JP4003556B2 - プリント基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント基板およびプリント基板の製造方法に関し、特に、複数の導体パターン層の層間接続構造および層間接続方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、導体パターンを形成したプリント基板上に、樹脂フィルムの片面に導体パターンを形成した所謂フレキシブルプリント基板を積層し、フレキシブルプリント基板に設けた貫通ビアホール上に半田ペースト等の層間接続材料を配置した後、これを加熱して半田ペースト等の層間接続材料をビアホール内に流入させ、前記両導体パターン間を電気的に接続する複数層の導体パターン層を有するプリント基板の製造方法が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来技術では、層間接続時に、フレキシブルプリント基板のビアホール内に上方より半田ペースト等の層間接続材料が流入するため、ビアホール内部の空気が抜けずにボイドとして残り、接続不良を引き起こす場合があるという問題がある。
【0004】
本発明者らは、上記ボイド残りの原因について鋭意調査したところ、フレキシブルプリント基板を構成する樹脂フィルムに対し層間接続材料が濡れ難く、ビアホール内の樹脂フィルムが露出した部分にボイドが残りやすいことを見出した。
【0005】
本発明は上記点に鑑みてなされたもので、層間接続時に接続のためのビアホール内に空気がボイドとして残り接続信頼性が低下することを防止することが可能なプリント基板およびプリント基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明のプリント基板の製造方法では、
絶縁基材(33)の少なくとも片側表面に接続端子としての第1のランド(32a)を有する第1の導体パターン(32)が形成された第1の基板(31)と、樹脂フィルム(23)の片側表面のみに接続端子としての第2のランド(22a)を有する第2の導体パターン(22)が形成され、かつビアホール(24)を有する第2の基板(21)とを、第1の基板(31)の第1の導体パターン(32)形成面と、第2の基板(21)の樹脂フィルム(23)が表面をなしている面とが向かい合うように積層し、さらに第2の導体パターン(22)を覆うようにレジスト膜である開口(38)を有するカバーレイヤー(36)を積層する積層工程と、
積層工程の前に、第2の基板(21)の樹脂フィルム(23)側からレーザで穴あけし、第2のランド(22a)が底面の一部をなし残部が貫通するように、ビアホール(24)を貫通孔として形成するビアホールの形成工程と、
第1の基板(31)、第2の基板(21)、およびカバーレイヤー(36)を積層する積層工程後に、積層した基板両面から加圧しつつ加熱することにより、第1の基板(31)および第2の基板(21)相互の接着を行なうとともに、第2の基板(21)およびカバーレイヤー(36)相互の接着を行い、積層した基板両面からの加圧に伴って第2のランド(22a)を第1のランド(32a)方向に押圧して移動させ、第1のランド(32a)と前記第2のランド(22a)とを当接させる接着工程と、
接着工程の後に、第2の基板(21)のビアホール(24)上を含む、カバーレイヤー(36)の開口(38)により第2の導体パターン(22)が露出した部位に層間接続材料(50)を配置する配置工程と、
配置工程の後に、カバーレイヤー(36)上の所定位置に表面実装部品(60)をマウントする工程と、
表面実装部品(60)をマウントする工程の後に、層間接続材料(50)を加熱して、表面実装部品(60)を第2の基板(21)の第2の導体パターン(22)に電気的に接続するとともに、層間接続材料(50)をビアホール(24)内に流入させ、第1の基板(31)の第1のランド(32a)と第2の基板(21)の第2のランド(22a)とを電気的に接続する電気的接続工程とを備えることを特徴としている。
【0007】
これによると、層間接続材料(50)は、ビアホール(24)内において当接している第1のランド(32a)と第2のランド(22a)とを電気的に接続している。したがって、電気的接続部に濡れ性が悪い樹脂フィルム(23)が露出していないのでボイドが残り難い。このようにして、接続不良を引き起こすこともなく、層間接続の接続信頼性が低下することを防止できる。
【0008】
また、電気的接続工程では、第1の導体パターン(32)と第2の導体パターン(22)との層間接続を、表面実装部品(60)の実装電気的接続と同時に行なうことができる。
【0015】
さらに、接着工程では、第1の基板(31)と第2の基板(21)とを接着するときに、第1のランド(32a)と第2のランド(22a)とを当接することができる。
【0016】
また、請求項2に記載の発明のプリント基板の製造方法では、第1のランド(32a)および第2のランド(22a)は、それぞれ矩形状に形成されていることを特徴としている。
【0017】
これによると、ランドが円形状に形成された場合に比較して、導体パターン等の高密度化が可能である。
【0018】
また、請求項3に記載の発明のプリント基板の製造方法では、積層工程では、第2のランド(22a)の少なくとも一辺(22b)は、ビアホール(24)上に形成されており、樹脂フィルム(23)から離設されていることを特徴としている。
【0019】
これによると、第2のランド(22a)の一辺を第1のランド(32a)に当接しやすい。したがって、層間接続の接続信頼性が低下することを確実に防止できる。
【0020】
また、請求項4に記載の発明のプリント基板の製造方法では、ビアホール(24)は略長円形状に形成され、略長円形状の短手方向の長さ(L2)は第2のランド(22a)の前記一辺(22b)の長さより大きいことを特徴としている。
【0021】
これによると、高密度化に適した略長円形状のビアホール(24)内であっても、第2のランド(22a)の一辺を第1のランド(32a)に当接することができる。したがって、層間接続の接続信頼性が低下することを確実に防止できる。
【0022】
なお、上記各手段に付した括弧内の符号は、後述する実施形態記載の具体的手段との対応関係を示す。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
【0024】
図1は、本実施形態におけるプリント基板の製造工程を示す工程別断面図である。
【0025】
図1(a)において、21は樹脂フィルム23の片面に貼着された導体箔(本例では厚さ35μmの銅箔)をエッチングによりパターン形成した導体パターン22を有する片面導体パターンフィルムである。本例では、樹脂フィルム23としてポリエーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂35〜65重量%とからなる厚さ75μmの熱可塑性樹脂フィルムを用いている。
【0026】
また、導体パターンを形成する材料としては、銅以外に銀、アルミニウム、ニッケル、金、ニッケル金合金等を用いることもできる。樹脂フィルム23としては、接着剤を予めコーティングした熱硬化性樹脂フィルム(ポリイミドフィルム等)を用いてもよい。
【0027】
図1(a)に示すように、導体パターン22の形成が完了すると、図1(b)に示すように、樹脂フィルム23側から炭酸ガスレーザを照射してビアホール24を形成する。ビアホール24の形成には、炭酸ガスレーザ以外にエキシマレーザ等が使用可能である。ビアホール24は、レーザビームの照射位置をずらしながら複数回照射することで、図2にも示すように、長円形状の貫通孔として形成されるが、導体パターン22の接続端子としてのランド22aの先端部分を一部底面とするように形成される。なお、図2は、片面導体パターンフィルム21の要部であるビアホール24近傍の平面図である。
【0028】
本例では、図2に示す長円形状のビアホール24の長手方向の長さL1は1.0mm、短手方向の長さL2は0.8mmとしている。また、導体パターン22の矩形状に形成されたランド22aの幅、すなわちランド22aの図中右方側の一辺22bの長さWは0.6mmとしている。
【0029】
したがって、長円形状のビアホール24の短手方向の長さL2はランド22aの一辺22bの長さWより大きく、ランド22aの図中右方側の一辺22bは、ビアホール24上に形成され、樹脂フィルム23からは離設されている。
【0030】
図1(b)に示すように、ビアホール24の形成が完了すると、次に、図1(c)に示すように、ビアホール24を形成した片面導体パターンフィルム21を導体パターン22が設けられた側を上側として、ビアホールを有しない片面導体パターンフィルム31の導体パターン32が設けられた面上に積層する。すなわち、片面導体パターンフィルム31の導体パターン32形成面と片面導体パターンフィルム21の樹脂フィルム23が表面をなしている面とが向かい合うように積層する。
【0031】
ここで、片面導体パターンフィルム31には、図1(a)に示す工程と同様に、エッチングにより絶縁基材である樹脂フィルム33上に導体パターン32が形成されている。本例では、樹脂フィルム33として、樹脂フィルム23と同一のポリエーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂35〜65重量%とからなる厚さ75μmの熱可塑性樹脂フィルムを用いている。
【0032】
図3は、片面導体パターンフィルム31の要部である導体パターン32の接続端子としてのランド32a形成部の平面図である。ランド32aは、片面導体パターンフィルム21、31積層時のビアホール24の位置に対応して、矩形状に形成されている。なお、ランド32aの幅は、ランド22aの幅よりも大きく形成されている。
【0033】
ここで、片面導体パターンフィルム31は本実施形態における第1の基板であり、導体パターン32が本実施形態における第1の導体パターン、ランド32aが本実施形態における第1のランドである。また、片面導体パターンフィルム21は本実施形態における第2の基板であり、導体パターン22が本実施形態における第2の導体パターン、ランド22aが本実施形態における第2のランドである。
【0034】
また、積層された片面導体パターンフィルム21の上方側には、導体パターン22を覆うようにレジスト膜であるカバーレイヤー36を積層する。このカバーレイヤー36には、導体パターン22の後述する導電ペーストを配置する位置に対応して、導体パターン22を露出するように開口38が穴あけ加工されている。本例では、カバーレイヤー36には、樹脂フィルム23、33と同じ材料であるポリエーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂35〜65重量%とからなる樹脂フィルムを用いている。
【0035】
図1(c)に示すように片面導体パターンフィルム31、片面導体パターンフィルム21およびカバーレイヤー36を積層したら、これらの上下両面から加熱プレス機により加熱しながら加圧する。本例では、200〜350℃の温度に加熱し0.1〜10MPaの圧力で加圧した。
【0036】
なお、加熱プレス機により加熱しながら加圧するときには、図示しない加熱プレス機の型面とカバーレイヤー36との間に、図示しない緩衝材を配置している。緩衝材としては、ステンレス繊維からなるニット状のシート部材とこのシート部材の基板と接する側の面にポリイミドフィルムとを積層したシートを用いている。
【0037】
これにより、図1(d)に示すように、各片面導体パターンフィルム21、31およびカバーレイヤー36相互が接着される。このとき、樹脂フィルム23、33およびカバーレイヤー36が熱融着して一体化し、2層の導体パターン層を有するプリント基板100が得られる。樹脂フィルム23、33とカバーレイヤー36とは同じ熱可塑性樹脂材料によって形成されているので、加熱により軟化し加圧されることで確実に一体化することができる。
【0038】
この加熱プレス時には、図示しない緩衝材がビアホール24内に進入する。これにより、導体パターン22のランド22aは下方に押圧され、図4にも示すように、前述したランド22aの一辺22b近傍部分は、下方に移動して導体パターン32のランド32aに当接する。なお、図4は、両片面導体パターンフィルム21、31の積層加熱プレス時の両ランド22a、32aの位置関係を説明するための平面図であり、カバーレイヤー36の図示は省略している。
【0039】
図1(d)に示すように、プリント基板100の形成が完了すると、次に、図1(e)に示すように、プリント基板100のビアホール24上を含む導体パターン22が露出した部位に、層間接続材料でもある導電ペースト50を配置する。導電ペースト50は、鉛錫合金半田金属粒子に、バインダ樹脂や有機溶剤を加え、これを混練しペースト化したものである。導電ペースト50に混練する金属粒子としては、錫や錫銀合金等の金属粒子を用いてもよい。
【0040】
導電ペースト50は、メタルマスクを用いたスクリーン印刷機により、片面導体パターンフィルム21の導体パターン22の露出部に印刷配置される。導体パターン22上への導電ペースト50の配置は、本例ではスクリーン印刷機を用いたが、確実に配置ができるのであれば、ディスペンサ等を用いる他の方法も可能である。
【0041】
図1(e)に示すように、導電ペースト50の印刷配置が完了すると、プリント基板100上の所定位置に表面実装部品60をマウントし、230℃〜250℃の温度に加熱する。これにより、図1(f)に示すように、表面実装部品60が半田付けされるとともに、ビアホール24上に配置された導電ペースト50は溶融してビアホール24内に流入し、ランド22aとランド32aとを電気的に接続したプリント基板101が得られる。
【0042】
導電ペースト50がビアホール24内に流入するとき、導電ペースト50は、ビアホール24の側壁を構成している樹脂フィルム部との濡れ性が良好でないが、ランド22aとランド32aとが当接しているので、両ランド22a、32a間を容易に電気的接続し、この部位にボイドが残り接続不良を引き起こすことはない。
【0043】
なお、上述の製造工程において、図1(c)に示す工程が本実施形態における積層工程であり、図1(d)に示す工程が本実施形態における接着工程、図1(e)に示す工程が本実施形態における層間接続材料の配置工程、図1(f)に示す工程が本実施形態における電気的接続工程である。
【0044】
上述のプリント基板およびその製造方法によれば、ビアホール24内のランド22a、32a間の電気的接続部に、導電ペースト50の濡れ性が悪い樹脂フィルム23が露出していないのでボイドが残り難い。このようにして、接続不良を引き起こすこともなく、層間接続の接続信頼性が低下することを防止できる。
【0045】
また、積層工程では、ランド22aの一辺22bは、ビアホール24上に形成されており、樹脂フィルム23から離設されている。すなわち、ランド22aはビアホール24上に張り出すように形成されている。これにより、接着工程では、ランド22aの一辺22b近傍をランド32aに当接しやすい。
【0046】
また、高密度化に適した長円形状のビアホール24の短手方向の長さL2はランド22aの一辺22bの長さWより大きく、ランド32aの幅は、ランド22aの幅(ランド22aの一辺22bの長さW)よりも大きく形成されている。したがって、積層工程において、ビアホール24の短手方向に位置ずれが発生したとしても、ランド22aとランド32aとを当接しやすい。さらに、導電ペースト50による電気的接続時にもランド22aの一辺22bに隣接する辺を接続に利用しやすく、確実な電気的接続が可能である。
【0047】
また、ランド22a、32aは矩形状に形成されているので、ランドが円形状に形成されている場合に比較して、配線の高密度化が可能である。
【0048】
また、導体パターン22と導体パターン32との層間接続を、表面実装部品60の実装半田付けと同時に行なうことができる。
【0049】
さらに、1回の加熱プレスにより片面導体パターンフィルム21、31およびカバーレイヤー36相互の接着を一括して行なうことができる。また、このときに、ランド22aとランド32aとの当接を同時に行なうことができる。従って、加工工程が複雑でなく、加工時間を短縮することができ、製造コストを低減することが可能となる。
【0050】
(他の実施形態)
上記一実施形態では、樹脂フィルム23、33およびカバーレイヤー36としてポリエーテルエーテルケトン樹脂65〜35重量%とポリエーテルイミド樹脂35〜65重量%とからなる樹脂フィルムを用いたが、これに限らず、ポリエーテルエーテルケトン樹脂とポリエーテルイミド樹脂にフィラを充填したフィルムであってもよいし、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)もしくはポリエーテルイミド(PEI)を単独で使用することも可能である。
【0051】
さらに樹脂フィルムやカバーレイヤーとして、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)や熱可塑性ポリイミド、または所謂液晶ポリマー等を用いてもよい。あるいは、ポリイミドフィルムにPEEK、PEI、PEN、PET、PES、PPS、熱可塑性ポリイミド、液晶ポリマーの少なくともいずれかの熱可塑性樹脂からなる層を積層した構造のものを使用してもよい。
【0052】
また、接着剤を予めコーティングした熱硬化性樹脂フィルムを用いてもよい。例えば、エポキシ樹脂接着剤をコーティングしたポリイミドフィルムを採用してもよい。加熱プレスにより接着が可能であり、後工程である半田付け工程等で必要な耐熱性を有する樹脂フィルムであれば好適に用いることができる。
【0053】
なお、ポリイミドフィルムに熱可塑性樹脂層や接着剤層を積層したものを用いた場合には、ポリイミドの熱膨張係数が15〜20ppm程度で、配線として利用されることが多い銅の熱膨張係数(17〜20ppm)と近いため、剥がれや基板の反り等の発生を防止することができる。
【0054】
また、上記一実施形態では、レジスト膜としてカバーレイヤー36を設けたが、これに限定されるものではない。例えば、接着工程後のプリント基板の表面に液状レジストをパターン形成硬化するものであってもよい。
【0055】
また、上記一実施形態では、ビアホール24は長円形状であったが、高密度化に対応するためであれば、略長円形状であればよい。例えば、角丸矩形状であってもよい。また、高密度化の要求がなければ、例えば、ビアホール形成が容易な円形状等であってもかまわない。
【0056】
また、上記一実施形態において、第1の基板は片面導体パターンフィルム31であったが、片面導体リジッド基板であってもよいし、両面基板であってもよいし、多層基板であってもよい。また、第2の基板である片面導体パターンフィルム21とカバーレイヤー36との間に、ビアホール24よりも長手方向寸法が大きなビアホールを有する片面導体パターンフィルム等を積層し、プリント基板100、101を多層化するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における一実施形態のプリント基板の概略の製造工程を示す工程別断面図である。
【図2】片面導体パターンフィルム21の要部平面図である。
【図3】片面導体パターンフィルム31の要部平面図である。
【図4】片面導体パターフィルム21、31の積層加熱プレス時の位置関係を説明するための平面図である。
【符号の説明】
21 片面導体パターンフィルム(第2の基板)
22 導体パターン(第2の導体パターン)
22a ランド(第2のランド)
22b 一辺(ランド22aの一辺)
23 樹脂フィルム(絶縁層)
24 ビアホール
31 片面導体パターンフィルム(第1の基板)
32 導体パターン(第1の導体パターン)
32a ランド(第1のランド)
33 樹脂フィルム(絶縁基材)
36 カバーレイヤー(レジスト膜)
50 導電ペースト(層間接続材料)
60 表面実装部品
100、101 プリント基板
L1 ビアホール24長手方向長さ
L2 ビアホール24短手方向長さ
W 一辺22b長さ(ランド22a幅)
Claims (4)
- 絶縁基材(33)の少なくとも片側表面に接続端子としての第1のランド(32a)を有する第1の導体パターン(32)が形成された第1の基板(31)と、樹脂フィルム(23)の片側表面のみに接続端子としての第2のランド(22a)を有する第2の導体パターン(22)が形成され、かつビアホール(24)を有する第2の基板(21)とを、前記第1の基板(31)の前記第1の導体パターン(32)形成面と、前記第2の基板(21)の前記樹脂フィルム(23)が表面をなしている面とが向かい合うように積層し、さらに前記第2の導体パターン(22)を覆うようにレジスト膜である開口(38)を有するカバーレイヤー(36)を積層する積層工程と、
前記積層工程の前に、前記第2の基板(21)の前記樹脂フィルム(23)側からレーザで穴あけし、前記第2のランド(22a)が底面の一部をなし残部が貫通するように、前記ビアホール(24)を貫通孔として形成するビアホールの形成工程と、
前記第1の基板(31)、前記第2の基板(21)、および前記カバーレイヤー(36)を積層する前記積層工程後に、積層した基板両面から加圧しつつ加熱することにより、前記第1の基板(31)および前記第2の基板(21)相互の接着を行なうとともに、前記第2の基板(21)および前記カバーレイヤー(36)相互の接着を行い、前記加圧に伴って前記第2のランド(22a)を前記第1のランド(32a)方向に押圧して移動させ、前記第1のランド(32a)と前記第2のランド(22a)とを当接させる接着工程と、
前記接着工程の後に、前記第2の基板(21)の前記ビアホール(24)上を含む、前記カバーレイヤー(36)の開口(38)により前記第2の導体パターン(22)が露出した部位に層間接続材料(50)を配置する配置工程と、
前記配置工程の後に、前記カバーレイヤー(36)上の所定位置に表面実装部品(60)をマウントする工程と、
前記表面実装部品(60)をマウントする工程の後に、前記層間接続材料(50)を加熱して、前記表面実装部品(60)を前記第2の導体パターン(22)に電気的に接続するとともに、前記層間接続材料(50)を前記ビアホール(24)内に流入させ、前記第1の基板(31)の前記第1のランド(32a)と前記第2の基板(21)の前記第2のランド(22a)とを電気的に接続する電気的接続工程とを備えることを特徴とするプリント基板の製造方法。 - 前記第1のランド(32a)および前記第2のランド(22a)は、それぞれ矩形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプリント基板の製造方法。
- 前記積層工程では、前記第2のランド(22a)の少なくとも一辺(22b)は、前記ビアホール(24)上に形成されており、前記樹脂フィルム(23)から離設されていることを特徴とする請求項2に記載のプリント基板の製造方法。
- 前記ビアホール(24)は略長円形状に形成され、前記略長円形状の短手方向の長さ(L2)は前記第2のランド(22a)の前記一辺(22b)の長さより大きいことを特徴とする請求項3に記載のプリント基板の製造方法。
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JP2004031778A (ja) | 2004-01-29 |
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