JP2003231372A - 印刷用版材及び印刷用版材の再生再使用方法並びに印刷機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 扱いやすく且つコンパクトな装置を用いてデ
ジタルデータから直接版を作成することができ、且つ再
生により繰り返し使用することが可能な印刷用版材を提
供する。 【解決手段】 紫外線のみならず可視光にも応答する光
触媒を含む感光層３の表面に疎水基を有する有機系化合
物からなる被膜４を形成することで、可視光の照射によ
る版材表面への画像の書き込みと、書き込まれた画像の
消去による版材表面の再生とにより繰り返し使用可能に
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光の照射による版
材表面への画像の書き込みと、書き込まれた画像の消去
による前記版材表面の再生とにより繰り返し使用可能な
印刷用版材、及びその再生再使用方法に関する。さら
に、前記印刷用版材を用いて版作製と版再生とを印刷機
上で行うことが可能な印刷機に関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷技術一般として、昨今、印刷工程の
デジタル化が進行しつつある。これは、パソコンで画
像、原稿を作成したり、スキャナ等で画像を読み込んだ
りすることにより当該画像データをデジタル化し、この
デジタルデータから直接印刷用版を製作するというもの
である。このことによって、印刷工程全体の省力化が図
れるとともに、高精細な印刷を行うことが容易になる。

【０００３】従来、印刷に用いる版としては、陽極酸化
アルミを親水性の非画線部とし、その表面上に感光性樹
脂を硬化させて形成した疎水性の画線部を有する、いわ
ゆるＰＳ版（Presensitized Plate）が一般的に用いら
れてきた。このＰＳ版を用いて印刷用版を作成するには
複数の工程が必要であり、このため版の製作には時間が
かかり、コストも高くなるため、印刷工程の時間短縮お
よび印刷の低コスト化を推進しにくい状況である。特に
少部数の印刷においては印刷コストアップの要因となっ
ている。また、ＰＳ版では現像液による現像工程を必要
とし、手間がかかるだけでなく、現像廃液の処理が環境
汚染防止という観点から重要な課題となっている。

【０００４】さらに、ＰＳ版では、一般に原画像が穿設
されたフィルムを版面に密着させて露光する方法が用い
られており、デジタルデータから直接版を作成し印刷工
程のデジタル化を進めるうえで印刷用版の作成が障害と
なっている。また、一つの絵柄の印刷が終わると、版を
交換して次の印刷を行わなければならず、版は使い捨て
にされていた。

【０００５】前記ＰＳ版の欠点に対して、印刷工程のデ
ジタル化に対応し、さらに現像工程を省略できる方法が
提案され商品化されているものもある。例えば、特開昭
６３−１０２９３６号公報には、液体インクジェットプ
リンタのインクとして感光樹脂を含むインクを用い、こ
れを印刷製版材に噴射し、その後で、光照射により、画
像部を硬化させることを特徴とする製版方法が開示され
ている。また、特開１１−２５４６３３号公報には、固
体インクを吐出するインクジェットヘッドによりカラー
オフセット印刷用刷版を作成する方法が開示されてい
る。

【０００６】さらにまた、ＰＥＴ（Polyethylene Terep
hthalate）フィルム上にカーボンブラックなどのレーザ
吸収層、さらにその上にシリコン樹脂層を塗布したもの
に、レーザ光線で画像を書き込むことによりレーザ吸収
層を発熱させ、その熱によりシリコン樹脂層を焼き飛ば
して印刷用版を作成する方法。或いは、アルミ版の上に
親油性のレーザ吸収層を塗布し、さらにその上に塗布し
た親水層を前記と同様にレーザ光線で焼き飛ばして印刷
用版とする方法、などが知られている。

【０００７】この他にも、親水性ポリマーを版材として
使用し、画像露光により照射部を親油化させ版を作成す
る手段も提案されている。さらに、ＰＳ版へデジタルデ
ータから直接レーザで画像を書き込む方式も提案され、
例えば波長４０５ｎｍのバイオレットレーザやマイクロ
ミラーとＵＶランプを用いた書き込み装置、いわゆるＣ
ＴＰ（Computer to Plate）も市販されている。

【０００８】しかし、このような方法では、デジタルデ
ータから直接版を作成することは可能であるが、一つの
絵柄の印刷が終わると新しい版に交換しなければ次の印
刷が出来ず、従って、一度使った版は廃棄されることに
変わりはない。さらにまた、例えば、特開平１０−２５
００２７号公報には、酸化チタン光触媒を用いた潜像版
下、潜像版下の製造方法、及び潜像版下を有する印刷装
置が、また特開平１１−１４７３６０号公報において
も、光触媒を用いた版材によるオフセット印刷法が開示
されている。しかし、これらは、いずれも画像書き込み
には光触媒を活性化させる光、すなわち実質的に紫外線
を用い、加熱処理で光触媒を疎水化して版を再生する方
法を提案している。

【０００９】また、特開平１１−１０５２３４号公報で
開示された平版印刷版の作成方法では、光触媒を活性
光、すなわち紫外線で親水化した後、ヒートモード描画
にて画線部を書き込む方法を提案している。しかし、東
京大学・藤嶋教授、橋本教授らにより、酸化チタン光触
媒は加熱処理で親水化することが確認されており〔三邊
ら「酸化チタン表面の構造変化に伴う光励起親水化現象
の挙動に関する研究」、光機能材料研究会第５回シンポ
ジウム「光触媒反応の最近の展開」資料、（１９９８）
ｐ．１２４−１２５〕、これによれば、前記各公開公報
で開示された方法では、版の再生利用或いは、版の作成
は不可能である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前記事情に対して、本
発明者らは、湿式現像処理なしでデジタルデータから直
接版を作成することができ、且つ再生により繰り返し使
用することを可能とする印刷用版材やその再生方法の開
発を行い、特許出願を行った（特願平１０−２２９１１
０）。

【００１１】そして、その後、より扱いやすく且つより
コンパクトな装置で版の作成や再生が可能な印刷用版材
について鋭意研究を重ねた。すなわち、本発明は、扱い
やすく且つコンパクトな装置を用いてデジタルデータか
ら直接版を作成することができ、且つ再生により繰り返
し使用することが可能な印刷用版材とその再生再使用方
法を提供することを目的とする。

【００１２】また、該印刷用版材を用いることによって
扱いやすく且つコンパクトな構造とした再生式の機上製
版印刷機を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の印刷用版材は、光の照射による版材表面へ
の画像の書き込みと、書き込まれた画像の消去による前
記版材表面の再生とにより繰り返し使用可能な印刷用版
材であって、可視光に応答する光触媒を含む感光層の表
面に疎水基を有する有機系化合物からなる被膜が形成さ
れていることを特徴とする（請求項１）。光触媒はバン
ドギャップエネルギーより高いエネルギーの波長の光を
照射することで活性化するが、従来の提案では紫外線を
用いることが具体例として挙げられていた。確かに紫外
線は波長が短くエネルギーが高いので光触媒に触媒活性
を発現させることは容易であるが、その半面、取り扱い
に注意を要するとともに画像を書き込む照射装置が大型
になってしまう。そこで、本発明の印刷用版材では可視
光に応答する光触媒を用いることで、画像の書き込み装
置として可視光の照射装置を用いることを可能にし、扱
いやすさと装置のコンパクトさとを実現した。

【００１４】なお、光触媒が可視光に応答する場合、こ
の光触媒が可視光よりも高エネルギーの紫外線にも応答
することは言うまでもない。このような光触媒域として
は、６００ｎｍ以下、少なくとも５００ｎｍ以下の波長
の光に応答するものを用いるのが好ましい（請求項
２）。以後、光触媒に触媒活性を発現させる有効なエネ
ルギーを持った光を活性光と呼ぶこととする。

【００１５】光触媒には、活性光の照射により光触媒自
身の特性が変換するという特徴と、表面の有機系化合物
を酸化分解するという特徴とがあるが、本発明では表面
の有機系化合物の酸化分解によって感光層の親水性表面
が露出し、画像の書き込みが行われることをさらなる特
徴としている（請求項３）。なお、光触媒自身の特性も
活性光の照射により親水性に変換するので、前記感光層
の初期状態は親水性でも疎水性でもよい。版材表面のう
ち感光層の親水性表面が露出した部分には湿し水が優先
的に付着し、疎水性インキが付着しない非画線部として
機能する。一方、活性光が照射されなかった版材表面は
有機系化合物で被覆されたままの状態であるため疎水性
であり、疎水性インキが優先的に付着し、湿し水が付着
しない画線部として機能する。

【００１６】前記印刷用版材の版材表面は、有機系化合
物を感光層に相互作用させて感光層の親水性表面を有機
系化合物で被覆することで再生することができる（請求
項４）。この場合の有機系化合物と感光層との相互作用
は化学反応を伴うものであってもよい（請求項５）。ま
た、有機系化合物を感光層に相互作用させる方法として
は、有機系化合物の蒸気を版材表面に供給する方法や、
液体状の有機系化合物或いは有機系化合物を含む液体を
版材表面に供給する方法が挙げられる。

【００１７】なお、前記の光触媒としては、酸化チタン
光触媒の加工物を用いることができる（請求項６）。こ
こで言う酸化チタン光触媒の加工物とは、酸化チタン光
触媒をベースとして、酸化チタン光触媒に本来含有され
る元素以外の金属元素又は非金属元素をドーピングまた
は担持したものや、酸化チタン光触媒のＴｉ元素とＯ元
素の比率を化学量論的比率、即ちＴｉ原子１に対してＯ
原子２の比率からずらしたものなどであり、酸化チタン
光触媒のバンドギャップ間に新たな順位を形成すること
で紫外線のみならず可視光でも応答するように改良した
ものを言う。

【００１８】また、本発明は前記印刷用版材（請求項４
記載の印刷用版材）を再生使用する方法も提供する（請
求項７）。この印刷用版材の再生再使用方法は、印刷終
了後に前記印刷用版材の版材表面からインキを除去（イ
ンキ除去工程）し、版材表面に露出した感光層を有機系
化合物で被覆して版材表面の全体を疎水化する（疎水化
処理工程）。そして、活性光の照射により照射部におけ
る有機系化合物を光触媒の作用で分解して感光層の親水
性表面を露出させることにより、版材表面に新たな画像
を書き込む（画像書き込み工程）。

【００１９】なお、前記疎水化処理工程における版材表
面の疎水化の方法としては、有機系化合物の蒸気を版材
表面に供給することにより（請求項８）、或いは液体状
の有機系化合物或いは有機系化合物を含む液体を版材表
面に供給することにより（請求項９）、有機系化合物を
感光層に相互作用させ感光層の親水性表面を有機系化合
物で被覆する方法が挙げられる。

【００２０】好ましくは、前記疎水化処理工程におい
て、版材表面に露出した感光層を有機系化合物で被覆す
るに先立ち、版材表面の全体に活性光、すなわち、可視
光以下の波長の光を照射する（請求項１０）。可視光以
下の波長を照射することで光触媒の作用により残りの有
機系化合物も全て分解する。これにより版材表面の全体
が親水性となり、版材表面の履歴が解消されるので、版
材表面全体をより均一に再生することが可能となる。な
お、照射する可視光以下の波長の光としては、波長約４
００ｎｍから６００ｎｍの可視光だけでなく、約４００
ｎｍ以下の紫外線、あるいは紫外から可視領域の光など
を用いることができる。

【００２１】なお、インキ除去工程におけるインキの除
去方法としては、インキ供給を停止した状態で印刷機を
運転する刷り減らしによって前記版材表面からインキを
除去する方法（請求項１１）や、巻き取り式の布状テー
プで版材表面のインキを拭き取る方法（請求項１２）
や、布状物を巻きつけたローラで版材表面のインキを拭
き取る方法（請求項１３）や、インキ洗浄効果を有する
液体を版材表面に吹き付けて版材表面からインキを洗い
落とす方法（請求項１４）、などを具体的に挙げること
ができる。

【００２２】さらに、本発明は前記印刷用版材（請求項
４記載の印刷用版材）を用いた再生式の機上製版印刷機
も提供する（請求項１５）。この印刷機は、前記印刷用
版材を周面で支持する版胴と、前記印刷用版材の版材表
面に活性光を照射することにより照射部における有機系
化合物を光触媒の作用で分解して感光層の親水性表面を
露出させて非画線部を形成する画像書き込み装置と、版
材表面に露出した感光層を有機系化合物で被覆して版材
表面の全体を疎水化する疎水化装置とを備えたことを特
徴とする。なお、印刷用版材は版胴の周面に巻かれた版
胴とは別体のものでもよく、版胴の周面自体が印刷用版
材として機能するものでもよい。

【００２３】好ましくは、版材表面のインキを除去する
版クリーニング装置（請求項１６）や、版材表面の全体
に活性光、すなわち可視光以下の波長の光を照射して版
材表面の履歴を解消する履歴解消装置（請求項１７）、
を備える。なお、履歴解消装置としては、波長約４００
ｎｍから６００ｎｍの可視光だけでなく、約４００ｎｍ
以下の紫外線、あるいは紫外から可視領域の光などを照
射する光源を用いる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下では本発明の実施の形態につ
いて、図を参照して説明する。図１は、本発明の一実施
形態にかかる印刷用版材の表面を示す断面図を示してい
る。この印刷用版材は、基材１、中間層２、感光層（版
材表面層）３、及び疎水性被膜４とから基本的に構成さ
れている。この図において、基材１はアルミニウムやス
テンレス等の金属、ポリマーフィルム等で構成されてい
る。ただし、本発明は印刷用版材の基材がアルミニウム
やステンレス等の金属或いはポリマーフィルムに限定さ
れるものではない。

【００２５】基材１の表面上には、中間層２が形成され
ている。中間層２としては、例えば、シリカ（Ｓｉ
Ｏ₂）、シリコン樹脂、シリコンゴム等のシリコン形化
合物がその材質として利用される。そのうち特に、シリ
コン樹脂としては、シリコンアルキド、シリコンウレタ
ン、シリコンエポキシ、シリコンアクリル、シリコンポ
リエステル等が使用される。この中間層２は、前記基材
１と後述する感光層３との付着を確実なものとならしめ
るため、また密着性を向上させるために形成されている
ものである。基材１と感光層３との間に必要により中間
層２を介することにより、感光層１の付着強度を十分に
保つことが可能となる。ただし、基材１と感光層３との
付着強度が十分に確保できる場合には、中間層２は無く
てもさしつかえない。

【００２６】さらに、この中間層２は、光触媒を含む感
光層３の活性を向上させるために形成される場合もあ
る。基材１と感光層３との間に必要により中間層２を介
することで、当該感光層３の結晶性を向上させ、また、
活性光の照射時に感光層３内部に発生する電子と正孔と
の再結合を防ぐことにより、光触媒の活性化が向上する
ことが知られている。ただし、感光層３の光触媒活性が
十分に確保できる場合には、活性向上機能を有する中間
層２は無くてもさしつかえない。

【００２７】さらに、基材１がポリマーフィルム等の場
合は、必要に応じて基材１の保護のために中間層２が形
成されることもある。さらにまた、後述する感光層３の
形成のため加熱処理する場合は、基材１から不純物が熱
拡散して感光層３に混入し、感光層３における光触媒活
性を低下させることを防ぐ効果もある。中間層２上（或
いは基材１上）には、光触媒を含む感光層３が形成され
ている。この感光層３の表面は、光触媒のバンドギャッ
プエネルギーより高いエネルギーをもつ活性光を照射す
ることによって高い親水性を示すようになる。本来、光
触媒はバンドギャップエネルギーより高いエネルギーを
もつ光を照射しなければ光触媒活性を示さず、通常の酸
化チタン光触媒ではバンドギャップエネルギーが３ｅＶ
もあるために紫外線にしか応答しない。しかしながら、
本発明では、感光層３を形成する光触媒として、バンド
ギャップ間に新たな準位が形成されることで紫外線より
も波長の長い光でも応答する光触媒を用いており、これ
により活性光として紫外線のみならず波長が約４００〜
６００ｎｍの領域にある可視光も使用可能にしている。

【００２８】このような可視光でも応答する光触媒の製
造方法としては、公知の方法を用いればよい。たとえ
ば、特開２００１−２０７０８２号公報には、酸化チタ
ン光触媒をベースとして窒素原子をドーピングした可視
光応答型光触媒が開示され、特開２００１−２０５１０
４号公報にはクロム原子及び窒素原子をドーピングした
可視光応答型光触媒が開示されている。さらにまた、特
開平１１−１９７５１２号公報にはクロム等の金属イオ
ンをイオン注入した可視光応答型光触媒が開示されてい
る。この他にも、低温プラズマを利用した可視光応答型
の光触媒や白金担持した可視光応答型の光触媒が公表さ
れている。本発明にかかる印刷用版材の作製にあたって
は、これら公知の製法で製造された可視光応答型光触媒
を使用すればよい。

【００２９】なお、このような可視光応答型光触媒を含
む感光層３には、前記性質、すなわち親水特性を維持す
る為、或いは当該感光層３の強度や基材１との密着性を
向上させることを目的として、次に示す様な物質を添加
しても良い。この物質とは、例えば、シリカ、シリカゾ
ル、オルガノシラン、シリコン樹脂等のシリカ系化合
物、また、ジルコニウム、アルミニウム、チタニウム等
の金属酸化物又は金属水酸化物、さらにはフッ素系樹脂
を挙げることができる。

【００３０】また、ベースとなる酸化チタン光触媒とし
ては、ルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型がある
が、本実施形態においてはいずれも利用可能であり、そ
れらの混合物を用いてもよいが、光触媒活性を考慮する
と、結晶構造上活性度が最も高いアナターゼ型が好まし
い。また、後述するように、光触媒活性を高くするため
には、酸化チタン光触媒の粒子径はある程度小さい方が
好ましく、具体的に酸化チタン光触媒の粒径は０.１μ
ｍ以下、さらに好ましくは粒径０.０５μｍ以下である
ことが好ましい。なお、光触媒としては前記のような酸
化チタン光触媒をベースとするものが好適であるが、こ
れに限定されるものではない。

【００３１】また、感光層３の膜厚は、０.００５〜１
μｍの範囲内にあることが好ましい。というのは、膜厚
があまりに小さければ、前記した性質を十分に生かすこ
とが困難となるし、また、膜厚があまりに大きければ、
感光層３がヒビ割れしやすくなり、耐刷性低下の要因と
なるためである。なお、このヒビ割れは膜厚が１０μｍ
を越えるようなときに顕著に観察されるから、前記範囲
を緩和するとしても当該１０μｍをその上限として認識
する必要がある。また、実際上は０.０３〜０.５μｍ程
度の膜厚とするのが、より好ましい。

【００３２】さらに、この感光層３の形成方法として
は、ゾル塗布法、有機チタネート法、スパッタリング
法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法等を適宜選択して形成すればよ
い。このとき例えば、ゾル塗布法を採用するのであれ
ば、それに用いられる塗布液には、酸化チタン光触媒お
よび前記感光層３の強度や基材１との密着性を向上させ
る前記各種の物質の他に、溶剤、架橋剤、界面活性剤等
を添加しても良い。また塗布液は、常温乾燥タイプでも
加熱乾燥タイプでも良いが、後者の方がより好ましい。
というのは、加熱により感光層３の強度を高めた方が、
版の耐刷性を向上させるのに有利となるからである。ま
た例えば、真空中で金属基板上へスパッタリング法など
にて不定形の酸化チタン層を成長させた後、加熱処理に
より結晶化させる方法などにより高い強度をもつ光触媒
感光層を作製することも可能である。

【００３３】感光層３の表面は、疎水性被膜４により被
覆されている。この疎水性被膜４は疎水基を有する有機
系化合物で形成されている。疎水性被膜４を形成する有
機系化合物としては、版材表面の少なくとも親水性部分
と反応もしくは強く相互作用して親水性表面を覆い、感
光層３の表面を疎水性に変換する作用を有することはも
ちろん、同時に活性光の放射下において光触媒の酸化分
解作用により容易に分解されるものが好ましい。具体的
には、有機チタン化合物、有機シラン化合物、イソシア
ナート系化合物およびエポキシド系化合物が好ましい。
これら化合物は、親水性の光触媒表面に存在する水酸基
と反応して表面に固定化されるため、原理的に光触媒表
面に単分子層的な有機系化合物層を形成する。このよう
に単分子層で光触媒表面を疎水化するため、活性光照射
下での分解が容易なものとなる。

【００３４】このような有機チタン化合物としては、
１）テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロ
ポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−
ｉ−ブトキシチタン、テトラステアロキシチタンなどの
アルコキシチタン、２）トリ−ｎ−ブトキシチタンステ
アレート、イソプロポキシチタントリステアレートなど
のチタンアシレート、３）ジイソプロポキシチタンビス
アセチルアセトネート、ジヒドロキシ・ビスラクタトチ
タン、チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコー
ルなどのチタンキレート、などがあるが、これらに限る
ものではない。

【００３５】有機シラン化合物としては、１）トリメチ
ルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、テト
ラメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラ
エトキシシラン、メチルジメトキシシラン、オクタデシ
ルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラ
ンなどのアルコキシシラン、２）トリメチルクロロシラ
ン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラ
ン、メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシランなど
のクロロシラン、３）ビニルトリクロロシラン、ビニル
トリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルメチルジクロロシラン、γ
−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロ
プロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシランなどのシランカップリング剤、４）
パーフロロアルキルトリメトキシシランなどのフロロア
ルキルシラン、などがあるが、これらに限るものではな
い。

【００３６】イソシアナート化合物としては、イソシア
ン酸ドデシル、イソシアン酸オクタデシル、などがある
が、これらに限るものではない。エポキシド系化合とし
ては、１，２−エポキシデカン、１，２−エポキシヘキ
サデカン、１，２−エポキシオクタデカン、などがある
が、これらに限るものではない。

【００３７】前記の有機系化合物は、常温で液体の場合
は、ブレードコーティングやロールコーティング、ディ
ップコーティングなどの方法で感光層３に塗布するか、
スプレーなどで微小液滴にして塗布すればよい。また、
分解温度以下の温度で加熱して気化させたり、超音波を
利用した液体の霧化装置、いわゆるネブライザーなどを
用いて蒸気化したりして感光層３の表面に吹き付けるな
どの方法を用いてもよい。さらに、有機系化合物の濃度
や粘度などを調整することを目的に、他の液体に溶解し
て用いても良いことは言うまでも無い。

【００３８】以下では、前記印刷用版材を用いた版の作
製方法と再生方法について説明する。図３に版の作製と
再生の概念図を示す。なお、以下において「版の作製」
とは、版材表面を疎水化した後、該版材表面の少なくと
も一部をデジタルデータに基づいて活性光を照射して親
水性の非画線部を形成し、活性光が照射されなかった版
材表面の疎水性部分と併せて、版面上に疎水性画線部と
親水性非画線部とからなる潜像を形成することを言うも
のとする。

【００３９】まず、版材表面に活性光を照射し、感光層
３表面に残存する有機系化合物を分解して版材表面の全
面を水の接触角が１０°以下の親水性表面として図２に
示すような状態を現出させる。これによって感光層３の
表面を全面親水性にして、版の履歴を解消する。このと
きの活性光としては、勿論可視光を用いることもできる
が、好ましくは図３（ｅ）に示すように紫外線照射ラン
プ（ＵＶランプ）８による弱い紫外線を用いる。紫外線
照射ランプ８を用いるのは、履歴の解消には画像の書き
込みと異なり弱い活性光で足りるのと、紫外線照射ラン
プ８は一般に出回っているために低コストで手に入れる
ことができるからである。

【００４０】次に、前記有機系化合物を親水性の感光層
３表面に供給し、感光層３表面と有機系化合物を相互作
用させることで、感光層３表面を有機系化合物からなる
疎水性被膜４で覆って感光層３表面を疎水性に変換す
る。この感光層３表面と有機系化合物との相互作用は、
化学反応を伴って有機系化合物が充分な強さで感光層３
表面に結合しているのが好ましい。なぜなら、この有機
系化合物で覆われた表面は印刷中は画線部６として機能
するため、有機系化合物が印刷中に感光層３から脱落す
ると画線部６が消えることになり、例えば印刷物の線が
細くなったり色が薄くなったりするという問題が発生す
るためである。図３（ａ）は、有機系化合物を用いて版
材全面を疎水化した状態を示している。ここでいう疎水
性の版材表面とは、図１に示すように水の接触角が５０
°以上、好ましくは８０°以上の版材表面であり、印刷
用の疎水性インキが容易に付着する一方、湿し水の付着
は困難な状態になっている。

【００４１】なお、有機系化合物の供給方法としては、
蒸気として感光層３表面に吹き付ける方法、液体状の有
機系化合物もしくは有機系化合物を含む液体をローラ等
でかきあげて塗布する方法、スプレーで微小液滴にして
塗布する方法等があるが、有機系化合物の性状に適した
方法を適宜選択すればよい。疎水性被膜４が形成された
感光層３表面のこの状態を「版作製時の初期状態」とい
う。なお、前記でいう「版作製時の初期状態」とは、実際
上の印刷工程におけるその開始時とみなしてよい。より
具体的にいえば、ある任意の画像に関して、それをデジ
タル化したデータが既に用意されていて、これを版材上
に書き込みしようとするときの状態を指すものとみなせ
る。

【００４２】次に、疎水性被膜４が形成されている感光
層３表面に対して画像書き込み工程として、非画線部５
を書き込む。この非画線部５の書き込みは、画像に関す
るデジタルデータに準拠して、そのデータに対応するよ
うに行われる。なお、ここでいう非画線部５とは、図２
に示すように水の接触角が１０°以下の親水性の部分で
あり、湿し水が容易に付着する一方、印刷用インキの付
着は困難な状態になっている。

【００４３】親水性の非画線部５を画像データに基づい
て現出させる方法としては、感光層３に活性光を照射し
て、光触媒の作用で感光層３表面を親水化させる方法が
用いられる。この光触媒の作用とは、主として感光層３
表面を被覆する疎水性被膜４を酸化分解して除去する作
用であるが、光触媒自身が初期状態で疎水性を示してい
る場合には、親水性に特性が変換する作用も含まれる。
一方、活性光が照射されなかった版材表面は疎水性のま
まであることから、版面上には疎水性画線部６と親水性
非画線部５とからなる潜像が形成され、これにより版が
作製される。ここでは、図３（ｂ）に示す様に、可視
光、例えば波長４０５ｎｍのバイオレットレーザを用い
た書き込みヘッド７によって、非画線部５を書き込み、
疎水性の感光層３表面に非画線部５を形成するようにし
ている。これにより、図３（ｃ）に示すように、版材表
面への画線部６と非画線部５の形成が完了し、印刷可能
な状態となる。

【００４４】なお、ここでは取り扱いの容易さと装置の
コンパクトさという利点から可視光を用いているが、活
性光としては、このような可視光の他に紫外線を用いる
ことも勿論可能である。例えばベイシスプリント社（ド
イツ）が発表しているＵＶセッター７１０に用いられて
いるＵＶ光源とマイクロミラーを用いた書き込みヘッド
等、可視光以下の波長の光を用いたシステムであれば、
前記印刷用版材への画像の書き込み装置として使用でき
ることはいうまでもない。

【００４５】前記までの処理が終了したら、版材表面に
湿し水および印刷用の疎水性インキと湿し水を混合し
た、いわゆる乳化インキを塗布する。これにより、例え
ば図４に示すような、印刷用版が製作されたことにな
る。図４において、網掛けされた部分は、前記疎水性の
画線部６に疎水性インキが付着した状態を示している。
残りの白地の部分、すなわち親水性の非画線部５には湿
し水が優先的に付着する一方、疎水性インキははじかれ
て付着しなかった状態を示している。このように絵柄が
浮かび上がることにより、感光層３表面は版としての機
能を有することになる。この後、通常の印刷工程を実行
し、これを終了させる。

【００４６】次に、印刷用版材の再生方法について説明
する。なお、「版の再生」とは、少なくとも一部が疎水
性を示し残りが親水性を示す版材表面を全面均一に親水
化した後、この親水性の版材表面に前記有機系化合物を
供給し、感光層３表面に有機系化合物を相互作用させる
ことで、親水性の感光層３表面を有機系化合物からなる
疎水性被膜４で覆って感光層３表面を疎水性に変換する
ことによって、再び「版作製時の初期状態」に復活させ
ることをいうものとする。

【００４７】まずインキ除去工程として、印刷終了後の
版面に付着したインキ、湿し水、紙粉などを除去する
〔図３（ｄ）〕。その方法としては、版面へのインキ供
給を止めて刷り減らす方法、インキ拭き取り用の布状テ
ープを巻き取る機構で版面のインキを拭き取る方法、イ
ンキ拭き取り用の布状物を巻きつけたローラで版面のイ
ンキを拭き取る方法、洗浄液をスプレーで版面に吹き付
けて版面のインキを洗い流す方法等を適宜用いればよ
い。

【００４８】その後、図３（ｅ）に示すように、残存す
る疎水性被膜４によって少なくとも一部が疎水性を示す
感光層３表面全面に活性光を照射する。こうすることで
疎水性被膜４からなる画線部６を親水化して、感光層３
表面全面を水の接触角が１０°以下の親水性表面とす
る、すなわち図２に示す状態とすることができる。前述
のようにこのときの活性光としては、例えば紫外線照射
ランプ（活性光照射ランプ）８による弱い紫外線を用い
ることが出来る。

【００４９】次に、活性光照射により全面親水性に回復
した感光層３表面に前記有機系化合物を供給し、感光層
３表面に有機系化合物を相互作用させることで、図３
（ａ）に示すように感光層３表面を有機系化合物からな
る疎水性被膜４で被覆して感光層３を版作製時の初期状
態に戻す。なお、図３（ｅ）の工程は、版の履歴解消を
完全に行うために設けているが、この親水化工程は必ず
しも毎回実施する必要はなく、仮にこの工程を実施せず
とも版再生は実質的に可能である。したがって、図３
（ｅ）の工程を飛ばして図３（ｄ）の工程から直ぐに図
３（ａ）の工程に移っても差し支えない。

【００５０】以上説明したことを、まとめて示している
のが図５に示したグラフである。これは、横軸に時間
（或いは操作）、縦軸に版材表面の水の接触角をとった
グラフであって、本実施形態における印刷用版材に関し
て、その感光層３表面の接触角（すなわち、疎水、親水
状態）が時間或いは操作に伴ってどのように変化するか
を示したものである。この図において、一点鎖線は感光
層３の非画線部５の接触角を、実線は画線部６の接触角
を、各々示している。

【００５１】これによれば、まず、版材表面に活性光を
照射して疎水性被膜４を酸化分解し、感光層３表面の水
の接触角が１０°以下の高い親水性を示すようにしてお
く（時点ａ）。そして、最初に、疎水化処理工程（Ａの
工程）として、感光層３表面に、前記有機系化合物を供
給し、感光層３表面と反応ないしは強く相互作用させる
ことにより感光層３表面に疎水性被膜４を形成し、感光
層３表面を親水性から疎水性へ変換する。疎水化処理が
終わった状態が「版作製時の初期状態」であり、この状態
では感光層３表面の水の接触角は５０°以上、好ましく
は８０°以上である。

【００５２】次に、非画線部書き込み工程（Ｂの工程）
として、疎水性被膜４で覆われた感光層３表面上に活性
光で非画線部５の書き込みを開始する（時点ｂ）。こう
することによって、活性光を照射された疎水性被膜４は
光触媒の作用により有機系化合物が酸化分解して除去さ
れ、照射部における感光層３の表面は疎水性から親水性
へ変換する、即ち感光層３の水の接触角が１０°以下と
なる。一方、活性光を照射してない感光層３の表面は疎
水性被膜４によって疎水性の状態を保つため、版材表面
は、活性光未照射部分が疎水性の画線部６となり、活性
光照射部分が親水性の非画線部５となるため、版として
機能することができるようになる。非画線部５の書き込
みが完了した後、印刷工程（Ｃの工程）として、印刷を
開始することになる（時点ｃ）。

【００５３】印刷が終了すると（時点ｄ）、インキ除去
工程（Ｄの工程）として、版材表面のインキ、汚れなど
を除去する。インキ除去完了後には、画線部６の親水化
工程（Ｅの工程）として、版材表面の全面への活性光の
照射を開始する（時点ｅ）。こうすることにより、光触
媒の作用による有機系化合物の酸化分解によって疎水性
被膜４が除去され、感光層３の全面は再び親水性に戻る
（時点ａ’）。

【００５４】この後、次の疎水化処理工程（Ａ'の工
程）として、感光層３表面に前記有機系化合物を供給し
て感光層３表面と反応ないしは強く相互作用させ、感光
層３表面を疎水性被膜４で被覆することにより、感光層
３の表面は「版作製時の初期状態」に戻ることになり、こ
の印刷用版材は再利用に供されることになる。以上述べ
たように、本実施形態にかかる印刷用版材は、再利用が
可能となっているという利点もさることながら、そのサ
イクルを迅速化できる利点をも備えている。すなわち、
単分子層で版材を疎水化できる有機系化合物を用いてい
るため、画像書き込みの時間を短縮でき、さらに印刷終
了後の版のクリーニングが容易である等、版を作製する
にも版を再生するにも、いずれにしてもそれらを実現す
るための作業に時間がかからないこととなっている。従
って、印刷工程全体を極めて速やかに完了させることが
可能なものとなっている。

【００５５】また、版材の再生・再利用を可能としたこ
とから、使用後に廃棄される版材の量を著しく減少させ
ることができる。また、画線部形成のためのポリマーを
用いないで良い事から、版再生時にポリマーを洗浄する
ための洗浄液も不要である。したがって、環境に優しい
だけでなく、版材に関わるコストを大幅に低減すること
ができる。

【００５６】また、画像に係わるデジタルデータから、
版材への画像書き込みを直接実施することが可能である
ことから、印刷工程のデジタル化対応がなされており、
その相応分の大幅な時間短縮、またはコスト削減を図る
ことができる。そして、さらに、本実施形態にかかる印
刷用版材によれば、感光層３に可視光に応答する光触媒
を用いることで、画像の書き込み装置として可視光の照
射装置を用いることが可能であるので、活性光として紫
外線しか使用できないものに比較して、より扱いやすく
且つよりコンパクトな装置で版の作成や再生を行うこと
ができるという利点を備えている。

【００５７】以下では、印刷用版材の作製及び再生にか
かわる、本願発明者らが確認したより具体的な実施例に
ついて説明する。 １．触媒調製 原料の硫酸チタン（和光純薬）を攪拌しながらアンモニ
ア水を加えて、硫酸チタンの加水分解物を得た。この加
水分解物をヌッチェを用いて濾過し、濾液の電気伝導度
が２μＳ／ｃｍ以下になるまでイオン交換水で洗浄し
た。洗浄後、加水分解物を室温乾燥し、その後大気中で
４００℃で２時間焼成した。この焼成物をまず乳鉢で祖
粉砕し光触媒粉末を得た。

【００５８】２．可視光活性の確認 前記光触媒粉末を０．２ｇを採取し、密閉できるパイレ
ックス（Ｒ）ガラス製の円筒容器（容量５００ｍＬ）の
底に均一に広げた。ついで、反応容器内を脱気した後、
高純度空気で置換した。その後、アセトンを反応容器内
濃度が５００ｐｐｍになるように注入後、２５℃で吸着
平行に達するまで暗所で１０時間吸着させた。その後、
日亜化学製の青色ＬＥＤ（主波長４７０ｎｍ）を照射
し、アセトン及びＣＯ₂の量を島津製ガスクロマトグラ
フで追跡した結果、青色ＬＥＤ照射２５時間でアセトン
は無くなり、代わりにアセトンの化学量論比に一致する
ＣＯ ₂の発生が確認された。すなわち、前期光触媒粉末
が波長４７０ｎｍの光で触媒活性を示すことが確認でき
た。

【００５９】３．版材作成 前記光触媒粉末をイオン交換水中に分散させ固形分２０
重量％のスラリーとした。このスラリーを湿式ミル（商
品名ダイノミルＰＩＬＯＴ）で粉砕し光触媒分散液とし
た。その面積が２８０×２０４ｍｍ、厚さが０．１ｍｍ
のステンレス（ＳＵＳ３０１）製の基材１を用意し、ア
ルカリ脱脂処理して版材基板とした。

【００６０】前記光触媒分散液とテイカ株式会社製の酸
化チタンコーティング剤ＴＫＣ−３０１を重量比１：８
の割合で混合した液を前記版材基板１にディップコート
し、３５０℃で加熱して光触媒層（感光層）３を基板１
表面に形成し、版材とした。光触媒層３の厚みは約０．
１μｍであった。版材表面について協和界面科学製のＣ
Ａ−Ｗ型接触角計で水の接触角を測定したところ、接触
角は８°となり、十分な親水性を示した。

【００６１】〔実施例１〕 ４−１．版面疎水化 次に、チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコー
ル（日本曹達製）２ｇをパラフィン系溶媒（商品名アイ
ソパーＬ，エクソンモービル製）９８ｇに溶解し、疎水
化処理液Ａとした。そして、前記の親水性を示す版材を
(株)アルファー技研の卓上オフセット印刷機ニューエー
スプロに取り付け、前記疎水化処理液Ａをスプレーで版
面に塗布し、熱風乾燥機で乾燥させた。この版材を一旦
印刷機からはずして、前記接触角計で水の接触角を測定
したところ、接触角は７５°となり、十分な疎水性を示
し、前記印刷用版材が版作製時の初期状態になっている
ことを確認した。

【００６２】５−１．画像書き込み 次に、波長４０５ｎｍ、出力５ｍＷ／チャンネル、ビー
ム径１５μｍの半導体レーザを用いた画像書き込み装置
により版面に画線率１０％から１００％までの１０％刻
みの網点画像を書き込んだ。書き込み終了後の版材表面
の水の接触角を前記接触角計で測定したところ、半導体
レーザで書き込んだ部分について接触角は８°で親水性
の非画線部５となり、書き込んでいないところは接触角
７５°の疎水性を保った画線部６となっていることを確
認した。

【００６３】６−１．印刷 この版材を前記の卓上オフセット印刷機ニューエースプ
ロに取り付け、東洋インキ製のインキＨＹＥＣＯＯ−Ｂ
紅ＭＺと三菱重工業製の湿し水リソフェロー１％溶液を
用いて、アイベスト紙に印刷速度３５００枚／時にて印
刷を開始した。印刷開始１枚目から紙面上には網点画像
が印刷できた。

【００６４】７−１．再生 次に印刷用版材の再生に係わる実施例を説明する。印刷
終了後、版面上に付着したインキ、湿し水、紙粉などを
きれに拭き取った版全面に、低圧水銀ランプを用いて波
長２５４ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を２０秒
照射した。その後、網点を書き込んでいた部分について
直ちに前記接触角計で水の接触角を測定したところ、接
触角は８°となり、十分な親水性を示した。次に、前記
疎水化処理液Ａをスプレーで版面に塗布し、熱風乾燥機
で乾燥させた。前記接触角計で水の接触角を測定したと
ころ、接触角は７３°となり、十分な疎水性を示し、前
記印刷用版材が「版作製時の初期状態」に戻り、版再生
ができたことを確認した。

【００６５】〔実施例２〕 ４−２．版面疎水化 イソシアン酸ドデシル（和光純薬）４ｇをパラフィン系
溶媒（商品名アイソパーＬ，エクソンモービル製）９６
ｇに溶解し、疎水化処理液Ｂとした。前記の親水性を示
す版材を(株)アルファー技研の卓上オフセット印刷機ニ
ューエースプロに取り付け、前記疎水化処理液Ｂをネブ
ライザーで気化して版面に塗布し、熱風乾燥機で乾燥さ
せた。この版材を一旦印刷機からはずして、前記接触角
計で水の接触角を測定したところ、接触角は７８°とな
り、十分な疎水性を示した。

【００６６】５−２．画像書き込み 次に、ベイシスプリント社のＵＶセッター７１０（波長
３６０〜４５０ｎｍ）を用いて、版面に画線率１０％か
ら１００％までの１０％刻みの網点画像を書き込んだ。
書き込み終了後の版材表面の水の接触角を前記接触角計
で測定したところ、ＵＶセッターで書き込んだ部分の接
触角は７°で親水性の非画線部となり、書き込んでいな
いところは接触角７８°の疎水性を保った画線部となっ
ていることを確認した。

【００６７】６−２．印刷 実施例１と同様に印刷を行い、印刷開始１枚目から紙面
上には網点画像が印刷できた。 ７−２．再生 印刷終了後、実施例１と同様に版面からインキ等を除去
した後、紫外線照射による版面の親水化を行った。親水
化処理後の版面の水の接触角を測定したところ、接触角
は７°であった。次に、前記疎水化処理液Ｂをネブライ
ザーで気化して版面に塗布し、熱風乾燥機で乾燥させた
後、前記接触角計で版面の水の接触角を測定したとこ
ろ、接触角は７７°を示し、前記印刷用版材が「版作製
時の初期状態」に戻ったことを確認した。

【００６８】なお、前記の印刷および版再生を印刷機上
で行うためには、図６に示すような印刷機１０を用いる
のが好ましい。すなわち、この印刷機１０は、版胴１１
を中心として、その周囲に版クリーニング装置１２、画
像書き込み装置１３、疎水化装置１４、乾燥装置１５、
インキングローラ１６、湿し水供給装置１７およびブラ
ンケット胴１８を備えたものとなっている。また必要に
応じて再生用活性光照射装置２０を備えればよい。印刷
用版材は、版胴１１に巻き付けられて設置されている。

【００６９】この印刷機１０においては、前記したよう
に印刷を終了した版の再生工程は、次のように行われ
る。まず、版クリーニング装置１２を版胴１１に対して
接した状態とし、版面、すなわち印刷用版材の表面に付
着したインキ、湿し水、紙粉などをきれいに拭き取る。
図６では、版クリーニング装置としてインキ拭き取り用
の布状テープを巻き取る機構を有する装置を示している
が、これ以外の形式の装置を用いることは勿論可能であ
る。その後、版クリーニング装置１２を版胴１１から脱
離させ、再生用活性光照射装置２０で版材表面の全面に
活性光を照射して版材表面を親水化する。なお、この活
性光照射による親水化処理は、版の履歴を解消するため
に必要に応じて行えばよい。

【００７０】その後、疎水化装置１４で版材表面を均一
に疎水化する。すなわち、版材表面に前記有機系化合物
を供給し、印刷用版材の感光層表面と反応ないしは強く
相互作用させることにより、感光層表面を親水性から疎
水性へ変換させる。図６では疎水化装置として有機系化
合物を気化させて版材表面に供給するノズルを示してい
るが、これに限るものではない。版材表面に供給した前
記有機系化合物は乾燥装置１５により乾燥させて定着さ
せる。乾燥装置１５の機構としては、例えば、熱風或い
は冷風を吹き付けて乾燥させる機構や、輻射熱によって
版面を加熱乾燥させる機構などが挙げられる。なお、こ
の乾燥装置１５は印刷機１０における必須の構成要素で
はない。

【００７１】次に、予め用意された画像のデジタルデー
タに基づき画像書き込み装置１３で印刷用版材に非画線
部を書き込む。書き込み装置１３の光源としては活性
光、すなわち可視光以下の波長の光を発生する光源であ
ればよく、例えば波長４００〜５００ｎｍの半導体レー
ザや紫外から可視領域の光を発生するランプなどが好適
である。以上の工程が終了したら、インキングローラ１
６、湿し水供給装置１７、ブランケット胴１８を版胴１
１に対して接する状態とし、そして、紙１９がブランケ
ット胴１８に接するように、かつ図６に示す矢印の方向
に搬送していくことによって、版面に湿し水およびイン
キが順次供給されて印刷が行われるようになっている。

【００７２】この印刷機１０においては、印刷後の版面
のクリーニング、活性光照射による画線部の消去、版材
表面の疎水化処理、および非画線部書き込みの一連の版
再生および版作製の工程を、印刷用版材を印刷機１０に
取り付けたまま、印刷機１０上でも行うことができる。
これによれば、印刷機１０を停止することなく、また印
刷版の交換作業を挟むことなく、連続的な印刷作業の実
施を行うことが可能になる。

【００７３】なお、印刷機１０の構成として、印刷用版
材は版胴１１に巻き付けられていると説明したが、これ
に限定されるものではなく、紫外線のみならず可視光に
も応答する光触媒を含む感光層を版胴１１の表面に直接
設けたもの、すなわち版胴１１と印刷用版材とが一体に
構成されたものを用いてもよいことは言うまでもない。

【００７４】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の印刷用版
材によれば、有機系化合物からなる被膜が形成される感
光層に紫外線のみならず可視光にも応答する光触媒を用
いることで、可視光の照射による書き込みが可能である
ので、活性光として紫外線しか使用できないものに比較
して、より扱いやすく且つよりコンパクトな装置で版の
作成を行うことができるという利点がある。また、可視
光のみならず紫外線でも書き込みが可能であるので、書
き込み装置の選択肢が広がるという利点もある。

【００７５】また、本発明の印刷用版材の再生再使用方
法によれば、版材を再生し繰り返し使用することによ
り、使用後に廃棄される版材の量を著しく減少させるこ
とができるとともに、版材に関わるコストが低減できる
ようになるという利点がある。また、印刷工程に占める
版再生時間、特に画像書き込み時間が短縮できるため、
印刷準備時間の短縮ができるという利点もある。

【００７６】そして、本発明の印刷機によれば、印刷用
版材を印刷機に取り付けた状態で版作製および版再生が
できるようになることから、版交換作業等を挟むことな
く、連続的な印刷作業の実施を行うことが可能になると
いう利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態にかかる印刷用版材の表面
を示す断面図である。また、この図は感光層表面が疎水
性を示している状態も同時に示している。

【図２】本発明の一実施形態にかかる印刷用版材の表面
を示す断面図である。また、この図は感光層表面親水性
を示している状態も同時に示している。

【図３】本発明の一実施形態にかかる印刷用版材を用い
た版の作製と再生の手順を示す概念図である。

【図４】版材表面に描かれた画像（画線部）とその白地
（非画線部）の一例を示す斜視図である。

【図５】本発明の一実施形態にかかる印刷用版材の版材
表面の接触角（すなわち、疎水、親水状態）が時間或い
は操作に伴ってどのように変化するかを示したグラフで
ある。

【図６】本発明の一実施形態にかかる印刷用版材が適用
される印刷機の構成の一例を示す模式図である。

【符号の説明】

１ 基材 ２ 中間層 ３ 感光層 ４ 疎水性被膜 ５ 非画線部 ６ 画線部 ７ 書き込みヘッド ８ 活性光照射ランプ １０ 印刷機 １１ 版胴 １２ 版クリーニング装置 １３ 画像書き込み装置 １４ 疎水化装置 １５ 乾燥装置 １６ インキングローラ １７ 湿し水供給装置 １８ ブランケット胴 １９ 紙 ２０ 再生用活性光照射装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C034 AA08 AA10 2H025 AB03 AC01 AD03 BB00 BH03 DA02 DA03 DA36 DA37 2H084 AA30 AA36 AE05 BB02 BB04 BB13 CC05 2H096 AA06 BA13 CA03 EA02 LA01 LA30 2H114 AA04 AA23 AA27 BA01 DA08 GA27 GA29 GA34

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光の照射による版材表面への画像の書き
   込みと、書き込まれた画像の消去による前記版材表面の
   再生とにより繰り返し使用可能な印刷用版材であって、 可視光に応答する光触媒を含む感光層の表面に疎水基を
   有する有機系化合物からなる被膜が形成されていること
   を特徴とする、印刷用版材。
2. 【請求項２】 前記光触媒は６００ｎｍ以下の波長の光
   に応答することを特徴とする、請求項１記載の印刷用版
   材。
3. 【請求項３】 前記光触媒による前記有機系化合物の分
   解により前記感光層の親水性表面が露出することによっ
   て画像の書き込みが行われることを特徴とする、請求項
   １又は２記載の印刷用版材。
4. 【請求項４】 前記有機系化合物と前記感光層との相互
   作用により前記感光層の親水性表面が前記有機系化合物
   で被覆されることにより再生が行われることを特徴とす
   る、請求項３記載の印刷用版材。
5. 【請求項５】 前記有機系化合物と前記感光層との相互
   作用が化学反応を伴うものであることを特徴とする、請
   求項４記載の印刷用版材。
6. 【請求項６】 前記光触媒が酸化チタン光触媒の加工物
   であることを特徴とする、請求項１〜５の何れかの項に
   記載の印刷用版材。
7. 【請求項７】 請求項４記載の印刷用版材を再生し再使
   用する方法であって、 印刷終了後に前記印刷用版材の版材表面からインキを除
   去するインキ除去工程と、 前記版材表面に露出した前記感光層を前記有機系化合物
   で被覆して前記版材表面の全体を疎水化する疎水化処理
   工程と、 可視光を照射することにより照射部における前記有機系
   化合物を前記光触媒の作用で分解して前記感光層の親水
   性表面を露出させることにより前記版材表面に画像を書
   き込む画像書き込み工程とを備えたことを特徴とする、
   印刷用版材の再生再使用方法。
8. 【請求項８】 前記疎水化処理工程では、前記有機系化
   合物の蒸気を前記版材表面に供給することにより前記有
   機系化合物を前記感光層に相互作用させ前記感光層の親
   水性表面を前記有機系化合物で被覆することを特徴とす
   る、請求項７記載の印刷用版材の再生再使用方法。
9. 【請求項９】 前記疎水化処理工程では、液体状の前記
   有機系化合物或いは前記有機系化合物を含む液体を前記
   版材表面に供給することにより前記有機系化合物を前記
   感光層に相互作用させ前記感光層の親水性表面を前記有
   機系化合物で被覆することを特徴とする、請求項７記載
   の印刷用版材の再生再使用方法。
10. 【請求項１０】 前記疎水化処理工程において、前記版
    材表面に露出した感光層を前記有機系化合物で被覆する
    に先立ち、前記版材表面の全体に可視光以下の波長の光
    を照射することを特徴とする、請求項７〜９の何れかの
    項に記載の印刷用版材の再生再使用方法。
11. 【請求項１１】 前記インキ除去工程では、インキ供給
    を停止した状態で印刷機を運転する刷り減らしによって
    前記版材表面からインキを除去することを特徴とする、
    請求項７〜１０の何れかの項に記載の印刷用版材の再生
    再使用方法。
12. 【請求項１２】 前記インキ除去工程では、巻き取り式
    の布状テープで前記版材表面のインキを拭き取ることを
    特徴とする、請求項７〜１０の何れかの項に記載の印刷
    用版材の再生再使用方法。
13. 【請求項１３】 前記インキ除去工程では、布状物を巻
    きつけたローラで前記版材表面のインキを拭き取ること
    を特徴とする、請求項７〜１０の何れかの項に記載の印
    刷用版材の再生再使用方法。
14. 【請求項１４】 前記インキ除去工程では、インキ洗浄
    効果を有する液体を前記版材表面に吹き付けて前記版材
    表面からインキを洗い落とすことを特徴とする、請求項
    ７〜１０の何れかの項に記載の印刷用版材の再生再使用
    方法。
15. 【請求項１５】 請求項４記載の印刷用版材を周面で支
    持する版胴と、 前記印刷用版材の版材表面に可視光を照射することによ
    り照射部における前記有機系化合物を前記光触媒の作用
    で分解して前記感光層の親水性表面を露出させて非画線
    部を形成する画像書き込み装置と、 前記版材表面に露出した感光層を前記有機系化合物で被
    覆して前記版材表面の全体を疎水化する疎水化装置とを
    備えたことを特徴とする、印刷機。
16. 【請求項１６】 前記版材表面のインキを除去する版ク
    リーニング装置を備えたことを特徴とする、請求項１５
    記載の印刷機。
17. 【請求項１７】 前記版材表面の全体に可視光以下の波
    長の光を照射して前記版材表面の履歴を解消する履歴解
    消装置を備えたことを特徴とする、請求項１５又は１６
    記載の印刷機。