JP4038206B2 - リジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1に示すように、ポリイミド層11と銅箔層12からなるポリイミド銅張積層板10の銅箔層12に対するマスキング工程を行い、所定形状の内層回路パターン(図示せず)を形成する。
110、110′ 液晶ポリマー層、
120、120′ 銅箔層、
130、130′ 内層回路パターン、
200、200′ カバーレイ、
300 接着部材、
400 ビアホール、
500 メッキ層、
510 外層回路パターン、
600 レジストマスク。
Claims (14)
- 液晶ポリマー層と、前記液晶ポリマー層の片面または両面に接着された銅箔層とからなる多数のベース基板を用意する段階と、
前記ベース基板を構成する銅箔層に画像形成を行い、内層回路パターンを形成する段階と、
前記内層回路パターンが形成されたベース基板のフレキシブル領域に液晶ポリマーを用いたカバーレイ成形を行う段階と、
前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された接着部材を介して液晶ポリマー層が対向するように、前記カバーレイ成形された2つのベース基板を積層する段階と、
前記接着部材を介して積層された2つのベース基板からなる構造体の上面及び下面のそれぞれに、前記フレキシブル領域に対応する部分が開放された液晶ポリマー層を有する別のベース基板を、液晶ポリマー層を前記内層回路パターン側に向けて積層して加圧する段階と、
前記別のベース基板を構成する銅箔層に画像形成を行い、外層回路パターンを形成する段階と、
前記外層回路パターンが形成された別のベース基板のフレキシブル領域に液晶ポリマーを用いたカバーレイ成形を行う段階と、
半田付け工程から前記外層回路パターンを保護するソルダレジストマスク用インクを塗布してソルダマスクを形成する段階とを含むことを特徴とするリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記内層回路パターンを形成する段階は、
前記ベース基板を構成する銅箔層上に感光性ドライフィルムを圧着させる段階と、
前記ドライフィルム上に、所定形状の内層回路パターンが形成されたアートワークフィルムを密着させる段階と、
前記アートワークフィルムを介した紫外線照射を行い、前記感光性ドライフィルムに対する硬化処理を行う段階と、
前記硬化処理された感光性ドライフィルムに対する現像を行い、硬化処理された部分を除いた残りの部分に存在する感光性ドライフィルムを溶解させて銅箔層を露出させる段階と、
前記硬化処理されたドライフィルムをエッチングレジストとして用い、前記露出させた銅箔層を除去する段階と、
前記エッチングレジストとして用いられたドライフィルムを除去して銅箔層上に所定形状の内層回路パターンを形成する段階とを含んでなることを特徴とする請求項1記載のプリント回路基板の製造方法。 - 前記内層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
所定の成形温度の下で前記液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に単層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記内層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
所定の成形温度の下で接着剤を介して液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に多層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記接着剤が液晶ポリマー、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂のいずれか一つであることを特徴とする請求項4記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
- 前記カバーレイは、内層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に部分的に付着されることを特徴とする請求項3または4記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
- 前記カバーレイは、内層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に全面的に付着されることを特徴とする請求項3または4記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
- 前記内層回路パターンの形成されたベース基板を接触させる接着部材が液晶ポリマーであることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
- 前記外層回路パターンを形成する段階は、
前記積層されたリジッド・フレキシブルプリント回路基板の層間電気的接続を行うビアホールを形成する段階と、
前記形成されたビアホールに対するホールメッキを施すと共に、所定形状の外層回路パターンが形成されるべきメッキ層を形成する段階と、
前記メッキ層に感光性ドライフィルムを圧着させる段階と、
前記ドライフィルム上に、所定形状の外層回路パターンが形成されたアートワークフィルムを密着させる段階と、
前記アートワークフィルムを介した紫外線照射を行い、前記感光性ドライフィルムに対する硬化処理を行う段階と、
前記硬化処理された感光性ドライフィルムに対する現像を行い、硬化処理された部分を除いた残りの部分に存在する感光性ドライフィルムを溶解させてメッキ層を露出させる段階と、
前記硬化処理されたドライフィルムをエッチングレジストとして用い、前記露出させたメッキ層を除去する段階と、
前記エッチングレジストとして用いられたドライフィルムを除去し、メッキ層上に所定形状の外層回路パターンを形成する段階とを含んでなることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記外層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
所定の成形温度の下で前記液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に単層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記外層回路パターンが形成されたベース基板に対するカバーレイ成形段階は、
所定の成形温度の下で接着剤を介して前記液晶ポリマーを真空加圧して前記フレキシブル領域に多層形状に付着させることを特徴とする請求項1記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。 - 前記接着剤が液晶ポリマー、エポキシ樹脂及びアクリル樹脂のいずれか一つであることを特徴とする請求項11記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
- 前記カバーレイは、外層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に部分的に付着されることを特徴とする請求項10または11記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
- 前記カバーレイは、外層回路パターンが形成されたフレキシブル領域に全面的に付着されることを特徴とする請求項10または11記載のリジッド・フレキシブルプリント回路基板の製造方法。
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