JP2002280733A - プリント基板の製造方法 - Google Patents

プリント基板の製造方法

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JP2002280733A
JP2002280733A JP2001078732A JP2001078732A JP2002280733A JP 2002280733 A JP2002280733 A JP 2002280733A JP 2001078732 A JP2001078732 A JP 2001078732A JP 2001078732 A JP2001078732 A JP 2001078732A JP 2002280733 A JP2002280733 A JP 2002280733A
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JP
Japan
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substrate
via hole
resin film
conductive paste
conductor pattern
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Application number
JP2001078732A
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English (en)
Inventor
Kazuki Kadooka
一樹 角岡
Yasutaka Kamiya
康孝 神谷
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 層間接続時にビアホール内に空気がボイドと
して残り接続信頼性が低下することを防止することが可
能なプリント基板の製造方法を提供すること。 【解決手段】 ビアホール24を形成した片面導体パタ
ーンフィルム21と、片面導体パターンフィルム31と
を積層し、これを加熱プレスしてプリント基板100を
得る。そして、プリント基板100のビアホール24上
に導電ペースト50を配置し、これを加熱して導体パタ
ーン22と導体パターン32とを接続する。このとき、
ビアホール24を径が0.5mm以上であり、導電ペー
スト50が流入する樹脂フィルム部の深さDが100μ
m以下となるように形成することにより、ビアホール2
4内に空気がボイドとして残ることを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板の製
造方法に関し、特に、複数の導体パターン層の層間接続
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、導体パターンを形成したプリ
ント基板上に、樹脂フィルムの片面に導体パターンを形
成した所謂フレキシブルプリント基板を積層し、フレキ
シブルプリント基板に設けた貫通孔上に半田ペースト等
の層間接続材料を配置した後、これを加熱して半田ペー
スト等の層間接続材料を孔内に流入させ、前記両導体パ
ターン間を電気的に接続する複数層の導体パターン層を
有するプリント基板の製造方法が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術では、層間接続時に、フレキシブルプリント基
板の貫通孔内に上方より半田ペースト等の層間接続材料
が流入するため、孔内部の空気が抜けずにボイドとして
残り、接続不良を引き起こす場合があるという不都合を
生じていた。
【0004】この対策として、実開昭61−19016
9号公報に記載の考案では、フレキシブルプリント基板
の下方に配置されるプリント基板の導体パターンのう
ち、フレキシブルプリント基板の貫通孔の下方に位置す
る部分の一部に切欠を設け、この切欠から空気を排出す
るプリント基板が開示されている。
【0005】ところが、接続箇所が基板中央部等の場合
には、この切欠けから排出される空気の排出経路が確保
し難く、ボイドによる接続不良が発生し、層間接続の接
続信頼性が低いという問題があった。
【0006】本発明は上記点に鑑みてなされたもので、
層間接続時に接続のための孔内に空気がボイドとして残
り接続信頼性が低下することを防止することが可能なプ
リント基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明では、絶縁基材(33)の少
なくとも片側表面に導体パターン(32)が形成された
第1の基板(31)と、樹脂フィルム(23)の片側表
面のみに導体パターン(22)が形成され、かつ所望の
位置にビアホール(24)を有する第2の基板(21)
とを、第1の基板(31)の導体パターン(32)形成
面と、第2の基板(21)の樹脂フィルム(23)が表
面をなしている面とが向かい合うように積層する工程
と、第2の基板(21)のビアホール(24)上に導電
ペースト(50)を配置する工程と、導電ペースト(5
0)を加熱してビアホール(24)内に流入させ、第1
の基板(31)の導体パターン(32)と第2の基板
(21)の導体パターン(22)とを電気的に接続する
工程とを備えるプリント基板の製造方法であって、ビア
ホール(24)は、導電ペースト(50)が流入すると
きには、径が0.5mm以上で、かつ前記導電ペースト
(50)が流入する樹脂フィルム部の深さ(D)が10
0μm以下となるように形成されていることを特徴とし
ている。
【0008】これによると、第1の基板(31)の導体
パターン(32)と第2の基板(21)の導体パターン
(22)とを接続する工程において、導電ペースト(5
0)は、径が0.5mm以上であり、樹脂フィルム(2
3)がビアホール(24)の側壁を構成している部分の
深さ(D)が100μm以下であるビアホール(24)
内に流入する。このように、ビアホール(24)径が大
きく、流入深さ(D)が浅ければ、導電ペースト(5
0)流入時に、ビアホール(24)内から空気が抜けず
にボイドとして残ることはない。従って、接続不良を引
き起こすこともなく、層間接続の接続信頼性が低下する
ことを防止できる。
【0009】また、請求項2に記載の発明のように、積
層工程において、樹脂フィルム(23)の厚さが5〜1
00μmである第2の基板(21)を積層することによ
り、ビアホール(24)の導電ペースト(50)が流入
する樹脂フィルム部の深さ(D)を100μm以下とす
ることができる。
【0010】また、請求項3に記載の発明のように、ビ
アホール(24)内に導電ペースト(50)を流入する
前に、樹脂フィルム(23)のビアホール(24)を有
する部位の厚さが100μm以下となるように第2の基
板(21)を塑性変形させることにより、ビアホール
(24)の導電ペースト(50)が流入する樹脂フィル
ム部の深さ(D)を100μm以下とすることができ
る。
【0011】また、請求項6に記載の発明のように、導
電ペースト(50)をビアホール(24)上に配置する
前に、ビアホール(24)底部に導電部材(71)を配
置することにより、ビアホール(24)の導電ペースト
(50)が流入する樹脂フィルム部の深さ(D)を10
0μm以下とすることができる。
【0012】また、請求項4に記載の発明では、請求項
3に記載の発明において、樹脂フィルム(23)は、熱
可塑性樹脂によって形成されていることを特徴としてい
る。
【0013】これによると、加熱しつつ加圧する等によ
り、第2の基板(21)を容易に塑性変形させることが
できる。
【0014】また、請求項5に記載の発明では、第1の
基板(31)の絶縁基材(33)と第2の基板(21)
の樹脂フィルム(23)とは同一の熱可塑性樹脂からな
り、第1の基板(31)と第2の基板(21)とを積層
する積層工程後に、積層した基板両面から加圧しつつ加
熱することにより、第1の基板(31)および第2の基
板(21)相互の接着を行なうことを特徴としている。
【0015】これによると、第1の基板(31)の絶縁
基材(33)と第2の基板(21)の樹脂フィルム(2
3)とを接着し易い。従って、両基板(31、21)間
を確実に接着することができる。
【0016】また、請求項7に記載の発明では、絶縁基
材(33)の少なくとも片側表面に導体パターン(3
2)が形成された第1の基板(31)の導体パターン
(32)形成面に、熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルム
(223)の両側表面に導体パターン(222a、22
2b)が形成され、かつ所望の位置にビアホール(22
4)を有する第2の基板(221)を積層する工程と、
この積層工程後に、積層した基板両面から加圧しつつ加
熱することにより、ビアホール(224)の径が0.5
mm以上であり、かつ樹脂フィルム(223)のビアホ
ール(224)を有する部位の厚さが100μm以下と
なるように第2の基板(221)を塑性変形させる工程
と、第2の基板(221)のビアホール(224)上に
導電ペースト(50)を配置する工程と、導電ペースト
(50)を加熱してビアホール(224)内に流入さ
せ、第1の基板(31)の導体パターン(32)と第2
の基板(221)の導体パターン(222b)とを電気
的に接続する工程とを備えることを特徴としている。
【0017】これによると、第1の基板(31)の導体
パターン(32)と第2の基板(221)の導体パター
ン(222b)とを接続する工程において、導電ペース
ト(50)は、径が0.5mm以上であり、樹脂フィル
ム(223)がビアホール(224)の側壁を構成して
いる部分の深さ(D)が100μm以下であるビアホー
ル(224)内に流入する。このように、ビアホール
(224)径が大きく、流入深さ(D)が浅ければ、導
電ペースト(50)流入時に、ビアホール(224)内
から空気が抜けずにボイドとして残ることはない。従っ
て、接続不良を引き起こすこともなく、層間接続の接続
信頼性が低下することを防止できる。
【0018】また、第2の基板(221)は、熱可塑性
樹脂フィルム(223)の両面に導体パターン(222
a、222b)を形成している。従って、加熱しつつ加
圧することにより、導体パターン(222a)が樹脂フ
ィルム(223)中に押し込まれ、第2の基板(22
1)を導体(222a)の厚さ分容易に塑性変形するこ
とができる。
【0019】また、請求項8に記載の発明では、請求項
7に記載の発明において、第1の基板(31)の絶縁基
材(33)と第2の基板(221)の樹脂フィルム(2
23)とは同一の熱可塑性樹脂からなり、塑性変形工程
時に、第1の基板(31)および前記第2の基板(22
1)相互の接着を行なうことを特徴としている。
【0020】これによると、塑性変形工程時に、第1の
基板(31)の絶縁基材(33)と第2の基板(22
1)の樹脂フィルム(223)とを接着し易い。従っ
て、両基板(31、221)間を確実に接着することが
できる。
【0021】また、請求項9に記載の発明では、絶縁基
材(33)の少なくとも片側表面に導体パターン(3
2)が形成された第1の基板(31)と、樹脂フィルム
(23)の片側表面のみに導体パターン(22)が形成
され、かつ所望の位置にビアホール(24)を有する第
2の基板(21)とを、第1の基板(31)の導体パタ
ーン(32)形成面と、第2の基板(21)の樹脂フィ
ルム(23)が表面をなしている面とが向かい合うよう
に積層する工程と、第2の基板(21)のビアホール
(24)上に導電ペースト(50)を配置する工程と、
導電ペースト(50)を加熱して前記ビアホール(2
4)内に流入させ、第1の基板(31)の導体パターン
(32)と第2の基板(21)の導体パターン(22)
とを電気的に接続する工程とを備えるプリント基板の製
造方法であって、ビアホール(24)上に導電ペースト
(50)を配置する前に、ビアホール(24)内のビア
ホール(24)軸方向に、導電ペースト(50)に対し
濡れ性を有する金属材料にて形成されたピン部材(8
0)を配置することを特徴としている。
【0022】これによると、第1の基板(31)の導体
パターン(32)と第2の基板(21)の導体パターン
(22)とを接続する工程において、導電ペースト(5
0)は、ビアホール(24)内に配置されたピン部材
(80)に沿ってビアホール(24)内に流入する。こ
のとき、ビアホール(24)内の空気は、ピン部材(8
0)から離れた空間よりビアホール(24)外に抜け
る。従って、ビアホール(24)内から空気が抜けずに
ボイドとして残ることはない。このようにして、接続不
良を引き起こすこともなく、層間接続の接続信頼性が低
下することを防止できる。
【0023】なお、上記各手段に付した括弧内の符号
は、後述する実施形態記載の具体的手段との対応関係を
示す。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
基づいて説明する。
【0025】図1は、本実施形態におけるプリント基板
の製造工程を示す工程別断面図である。
【0026】図1(a)において、21は樹脂フィルム
23の片面に貼着された導体箔(本例では厚さ35μm
の銅箔)をエッチングによりパターン形成した導体パタ
ーン22を有する片面導体パターンフィルムである。本
例では、樹脂フィルム23としてポリエーテルエーテル
ケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂
35〜65重量%とからなる厚さ75μmの熱可塑性樹
脂フィルムを用いている。
【0027】また、導体パターンを形成する材料として
は、銅以外に銀、アルミニウム、ニッケル、金、ニッケ
ル金合金等を用いることもできる。樹脂フィルム23と
しては、接着剤を予めコーティングした熱硬化性樹脂フ
ィルム(ポリイミドフィルム等)を用いてもよい。
【0028】図1(a)に示すように、導体パターン2
2の形成が完了すると、次に、ドリル加工により、図1
(b)に示すように、貫通孔状の直径1.0mmのビア
ホール24を形成する。ビアホール24の形成には、プ
レス加工や炭酸ガスレーザ等によるレーザ加工により行
なうことも可能である。ただし、レーザ加工による場合
には、導体パターン22形成時に、ビアホール24に対
応する位置の導体パターンを予め除去しておく必要があ
る。
【0029】図1(b)に示すように、ビアホール24
の形成が完了すると、次に、図1(c)に示すように、
ビアホール24を形成した片面導体パターンフィルム2
1を導体パターン22が設けられた側を上側として、ビ
アホールを有しない片面導体パターンフィルム31の導
体パターン32が設けられた面上に積層する。すなわ
ち、片面導体パターンフィルム31の導体パターン32
形成面と片面導体パターンフィルム21の樹脂フィルム
23が表面をなしている面とが向かい合うように積層す
る。
【0030】ここで、片面導体パターンフィルム31に
は、図1(a)に示す工程と同様に、エッチングにより
絶縁基材である樹脂フィルム33上に導体パターン32
が形成されている。本例では、樹脂フィルム33とし
て、樹脂フィルム23と同一のポリエーテルエーテルケ
トン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂3
5〜65重量%とからなる厚さ75μmの熱可塑性樹脂
フィルムを用いている。
【0031】片面導体パターンフィルム31は、本実施
形態における第1の基板であり、片面導体パターンフィ
ルム21は、本実施形態における第2の基板である。
【0032】また、積層された片面導体パターンフィル
ム21の上方側には、導体パターン22を覆うようにレ
ジスト膜であるカバーレイヤー36を積層する。このカ
バーレイヤー36には、導体パターン22の後述する導
電ペーストを配置する位置に対応して、導体パターン2
2を露出するように開口38が穴あけ加工されている。
本例では、カバーレイヤー36には、樹脂フィルム2
3、33と同じ材料であるポリエーテルエーテルケトン
樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂35〜
65重量%とからなる樹脂フィルムを用いている。
【0033】図1(c)に示すように片面導体パターン
フィルム31、片面導体パターンフィルム21およびカ
バーレイヤー36を積層したら、これらの上下両面から
加熱プレス機により加熱しながら加圧する。本例では、
200〜350℃の温度に加熱し0.1〜10MPaの
圧力で加圧した。
【0034】なお、加熱プレス機により加熱しながら加
圧するときには、図示しない加熱プレス機の型面とカバ
ーレイヤー36との間に、図示しない緩衝材を配置して
いる。緩衝材としては、ステンレス繊維からなるニット
状のシート部材とこのシート部材の基板と接する側の面
にポリイミドフィルムとを積層したシートを用いてい
る。
【0035】これにより、図1(d)に示すように、各
片面導体パターンフィルム21、31およびカバーレイ
ヤー36相互が接着される。このとき、樹脂フィルム2
3、33およびカバーレイヤー36が熱融着して一体化
し、2層の導体パターン層を有するプリント基板100
が得られる。樹脂フィルム23、33とカバーレイヤー
36とは同じ熱可塑性樹脂材料によって形成されている
ので、加熱により軟化し加圧されることで確実に一体化
することができる。
【0036】図1(d)に示すように、プリント基板1
00の形成が完了すると、次に、図1(e)に示すよう
に、プリント基板100のビアホール24上を含む導体
パターン22が露出した部位に、導電ペースト50を配
置する。導電ペースト50は、鉛錫合金半田金属粒子
に、バインダ樹脂や有機溶剤を加え、これを混練しペー
スト化したものである。導電ペースト50に混練する金
属粒子としては、錫や錫銀合金等の金属粒子を用いても
よい。
【0037】導電ペースト50は、メタルマスクを用い
たスクリーン印刷機により、片面導体パターンフィルム
21の導体パターン22の露出部に印刷配置される。導
体パターン22上への導電ペースト50の配置は、本例
ではスクリーン印刷機を用いたが、確実に配置ができる
のであれば、ディスペンサ等を用いる他の方法も可能で
ある。
【0038】図1(e)に示すように、導電ペースト5
0の印刷配置が完了すると、プリント基板100上の所
定位置に表面実装部品60をマウントし、230℃〜2
50℃の温度に加熱する。これにより、図1(f)に示
すように、表面実装部品60が半田付けされるととも
に、ビアホール24上に配置された導電ペースト50は
溶融してビアホール24内に流入し、導体パターン22
と導体パターン32とを電気的に接続したプリント基板
101が得られる。
【0039】導電ペースト50がビアホール24内に流
入するとき、導電ペースト50は、ビアホール24の側
壁を構成している樹脂フィルム部との濡れ性が良好でな
いが、ビアホール24の直径が1.0mmであり、樹脂
フィルム部のビアホール24軸方向の長さ(導電ペース
ト50が流入する樹脂フィルム部の深さD)が約75μ
mであるので、ビアホール24内の空気が抜けずにボイ
ドとして残り、接続不良を引き起こすことはない。
【0040】本発明者らは、鋭意検討を実施した結果、
ビアホール24の径が0.5mm以上でかつ導電ペース
ト50が流入する樹脂フィルム部の深さDが100μm
以下であれば、ビアホール24内から空気が抜けずにボ
イドとして残ることがないことを確認した。
【0041】このとき、導電ペースト50が流入する樹
脂フィルム部の深さDを100μm以下とするために
は、片面導体パターンフィルム21の樹脂フィルム23
として、厚さが5〜100μmの樹脂フィルムを採用す
ることができる。100μmより厚い樹脂フィルム23
を採用すると、導電ペースト50が流入する樹脂フィル
ム部の深さDを100μm以下とすることができない。
また、5μm未満の厚さの樹脂フィルム23を採用する
と、製造時のハンドリング性に劣り安定したプリント基
板の製造ができないという不都合が発生する。
【0042】なお、上述の製造工程において、図1
(c)に示す工程が本実施形態における積層工程であ
り、図1(e)に示す工程が本実施形態における導電ペ
ーストの配置工程であり、図1(f)に示す工程が本実
施形態における電気的接続工程である。
【0043】上述のプリント基板の製造方法によれば、
ビアホール24内から空気が抜けずにボイドとして残る
ことはない。従って、接続不良を引き起こすこともな
く、層間接続の接続信頼性が低下することを防止でき
る。
【0044】また、導体パターン22と導体パターン3
2との層間接続を、表面実装部品60の実装半田付けと
同時に行なうことができる。
【0045】さらに、1回の加熱プレスにより片面導体
パターンフィルム21、31およびカバーレイヤー36
相互の接着を一括して行なうことができる。従って、加
工工程が複雑でなく、加工時間を短縮することができ、
製造コストを低減することが可能となる。
【0046】(他の実施形態)上記一実施形態では、導
電ペースト50が流入する樹脂フィルム部の深さDを1
00μm以下とするために、片面導体パターンフィルム
21の樹脂フィルム23として、厚さが75μmの樹脂
フィルムを採用したが、加熱プレスする工程において、
加熱プレス機の型面に凸部を設け、図2もしくは図3に
示すように、導体パターン22と導体パターン32との
間の樹脂フィルム部の深さDが100μm以下となるよ
うに塑性変形させるものであってもよい。なお、これら
の場合には、樹脂フィルムには熱可塑性樹脂を採用する
ことが好ましい。また、図2に示すように塑性変形させ
る場合には、加熱プレス機の型面との間に緩衝材を用い
ない方がよい。
【0047】また、図4(a)に示すように、第2の基
板である片面導体パターンフィルム121に、導体パタ
ーン122形成時に設けた孔124aより径の大きな孔
124bをレーザビーム等により形成したビアホール1
24を設け、これを上記一実施形態と同様に、片面導体
パターンフィルム31およびカバーレイヤー36と積層
して加熱プレスすることにより、図示しない緩衝材によ
り、図4(b)に示すように、導体パターン122の孔
124a側部分を孔124b内に押し込んで塑性変形さ
せ、導電ペースト50が流入する樹脂フィルム部の実質
的な深さDを100μm以下とするものであってもよ
い。
【0048】また、図5(a)に示すように、第2の基
板として、樹脂フィルム223の両面に導体パターン2
22a、222bを形成するとともにビアホール224
を形成した両面導体パターンフィルム221を採用し、
これを上記一実施形態と同様に、片面導体パターンフィ
ルム31およびカバーレイヤー36と積層して加熱プレ
スすることにより、図5(b)に示すように、導体パタ
ーン222aを上側の樹脂フィルム中に押し込み、導電
ペースト50が流入するビアホール224内の樹脂フィ
ルム部の深さDを100μm以下とするものであっても
よい。
【0049】また、図6(a)に示すように、加熱プレ
スにより形成したプリント基板100のビアホール24
上に導電ペーストを印刷配置する前に、ビアホール24
内に半田ボール70を充填し、これを加熱溶融すること
によって、図6(b)に示すように、ビアホール24の
底部に導電部材である半田層71を形成し、導電ペース
ト50が流入する樹脂フィルム部の実質的な深さDを1
00μm以下とするものであってもよい。
【0050】なお、半田ボール70を溶融するには、そ
れのみのために加熱を行なってもよいし、導電ペースト
50を流入させるときに同時に加熱してもよいし、片面
導体パターンフィルム21、31等の積層時に半田ボー
ル70をビアホール24内に充填し、プリント基板10
0形成時の加熱プレスによる加熱により行なってもよ
い。ただし、加熱プレス時に行なうためには、上記一実
施形態における加熱条件ではなく、加熱温度を半田溶融
温度以上にする必要がある。
【0051】また、上記一実施形態では、導体パターン
22と導体パターン32との電気的接続時に、ビアホー
ル24内から空気が抜けずにボイドとして残ることがな
いように、ビアホール24の直径を1.0mmとし、導
電ペースト50が流入する樹脂フィルム部の深さを約7
5μmとしたが、図7に示すように、ビアホール24内
に導電ペースト50に対し濡れ性を有する金属材料(例
えば、銅、錫等)にて形成したピン部材80を打ち込ん
だ構成であってもよい。
【0052】これによれば、電気的接続工程において、
導電ペースト50は、ビアホール24内に配置されたピ
ン部材80に沿ってビアホール24内に流入する。この
とき、ビアホール24内の空気は、ピン部材80から離
れた空間よりビアホール24外に確実に抜ける。従っ
て、ビアホール24内から空気が抜けずにボイドとして
残ることはない。
【0053】また、上記一実施形態では、樹脂フィルム
23、33およびカバーレイヤー36としてポリエーテ
ルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテル
イミド樹脂35〜65重量%とからなる樹脂フィルムを
用いたが、これに限らず、ポリエーテルエーテルケトン
樹脂とポリエーテルイミド樹脂にフィラを充填したフィ
ルムであってもよいし、ポリエーテルエーテルケトン
(PEEK)もしくはポリエーテルイミド(PEI)を
単独で使用することも可能である。
【0054】さらに樹脂フィルムやカバーレイヤーとし
て、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルフォン
(PES)や熱可塑性ポリイミド、または所謂液晶ポリ
マー等を用いてもよい。あるいは、ポリイミドフィルム
にPEEK、PEI、PEN、PET、PES、熱可塑
性ポリイミド、液晶ポリマーの少なくともいずれかの熱
可塑性樹脂からなる層を積層した構造のものを使用して
もよい。加熱プレスにより接着が可能であり、後工程で
ある半田付け工程等で必要な耐熱性を有する樹脂フィル
ムであれば好適に用いることができる。
【0055】なお、ポリイミドフィルムに熱可塑性樹脂
層を積層したものを用いた場合には、ポリイミドの熱膨
張係数が15〜20ppm程度で、配線として利用され
ることが多い銅の熱膨張係数(17〜20ppm)と近
いため、剥がれや基板の反り等の発生を防止することが
できる。
【0056】また、上記一実施形態において、第1の基
板は片面導体パターンフィルム31であったが、片面導
体リジッド基板であってもよいし、両面基板であっても
よいし、多層基板であってもよい。また、第2の基板で
ある片面導体パターンフィルム21とカバーレイヤー3
6との間に、ビアホール24の径よりも大きな径のビア
ホールを有する片面導体パターンフィルム等を積層し、
プリント基板100、101を多層化するものであって
もよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における一実施形態のプリント基板の概
略の製造工程を示す工程別断面図である。
【図2】他の実施形態におけるプリント基板の概略の製
造工程の一部を示す要部断面図である。
【図3】他の実施形態におけるプリント基板の概略の製
造工程の一部を示す要部断面図である。
【図4】他の実施形態におけるプリント基板の概略の製
造工程の一部を示す要部断面図である。
【図5】他の実施形態におけるプリント基板の概略の製
造工程の一部を示す要部断面図である。
【図6】他の実施形態におけるプリント基板の概略の製
造工程の一部を示す要部断面図である。
【図7】他の実施形態におけるプリント基板の概略の製
造工程の一部を示す要部断面図である。
【符号の説明】
21 片面導体パターンフィルム(第2の基板) 22 導体パターン 23 樹脂フィルム 24 ビアホール 31 片面導体パターンフィルム(第1の基板) 32 導体パターン 33 樹脂フィルム(絶縁基材) 36 カバーレイヤー(レジスト膜) 50 導電ペースト(層間接続材料) 60 表面実装部品 70 半田ボール 71 半田層(導電部材) 80 ピン部材 100、101 多層基板 121 片面導体パターンフィルム(他の実施形態にお
ける第2の基板) 124 ビアホール 221 両面導体パターンフィルム(他の実施形態にお
ける第2の基板) 224 ビアホール D 樹脂フィルム部の深さ
フロントページの続き Fターム(参考) 5E317 AA24 BB12 BB18 CC08 CC13 CC15 CC17 CC25 CD21 CD27 CD32 GG05 GG07 GG16 5E344 AA01 AA15 AA22 BB02 BB04 CC05 CC09 CD02 CD09 CD12 CD38 DD02 DD04 DD06 DD13 EE16 EE21 EE26 5E346 AA05 AA06 AA12 AA15 AA22 AA32 AA43 AA51 BB15 BB16 CC08 CC32 CC33 CC40 EE44 FF18 FF19 FF33 GG15 GG19 GG25 GG28 HH11

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基材(33)の少なくとも片側表面
    に導体パターン(32)が形成された第1の基板(3
    1)と、樹脂フィルム(23)の片側表面のみに導体パ
    ターン(22)が形成され、かつ所望の位置にビアホー
    ル(24)を有する第2の基板(21)とを、前記第1
    の基板(31)の前記導体パターン(32)形成面と、
    前記第2の基板(21)の前記樹脂フィルム(23)が
    表面をなしている面とが向かい合うように積層する工程
    と、 前記第2の基板(21)の前記ビアホール(24)上に
    導電ペースト(50)を配置する工程と、 前記導電ペースト(50)を加熱して前記ビアホール
    (24)内に流入させ、前記第1の基板(31)の前記
    導体パターン(32)と前記第2の基板(21)の前記
    導体パターン(22)とを電気的に接続する工程とを備
    えるプリント基板の製造方法であって、 前記ビアホール(24)は、前記導電ペースト(50)
    が流入するときには、径が0.5mm以上で、かつ前記
    導電ペースト(50)が流入する前記樹脂フィルム部の
    深さ(D)が100μm以下となるように形成されてい
    ることを特徴とするプリント基板の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記積層工程において、前記樹脂フィル
    ム(23)の厚さが5〜100μmである前記第2の基
    板(21)を積層することにより、前記ビアホール(2
    4)の前記導電ペースト(50)が流入する前記樹脂フ
    ィルム部の深さ(D)を100μm以下とすることを特
    徴とする請求項1に記載のプリント基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記ビアホール(24)内に前記導電ペ
    ースト(50)を流入する前に、前記樹脂フィルム(2
    3)の前記ビアホール(24)を有する部位の厚さが1
    00μm以下となるように前記第2の基板(21)を塑
    性変形させることにより、前記ビアホール(24)の前
    記導電ペースト(50)が流入する前記樹脂フィルム部
    の深さ(D)を100μm以下とすることを特徴とする
    請求項1に記載のプリント基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記樹脂フィルム(23)は、熱可塑性
    樹脂によって形成されていることを特徴とする請求項3
    に記載のプリント基板の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記第1の基板(31)の前記絶縁基材
    (33)と前記第2の基板(21)の前記樹脂フィルム
    (23)とは同一の熱可塑性樹脂からなり、前記第1の
    基板(31)と前記第2の基板(21)とを積層する積
    層工程後に、積層した基板両面から加圧しつつ加熱する
    ことにより、前記第1の基板(31)および前記第2の
    基板(21)相互の接着を行なうことを特徴とする請求
    項2または請求項3に記載のプリント基板の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記導電ペースト(50)を前記ビアホ
    ール(24)上に配置する前に、前記ビアホール(2
    4)底部に導電部材(71)を配置することにより、前
    記ビアホール(24)の前記導電ペースト(50)が流
    入する前記樹脂フィルム部の深さ(D)を100μm以
    下とすることを特徴とする請求項1に記載のプリント基
    板の製造方法。
  7. 【請求項7】 絶縁基材(33)の少なくとも片側表面
    に導体パターン(32)が形成された第1の基板(3
    1)の前記導体パターン(32)形成面に、熱可塑性樹
    脂からなる樹脂フィルム(223)の両側表面に導体パ
    ターン(222a、222b)が形成され、かつ所望の
    位置にビアホール(224)を有する第2の基板(22
    1)を積層する工程と、 この積層工程後に、積層した基板両面から加圧しつつ加
    熱することにより、前記ビアホール(224)の径が
    0.5mm以上であり、かつ前記樹脂フィルム(22
    3)の前記ビアホール(224)を有する部位の厚さが
    100μm以下となるように前記第2の基板(221)
    を塑性変形させる工程と、 前記第2の基板(221)の前記ビアホール(224)
    上に導電ペースト(50)を配置する工程と、 前記導電ペースト(50)を加熱して前記ビアホール
    (224)内に流入させ、前記第1の基板(31)の前
    記導体パターン(32)と前記第2の基板(221)の
    前記導体パターン(222b)とを電気的に接続する工
    程とを備えることを特徴とするプリント基板の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 前記第1の基板(31)の前記絶縁基材
    (33)と前記第2の基板(221)の前記樹脂フィル
    ム(223)とは同一の熱可塑性樹脂からなり、前記塑
    性変形工程時に、前記第1の基板(31)および前記第
    2の基板(221)相互の接着を行なうことを特徴とす
    る請求項7に記載のプリント基板の製造方法。
  9. 【請求項9】 絶縁基材(33)の少なくとも片側表面
    に導体パターン(32)が形成された第1の基板(3
    1)と、樹脂フィルム(23)の片側表面のみに導体パ
    ターン(22)が形成され、かつ所望の位置にビアホー
    ル(24)を有する第2の基板(21)とを、前記第1
    の基板(31)の前記導体パターン(32)形成面と、
    前記第2の基板(21)の前記樹脂フィルム(23)が
    表面をなしている面とが向かい合うように積層する工程
    と、 前記第2の基板(21)の前記ビアホール(24)上に
    導電ペースト(50)を配置する工程と、 前記導電ペースト(50)を加熱して前記ビアホール
    (24)内に流入させ、前記第1の基板(31)の前記
    導体パターン(32)と前記第2の基板(21)の前記
    導体パターン(22)とを電気的に接続する工程とを備
    えるプリント基板の製造方法であって、 前記ビアホール(24)上に前記導電ペースト(50)
    を配置する前に、前記ビアホール(24)内の前記ビア
    ホール(24)軸方向に、前記導電ペースト(50)に
    対し濡れ性を有する金属材料にて形成されたピン部材
    (80)を配置することを特徴とするプリント基板の製
    造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100822109B1 (ko) * 2005-09-02 2008-04-15 혼하이 프리시젼 인더스트리 컴퍼니 리미티드 회로기판 어셈블리 및 그를 이용하는 전자장치
US7453045B2 (en) 2004-07-26 2008-11-18 Samsung Electro-Mechanics Co. Ltd Rigid-flexible PCB having coverlay made of liquid crystalline polymer and fabrication method thereof

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US7453045B2 (en) 2004-07-26 2008-11-18 Samsung Electro-Mechanics Co. Ltd Rigid-flexible PCB having coverlay made of liquid crystalline polymer and fabrication method thereof
KR100822109B1 (ko) * 2005-09-02 2008-04-15 혼하이 프리시젼 인더스트리 컴퍼니 리미티드 회로기판 어셈블리 및 그를 이용하는 전자장치

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