定の成形温度の下で接着剤を介して液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に多層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  5. 前記接着剤が液晶ポリマー、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂のいずれか一つであることを特徴とする請求項4記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  6. 前記カバーレイは、内層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に部分的に付着されることを特徴とする請求項3または4記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  7. 前記カバーレイは、内層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に全面的に付着されることを特徴とする請求項3または4記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  8. 前記内層回路パターンの形成されたベース基板を接触させる接着部材が液晶ポリマーであることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  9. 前記外層回路パターンを形成する段階は、
    前記積層されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の層間電気的接続を行うビアホールを形成する段階と、
    前記形成されたビアホールに対するホールメッキを施すと共に、所定形状の外層回路パターンが形成されるべきメッキ層を形成する段階と、
    前記メッキ層に感光性ドライフィルムを圧着させる段階と、
    前記ドライフィルム上に、所定形状の層回路パターンが形成されたアートワークフィルムを密着させる段階と、
    前記アートワークフィルムを介した紫外線照射を行い、前記感光性ドライフィルムに対する硬化処理を行う段階と、
    前記硬化処理された感光性ドライフィルムに対する現像を行い、硬化処理された部分を除いた残りの部分に存在する感光性ドライフィルムを溶解させてメッキ層を露出させる段階と、
    前記硬化処理されたドライフィルムをエッチングレジストとして用い、前記露出させたメッキ層を除去する段階と、
    前記エッチングレジストとして用いられたドライフィルムを除去し、メッキ層上に所定形状の外層回路パターンを形成する段階とを含んでなることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  10. 前記外層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
    所定の成形温度の下で前記液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に単層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  11. 前記外層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
    所定の成形温度の下で接着剤を介して前記液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に多層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  12. 前記接着剤が液晶ポリマー、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂のいずれか一つであることを特徴とする請求項11記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  13. 前記カバーレイは、外層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に部分的に付着されることを特徴とする請求項10または11記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
  14. 前記カバーレイは、外層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に全面的に付着されることを特徴とする請求項10または11記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
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