JP3534697B2 - 印刷用版材の作製方法、再生方法及び印刷機 - Google Patents

印刷用版材の作製方法、再生方法及び印刷機

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、再生使用可能な印
刷用版材を用いた、印刷用版材の作製方法、再生方法、
及びデジタルデータに基づき版へ直接画像を書き込むこ
とができる印刷機に関する。
【０００２】
【従来の技術】印刷技術一般として、昨今、印刷工程の
デジタル化が進行しつつある。これは、パソコンで画
像、原稿を作成したり、スキャナ等で画像を読み込むこ
とにより当該画像データをデジタル化し、このデジタル
データから直接印刷用版を製作するというものである。
このことによって、印刷工程全体の省力化が図れるとと
もに、高精細な印刷を行うことが容易になる。
【０００３】従来、印刷に用いる版としては、陽極酸化
アルミを親水性の非画線部とし、その表面上に感光性樹
脂を硬化させて形成した疎水性の画線部を有する、いわ
ゆるＰＳ版(Presensitized Plate)が一般的に用いられ
てきた。このＰＳ版を用いて印刷用版を作成するには複
数の工程が必要であり、このため版の製作には時間がか
かり、コストも高くなるため、印刷工程の時間短縮およ
び印刷の低コスト化を推進しにくい状況である。特に少
部数の印刷においては印刷コストアップの要因となって
いる。また、ＰＳ版では現像液による現像工程を必要と
し、手間がかかるだけでなく、現像廃液の処理が環境汚
染防止という観点から重要な課題となっている。
【０００４】さらに、ＰＳ版では、一般に原画像が穿設
されたフィルムを版面に密着させて露光する方法が用い
られており、デジタルデータから直接版を作成し印刷工
程のデジタル化を進めるうえで印刷用版の作成が障害と
なっている。また、一つの絵柄の印刷が終わると、版を
交換して次の印刷を行わなければならず、版は使い捨て
にされていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記ＰＳ版の欠点に対
して、印刷工程のデジタル化に対応し、さらに現像工程
を省略できる方法が提案され商品化されているものもあ
る。例えば、特開昭６３―１０２９３６号公報では、液
体インクジェットプリンタのインクとして感光樹脂を含
むインクを用い、これを印刷製版材に噴射し、その後
で、光照射により、画像部を硬化させることを特徴とす
る製版方法が開示されている。また、特開１１―２５４
６３３号公報では、固体インクを吐出するインクジェッ
トヘッドによりカラーオフセット印刷用刷版を作成する
方法が開示されている。
【０００６】さらにまた、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフ
タレート）フィルム上にカーボンブラックなどのレーザ
吸収層、さらにその上にシリコン樹脂層を塗布したもの
に、レーザ光線で画像を書き込むことによりレーザ吸収
層を発熱させ、その熱によりシリコン樹脂層を焼き飛ば
して印刷用版を作成する方法、あるいは、アルミ版の上
に親油性のレーザ吸収層を塗布し、さらにその上に塗布
した親水層を前記と同様にレーザ光線で焼き飛ばして印
刷用版とする方法、などが知られている。この他にも、
親水性ポリマーを版材として使用し、画像露光により照
射部を親油化させ版を作成する手段も提案されている。
しかし、このような方法では、デジタルデータから直接
版を作成することは可能であるが、一つの絵柄の印刷が
終わると新しい版に交換しなければ次の印刷が出来ず、
従って、一度使った版は廃棄されることに変わりはな
い。
【０００７】さらにまた、例えば、特開平１０―２５０
０２７号公報では、酸化チタン光触媒を用いた潜像版
下、潜像版下の製造方法、及び潜像版下を有する印刷装
置が開示されており、また特開平１１―１４７３６０号
公報においても、光触媒を用いた版材によるオフセット
印刷法が開示されている。これらは、いずれも画像書き
込みには光触媒を活性化させる光、すなわち実質的に紫
外線を用い、加熱処理で光触媒を疎水化して版を再生す
る方法を提案している。また、特開平１１―１０５２３
４号公報で開示された平版印刷版の作成方法では、光触
媒を活性光、すなわち紫外線で親水化した後、ヒートモ
ード描画にて画線部を書き込む方法を提案している。し
かし、東京大学・藤嶋教授、橋本教授らにより、酸化チ
タン光触媒は加熱処理で親水化することが確認されてお
り〔三邉ら「酸化チタン表面の構造変化に伴う光励起親
水化現象の挙動に関する研究」、光機能材料研究会第５
回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」資料，(199
8) p.124-125〕、これによれば、上記各公開公報で開示
された方法では、版の再生利用あるいは版の作成は不可
能である。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑み、デジタルデー
タから直接版を作成することができ、現像工程・現像液
を必要としないで実用上十分な画質を有し、かつ版材を
再生し繰り返し使用することを可能とする印刷用版材の
作製方法、再生方法及び印刷機を提供すること、を目的
とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
解決するために以下の手段をとった。すなわち、請求項
１に記載の発明は、光触媒を含む親水性の版材表面を有
する印刷用版材の、該版材表面の少なくとも一部に疎水
性の画線部を形成して印刷用版材を作製し、印刷後に該
印刷用版材を再生させる、印刷用版材の作製方法及び再
生方法であって、加熱処理により前記版材表面に反応な
いし固着される性質と、前記光触媒のバンドギャップエ
ネルギーより高いエネルギーをもつ光を照射することで
該光触媒の作用により分解される性質とを併せ持つ有機
系化合物を含む液を、疎水化剤として前記版材表面に塗
布する疎水化剤塗布工程と、該版材表面の少なくとも一
部を加熱処理して疎水性画線部を形成する画線部書き込
み工程と、前記版材表面の前記疎水性画線部以外の部分
に塗布された前記有機系化合物を除去する疎水化剤除去
工程と、印刷終了後に前記版材表面からインキを除去す
るインキ除去工程と、該版材表面に前記光触媒のバンド
ギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を照射
して前記疎水性画線部を分解して除去し、前記版材表面
を親水化させて再生する再生工程と、を有することを特
徴とする。また、請求項２に記載の発明は、光触媒を含
む親水性の版材表面を有する印刷用版材の、該版材表面
の少なくとも一部に疎水性の画線部を形成して印刷用版
材を作製し、印刷後に該印刷用版材を再生させる、印刷
用版材の作製方法及び再生方法であって、加熱処理によ
り前記版材表面に反応ないし固着される性質と、前記光
触媒のバンドギャップエネルギーより高いエネルギーを
もつ光を照射することで該光触媒の作用により分解され
る性質とを併せ持つ有機系化合物を含む液を、疎水化剤
として前記版材表面に塗布する疎水化剤塗布工程と、該
版材表面の少なくとも一部を加熱処理して疎水性画線部
を形成する画線部書き込み工程と、前記版材表面の前記
疎水性画線部以外の部分に塗布された前記有機系化合物
を除去する疎水化剤除去工程と、印刷終了後に前記版材
表面からインキを除去するインキ除去工程と、該版材表
面に前記光触媒のバンドギャップエネルギーより高いエ
ネルギーをもつ光を照射して疎水性画線部を分解して除
去する操作と、洗浄液で前記版材表面を洗浄する操作
と、を交互に繰り返し、前記版材表面を親水化させて再
生する再生工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】印刷用版材の版材表面に、光触媒のバンド
ギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を照射
することにより、その照射面を親水性に変換することが
可能である。これは、光触媒が親水化する作用によるも
のである。そして、当該親水性に変換された面は、疎水
性インキの付着しない非画線部として機能する。この親
水性の版材表面に、加熱処理によりこの版材表面に反応
ないし固着される性質と、光触媒のバンドギャップエネ
ルギーより高いエネルギーをもつ光を照射することでこ
の光触媒の作用により分解除去される性質とを併せ持つ
有機系化合物を含む液を、疎水化剤として塗布し、必要
に応じて室温程度の温度で乾燥させる。塗布後、あるい
は室温乾燥後は、前記有機系化合物は親水性版材表面に
弱い付着力で付着しているだけであるが、版面温度が５
０℃以上、好ましくは１００℃以上に加熱されると、前
記有機系化合物は親水性版材表面と反応ないし固着する
ことで、強固な疎水性画線部を形成するようになる。そ
して、光触媒のバンドギャップエネルギーより高いエネ
ルギーをもつ光を照射すれば、版材表面は容易に再生さ
れるため、版材の再生処理に要する時間短縮、再生コス
トの低減に有効である。また、光触媒のバンドギャップ
エネルギーより高いエネルギーをもつ光の照射と、洗浄
液で版材表面を洗浄する操作を繰り返せば、光触媒によ
る分解作用と洗浄作用との相乗効果により、版材表面は
更に容易に再生されるため、印刷用版材の再生処理に要
する時間短縮、再生コストの低減に更に有効である。な
お、ここで用いる洗浄液とは、水、または水を含む溶液
であることが好ましい。
【００１１】請求項３に記載の発明は、請求項１又は請
求項２に記載の印刷用版材の作製方法及び再生方法であ
って、前記画線部書き込み工程が、前記光触媒のバンド
ギャップエネルギーより低いエネルギーをもつ光を照射
することにより該光のエネルギーで前記有機系化合物を
加熱し、前記版材表面に反応ないし固着させて画線部を
書き込む工程であることを特徴とする。ここでいう、光
触媒のバンドギャップエネルギーより低いエネルギーを
もつ光とは、具体的には、可視光、赤外光などである
が、加熱の効率の点から赤外光が好ましい。
【００１２】請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の
いずれかに記載の印刷用版材の作製方法及び再生方法で
あって、前記疎水化剤除去工程が、洗浄液を用いて前記
版材表面を洗浄する洗浄工程であることを特徴とする。
また、請求項５に記載の発明は、請求項１〜３のいずれ
かに記載の印刷用版材の作製方法及び再生方法であっ
て、前記疎水化剤除去工程が、印刷開始初期における前
記有機系化合物を、インキまたは湿し水へ溶解させる溶
解工程であることを特徴とする。
【００１３】疎水性画線部以外の部分、つまり加熱しな
い部分の有機系化合物は、必要に応じて、請求項４に記
載の洗浄工程のように、印刷開始前に洗浄液で洗い流す
などの手段を用いるか、もしくは、請求項５に記載の溶
解工程のように、印刷開始初期にインキあるいは湿し水
中に溶解して版面から速やかに除去する手段を用いるこ
とで、加熱しない部分は有機系化合物を含む液を塗布す
る前の親水性面が露出するため、印刷用版材としての機
能を発揮することが可能となる。さらに、印刷終了後、
版材表面のインキを除去した後、版材表面に光触媒のバ
ンドギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を
照射することにより、前記有機系化合物を分解し、版を
画像書き込み前の状態に再生することが可能である。
【００１４】請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の
いずれかに記載の印刷用版材の作製方法及び再生方法で
あって、前記光触媒が、酸化チタン光触媒であることを
特徴とする。
【００１５】請求項７に記載の発明は、請求項１〜６の
いずれかに記載の印刷用版材の作製方法及び再生方法で
あって、前記有機系化合物を含む液が、水性であること
を特徴とする。ここで言う水性の基準としては、塗布す
る段階で塗布液中の有機溶剤含有量が３０ｗｔ％以下で
ある。
【００１６】請求項８に記載の発明は、請求項１〜６の
いずれかに記載の印刷用版材の作製方法及び再生方法で
あって、前記有機系化合物を含む液が、油性であること
を特徴とする。ここで言う油性の基準としては、塗布す
る段階で塗布液中の有機溶剤含有量が３０ｗｔ％を越え
るものである。
【００１７】
【００１８】
【００１９】
【００２０】
【００２１】請求項９に記載の発明は、印刷機であっ
て、光触媒を含む親水性の版材表面が備えられる版胴
と、該版材表面のインキを除去する版クリーニング装置
と、加熱処理により前記版材表面に反応ないし固着され
る性質と、前記光触媒のバンドギャップエネルギーより
高いエネルギーをもつ光を照射することで該光触媒の作
用により分解される性質とを併せ持つ有機系化合物を含
む液を、疎水化剤として前記版材表面に塗布する疎水化
剤塗布装置と、該版材表面の少なくとも一部を加熱処理
して疎水性画線部を形成する画線部書き込み装置と、前
記版材表面を乾燥させる乾燥装置と、前記光触媒のバン
ドギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を前
記版材表面に照射して、前記疎水性画線部を消去する再
生装置と、を備えたことを特徴とする。
【００２２】請求項１０に記載の発明は、請求項９に記
載の印刷機であって、前記版材表面の前記疎水性画線部
以外の部分に塗布された前記有機系化合物を除去する疎
水化剤除去装置を備えたことを特徴とする。
【００２３】請求項１１に記載の発明は、請求項９又は
請求項１０に記載の印刷機であって、前記画線部書き込
み装置が、前記光触媒のバンドギャップエネルギーより
低いエネルギーをもつ光を照射することにより該光のエ
ネルギーで前記有機系化合物を加熱し、前記版材表面に
反応ないし固着させて画線部を書き込む装置であること
を特徴とする。
【００２４】請求項１２に記載の発明は、請求項９〜１
１のいずれかに記載の印刷機であって、前記光触媒が、
酸化チタン光触媒であることを特徴とする。
【００２５】印刷機をこのような構成とすれば、請求項
１〜８のいずれかに記載の印刷用版材の作製方法及び再
生方法を、印刷機上で好適に実施することができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態に
ついて、図を参照して説明する。図１は、本実施形態に
係わる印刷用版材の表面を示す断面図を示している。こ
の印刷用版材（版材）Ｐは、基材１と、中間層２と、コ
ート層３と、から構成されている。この図において、コ
ート層３の表面（版材表面、版面）上には、後述する有
機系化合物層４が形成されている。基材１は、アルミニ
ウムやステンレス等の金属、ポリマーフィルムなどで構
成されている。ただし、基材１の材質は、これらアルミ
ニウムやステンレス等の金属あるいはポリマーフィルム
に限定されるものではない。
【００２７】基材１の表面上には、中間層２が形成され
ている。中間層２としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ
２）、シリコーン樹脂、シリコーンゴム等のシリコーン
形化合物がその材質として利用される。そのうち特に、
シリコーン樹脂としては、シリコーンアルキド、シリコ
ーンウレタン、シリコーンエポキシ、シリコーンアクリ
ル、シリコーンポリエステル等が使用される。この中間
層２は、基材１と後述するコート層３との付着を確実な
ものとならしめるため、また密着性を向上させるために
形成されているものである。基材１とコート層３との間
に、必要により中間層２を介することにより、コート層
３の付着強度を十分に保つことが可能となる。ただし、
基材１とコート層３との付着強度が十分に確保できる場
合には、中間層２はなくてもさしつかえない。さらに、
基材１がポリマーフィルム等から構成されている場合
は、必要に応じて、基材１の保護のために形成されるこ
ともある。
【００２８】中間層２上には、光触媒として酸化チタン
光触媒を含むコート層３が形成されている。このコート
層３表面は、光触媒のバンドギャップエネルギーより高
いエネルギーをもつ波長の光、例えば紫外線を照射する
ことによって高い親水性を示すようになる。この性質
は、酸化チタン光触媒の備える性質に依るものである。
図２は、非画線部の有機系化合物を除去した後、紫外線
照射により親水性を示しているコート層３が露出した状
態を表している。この親水性を示すコート層３の露出に
より、印刷用版材Ｐの非画線部を形成することが可能と
なる。
【００２９】このコート層３には、前記性質、親水特性
を維持する為、あるいはコート層３の強度や基材１との
密着性を向上させることを目的として、次に示す様な物
質を添加したものとして良い。この物質とは、例えば、
シリカ、シリカゾル、オルガノシラン、シリコン樹脂等
のシリカ系化合物、また、ジルコニウム、アルミニウム
等からなる金属酸化物又は金属水酸化物、さらにはフッ
素系樹脂を挙げることができる。酸化チタン光触媒とし
ては、ルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型がある
が、本実施形態においてはいずれも利用可能であり、そ
れらの混合物を用いてもよい。また、後述するように、
光触媒のバンドギャップエネルギーより高いエネルギー
をもつ光照射下で有機系化合物を分解する光触媒性能を
高くするためには、酸化チタン光触媒の粒子径はある程
度小さい方が好ましく、具体的に酸化チタン光触媒の粒
径は０．１μｍ以下であることが好ましい。なお、光触
媒としては酸化チタン光触媒が好適であるが、これに限
定されるものではない。
【００３０】本実施形態において使用可能でかつ市販さ
れている酸化チタン光触媒を具体的に列挙すれば、石原
産業製のＳＴ−０１、ＳＴ−２１、その加工品ＳＴ−Ｋ
０１、ＳＴ−Ｋ０３、水分散タイプＳＴＳ−０１、ＳＴ
Ｓ−０２、ＳＴＳ−２１、また、堺化学工業製のＳＳＰ
−２５、ＳＳＰ−２０，ＳＳＰ−Ｍ、ＣＳＢ、ＣＳＢ−
Ｍ、塗料タイプのＬＡＣＴｌ−０１、ＬＡＣＴＩ−０３
−Ａ、テイカ製のＴＫＳ−２０１、ＴＫＳ−２０２、Ｔ
ＫＣ−３０１、ＴＫＣ−３０２、田中転写製のＰＴＡ、
ＴＯ、ＴＰＸ、等を挙げることができる。ただし、これ
らの酸化チタン光触媒以外にあっても適用可能なこと
は、もちろんである。
【００３１】また、コート層３の膜厚は、０．０１〜１
０μｍの範囲内にあることが好ましい。というのは、膜
厚があまりに小さければ、前記した性質を十分に生かす
ことが困難となるし、また、膜厚があまりに大きけれ
ば、コート層３がヒビ割れし易くなり、耐刷性低下の要
因となるためである。なお、このヒビ割れは膜厚が２０
μｍを越えるようなときに顕著に観察されるから、前記
範囲を緩和するとしても当該２０μｍをその上限として
認識する必要がある。また、実際上は０．１〜３μｍ程
度の膜厚とするのが、より好ましい。
【００３２】さらに、このコート層３の形成方法として
は、ゾル塗布法、有機チタネート法、蒸着法等を適宜選
択して形成すればよい。このとき例えば、ゾル塗布法を
採用するのであれば、それに用いられる塗布液には、酸
化チタン光触媒およびコート層３の強度や基材１との密
着性を向上させる前記各種の物質の他に、溶剤、架橋
剤、界面活性剤等を添加しても良い。また塗布液は、常
温乾燥タイプでも加熱乾燥タイプでも良いが、後者の方
がより好ましい。というのは、加熱によりコート層３の
強度を高めた方が、版の耐刷性を向上させるのに有利と
なるからである。また例えば、真空中で金属基板上へ蒸
着法にて不定形の酸化チタン層を成長させた後、加熱処
理により結晶化させる方法など、物理的手法により高い
強度をもつ光触媒コート層を作製することも可能であ
る。
【００３３】有機系化合物層４は、コート層３表面上に
反応ないし固着された際に疎水化剤として作用する有機
系化合物を、水や有機溶剤といった液体中に溶解あるい
は分散させた液をコート層３表面上に塗布し、乾燥させ
ることで形成されている。なおここでいう「有機系化合
物」とは、「加熱処理によりコート層の表面（版材表
面）に反応ないし固着される性質と、光触媒のバンドギ
ャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を照射す
ることで光触媒の作用により分解される性質とを併せ持
つ」有機系化合物である。以下、有機系化合物とは、こ
うした性質を有する有機系化合物をいうものとする。ま
た、「有機系化合物を含む液」は、後述する有機系化合
物の種類に応じて、水性又は油性に調整される。なお、
「水性」の基準としては、塗布する段階での液中の有機
溶剤含有量が３０ｗｔ％以下であり、また「油性」の基
準としては、塗布する段階での液中の有機溶剤含有量が
３０ｗｔ％を越えるものである。ここで用いる有機溶剤
としては、有機系化合物が溶解あるいは分散可能なもの
であればよく、取扱性やコストの点からは、パラフィン
系又はイソパラフィン系の溶剤が好適であるが、これに
限定されるものではない。
【００３４】以下では、本発明による印刷用版材Ｐの作
製方法と再生方法について説明する。印刷用版材Ｐの作
製方法は、「疎水化剤塗布工程」、「画線部書き込み工
程」及び「疎水化剤除去工程」からなる。また、印刷用
版材Ｐの再生方法は、「インキ除去工程」及び「再生工
程」からなる。
【００３５】先ず、印刷用版材Ｐの作製方法について説
明する。図３に、印刷用版材Ｐの作製と再生の概念図を
示す。なお、以下において「版の作製」とは、有機系化
合物を含む液を版材表面上に塗布した後、該版材表面の
少なくとも一部をデジタルデータに基づいて加熱処理し
て疎水性画線部を形成し、加熱処理されなかった版材表
面上の前記有機系化合物を除去することをいうものとす
る。
【００３６】先ず、コート層３表面に、酸化チタン光触
媒のバンドギャップエネルギーより高いエネルギーをも
つ波長の光を照射し、図２に示すような状態、すなわち
印刷用版材Ｐの版材表面全面を水Ｗの接触角が１０°以
下の親水性表面とするような状態を現出させておく。こ
の、酸化チタン光触媒のバンドギャップエネルギーより
高いエネルギーをもつ波長の光とは、より具体的には、
波長３８０ｎｍ以下の光を含む紫外線である。そして、
疎水化剤塗布工程として、この親水性のコート層３表面
に、有機系化合物を含む液（この図では符号４Ｌで示
す）を塗布し、必要に応じて室温程度の温度で乾燥さ
せ、図１の状態、すなわちコート層３上に有機系化合物
層４が形成された状態を作る。図３（ａ）は、前記有機
系化合物を含む液を塗布した状態を、図３（ｂ）は、前
記塗布液を室温程度の常温で乾燥させた状態を、各々示
している。コート層３表面のこの状態を「版作製時の初
期状態」という。なお、上記でいう「版作製時の初期状
態」とは、実際上の印刷工程におけるその開始時とみな
してよい。より具体的にいえば、ある与えられた任意の
画像に関して、それをデジタル化したデータが既に用意
されていて、これを版材上に書き込みしようとするとき
の状態を指すものとみなせる。
【００３７】上記状態となっている、有機系化合物層４
に覆われたコート層３表面に対して、画線部書き込み工
程として、画線部を書き込む。この画線部は、画像に関
するデジタルデータに準拠して、そのデータに対応する
ように行われる。なお、ここでいう画線部とは、水の接
触角が５０°以上、好ましくは８０°以上の疎水性部分
であり、印刷用の疎水性インキが容易に付着し、一方、
湿し水の付着は困難な状態になっている。この疎水性の
画線部を画像データに基づいて現出させる方法として、
有機系化合物層４を加熱し、前記有機系化合物をコート
層３上に反応ないし固着させる方法が好適である。画線
部を加熱した後、加熱されなかった部分（非加熱部分）
である、疎水性画線部以外の部分に塗布された有機系化
合物を除去することにより、非画線部を現出させ、版を
作製することができる。
【００３８】こうした加熱方法としては、光触媒のバン
ドギャップエネルギーより低いエネルギーをもつ光を照
射することにより加熱処理を行うのが好ましい。この
「光触媒のバンドギャップエネルギーより低いエネルギ
ーをもつ光」とは、具体的には、赤外線である。こうし
た光を照射すれば、有機系化合物を、分解させることな
くコート層３上に反応ないし固着させることができる。
【００３９】ここでは、図３（ｃ）に示すように、赤外
線書き込みヘッド６を用いた赤外線照射によって、少な
くとも一部の有機系化合物層４を加熱し、有機系化合物
をコート層３表面に反応あるいは固着させて画線部４ａ
を形成するようにしている。
【００４０】画線部４ａを形成した後、図３（ｄ）に示
すように、洗浄スプレー７を用いて、水または水を含む
洗浄液を有機系化合物層４に吹き付け、非加熱部分の有
機系化合物層４を洗浄・除去して、非画線部５を現出さ
せる。これで、図３（ｅ）に示すように、コート層３表
面への画線部４ａと非画線部５の形成が完了し、印刷可
能な状態となる。
【００４１】なお、有機系化合物を含む液の塗布面を加
熱し、疎水性の画線部を画像データに基づいて現出させ
る方法として、ここでは、光で画線部を書き込んで光の
エネルギーで加熱するように構成した例を示している
が、他の構成、例えばサーマルヘッドによる有機系化合
物層４の直接加熱であってもよいことはいうまでもな
い。
【００４２】上記までの処理が終了したら、コート層３
表面に、印刷用の疎水性インキと湿し水を混合した状態
で塗布する。すると、例えば図４に示すような、印刷用
版材Ｐが製作されたことになる。この図において、網掛
けされた部分は、有機系化合物が光触媒を含むコート層
３表面と反応もしくは固着して形成された部分、すなわ
ち疎水性部分の画線部４ａに、疎水性インキが付着した
状態を示している。残りの白地の部分、すなわち親水性
部分である非画線部５には、湿し水が優先的に癒着する
一方、疎水性インキははじかれて付着しなかった状態を
示している。このように絵柄が浮かび上がることによ
り、コート層３表面は、印刷用版としての機能を有する
ことになる。この後、通常の印刷工程を実行し、これを
終了させる。
【００４３】次に、印刷用版材Ｐの再生方法について説
明する。なお、「版の再生」とは、少なくとも一部が疎
水性を示し残りが親水性を示す版材表面を、全面均一に
親水化した後、この親水性の版材表面に有機系化合物を
含む液を塗布し、必要に応じて室温程度の温度で乾燥さ
せることによって、再び「版作製時の初期状態」に復活
させることをいうものとする。
【００４４】まず、インキ除去工程として、印刷終了後
のコート層３表面に付着したインキ、湿し水、紙粉など
を拭き取る。その後、再生工程として、少なくとも一部
が疎水性を示すコート層３表面全面に、光触媒のバンド
ギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を照射
する。こうすることで、画線部４ａを形成する有機系化
合物を分解して除去し、コート層３表面全面を、水の接
触角が１０°前後の親水性表面とする、すなわち図２に
示す状態とすることが可能である。
【００４５】光触媒のバンドギャップエネルギーより高
いエネルギーをもつ波長の光、例えば紫外線、を照射す
ることによって、コート層３表面に存在する有機系化合
物を分解・除去し、かつ高い親水性を有するという性質
は、酸化チタン光触媒の備える性質に依るものである。
ここでは、図３（ｆ）に示すように、紫外線照射ランプ
８を用いて、紫外線照射のみで画線部４ａを形成する有
機系化合物を分解し、コート層３ａ表面、すなわち親水
性表面を露出させる場合を示している。紫外線照射によ
り全面親水性に回復したコート層３表面に、有機系化合
物を含む液４Ｌを再度常温で塗布し、必要に応じて室温
程度の温度で乾燥させることによって、版作製時の初期
状態に戻すことが可能である。
【００４６】また、コート層３表面全面に、光触媒のバ
ンドギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光を
照射して有機系化合物を分解する操作と、水または水を
含む洗浄液でコート層３表面を洗浄する操作と、を交互
に繰り返すことにより、さらに容易にコート層３表面全
面を、水の接触角が１０°前後の親水性表面とすること
が可能である。
【００４７】上記有機系化合物としては、加熱により版
材表面の親水性部分と反応もしくは強く固着し親水性表
面に疎水性を付与する作用を有する一方、常温では前記
反応もしくは固着が実質的に起らないことはもちろん、
それとともに紫外線照射下において酸化チタン光触媒の
作用で容易に分解されるものが好ましい。具体的には有
機チタン化合物、有機シラン化合物が好ましい。これら
化合物は、加熱により酸化チタン光触媒表面に存在する
水酸基と反応して表面に固定化されるため、原理的に酸
化チタン表面に単分子層的な疎水基層を形成する。
【００４８】有機チタン化合物の一例として、テトラア
ルコキシド系有機チタンを用いた場合の反応のスキーム
を図５に示す。また、有機シラン化合物の一例として、
テトラアルコキシド系有機シランを用いた場合の反応の
スキームを図６に示す。これらの図に示すように、水酸
基（ＯＨ）により親水性を示していた光触媒コート層表
面が、炭化水素鎖（Ｒ、Ｒ１、Ｒ２）により疎水化され
る。なお、本実施形態でいう有機チタン化合物がテトラ
アルコキシド系有機チタンに限られるものではなく、ま
た、有機シラン化合物もテトラアルコキシド系有機シラ
ンに限られるものではない。
【００４９】これら有機チタン化合物、有機シラン化合
物によれば、印刷終了後、紫外線により版面全面を再び
親水性にして、版作製の初期状態に戻す場合、この単分
子層的な疎水基層は光触媒により素早く分解・除去され
るため、版材の再生処理に要する時間短縮、光のエネル
ギー低減に有効である。さらに、この単分子層的な疎水
基層は、光触媒表面と化学反応しているため、疎水性の
油脂などを塗布した場合に比べて、耐刷性が極めて高い
という利点を有する。
【００５０】このような、有機チタン化合物の例を以下
〜に、有機シラン化合物の例を以下〜に、各々
示す。 テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキ
シチタン、テトラステアロキシチタンなどのアルコキシ
チタン。 トリ−ｎ−ブトキシチタンステアレート、イソプロ
ポキシチタントリステアレートなどのチタンアシレー
ト。 ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトネー
ト、ジヒドロキシ・ビスラクタトチタンなどのチタンキ
レート。 トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルト
リエトキシシランなどのアルコキシシラン。 トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、
ジメチルクロロシランなどのクロロシラン。 ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルメチルジコロロシラン、γ−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ンなどのシランカップリング剤。 パーフロロアルキルトリメトキシシランなどのフロ
ロアルキルシラン。
【００５１】なお、有機系化合物はこれらに限るもので
は無い。さらに、これらの化合物は必要に応じて溶剤な
どで希釈して使用して良く、さらに必要に応じて熱可塑
性樹脂、疎水性の油脂、フッ素系化合物などを混合して
用いても良いことは言うまでもない。
【００５２】さらにまた、前記有機系化合物として、脂
肪酸デキストリンが好ましい。この化合物は、加熱によ
り酸化チタン光触媒表面に存在する水酸基と強く相互作
用して表面に固定化されるため、脂肪酸デキストリンで
形成された画線部は、例えば湿し水によって置換される
ことなく、安定して印刷することができる。脂肪酸デキ
ストリンの一例としてパルチミン酸デキストリンを用い
た場合の、相互作用の反応のスキームを、図７に示す。
なお、このパルチミン酸デキストリンの他にも、（パル
チミン酸／２―エチルヘキサン酸）デキストリン、ミス
チリン酸デキストリンが好適であるが、脂肪酸デキスト
リンとしては、これらに限られるものではない。
【００５３】以上説明したことを、まとめて示している
のが図８に示したグラフである。これは、横軸に時間
（あるいは操作）、縦軸に水の接触角をとったグラフで
あって、本実施形態における印刷用版材Ｐに関して、そ
のコート層３表面の接触角（すなわち、疎水、親水状
態）が時間あるいは操作に伴ってどのように変化するか
を示したものである。この図において、一点鎖線はコー
ト層３表面又は非画線部５を、実線は画線部４を、各々
示している。まず、コート層３表面に紫外線を照射し
て、コート層３表面の、水の接触角が１０°前後、好ま
しくは１０°以下である高い親水性を示すようにしてお
く。最初に、疎水化剤塗布工程（Ａの工程）として、コ
ート層３表面に、前記有機系化合物を含む液を塗布し
（点ａ）、その後、必要があれば液を室温程度の常温で
乾燥させる。なお、この図においては、乾燥工程を必要
としない場合を示している。有機系化合物を含む液を塗
布し終わった状態が、つまり「版作製時の初期状態」で
ある。
【００５４】次に、画線部書き込み工程（Ｂの工程）と
して、コート層３表面上の有機系化合物の画線部相当部
分を加熱して、画線部の書き込みを開始する（点ｂ）。
こうすることによって、有機系化合物はコート層３表面
と反応または固着し、画線部は高い疎水性を示すように
なる。一方、非画線部では有機系化合物と版面との反応
または固着は実質的に起らず、画線部書き込み前と同じ
状態を維持する。画線部書き込みが完了したら、疎水化
剤除去工程（Ｃの工程）として、非画線部の有機系化合
物を、洗浄等の方法によるコート層３表面から除去を開
始する（点ｃ）。すなわち、非画線部５として、親水性
のコート層３表面を露出させる。これにより、コート層
３表面は、有機系化合物が反応または固着して形成され
た疎水性の画線部と、有機系化合物が除去された親水性
の非画線部が現出し、印刷用版として機能することがで
きるようになる。非画線部５の除去が完了した後、印刷
工程（Ｄの工程）として、印刷を開始することになる
（点ｄ）。
【００５５】印刷が終了すると、インキ除去工程（Ｅの
工程）として、コート層３表面のインキ、汚れなどを拭
き取ってクリーニングを開始する（点ｅ）。クリーニン
グ完了、すなわちインキの拭き取りが完了した後に、再
生工程（Ｆの工程）として、コート層３表面への紫外線
照射を開始する。こうすることにより、前記の有機系化
合物で形成された画線部４ａを分解・除去し、コート層
３表面を再び親水性に戻す。この後、次の疎水化剤除去
工程（Ａ’の工程）として、再び有機系化合物を含む液
を塗布する（点ａ’）ことにより、「版作製時の初期状
態」に戻ることになり、この印刷用版材Ｐは再利用に供
されることになる。
【００５６】本発明の印刷用版材の作製方法及び再生方
法における、版作製および版再生の手順は、以下の実施
例にて詳細に説明する。以下では、印刷用版材の作製方
法及び再生方法にかかわる、本願発明者らが確認したよ
り具体的な実施例について説明する。まず、その面積が
葉書サイズ、厚さが０．３ｍｍのアルミニウム製の基材
１を用意し、これに堺化学工業製プライマーＬＡＣ Ｐ
Ｒ−０１を塗布、乾燥させた。乾燥後のプライマーの厚
みは０．８μｍであった。なお、このプライマー層と
は、図１における中間層２に対応している。その後、堺
化学工業製の酸化チタン光触媒コーティング剤ＬＡＣ
ＴＩ−０１を塗布し１００℃で乾燥させて、厚み０．４
μｍの酸化チタン光触媒を含むコート層３を成膜した。
次に、版面全面、すなわちコート層３表面全面に、低圧
水銀ランプを用いて波長２５４ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃ
ｍ2の紫外線を２０秒照射した後、紫外線照射部分につ
いて直ちにＣＡ−Ｗ型接触角計で水の接触角を測定した
ところ、接触角は７°となり、非画線部として十分な親
水性を示した。
【００５７】次に、テトラ−ｎ−ブトキシチタン（日本
曹達（株））２ｇをアイソパーＬ（エクソン化学製）９
８ｇに溶解した液を、ロールコートにより、親水性とな
っている版面全面に塗布した後、２５℃で５分間放置
し、版面のアイソパーを蒸発させた。その後、波長８５
０ｎｍ、出力２５０ｍＷ、ビーム径１５μｍの赤外線を
用いた画像書き込み装置により、版面に画線率１０％か
ら１００％までの１０％刻みの網点画像を書き込むこと
で、照射部分のテトラ−ｎ−ブトキシチタンを加熱し、
版面と反応させた。その後、非画線部のテトラ−ｎ−ブ
トキシチタンを水で洗浄して版面から除去した。画線率
１００％の部分と非画線部についてＣＡ−Ｗ型接触角計
で水の接触角を測定したところ、画線率１００％の部分
と非画線部の接触角はそれぞれ９２°と７°で、版が出
来ていることを示した。
【００５８】この印刷用版材を、（株）アルファー技研
の卓上オフセット印刷機ニューエースプロに取り付け、
東洋インキ製のインキＨＹＥＣＯＯ Ｂ紅ＭＺと三菱重
工業製の湿し水リソフェロー１％溶液を用いて、アイベ
スト紙に印刷速度３５００枚／時にて印刷を行った。こ
の結果、網点画像を書き込んだ部分にはインキが付着
し、一方、画像を書き込まなかった非画線部にはインキ
が付着せず、紙面上には網点が印刷できた。
【００５９】次に印刷用版材の再生に係わる実施例を説
明する。印刷終了後、版面上に付着したインキ、湿し
水、紙粉などをきれに拭き取った版面全面に、低圧水銀
ランプを用いて波長２５４ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2
の紫外線を２０秒照射した。その後、網点を書き込んで
いた部分について直ちにＣＡ−Ｗ型接触角計で水の接触
角を測定したところ、接触角は８°となり、十分な親水
性を示すことを確認した。
【００６０】なお、上記の版の作製、印刷および版の再
生を印刷機上で行うためには、図９に示すような印刷機
１０を用いるのが好ましい。この印刷機１０は、版胴１
１を中心として、その周囲に版クリーニング装置１２、
紫外線照射装置１３、疎水化剤塗布装置１４、乾燥装置
１５、画線部書き込み装置１６、インキングローラ１
７、湿し水供給装置１８およびブランケット胴１９を備
えたものとなっている。印刷用版材Ｐは、版胴１１に巻
き付けられて設置されている（図９において図示略）。
【００６１】版クリーニング装置１２は、印刷終了後の
コート層３上のインキ、湿し水、紙粉などを除去するも
のである。紫外線照射装置（再生装置）１３は、紫外線
をコート層３表面に照射することで、画線部４ａを形成
する有機系化合物を分解除去するものである。疎水化剤
塗布装置１４は、紫外線を照射することにより分解除去
される有機系化合物、すなわち有機チタン化合物、有機
シラン化合物あるいは脂肪酸デキストリンなどを含む液
を、コート層３表面のほぼ全面に塗布するものである。
乾燥装置１５は、印刷用版材Ｐを乾燥させるものであ
り、コート層３上に塗布された有機系化合物を含む液を
乾燥させて有機溶剤等をとばして、有機系化合物層４を
容易に形成させることもできる。画線部書き込み装置１
６は、コート層３表面に赤外線を照射して、画線部４ａ
を形成させるものである。
【００６２】なお、紫外線照射装置１３、疎水化剤塗布
装置１４、乾燥装置１５及び画線部書き込み装置１６
は、版胴１１の回転方向（図中矢印方向）に対してこの
順となるように、版胴１１の周囲に設けられており、版
胴１１の回転に伴い版の再生及び作製が連続的に行える
ので、版の再生及び作製を効率よく行えるようになって
いる。
【００６３】この印刷機１０において、上記したように
印刷を終了した版の再生は、次のように行われる。ま
ず、版クリーニング装置１２を版胴１１に対して接した
状態とし、コート層３表面上に付着したインキ、湿し
水、紙粉などをきれに拭き取る。その後、クリーニング
装置１２を版胴１１から脱離させ、再生工程として、紫
外線照射装置１３でコート層３表面全面に紫外線照射し
て、有機系化合物を分解して除去し、版面全面を親水化
する。
【００６４】その後、前記有機系化合を含む液を、塗布
装置１４を用いてコート層３表面全面、すなわち版面全
面に塗布し、必要なら乾燥機１５を用いて、室温程度の
常温で塗布液を乾燥させる。これにより、コート層３表
面に有機系化合物層４が形成されて、版作製時の初期状
態となる。次に、画線部書き込み工程として、予め用意
された画像のデジタルデータに基づき、画線部書き込み
装置１６で版面を加熱して、画線部４ａを書き込む。
【００６５】次に行う、非加熱部分である非画線部５の
有機系化合物を除去する疎水化剤除去工程には、２種類
の工程がある。そのうちの一つは、版クリーニング装置
１２を用いて版面から有機系化合物を除去するようにす
る工程であり、他の一つは、有機系化合物をインキ中に
溶解させて版面から除去するようにする工程、つまり溶
解工程である。すなわち、前者の場合には、版クリーニ
ング装置１２が疎水化剤除去装置を兼ねることとなり、
後者の場合には、インキ（図示省略）、ブランケット胴
１９及び紙２０が疎水化剤除去装置を構成することとな
る。何れを採用するかは、主として有機系化合物の種類
によって、すなわち有機系化合物がインキに不溶か可溶
かによって定められる。後者の溶解工程を採用する場合
には、画線部書き込み工程の終了後、以下に記す印刷工
程を開始してよい。
【００６６】印刷工程は、インキングローラ１７、湿し
水供給装置１８及びブランケット胴１９を版胴１１に対
して接する状態とし、そして、紙２０がブランケット胴
１９に接するようにして、かつ図９に示す矢印の方向に
搬送していく。こうすることによって、連続的な印刷が
行われるようになっている。
【００６７】この印刷機においては、印刷後の版面のク
リーニング、紫外線照射による画線部の分解・除去、前
記有機系化合を含む液の塗布、加熱による画線部書き込
み、および非画線部の有機系化合物の除去の一連の版再
生および版作製の工程を、印刷用版材を印刷機に取り付
けたまま、印刷機上でも行うことができる。これによれ
ば、印刷機を停止することなく、また印刷版の交換作業
を挟むことなく連続的な印刷作業の実施を行うことが可
能となる。
【００６８】なお、この印刷機においては、印刷用版材
を版胴に巻き付けるように構成しているが、これに限定
されるものではなく、版胴表面に酸化チタン光触媒を含
むコート層を直接設ける、すなわち版胴と印刷用版材と
が一体に構成されたものを用いてもよいことは、言うま
でもない。
【００６９】また、この印刷機においては、疎水化剤除
去装置として、他の構成要素を兼用するようにしている
が、独立した構成要素としての疎水化剤除去装置を設け
てもよい。例えば、版面に水を噴霧する装置と、吸湿ロ
ーラとを組み合わせたもの等が挙げられる。
【００７０】本実施形態に係る印刷用版材の作製方法及
び再生方法においては、印刷用版材の再利用が可能とな
っているという利点もさることながら、そのサイクルを
迅速化できる利点をも備えている。すなわち、酸化チタ
ン光触媒と、この酸化チタン光触媒の作用で容易に分解
する有機系化合物と、デジタルデータに基づいて有機系
化合物塗布面を加熱し画線部形成する技術と組み合わせ
ることで、版を作製するにも、版を再生するにも、いず
れにしても、それらを実現するための作業に時間がかか
らないこととなっている。従って、印刷工程全体を極め
て速やかに完了することが可能なものとなっている。
【００７１】また、酸化チタン光触媒のもつ公知の性
質、すなわちバンドギャップエネルギーより高いエネル
ギーをもつ波長の光を照射することにより親水性化する
性質および有機物を分解する性質と、加熱処理により版
材表面に反応ないし固着される性質および前記光触媒の
バンドギャップエネルギーより高いエネルギーをもつ光
を照射することにより分解除去される性質を併せ持つ有
機系化合物と、デジタルデータに基づき版面の前記有機
系化合物を加熱し、有機化合物を版面と反応あるいは固
着させる方法で画線部を書き込む技術と、を組み合わせ
て利用することにより、版材の再生・再利用を可能と
し、使用後に廃棄される版材の量を著しく減少させるこ
とができる。したがって、その分、版材に関わるコスト
を大幅に低減することができる。また、画像に係わるデ
ジタルデータから、版材への画像書き込みを直接実施す
ることが可能であることから、印刷工程のデジタル化対
応がなされており、その相応分の大幅な時間短縮、また
はコスト削減を図ることができる。
【００７２】さらに、本実施形態に係る印刷機において
は、版作製と版再生を印刷機上で行うことが可能である
から、印刷作業の迅速化を実現することもできる。
【００７３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る印刷
用版材の作製方法、再生方法及び印刷機によれば、版材
を再生し繰り返し使用することにより、使用後に廃棄さ
れる版材の量を著しく減少させることができるととも
に、版材に関わるコストが低減できるようになる。ま
た、印刷工程に占める版再生時間が短縮できるため、印
刷準備時間の短縮ができる。さらに、デジタルデータか
ら直接版を作成することにより、印刷工程のデジタル化
対応や時間短縮ができるようになる。さらに、印刷機に
取り付けた状態で、版作製および版再生ができるように
なり、版交換作業をなくし操作性を向上させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る印刷用版材の作製方法、再生
方法の一実施形態に用いる印刷用版材の構成を示す断面
図である。また、この図はコート層表面に有機系化合物
層が形成されている状況も同時に示している。
【図２】 本発明に係る印刷用版材の作製方法、再生
方法の一実施形態に用いる印刷用版材の構成を示す断面
図である。また、この図はコート層表面が親水性を示し
ている状況も同時に示している。
【図３】 版材表面への版の作製と版の再生の概念図
である。
【図４】 版材表面に描かれた画像（画線部）とその
白地（非画線部）の一例を示す斜視図である。
【図５】 酸化チタン表面の水酸基と有機チタン化合
物の反応により、酸化チタン表面に有機疎水基の単分子
層が形成された状態を示す図である。
【図６】 酸化チタン表面の水酸基と有機シラン化合
物の反応により、酸化チタン表面に有機疎水基の単分子
層が形成された状態を示す図である。
【図７】 酸化チタン表面の水酸基と脂肪酸デキスト
リンの相互作用により、酸化チタン表面に有機疎水基の
単分子層が形成された状態を示す図である。
【図８】 親水性の版材表面へ有機系化合物により画
線部を形成し、印刷終了後、紫外線照射により画線部を
消去する様子を時間に沿って示したグラフ図である。
【図９】 本発明に係る印刷機の構成の一例を示す概
略構成図である。
【符号の説明】
Ｐ 印刷用版材（版材） １ 基材 ２ 中間層 ３ コート層 ４ 有機系化合物層 ４ａ 画線部 ５ 非画線部 １０ 印刷機 １１ 版胴 １２ 版クリーニング装置 １３ 紫外線照射装置（再生装置） １４ 疎水化剤塗布装置 １５ 乾燥装置 １６ 画線部書き込み装置 １７ インキングローラ １８ 湿し水供給装置 １９ ブランケット胴 ２０ 紙 Ｗ 水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開2001−305721（ＪＰ，Ａ) 特開2002−79774（ＪＰ，Ａ) 特開2002−2137（ＪＰ，Ａ) 特開2001−171067（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41C 1/10 B41N 1/14 G03F 7/00 503 B41F 7/02

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光触媒を含む親水性の版材表面を有する
    印刷用版材の、該版材表面の少なくとも一部に疎水性の
    画線部を形成して印刷用版材を作製し、印刷後に該印刷
    用版材を再生させる、印刷用版材の作製方法及び再生方
    法であって、 加熱処理により前記版材表面に反応ないし固着される性
    質と、前記光触媒のバンドギャップエネルギーより高い
    エネルギーをもつ光を照射することで該光触媒の作用に
    より分解される性質とを併せ持つ有機系化合物を含む液
    を、疎水化剤として前記版材表面に塗布する疎水化剤塗
    布工程と、 該版材表面の少なくとも一部を加熱処理して疎水性画線
    部を形成する画線部書き込み工程と、 前記版材表面の前記疎水性画線部以外の部分に塗布され
    た前記有機系化合物を除去する疎水化剤除去工程と、印刷終了後に前記版材表面からインキを除去するインキ
    除去工程と、 該版材表面に前記光触媒のバンドギャップエネルギーよ
    り高いエネルギーをもつ光を照射して前記疎水性画線部
    を分解して除去し、前記版材表面を親水化させて再生す
    る再生工程と、 を有することを特徴とする印刷用版材の作製方法及び再
    生方法。
  2. 【請求項２】 光触媒を含む親水性の版材表面を有する
    印刷用版材の、該版材表面の少なくとも一部に疎水性の
    画線部を形成して印刷用版材を作製し、印刷後に該印刷
    用版材を再生させる、印刷用版材の作製方法及び再生方
    法であって、 加熱処理により前記版材表面に反応ないし固着される性
    質と、前記光触媒のバンドギャップエネルギーより高い
    エネルギーをもつ光を照射することで該光触媒の作用に
    より分解される性質とを併せ持つ有機系化合物を含む液
    を、疎水化剤として前記版材表面に塗布する疎水化剤塗
    布工程と、 該版材表面の少なくとも一部を加熱処理して疎水性画線
    部を形成する画線部書き込み工程と、 前記版材表面の前記疎水性画線部以外の部分に塗布され
    た前記有機系化合物を除去する疎水化剤除去工程と、 印刷終了後に前記版材表面からインキを除去するインキ
    除去工程と、 該版材表面に前記光触媒のバンドギャップエネルギーよ
    り高いエネルギーをもつ光を照射して疎水性画線部を分
    解して除去する操作と、洗浄液で前記版材表面を洗浄す
    る操作と、を交互に繰り返し、前記版材表面を親水化さ
    せて再生する再生工程と、 を有することを特徴とする印刷用版材の作製方法及び再
    生方法 。
  3. 【請求項３】 前記画線部書き込み工程が、前記光触媒
    のバンドギャップエネルギーより低いエネルギーをもつ
    光を照射することにより該光のエネルギーで前記有機系
    化合物を加熱し、前記版材表面に反応ないし固着させて
    画線部を書き込む工程であることを特徴とする請求項１
    又は請求項２に記載の印刷用版材の作製方法及び再生方
    法。
  4. 【請求項４】 前記疎水化剤除去工程が、洗浄液を用い
    て前記版材表面を洗浄する洗浄工程であることを特徴と
    する請求項１〜３のいずれかに記載の印刷用版材の作製
    方法及び再生方法。
  5. 【請求項５】 前記疎水化剤除去工程が、印刷開始初期
    における前記有機系化合物を、インキまたは湿し水へ溶
    解させる溶解工程であることを特徴とする請求項１〜３
    のいずれかに記載の印刷用版材の作製方法及び再生方
    法。
  6. 【請求項６】 前記光触媒が、酸化チタン光触媒である
    ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の印刷
    用版材の作製方法及び再生方法。
  7. 【請求項７】 前記有機系化合物を含む液が、水性であ
    ることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の印
    刷用版材の作製方法及び再生方法。
  8. 【請求項８】 前記有機系化合物を含む液が、油性であ
    ることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の印
    刷用版材の作製方法及び再生方法。
  9. 【請求項９】 光触媒を含む親水性の版材表面が備えら
    れる版胴と、 該版材表面のインキを除去する版クリーニング装置と、 加熱処理により前記版材表面に反応ないし固着される性
    質と、前記光触媒のバンドギャップエネルギーより高い
    エネルギーをもつ光を照射することで該光触媒の作用に
    より分解される性質とを併せ持つ有機系化合物を含む液
    を、疎水化剤として前記版材表面に塗布する疎水化剤塗
    布装置と、 該版材表面の少なくとも一部を加熱処理して疎水性画線
    部を形成する画線部書き込み装置と、 前記版材表面を乾燥させる乾燥装置と、 前記光触媒のバンドギャップエネルギーより高いエネル
    ギーをもつ光を前記版材表面に照射して、前記疎水性画
    線部を消去する再生装置と、 を備えたことを特徴とする印刷機。
  10. 【請求項１０】 前記版材表面の前記疎水性画線部以外
    の部分に塗布された前記有機系化合物を除去する疎水化
    剤除去装置を備えたことを特徴とする請求項９に記載の
    印刷機。
  11. 【請求項１１】 前記画線部書き込み装置が、前記光触
    媒のバンドギャップエネルギーより低いエネルギーをも
    つ光を照射することにより該光のエネルギーで前記有機
    系化合物を加熱し、前記版材表面に反応ないし固着させ
    て画線部を書き込む装置であることを特徴とする請求項
    ９又は請求項１０に記載の印刷機。
  12. 【請求項１２】 前記光触媒が、酸化チタン光触媒であ
    ることを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の
    印刷機。
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