JP3811226B2 - 水晶振動子及びその製造方法 - Google Patents

水晶振動子及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3811226B2
JP3811226B2 JP19781396A JP19781396A JP3811226B2 JP 3811226 B2 JP3811226 B2 JP 3811226B2 JP 19781396 A JP19781396 A JP 19781396A JP 19781396 A JP19781396 A JP 19781396A JP 3811226 B2 JP3811226 B2 JP 3811226B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
axis
line segment
corresponding region
crystal
degrees
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP19781396A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1041772A (ja
Inventor
伸芳 杉谷
基弘 藤吉
元康 判治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Toyota Central R&D Labs Inc
Kyocera Crystal Device Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
Toyota Central R&D Labs Inc
Kyocera Crystal Device Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp, Toyota Central R&D Labs Inc, Kyocera Crystal Device Corp filed Critical Toyota Motor Corp
Priority to JP19781396A priority Critical patent/JP3811226B2/ja
Priority to US08/885,165 priority patent/US5998233A/en
Priority to EP97111221A priority patent/EP0821481B1/en
Priority to DE69736731T priority patent/DE69736731T2/de
Priority to KR1019970034372A priority patent/KR100273668B1/ko
Publication of JPH1041772A publication Critical patent/JPH1041772A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3811226B2 publication Critical patent/JP3811226B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
    • H03H9/19Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator consisting of quartz
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • H03H2003/026Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks the resonators or networks being of the tuning fork type

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Gyroscopes (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電圧を印加することにより振動する水晶振動子及びその製造方法に関する。本水晶振動子は、その振動を利用した角速度検出装置又は計測技術に適用され得る。
【0002】
【従来の技術】
従来の水晶振動子は、特開平5−308238号公報に記載されている。同公報によれば、平行に延びた一対の水晶振動片の股部をU字型のマスクを施してエッチングしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、水晶の結晶方位はU字型とは異なるため、上記の如くU字型のマスクを施してエッチングを行うと、水晶振動片に対してエッチング残り形状が本質的に対称とはならず、水晶振動片の股部にエッチング残りが存在することとなる。このような非対称の水晶振動片を水晶のX軸に沿って振動させた場合、非対称性に基づいて水晶振動片がZ軸方向にも振動する。したがって、このような非対称の水晶振動片を用いた水晶振動子の振動安定性は十分とは言えない。
【0004】
本発明は、このような課題に基づいてなされたものであり、上記従来技術に比してさらに振動を安定させることが可能な水晶振動子及びその製造方法を提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、水晶振動子の製造方法に関する。この方法は、水晶の結晶方位を慮してなされたものであり、マスクを水晶の結晶方向に合わせて形成する。水晶は、3つのX軸を有し、隣接するX軸は120度の角度で交差する。
【0006】
本方法は、水晶からなる基部及び基部から同一方向に延びており電圧が印加されることによって振動可能な第1及び第2水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法を対象とする。この方法は、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面を有する水晶ウエハを用意する工程と、基部対応領域及びこの基部対応領域から水晶ウエハの所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びた第1及び第2振動片対応領域を有するマスクを主表面上に形成する工程と、マスクの形成された水晶ウエハをエッチングすることにより、マスクの基部対応領域及び第1及び第2振動片対応領域直下にそれぞれ基部及び第1及び第2水晶振動片を形成する工程と、を備える。
【0007】
ここで、基部対応領域の外周は、第1及び第2振動片対応領域間に位置してX軸に沿って延びた所定部分を有し、第1振動片対応領域の外周は、基部対応領域の所定部分の一端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第1線分を有し、第2振動片対応領域の外周は、基部対応領域の所定部分の他端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第2線分を有する。マスクの第1振動片対応領域の第1線分は、このX軸の所定方向からみて約30度の角度を成し、接続線の一端から第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びている。なお、約30度とは、24度から36度までの角度であることが好ましい。上述のように、水晶はこのX軸の所定方向からみて120度の角度で交差する他のX軸を有する。したがって、他のX軸と第1線分とは約90度の角度を成す。
【0008】
マスクの第2振動片対応領域の第2線分は、このX軸と約30度の角度を成し、第2振動片対応領域の先端に近付く方向に延びている。すなわち、第2線分はX軸の上記所定方向からみて約150度の角度を成している。上述のように、水晶はこのX軸の所定方向からみて−120度の角度で交差する別のX軸を有する。したがって、この別のX軸と第2線分とは約90度の角度を成す。
【0009】
第1及び第2線分は、それぞれ、上記他のX軸及び別のX軸と約90度の角度で交差するので、水晶ウエハのエッチングは、マスクの第1線分及び第2線分を境界として、これらのX軸と直交する方向に沿って水晶ウエハの主表面からその内部へと進行する。
【0010】
第1線分を含む第1振動片対応領域を有するマスクを用いて、水晶ウエハをエッチングすることにより、この領域直下に第1水晶振動片を形成することができる。また、第2線分を含む第2振動片対応領域を有するマスクを用いて、水晶ウエハをエッチングすることにより、この領域直下に第2水晶振動片を形成することができる。
【0011】
基部対応領域の所定部分及び第1及び第2線分により形成される水晶振動子の股部には、水晶振動片振動時に応力が集中する。本方法によれば、水晶振動子の股部のエッチングは、これらの線分により規定される水晶の結晶方位に応じて進行するので、この股部を境界として互いに対向する2つの水晶振動片側面のエッチング残り形状を上記従来の方法により製造されるそれと比較して対称とすることができ、双方の水晶振動片に印加される応力を等しくすることができる。
【0012】
さらに、本出願人が、上記U字型のマスクを用いて水晶ウエハをエッチングすることにより上記股部を形成した結果、この股部はX軸と27.360度(約30度)の角度で交差し、第1振動片対応領域の先端へ延びた線分と、X軸と37.439度(約40度)の角度で交差し、第2振動片対応領域の先端へ延びた線分と、X軸と84.395度(約85度)の角度で交差し、第2振動片対応領域の先端へ延びた線分と、によって規定されることが判明した。したがって、これらの実験データに基づく線分に沿った線分を有するマスクを用いて、対向する水晶振動片の股部を形成すれば、この股部の対称性をさらに向上させることができる。
【0013】
すなわち、上記第1振動片対応領域の外周は、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、第3線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して前記第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第4線分とを有し、上記第2振動片対応領域の外周は、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、第5線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第6線分とを有することが好ましい。なお、約40度とは、34.5度から40.5度までの角度であることが好ましく、約85度とは、78.5度から90.5度までの角度であることが好ましい。
【0014】
本方法によっても、水晶振動子の股部のエッチングは、これらの線分により規定される水晶の結晶方位に応じて進行するので、この股部を境界として互いに対向する2つの水晶振動片側面のエッチング残り形状を上記従来の方法により製造されるそれと比較して対称とすることができる。
【0015】
さらに、上記37.439度と84.395度の角度の線分の代りに、近似的にこれらの角度の中間値60.917度(約60度)の線分を有するマスクを用いて、上記水晶ウエハの股部をエッチングしてもよい。
【0016】
この方法によれば、上記第1振動片対応領域の外周は、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた線分を有し、上記第2振動片対応領域の外周は、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して第2振動片対応領域の先端に近付く方向に延びた線分を有することが好ましい。なお、約60度とは、54度から66度までの角度であることが好ましい。
【0017】
上記水晶振動子の製造方法は、一対の水晶振動片の対称性を考慮してなされたものであるが、これは単一の水晶振動片の対称性を考慮してなされてもよい。
【0018】
すなわち、本方法は、水晶からなる基部及び前記基部から延びており電圧が印加されることによって振動可能な水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法を対象とする。なお、本水晶振動子は、この水晶振動片以外の水晶振動片を具備してもよい。
【0019】
この方法は、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面を有する水晶ウエハを用意する工程と、基部対応領域及び基部対応領域から水晶ウエハの所定のX軸に直交する軸に沿って延びた振動片対応領域を有するマスクを主表面上に形成する工程と、マスクの形成された水晶ウエハをエッチングすることにより、マスクの基部対応領域及び振動片対応領域直下にそれぞれ基部及び水晶振動片を形成する工程と、を備え、振動片対応領域の外周は、基部対応領域にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分から所定間隔離隔して前記基部対応領域にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第2線分とを有する。
【0020】
この振動片対応領域を有するマスクを用いて、水晶ウエハをエッチングすれば、この領域直下に水晶振動片を形成することができる。ここで、第1及び第2線分により形成される水晶振動片の根元部には、水晶振動片振動時に応力が集中する。本方法によれば、水晶振動片の根元部のエッチングは、これらの線分により規定される水晶の結晶方位に応じて進行するので、この根元部により規定される水晶振動片側面のエッチング残り形状を上記従来の方法により製造されるそれと比較して対称とすることができ、水晶振動片に印加される応力を等しくすることができる。
【0021】
なお、上述の実験結果から、上記振動片対応領域の外周は、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、第3線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、第5線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第6線分とを有することが好ましい。
【0022】
さらに、上記実験結果から、上記振動片対応領域の外周は、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して振動片対応領域の先端へ近付く方向に延びた線分と、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して振動片対応領域の先端に近付く方向に延びた線分とを有することとしてもよい。
【0023】
また、水晶振動片は、主表面と主表面に対向する裏面との間に位置し、上記振動片対応領域の外周に沿って延びた側面に突出部を有する。ここで、上記エッチングは、この突出部の高さが、主表面と裏面との間の距離の8%以下になるまで行うことが好ましい。
【0024】
水晶振動片をX軸方向に振動させると、この突出部により水晶振動片がZ軸方向にも振動してしまう。上記振動片対応領域により規定される水晶振動片側面の突出部の高さが、主表面と裏面との間の距離、すなわち、水晶振動片の厚みの8%以下になるまで水晶ウエハの上記股部或いは根元部をエッチングすれば、水晶振動片のZ軸方向の漏れ振動を十分に抑えられる。この値が8%以下になる時間で水晶ウエハをエッチングすれば、振動を十分に安定させることができるので、この必要最低限のエッチング時間で安定した振動を行う水晶振動子を製造することができる。
本水晶振動子は、水晶からなる基部と、基部から水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる第1及び第2水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における基部の外周は、第1及び第2水晶振動片間に位置してX軸に沿って延びた所定部分を有し、主表面上における第1水晶振動片の外周は、基部の所定部分の一端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分を有し、主表面上における第2水晶振動片の外周は、基部の所定部分の他端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分を有することを特徴とする。
本水晶振動子は、水晶からなる基部と、基部から水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる第1及び第2水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における基部の外周は、第1及び第2水晶振動片間に位置してX軸に沿って延びた所定部分を有し、主表面上における第1水晶振動片の外周は、基部の所定部分の一端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、第3線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、を有し、主表面上における第2水晶振動片の外周は、基部の所定部分の他端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、第5線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第6線分と、を有することを特徴とする。
本水晶振動子は、水晶からなる基部と、基部から水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における水晶振動片の外周は、基部にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた線分と、第1線分から所定間隔離隔して基部にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた線分とを有することを特徴とする。
本水晶振動子は、水晶からなる基部と、基部から水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における水晶振動片の外周は、基部にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、第1線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、第3線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、第1線分から所定間隔離隔して基部にその一端で連続し、X軸と約3 0度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、第2線分の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、第5線分の他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第6線分と、を有することを特徴とする。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る水晶振動子の製造方法の一形態について、添付の図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、同一要素には同一符号を用いるものとし、重複する説明は省略する。
【0026】
本実施の形態に係る水晶振動子の製造方法においては、まず、水晶ウエハ1を用意する。
【0027】
図1は、水晶ウエハ1の斜視図である。水晶ウエハ1は、水晶のZ軸(光軸)に対して角度θの範囲内にある主軸Z’に直交した主表面1a及び裏面1bを有する。また、この水晶ウエハ1は、水晶のX軸(電気軸)に垂直なオリエンテーションフラット1cをその側面に有する。
【0028】
水晶ウエハ1の主表面1aと裏面1bとの間の距離、すなわち、水晶ウエハ1の厚みDは200〜500μmであり、角度θは、±20度である。換言すれば、主軸Z’は、水晶のZ軸を水晶のX軸を中心として、±20度の範囲内で回転させた位置にある。なお、水晶のX軸及びZ軸に垂直な軸をY軸(機械軸)とする。水晶ウエハ1の主表面1aは、Y軸に対して角度θ傾いたY’軸及びX軸によって規定される。なお、XYZ軸及びXY’Z’軸は、それぞれ、直交座標系を構成する。
【0029】
次に、この水晶ウエハ1の主表面1a及び裏面1b上に、それぞれ、金属マスクを形成する。
【0030】
図2は、水晶ウエハ1の主表面1a及び裏面1b上に、それぞれ、金属マスク3及び4が形成された水晶振動子中間体1’の斜視図であり、図3は図2の中間体1’をA−A線矢印に沿って切った中間体1’の断面図である。
【0031】
金属マスク3は、矩形状の開口OP1を有する支持領域3a、開口OP1内に形成された振動子対応領域3b、振動子対応領域3bと支持領域3aとを接続する接続領域3cを有し、金属マスク4は金属マスク3と同一の構造を有する。これらの金属マスク3及び4を形成するためには、まず、水晶ウエハ1の主表面1a及び裏面1b上の全面に金属層及びフォトレジストを順次積層した後、金属マスク3及び4の形状と同じ形状の露光パターンをフォトレジスト上に投影し、フォトレジストを感光させる。感光したフォトレジストを有機溶剤を用いて一部除去すると、除去されたフォトレジストの下に金属層が露出する。金属層の露出部分をエッチング液を用いて除去した後、残りのフォトレジストを別の有機溶剤を用いて全て除去すれば、図2に示した金属マスク3及び4が形成される。なお、金属マスク3及び4は、それぞれ、Cr層及びAu層の2層構造(3層以上の多層構造としてもよい)を有している。
【0032】
次に、図2及び図3に示すように、金属マスク3及び4の形成された中間体1’をその上下面からNH4HF2等のエッチング液を用いてエッチングする。
【0033】
図4は、上記エッチング後の図2の中間体1’の振動子対応領域3bを抜出して示す斜視図であり、図5は図4の中間体1’をA−A線矢印に沿って切った中間体1’の断面図である。水晶ウエハ1の金属マスク3及び4の形成されていない領域はエッチング液によって除去され、水晶ウエハ1のこの領域は主表面1aから裏面1bまで貫通する。一方、マスク3及び4直下の水晶ウエハ1の領域は残存し、水晶振動子が水晶ウエハ1から切出される。以下、本実施の態様に用いた金属マスク3の振動子対応領域3bのパターン形状及びこのマスクパターン3によって水晶ウエハ1から切出された水晶振動子の形状について説明する。
【0034】
金属マスク3の振動子対応領域3bは、基部対応領域5、振動片対応領域6及び7から構成され、振動片対応領域6及び7の長手方向は、図2に示した水晶ウエハ1のオリエンテーションフラット1cに平行である。
【0035】
金属マスク4も振動片対応領域8及び9を備えており、領域8及び9の側端は、領域6及び7の側端とZ’軸に沿って整列している。すなわち、金属マスク4は、金属マスク3をZ’軸に沿って平行移動させたものである。したがって、金属マスク4の構造は、金属マスク3の構造と同一であるので、金属マスク4の構造の説明は省略する。
【0036】
金属マスク3の振動片対応領域6及び7は、基部対応領域5の一端からY’軸の正方向に沿って互いに平行に延びている。
【0037】
振動片対応領域6は、Y’軸に平行な線分10及び線分11と、X軸に平行であり、線分10の一端と線分11の一端とを接続する線分12と、線分10の他端にその一端で連続し、X軸と角度θ1aの範囲内で交差する線分13と、線分13の他端を通り、X軸に平行な仮想直線BLとによって囲まれている。仮想直線BLは、振動片対応領域6と基部対応領域5との間の境界線であるとともに、振動片対応領域7と基部対応領域5との間の境界線である。
【0038】
金属マスク3の振動片対応領域7は、X軸に平行な仮想直線BLと、Y’軸に略平行な線分14及び線分15と、X軸に平行であり、線分14の一端と線分15の一端とを接続する線分16と、線分14の他端にその一端で連続し、X軸と角度θ1bの範囲内で交差する線分17と、によって囲まれている。ここで、角度θ1a及びθ1bは、それぞれ30±6度である。
【0039】
金属マスク3の基部対応領域5は、X軸と角度θ1a及びθ1bを成す振動片対応領域6及び7の線分13及び17の他端同士を接続する線分18(所定部分)を一端に有している。線分18は、前述のX軸に平行な仮想直線BLの一部であり、基部対応領域5は、仮想直線BLを境界として振動片対応領域6及び7から離れる方向に広がっている。すなわち、基部対応領域5は、X軸に平行な線分18,19及びY’軸に平行な線分11及び15によって囲まれており、長方形を成している。
【0040】
振動片対応領域6の長手方向に沿った平行二線分10と11との間の距離、すなわち、振動片対応領域6の幅は、振動片対応領域7の長手方向に沿った平行二線分14と15との間の距離である振動片対応領域7の幅に等しく、これらの幅は共にWである。水晶振動片6a及び7aは、振動片対応領域6及び7によって上記エッチングから保護されることにより、水晶ウエハ1から切出されているので、水晶振動片6a及び7aの表面の幅は、振動片対応領域6及び7の幅Wに一致する。
【0041】
なお、振動片対応領域6,7及び水晶振動片6a,7aの幅Wは、その厚みDに等しいか、又は、厚みDよりも大きい方が好ましい。水晶振動片6a及び7aの厚みDは、水晶ウエハ1の厚みと同一であり、200〜500μmである。
【0042】
水晶のエッチングの際には、X軸の正方向へのエッチングの速度と負方向へのエッチングの速度とが異なる。また、水晶は3回回転対称の結晶であり、Z軸に垂直であって、X軸と±120度の角度を成す2つのX軸を有する。これらの軸をそれぞれX1軸及びX2軸とする。これらのエッチング速度の違いにより、振動片対応領域6及び7の下に形成された水晶振動片6a及び7aは、振動片対応領域6及び7の線分11及び14直下からX軸の正方向に突出した突出部20及び21をそれぞれ有する。一方、水晶振動片6a及び7aの突出部20及び21にそれぞれ対向する平面20a及び21aは、Y’Z’平面に平行である。また、上記エッチング速度の違いにより、水晶振動片6aは、振動片対応領域6の根元の線分13の直下からX1軸の正方向に突出した突出部22を有し、水晶振動片7aは、振動片対応領域7の根元の線分17直下にX2軸に垂直な平面22aを有する。これらの突出部(エッチング残り)20〜22の高さtxは略同一であり、高さtxは、厚みDの8%以内である。換言すれば、上記エッチングは、主表面1aに垂直であって線分11及び14をそれぞれ含む平面からそれぞれの側面までの最大離隔距離txが、主表面1aと裏面1bとの間の距離Dの8%以下になるまで行われる。
【0043】
また、線分10を含み主表面1aに垂直な平面から、股部の突出部22までの最大離隔距離をW1とする。また、水晶振動子の股部を上記U字型のマスクを用いて水晶ウエハをエッチングすることにより形成した場合のW1の大きさを測定した結果は次の通りであった。厚さDが200μmの水晶ウエハ1を用いて100分間のエッチングを行った場合、距離W1は172μmであった。厚さDが300μmの水晶ウエハ1を用いて150分間のエッチングを行った場合、距離W1は264μmであった。厚さDが400μmの水晶ウエハ1を用いて200分間のエッチングを行った場合、距離W1は372μmであった。厚さDが500μmの水晶ウエハ1を用いて250分間のエッチングを行った場合、距離W1は465μmであった。したがって、線分10を含み主表面1aに垂直な面から、線分13と線分18との交点までの金属マスク3の距離は、水晶振動片6a又は7aの厚みDよりも大きいことが好ましい。上述の如く厚さDに対するエッチング時間を確保することで、突起22の高さtxを小さく(厚みDの8%以内)することができるからである。
【0044】
振動片対応領域6の第1線分13は、このX軸の正方向からみて約30度の角度を成している。水晶のX1軸はX軸の正方向からみて120度の角度で交差する。したがって、X1軸と股部の線分13とは約90度の角度を成す。
【0045】
また、振動片対応領域7の第2線分17は、X軸の正方向からみて約150度の角度を成している。X2軸は、X軸の正方向からみて−120度の角度で交差している。したがって、X2軸と第2線分17とは約90度の角度を成している。
【0046】
第1線分13及び第2線分17は、それぞれ、X1軸及びX2軸と約90度の角度で交差するので、水晶ウエハ1のエッチングは、マスク3の第1線分13及び第2線分17を境界として、X1軸及びX2軸にそれぞれ直交する方向に沿って水晶ウエハ1の主表面1aからその内部へと進行する。
【0047】
第1線分13及び線分10〜12によって囲まれた領域によって第1振動片対応領域6は規定される。この第1振動片対応領域6を有するマスクを用いて水晶ウエハ1をエッチングすることにより、この領域6の直下に第1水晶振動片6aが形成される。第2線分17及び線分14〜16によって囲まれた領域によって第2振動片対応領域7は規定され、この領域7を有するマスク3を用いて水晶ウエハ1をエッチングすることにより、この領域7の直下に第2水晶振動片7aが形成される。さらに、基部対応領域5を有するマスク3を用いて水晶ウエハ1をエッチングすることにより、この領域5の直下に基部5aが形成される。線分18、第1線分13及び第2線分17により形成される水晶振動子の股部には、水晶振動片振動時に応力が集中するが、この股部のエッチングは、X1軸及びX2軸にそれぞれ垂直な第1線分18及び第2線分17を境界として水晶ウエハ1の内部へと進行する。したがって、この股部を境界として互いに対向する2つの水晶振動片6a及び7aの側面22及び22aの形状は、上記従来の方法により製造されるそれと比較して対称とすることができ、双方の水晶振動片6a及び7aに印加される応力を等しくすることができる。
【0048】
エッチングの終了後、図2に示した金属マスク3及び4を除去し、フォトリソグラフィ技術を用いて、水晶振動片6a及び7a上に電極23〜34を形成し、水晶振動子100を形成する。電極23〜34の形成後、図2の接続領域3c直下の水晶部から水晶振動子100を分離する。
【0049】
図6は、電極23〜34を有する水晶振動子100を固定台101上に固定した角速度検出装置を示す斜視図であり、図7は図6の水晶振動子100をA−A線矢印に沿って切った水晶振動子100の断面図である。この角速度検出装置は、電極23〜34の一部に水晶振動片6a及び7aをX軸方向に振動させる駆動電圧を印加するとともに電極23〜34の一部からの水晶振動片6a及び7aのZ軸方向の振動に対応した信号を検知する電気回路102を備える。水晶振動片6a及び7aのZ’軸方向の振動は、水晶振動片6a及び7aのX軸方向の振動速度及び水晶振動片6aと7aの長手方向を中心にこれらに働く回転力との積、コリオリの力に対応して発生するので、電気回路102は角速度検出装置に働いた角速度を検出することができる。
【0050】
なお、水晶振動子100は、図4に示した金属マスク3及び4を用いて形成されているので、主表面(平面)1aの形状は、金属マスク3の領域3bの形状と同一である。したがって、振動子100の形状は、領域3bと同一符号を用いることにより、その説明を省略する。なお、水晶振動子100の裏面1bの形状は主表面1aの形状と同一である。
【0051】
次に、上記高さtxを厚みDの8%以下に設定した理由について説明する。
【0052】
図8は、図5の水晶振動片6aの断面を抜出して示す説明図である。水晶振動片6aのY’軸に垂直な断面は、XY’面に平行な主表面1a及び裏面1bと、Y’Z’面に平行な左側面20aと、左側面20aに対向した右側面20bとを有する。主表面1a、裏面1b及び左側面20aは平面であり、右側面20bはX軸の正方向に突出するように屈曲している。突出部20は、右側面20bの屈曲部によって規定される。突出部20の高さtxは、上下面1a及び1bと右側面20bとの2つの交線を含む平面から、突出部20の頂点Cまでの距離によって規定される。図8の断面内において、突起部20がないときの水晶振動片6aの重心位置をOとする。重心Oを含むXY’面と頂点C’との間の距離を突出部20のずれ量tzとする。図8の断面内において、突起部20があるときの水晶振動片6aの重心位置をO’とする。
【0053】
水晶振動片6aを重心Oを中心としてX軸方向に振動させると、水晶振動片6aの重心Oが重心O’に移動しているので、断面の主軸がZ’軸に対して角度αずれ(Z”軸)、水晶振動片6aをX軸方向に振動させているにも拘らず、水晶振動片6aはX’軸に対して角度βずれた方向に沿って振動する。このような振動は、水晶振動子100の振動の安定性を低下させるばかりでなく、例えば、この水晶振動子100を角速度検出装置に用いた場合には、コリオリの力に基づかないZ軸方向の漏れ振動成分が上記電気回路102によって検出され、電気回路102により検出される角速度の精度を低下させる。
【0054】
Z軸方向のもれ振動成分の振幅tanβは、ずれ量tzに依存する。すなわち、もれ振動成分の振幅tanβは、ずれ量tzの厚みDに対する比(tz/D)に比例して大きくなる。したがって、比率tz/Dを低下させることにより、水晶振動子100の振動の安定性を向上させることができる。
【0055】
図9は、複数の水晶振動子100を製造したときの、tx/Dとtz/Dとの関係を示すグラフである。tx/Dが大きいときには、tz/Dが大きな水晶振動子100が製造される確率が高くなるのに対し、tx/Dが小さいときには、tz/Dが大きな水晶振動子100は製造されない。tx/Dを8%以下にすればtz/Dが所定値内になり、安定した振動を達成する水晶振動子100を製造することができる。
【0056】
図10は、水晶ウエハ1のエッチング時間(単位:時間)と突出部20の高さtxとの間の関係を示すグラフである。折れ線A1,A2,A3,A4は、それぞれ、厚さD=500μm,400μm,300μm,200μmの水晶ウエハのデータを示し、点D1〜D4においてそれぞれの水晶ウエハは上下に貫通した。同図中の点線は、使用中の金属マスクが破損し始め、エッチングのばらつきが拡大することによって安定した振動を達成する水晶振動子100が製造できなくなる領域を示す。したがって、エッチング時間は3時間以下であることが望ましい。エッチング時間が3時間のとき、厚みDが500μmの場合、比率tx/Dは7.8%である。エッチング時間が3時間のとき、厚みDが400μmの場合、比率tx/Dは5.0%である。エッチング時間が3時間のとき、厚みDが300μmの場合、比率tx/Dは2.6%である。
【0057】
したがって、厚みDが500μm以下の場合、比率tx/Dが8%以下7.8%以上になるまでエッチングすることが好ましい。厚みDが400μm以下の場合、比率tx/Dが8%以下5.0%以上になるまでエッチングすることが好ましい。厚みDが300μm以下の場合、比率tx/Dが8%以下3(2.6)%以上になるまでエッチングすることが好ましい。
【0058】
なお、上記金属マスク3及び4を規定する線分の形状及び水晶振動子100の主表面1a及び裏面1bの形状は、図11〜図15を用いて説明される形状にしてもよい。また、これらの下面の金属マスクの形状及び金属マスクを用いて製造された水晶振動子の主表面(平面)及び裏面(平面)の形状は、上面の金属マスクの形状と同一である。したがって、以下の説明においては、上面の金属マスクの形状のみについて説明し、重複する説明を省略する。また、図11〜図15は、図4に示した水晶振動子中間体1’の平面図と同一形式にて示す別の水晶振動子中間体の平面図である。さらに、金属マスク3の振動子対応領域3bと同一構造の要素に関しては、同一符号を用い、重複する説明を省略する。
【0059】
本出願人は、水晶振動子の股部を上記U字型のマスクを用いて水晶ウエハをエッチングすることにより形成した。この股部はX軸と27.360度(約30度)の角度で交差し、第1振動片対応領域の先端へ延びた線分と、X軸と37.439度(約40度)の角度で交差し、第2振動片対応領域の先端へ延びた線分と、X軸と84.395度(約85度)の角度で交差し、第2振動片対応領域の先端へ延びた線分と、によって規定されることが判明した。したがって、これらの実験データに基づく線分に沿った線分を有するマスクを用いて、対向する水晶振動片の股部を形成すれば、この股部の対称性をさらに向上させることができる。
【0060】
まず、図11に示す水晶振動子中間体200の金属マスク203について説明する。
【0061】
金属マスク203の振動片対応領域206及び207は、基部対応領域5の一端からY’軸の正方向に沿って互いに平行に延びており、振動片対応領域206及び207の直下には、それぞれ水晶振動片206a及び207aが形成される。
【0062】
振動片対応領域206は、第1線分13の他端にその一端で連続し、X軸とθ2aの角度を成して振動片対応領域206の先端に近付く向へ延びた第3線分213aと、第3線分213aの他端にその一端で連続し、X軸とθ3aの角度を成して第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第4線分213bとを有する。また、振動片対応領域207は、第2線分17の他端にその一端で連続し、X軸とθ2bの角度を成して振動片対応領域207の先端に近付く方向へ延びた第5線分217aと、第5線分217aの他端にその一端で連続し、X軸とθ3bの角度を成して振動片対応領域207の先端に近付く方向へ延びた第6線分217bと、を有する。角度θ2a及びθ2bは、それぞれ37.5±3度(約40度)である。角度θ3a及びθ3bは、それぞれ84.5±6度(約85度)である。なお、角度θ2a及びθ2bは、それぞれ角度θ1a及びθ1b以上である。
【0063】
さらに、上記37.439度と84.395度の角度の線分の代りに、近似的にこれらの角度の中間値60.917度(約60度)の線分を有するマスクを用いて、上記水晶ウエハの股部をエッチングしてもよい。
【0064】
図12は、このような方法を行うための水晶振動子中間体300の金属マスク303を示す。
【0065】
金属マスク303の振動片対応領域306及び307は、基部対応領域5の一端からY’軸の正方向に沿って互いに平行に延びており、振動片対応領域306及び307の直下には、それぞれ水晶振動片306a及び307aが形成される。振動片対応領域306は、第1線分13の他端にその一端で連続し、X軸とθ7aの角度を成して振動片対応領域306の先端に近付く方向に延びた線分313aを有する。振動片対応領域307は、第2線分17の他端にその一端で連続し、X軸とθ7b度の角度を成して振動片対応領域307の先端に近付く方向に延びた線分317aを有する。なお、角度θ7a及びθ7bは、それぞれ60±6度(約60度)である。
【0066】
ここで、線分14を含みZ’軸に平行な平面と突出部21との最大離隔距離をW2とする。また、この平面から線分17と線分18との交点までの距離をW3とする。ここで、図4に記載の実施態様のマスクを用いて水晶ウエハをエッチングすることにより形成した場合のW2の大きさを測定した結果は次の通りであった。
【0067】
厚さDが0.2mm(200μm)の水晶ウエハ1に距離W3が0.2mmのマスクを形成し、これを100分間エッチングしたところ、距離W2は0.012mmであった。なお、ここで、厚さDの3乗は、0.008mm3である。
【0068】
厚さDが0.3mm(300μm)の水晶ウエハ1に距離W3が0.3mmのマスクを形成し、これを150分間エッチングしたところ、距離W2は0.038mmであった。なお、ここで、厚さDの3乗は、0.027mm3である。厚さDが0.4mm(400μm)の水晶ウエハ1に距離W3が0.4mmのマスクを形成し、これを200分間エッチングしたところ、距離W2は0.084mmであった。なお、ここで、厚さDの3乗は、0.064mm3である。厚さDが0.5mm(500μm)の水晶ウエハ1に距離W3が0.5mmのマスクを形成し、これを250分間エッチングしたところ、距離W2は0.136mmであった。なお、ここで、厚さDの3乗は、0.125mm3である。したがって、厚さDが0.2〜0.5(mm)の範囲内において、線分14を含みZ’軸に平行な平面から、線分17と線分317aとの交点までの金属マスク303の距離は、厚さD(mm)の3乗よりも大きく設定することが好ましい。上述の如く厚さDに対するエッチング時間を確保することで、突起21の高さtxを小さく(厚さDの8%以内)することができるからである。
【0069】
さらに、線分10と線分14との間の距離をSとする。また、線分10と線分313aとの交点から仮想直線BLまでの距離をhとする。この距離Sが大きい場合、一対の振動片をX軸方向に振動させた時の振動の機械的結合が小さくなる。機械的結合を大きくするためには、線分313a及び13を仮想直線BL上へ投影した線分の長さを長くすることが好ましい。さらに、距離Sによるエッチング液の流れ易さや電極の配置を考慮すると、比率h/Sは、0.2以上0.4以下であることが好ましい。
【0070】
上記水晶振動子の製造方法は、一対の水晶振動片の対称性を考慮してなされたものであるが、これは単一の水晶振動片の対称性を考慮してなされてもよい。
【0071】
図13は、このような方法を行うための水晶振動子中間体400の金属マスク403を示す。金属マスク403の振動片対応領域406及び407は、基部対応領域405の一端からY’軸の正方向に沿って互いに平行に延びており、これらの領域直下にそれぞれ、基部405a及び第1及び第2水晶振動片406a,407aが形成される。基部対応領域405は、X軸に平行な線分18,419及びY’軸に平行な線分422,423によって囲まれている。
【0072】
振動片対応領域406は、線分13から所定間隔離隔して基部対応領域405にその一端で連続し、X軸とθ4aの角度を成して振動片対応領域406の先端に近付く方向に延びた線分450と、線分13の他端に連続し、振動片対応領域406の長手方向に沿って往復し、線分450の他端に至る線10,12、411とによって規定される。なお、線分411は、Y’軸に平行である。
【0073】
振動片対応領域406は、線分13,450及び線10,12、411によって囲まれた領域によって規定される。したがって、この領域406を有するマスクを用いて水晶ウエハ1をエッチングすれば、この領域直下に水晶振動片を形成することができる。線分13及び450により形成される水晶振動片の根元部には、水晶振動片振動時に応力が集中する。本方法によれば、水晶振動片の根元部のエッチングは、これらの線分13及び450により規定される水晶の結晶方位に応じて進行するので、この根元部により規定される水晶振動片側面の形状は、上記従来の方法により製造されるそれと比較して対称とすることができ、領域406によって形成される水晶振動片に印加される応力を等しくすることができる。
【0074】
なお、振動片対応領域407は、線分17から所定間隔離隔して基部対応領域405にその一端で連続し、X軸とθ4bの角度を成して振動片対応領域407の先端に近付く方向に延びた線分451と、線分17の他端に連続し、振動片対応領域407の長手方向に沿って往復し、線分451の他端に至る線14,16、415とによって規定される。なお、線分415は、Y’軸に平行である。
【0075】
ここで、角度θ4a及びθ4bは、それぞれ30±6度である。
【0076】
さらに、左右の振動片の対象性をさらに考慮すると、θ1aとθ1bとが等しく、且つ、θ4aとθ4bとが等しいことが好ましい。また、θ1aとθ4aとが等しく、且つ、θ1bとθ4bとを等しくしてもよい。
【0077】
図11に示した左右の振動片の対象性を考慮したマスク形状は、図13の単一の振動片の対象性をも考慮したマスク形状に適用することができる。
【0078】
図14は、このような金属マスク503及びこのマスク503によって形成される振動子中間体500を示す。金属マスク503の振動片対応領域506及び507は、基部対応領域405の一端からY’軸の正方向に沿って互いに平行に延びており、振動片対応領域506及び507の直下にそれぞれ第1及び第2水晶振動片506a,507aが形成される。
【0079】
振動片対応領域506は、線分450の他端にその一端で連続し、X軸とθ5aの角度を成して振動片対応領域506の先端に近付く方向へ延びた線分450aと、線分450aの他端にその一端で連続し、X軸とθ6aの角度を成して振動片対応領域506の先端に近付く方向へ延びた線分450bとを有する。
【0080】
また、振動片対応領域507は、線分451の他端にその一端で連続し、X軸とθ5bの角度を成して振動片対応領域507の先端に近付く方向へ延びた線分451aと、線分451aの他端にその一端で連続し、X軸とθ6bの角度を成して振動片対応領域507の先端に近付く方向へ延びた線分451bとを有する。
【0081】
上述の実験の結果から、角度θ4a及びθ4bは、それぞれ30±6度(約30度)であり、角度θ5a及びθ5bは、それぞれ37.5±3度(約40度)であり、角度θ6a及びθ6bは、それぞれ84.5±6度(約85度)である。
【0082】
また、これらの角度を近似的に設定し、図15に示す金属マスク603を水晶振動子中間体600上に形成してもよい。このマスク603は、基部対応領域405から同一方向に延びた振動片対応領域606及び607を備えており、振動片対応領域606及び607の直下にそれぞれ第1及び第2水晶振動片606a,607aが形成される。
【0083】
振動片対応領域606は、線分450の他端にその一端で連続し、X軸とθ8aの角度を成して振動片対応領域606の先端に近付く方向に延びた線分450cを有する。
【0084】
また、振動片対応領域607は、線分451の他端にその一端で連続し、X軸とθ8bの角度を成して振動片対応領域607の先端に近付く方向に延びた線分451cを有する。θ8a及びθ8bは、それぞれ、60±6度(約60度)である。
【0085】
以上のように、上述の実施の態様に係る水晶振動子の方法は、水晶からなる基部5a及び基部5aから同一方向に延びており電圧が印加されることによって振動可能な第1及び第2水晶振動片6a及び7aを備えた水晶振動子100の製造方法を対象とする。
【0086】
図1乃至図7を用いて説明した方法は、水晶のZ軸に沿った軸(Z’軸)に直交した主表面1aを有する水晶ウエハ1を用意する工程(図1)と、基部対応領域5及びこの基部対応領域5から水晶ウエハ1の所定のX軸に直交する軸(Y’軸)に沿って同一方向に延びた第1及び第2振動片対応領域6,7を有するマスク3を主表面1a上に形成する工程と、マスク3の形成された水晶ウエハ1をエッチングすることにより、マスク3の基部対応領域5及び第1及び第2振動片対応領域6,7直下にそれぞれ基部5a及び第1及び第2水晶振動片6a,7aを形成する工程とを備える。
【0087】
ここで、基部対応領域5の外周は、第1及び及び第2振動片対応領域6,7間に位置してX軸に沿って延びた所定部分18を有し、第1振動片対応領域6の外周は、所定部分18の一端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第1振動片対応領域6の先端に近付く方向へ延びた第1線分13を有し、第2振動片対応領域7の外周は、接続線18の他端にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して第2振動片対応領域7の先端に近付く方向へ延びた第2線分17を有する。
【0088】
本方法によれば、所定部分18及び第1線分13及び第2線分17によって規定される水晶振動子の股部のエッチングは、水晶の結晶方位に応じて進行するので、この股部を境界として互いに対向する2つの水晶振動片側面の形状を対称とすることができ、双方の水晶振動片に印加される応力を等しくすることができる。したがって、エッチング残り22及び22aの形状を従来と比較して対象とすることができるので、製造された水晶振動子の振動が安定する。
【0089】
さらに、図11に示したマスク203を用いた方法によれば、第1振動片対応領域206の外周は、第1線分13の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して第1振動片対応領域206の先端に近付く方向へ延びた第3線分213aと、第3線分213aの他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して第1振動片対応領域206の先端に近付く方向へ延びた第4線分213bとを有し、第2振動片対応領域207の外周は、第2線分17の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して第2振動片対応領域207の先端に近付く方向へ延びた第5線分217aと、第5線分217aの他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して第2振動片対応領域207の先端に近付く方向へ延びた第6線分217bとを有する。
【0090】
さらに、図12に示したマスク303を用いた方法によれば、第1振動片対応領域306の外周は、第1線分13の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して第1振動片対応領域306の先端に近付く方向に延びた線分313aを有し、第2振動片対応領域307の外周は、第2線分17の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して第2振動片対応領域307の先端に近付く方向に延びた線分317aを有する。
【0091】
図1〜図12に示した水晶振動子の製造方法は、一対の水晶振動片の対称性を考慮してなされたものであるが、これは単一の水晶振動片の対称性を考慮してなされてもよい。
【0092】
図13に示したマスク403を用いた方法によれば、振動片対応領域406の外周は、基部対応領域405にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して振動片対応領域406の先端に近付く方向へ延びた第1線分13と、第1線分13から所定間隔離隔して基部対応領域405にその一端で連続し、X軸と約30度の角度を成して振動片対応領域406の先端に近付く方向へ延びた第2線分450とを有する。
【0093】
この場合、第1線分13及び第2線分450により形成される水晶振動片の根元部には、水晶振動片振動時に応力が集中する。本方法によれば、水晶振動片の根元部のエッチングは、これらの線分13,450により規定される水晶の結晶方位に応じて進行するので、この根元部により規定される水晶振動片側面の形状を対称とすることができ、水晶振動片406に印加される応力を等しくすることができる。
【0094】
さらに、図14に示したマスク503を用いた方法によれば、振動片対応領域506の外周は、第1線分13の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して振動片対応領域506の先端に近付く方向へ延びた第3線分213aと、第3線分213aの他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して振動片対応領域506の先端に近付く方向へ延びた第4線分213bと、第2線分450の他端にその一端で連続し、X軸と約40度の角度を成して振動片対応領域506の先端に近付く方向へ延びた第5線分450aと、第5線分450aの他端にその一端で連続し、X軸と約85度の角度を成して振動片対応領域506の先端に近付く方向へ延びた第6線分450bとを有する。
【0095】
さらに、図15に示したマスク603を用いた方法によれば、振動片対応領域606は、第1線分13の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して振動片対応領域606の先端へ近付く方向に延びた線分313aと、第2線分450の他端にその一端で連続し、X軸と約60度の角度を成して振動片対応領域606の先端に近付く方向に延びた線分450cとを有する。
【0096】
以上、上記いずれの方法においても、水晶の結晶方位に応じてエッチングが進行するので、エッチング残り形状が従来と比較して対称となり、製造された水晶振動子の振動を安定させることができる。
【0097】
また、図8に示した水晶振動片6aは、主表面1aと主表面1aに対向する裏面1bとの間に位置して振動片対応領域6の外周に沿って延びた側面に突出部20を有する。ここで、上記エッチングは、この突出部20の高さtxが、主表面1aと裏面1bとの間の距離Dの8%以下になるまで行うことが好ましい。水晶振動片6aの厚みDの8%以下になるまで水晶ウエハ1の上記股部或いは根元部をエッチングすれば、振動を十分に安定させることができるので、この必要最低限のエッチング時間で安定した振動を行う水晶振動子を製造することができる。
【0098】
ここで、金属マスクの大きさは、突出部20の高さtZが水晶振動片6aの厚みDの8%以下になるまでエッチングを行ったときに生じる股部のエッチング残りの大きさに基づいて決定されている。
【0099】
さらに、振動片対応領域の外周は、第1線分13の他端にその一端で連続し、水晶のX軸に直交する方向(Y’軸)に沿って延びた第7線分10と、前記第7線分10の他端にその一端で連続し、水晶のX軸に沿って延びた第8線分12と、前記第8線分12の他端にその一端で連続し、水晶のX軸に沿って前記基部対応領域5に向かって延びる第9線分11を備えることが好ましい。
【0100】
この場合、第3線分10と第5線分11とは共に水晶のX軸に沿っているので、水晶振動片6aは、これらの線分10及び11を境界として、共にX軸に垂直な方向(Y’)に沿って水晶ウエハ1の主表面1aからその内部へとエッチングされる。したがって、本方法によれば、これらの線分10及び11を境界として水晶ウエハ1から切出される水晶振動片6aの形状をさらに対称とすることができる。
【0101】
さらに、図1乃至図7を用いて説明した方法により製造された水晶振動子は、水晶のZ軸に沿った軸(Z’軸)に直交する平面を含む所定領域5を有する基部5a、及び、前記平面を含む第1及び第2領域6,7をそれぞれ有し前記基部5aから水晶のY軸に沿った軸(Y’軸)に沿って同一方向に延びており電圧が印加されることによって振動可能な第1及び第2水晶振動片6a,7aを備えた水晶振動子100において、前記所定領域5の外周は、前記第1及び第2水晶振動片6a,7a間に位置して水晶のX軸に沿って延びた所定部分18を有し、前記第1領域6の外周は、前記所定領域5の前記所定部分18の一端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第1水晶振動片6aの先端に近付く方向へ延びた第1線分13を有し、前記第2領域7の外周は、前記所定領域5の前記所定部分18の他端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分17を有する。
【0102】
本水晶振動子は、上述のように、所定部分18及び第1及び第2線分13,17によって規定される第1及び第2水晶振動片6a,7aの股部の形状を、その製造時に対称とすることができるので、安定した振動を行うことができる。
【0103】
さらに、図13を用いて説明した方法により製造された水晶振動子は、水晶のZ軸に沿った軸(Z’軸)に直交する平面を含む所定領域405を有する基部405a、及び、前記平面を含む第1領域406を有し前記基部405aから水晶のY軸に沿った軸(Y’軸)に沿って延びており電圧が印加されることによって振動可能な水晶振動片406aを備えた水晶振動子400において、前記第1領域406の外周は、前記所定領域405にその一端で連続し、水晶のX軸と約30度の角度を成して前記水晶振動片406aの先端に近付く方向に延びた第1線分13と、前記第1線分13から所定間隔離隔して前記所定領域405にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向に延びた第2線分450とを有する。
【0104】
本水晶振動子は、上述のように、第1及び第2線分13,450によって規定される水晶振動片の根元部の形状を、その製造時に対称とすることができるので、安定した振動を行うことができる。
【0105】
なお、上記実施の態様に係る水晶振動子の製造方法によれば、その水晶振動子は2つの水晶振動片を備えたものについて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明は1つ或いは3つ以上の水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法にも適用可能である。
【0106】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、水晶の結晶方位に応じてエッチングが進行するので、安定した振動を行う水晶振動子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】水晶ウエハの斜視図。
【図2】マスクの形成された水晶ウエハの斜視図。
【図3】図2の水晶ウエハをA−A線矢印に沿って切った断面図。
【図4】水晶振動子中間体の斜視図。
【図5】図4の中間体をA−A線矢印に沿って切った断面図。
【図6】水晶振動子を備えた角速度検出装置。
【図7】図6の水晶振動子をA−A線矢印に沿って切った断面図。
【図8】水晶振動片の断面図。
【図9】tz/Dに対するtx/Dの分布度数を示すグラフ。
【図10】エッチング時間と突出部の高さの関係を示すグラフ。
【図11】別の中間体の平面図。
【図12】別の中間体の平面図。
【図13】別の中間体の平面図。
【図14】別の中間体の平面図。
【図15】別の中間体の平面図。
【符号の説明】
5a…基部、6a,7a…水晶振動片、100…水晶振動子、5…基部対応領域、1…水晶ウエハ、6,7…振動片対応領域、3…マスク、18…所定部分、13…第1線分、17…第2線分。

Claims (13)

  1. 水晶からなる基部及び前記基部から同一方向に延びており電圧が印加されることによって振動可能な第1及び第2水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法において、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面を有する水晶ウエハを用意する工程と、基部対応領域及び前記基部対応領域から前記水晶ウエハの所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びた第1及び第2振動片対応領域を有するマスクを前記主表面上に形成する工程と、前記マスクの形成された前記水晶ウエハをエッチングすることにより、前記マスクの前記基部対応領域及び前記第1及び第2振動片対応領域直下にそれぞれ前記基部及び前記第1及び第2水晶振動片を形成する工程と、を備え、前記基部対応領域の外周は、前記第1及び第2振動片対応領域間に位置して前記X軸に沿って延びた所定部分を有し、前記第1振動片対応領域の外周は、前記基部対応領域の前記所定部分の一端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第1線分を有し、前記第2振動片対応領域の外周は、前記基部対応領域の前記所定部分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第2線分を有することを特徴とする水晶振動子の製造方法。
  2. 前記第1振動片対応領域の前記外周は、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた線分を有し、前記第2振動片対応領域の前記外周は、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた線分を有することを特徴とする、請求項1に記載の水晶振動子の製造方法。
  3. 水晶からなる基部及び前記基部から同一方向に延びており電圧が印加されることによって振動可能な第1及び第2水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法において、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面を有する水晶ウエハを用意する工程と、基部対応領域及び前記基部対応領域から前記水晶ウエハの所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びた第1及び第2振動片対応領域を有するマスクを前記主表面上に形成する工程と、前記マスクの形成された前記水晶ウエハをエッチングすることにより、前記マスクの前記基部対応領域及び前記第1及び第2振動片対応領域直下にそれぞれ前記基部及び前記第1及び第2水晶振動片を形成する工程と、を備え、前記基部対応領域の外周は、前記第1及び第2振動片対応領域間に位置して前記X軸に沿って延びた所定部分を有し、前記第1振動片対応領域の外周は、前記基部対応領域の前記所定部分の一端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、前記第3線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記第1振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、を有し、前記第2振動片対応領域の外周は、前記基部対応領域の前記所定部分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、前記第5線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記第2振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第6線分と、を有することを特徴とする水晶振動子の製造方法。
  4. 水晶からなる基部及び前記基部から延びており電圧が印加されることによって振動可能な水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法において、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面を有する水晶ウエハを用意する工程と、基部対応領域及び前記基部対応領域から前記水晶ウエハの所定のX軸に直交する軸に沿って延びた振動片対応領域を有するマスクを前記主表面上に形成する工程と、前記マスクの形成された前記水晶ウエハをエッチングすることにより、前記マスクの前記基部対応領域及び前記振動片対応領域直下にそれぞれ前記基部及び前記水晶振動片を形成する工程と、を備え、前記振動片対応領域の外周は、前記基部対応領域にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分から所定間隔離隔して前記基部対応領域にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、を有することを特徴とする水晶振動子の製造方法。
  5. 前記振動片対応領域の前記外周は、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた線分と、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた線分とを有することを特徴とする、請求項4に記載の水晶振動子の製造方法。
  6. 水晶からなる基部及び前記基部から延びており電圧が印加されることによって振動可能な水晶振動片を備えた水晶振動子の製造方法において、水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面を有する水晶ウエハを用意する工程と、基部対応領域及び前記基部対応領域から前記水晶ウエハの所定のX軸に直交する軸に沿って延びた振動片対応領域を有するマスクを前記主表面上に形成する工程と、前記マスクの形成された前記水晶ウエハをエッチングすることにより、前記マスクの前記基部対応領域及び前記振動片対応領域直下にそれぞれ前記基部及び前記水晶振動片を形成する工程と、を備え、前記振動片対応領域の外周は、前記基部対応領域にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、前記第3線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、前記第1線分から所定間隔離隔して前記基部対応領域にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、前記第5線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記振動片対応領域の先端に近付く方向へ延びた第6線分と、を有することを特徴とする水晶振動子の製造方法。
  7. 前記水晶振動片は、前記主表面と前記主表面に対向する裏面との間に位置して前記振動片対応領域の前記外周に沿って延びた側面に突出部を有し、前記エッチングは、前記突出部の高さが、前記主表面と前記裏面との間の距離の8%以下になるまで行うことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の水晶振動子の製造方法。
  8. 水晶からなる基部と、
    前記基部から前記水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる第1及び第2水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、
    水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における前記基部の外周は、前記第1及び第2水晶振動片間に位置して前記X軸に沿って延びた所定部分を有し、
    前記主表面上における前記第1水晶振動片の外周は、前記基部の前記所定部分の一端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分を有し、
    前記主表面上における前記第2水晶振動片の外周は、前記基部の前記所定部分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分を有することを特徴とする水晶振動子。
  9. 前記第1水晶振動片の前記外周は、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた線分を有し、前記第2水晶振動片の前記外周は、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた線分を有することを特徴とする、請求項8に記載の水晶振動子。
  10. 水晶からなる基部と、
    前記基部から前記水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って同一方向に延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる第1及び第2水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、
    水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における前記基部の外周は、前記第1及び第2水晶振動片間に位置して前記X軸に沿って延びた所定部分を有し、
    前記主表面上における前記第1水晶振動片の外周は、前記基部の前記所定部分の一端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、前記第3線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記第1水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、を有し、
    前記主表面上における前記第2水晶振動片の外周は、前記基部の前記所定部分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、前記第5線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記第2水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第6線分と、を有することを特徴とする水晶振動子。
  11. 水晶からなる基部と、
    前記基部から前記水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、
    水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における前記水晶振動片の外周は、前記基部にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた線分と、前記第1線分から所定間隔離隔して前記基部にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第2線分と、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約60度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた線分とを有することを特徴とする水晶振動子。
  12. 水晶からなる基部と、
    前記基部から前記水晶の所定のX軸に直交する軸に沿って延びており、電圧が印加されることによって振動可能であり、水晶からなる水晶振動片と、を備えた水晶振動子であって、
    水晶のZ軸に沿った軸に直交した主表面上における前記水晶振動片の外周は、前記基部にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第1線分と、前記第1線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第3線分と、前記第3線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第4線分と、前記第1線分から所定間隔離隔して前記基部にその一端で連続し、前記X軸と約30度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた 第2線分と、前記第2線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約40度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第5線分と、前記第5線分の他端にその一端で連続し、前記X軸と約85度の角度を成して前記水晶振動片の先端に近付く方向へ延びた第6線分と、を有することを特徴とする水晶振動子。
  13. 前記主表面と前記主表面に対向する裏面との間に位置して前記水晶振動片の前記外周に沿って延びた側面に突出部を有し、前記突出部の高さが、前記主表面と前記裏面との間の距離の8%以下であることを特徴とする請求項8乃至12のいずれか1項に記載の水晶振動子。
JP19781396A 1996-07-26 1996-07-26 水晶振動子及びその製造方法 Expired - Fee Related JP3811226B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19781396A JP3811226B2 (ja) 1996-07-26 1996-07-26 水晶振動子及びその製造方法
US08/885,165 US5998233A (en) 1996-07-26 1997-06-30 Manufacture process of quartz vibrator
EP97111221A EP0821481B1 (en) 1996-07-26 1997-07-03 Manufacture process of quartz vibrator
DE69736731T DE69736731T2 (de) 1996-07-26 1997-07-03 Herstellungsverfahren eines Quartzvibrators
KR1019970034372A KR100273668B1 (ko) 1996-07-26 1997-07-23 수정진동자의제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19781396A JP3811226B2 (ja) 1996-07-26 1996-07-26 水晶振動子及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1041772A JPH1041772A (ja) 1998-02-13
JP3811226B2 true JP3811226B2 (ja) 2006-08-16

Family

ID=16380778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19781396A Expired - Fee Related JP3811226B2 (ja) 1996-07-26 1996-07-26 水晶振動子及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5998233A (ja)
EP (1) EP0821481B1 (ja)
JP (1) JP3811226B2 (ja)
KR (1) KR100273668B1 (ja)
DE (1) DE69736731T2 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6261406B1 (en) * 1999-01-11 2001-07-17 Lsi Logic Corporation Confinement device for use in dry etching of substrate surface and method of dry etching a wafer surface
US6262520B1 (en) 1999-09-15 2001-07-17 Bei Technologies, Inc. Inertial rate sensor tuning fork
JP2002062135A (ja) * 2000-08-23 2002-02-28 Murata Mfg Co Ltd 振動型ジャイロ装置
KR100398366B1 (ko) * 2000-12-05 2003-09-19 삼성전기주식회사 내충격성이 향상된 수정 진동자
US20040237244A1 (en) * 2003-05-26 2004-12-02 Tdk Corporation Purge system for product container and interface seal used in the system
DE602004027033D1 (de) * 2004-09-03 2010-06-17 Eta Sa Mft Horlogere Suisse Quartzresonator mit sehr kleinen Abmessungen
JP4214412B2 (ja) 2004-10-21 2009-01-28 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片と圧電デバイスならびにジャイロセンサ
JP2006217497A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Seiko Instruments Inc 水晶振動片の製造方法および水晶振動子、発振器及び電子機器
JP4548148B2 (ja) * 2005-02-24 2010-09-22 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片および圧電デバイス
JP4169012B2 (ja) 2005-03-30 2008-10-22 セイコーエプソン株式会社 ジャイロ振動片、ジャイロセンサ、及びジャイロ振動片の製造方法
JP4784168B2 (ja) * 2005-06-23 2011-10-05 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片および圧電デバイス
JP5486757B2 (ja) * 2005-12-28 2014-05-07 京セラクリスタルデバイス株式会社 慣性センサ素子
JP4435758B2 (ja) * 2006-06-29 2010-03-24 日本電波工業株式会社 水晶片の製造方法
JP5122769B2 (ja) * 2006-06-30 2013-01-16 京セラクリスタルデバイス株式会社 圧電片及び圧電片形成方法
US20100112743A1 (en) * 2008-11-05 2010-05-06 Rohm Co., Ltd. Method of manufacturing semiconductor device including vibrator which is provided with side insulating film and insulating separation region formed by thermal oxidation
JP4609586B2 (ja) * 2009-06-10 2011-01-12 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片、圧電振動片の製造方法および圧電振動子、圧電振動子を搭載した電子機器
JP5786303B2 (ja) * 2009-12-10 2015-09-30 セイコーエプソン株式会社 振動片、振動子、物理量センサー、及び電子機器
JP2010246126A (ja) * 2010-04-28 2010-10-28 Seiko Epson Corp 圧電振動片および圧電デバイス
JP2013016893A (ja) * 2011-06-30 2013-01-24 Kyocera Crystal Device Corp 水晶ウェハ
JP5655892B2 (ja) * 2013-05-30 2015-01-21 セイコーエプソン株式会社 振動ジャイロ素子、振動ジャイロ素子の支持構造及びジャイロセンサー
JP5842984B2 (ja) * 2014-11-26 2016-01-13 セイコーエプソン株式会社 振動素子、振動素子の支持構造及び振動デバイス
US11070192B2 (en) 2019-08-22 2021-07-20 Statek Corporation Torsional mode quartz crystal device
US11070191B2 (en) 2019-08-22 2021-07-20 Statek Corporation Torsional mode quartz crystal device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5668020A (en) * 1979-11-09 1981-06-08 Citizen Watch Co Ltd Tuning fork type quartz oscillator
JPS5760719A (en) * 1980-09-27 1982-04-12 Citizen Watch Co Ltd Tuning fork type quartz vibrator
JPS57199314A (en) * 1981-06-01 1982-12-07 Seiko Instr & Electronics Ltd Tuning fork type quartz oscillator
US4969359A (en) * 1989-04-06 1990-11-13 Ford Motor Company Silicon accelerometer responsive to three orthogonal force components and method for fabricating
JP3229005B2 (ja) * 1992-04-28 2001-11-12 セイコーインスツルメンツ株式会社 音叉型水晶振動子およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0821481B1 (en) 2006-09-27
KR980012865A (ko) 1998-04-30
KR100273668B1 (ko) 2000-12-15
EP0821481A2 (en) 1998-01-28
EP0821481A3 (en) 2000-01-19
US5998233A (en) 1999-12-07
DE69736731T2 (de) 2007-08-16
JPH1041772A (ja) 1998-02-13
DE69736731D1 (de) 2006-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3811226B2 (ja) 水晶振動子及びその製造方法
US8156621B2 (en) Methods of producing piezoelectric vibrating devices
JP5100753B2 (ja) 水晶振動子片およびその製造方法
US7437932B2 (en) Gyro vibration piece and gyro sensor
US10862453B2 (en) Crystal oscillating element, crystal oscillation device, and method of manufacturing crystal oscillating element
JP4407635B2 (ja) 音叉型振動片、音叉型振動子、および音叉型振動片の製造方法
JP2007093485A (ja) 水晶振動子及びその製造方法並びに物理量センサー
US20050006988A1 (en) Piezoelectric vibration gyro element, method for manufacturing the same, and piezoelectric vibration gyro sensor
JP3952811B2 (ja) 圧電振動片、圧電振動片の製造方法および圧電デバイス
JP4010218B2 (ja) 圧電振動片の製造方法
JP2005020141A (ja) 圧電振動片の製造方法及び圧電デバイスの製造方法
JP6570388B2 (ja) 圧電振動片及び圧電振動子
JP2006214779A (ja) 振動体の製造方法
JPS61127217A (ja) 圧電薄膜共振子
JP2014023134A (ja) 音叉型屈曲水晶振動素子及びその製造方法
JP6611534B2 (ja) 圧電振動片及び圧電振動子
JP5045892B2 (ja) 圧電振動片及びその製造方法
JP2016174328A (ja) ウェーハの製造方法及びウェーハ
US20240056053A1 (en) Manufacturing Method For Vibrator Element
JPH0345930B2 (ja)
US20230126632A1 (en) Method For Manufacturing Vibration Element
WO2020203144A1 (ja) 水晶振動素子の製造方法
JPS5937719A (ja) 縦振動型圧電振動子の製造方法
JPH11160074A (ja) 圧電振動式角速度センサ
JP2017060123A (ja) 圧電振動片及び圧電振動子

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041109

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050111

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051004

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051021

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060523

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060526

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110602

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110602

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120602

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120602

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120602

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120602

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130602

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130602

Year of fee payment: 7

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130602

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees