JP2003266967A - 感光層、感光層を有する印刷用版材及びその作製方法並びに印刷機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光層，感光層を有する再生可能な印刷用版
材及びその作製方法並びに印刷機に関し、光触媒活性が
高く、且つ、機械的な強度を高くし、高耐刷性の印刷用
版材を作製できるようにする。 【解決手段】 印刷用版材５にそなえる感光層３を、光
触媒微粒子３１と、水ガラスを少なくとも含むバインダ
３２とを有し、光触媒のバンドギャップエネルギーより
も高いエネルギーをもつ活性光が照射されると表面が親
水性を示すように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒を含む感光
層、前記感光層を有するとともに再生可能な印刷用版
材、前記印刷用版材の作製方法、及び、前記印刷用版材
を作製及び再生しうる印刷機に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、印刷技術一般として、印刷工程の
デジタル化が進行しつつある。これは、パソコンで作製
したり、スキャナ等で読み込んだりした画像や原稿のデ
ータをデジタル化し、このデジタルデータから直接印刷
用版材を作製するというものである。このことによっ
て、印刷工程全体の省力化が図れるとともに、高精細な
印刷を行なうことが容易になる。

【０００３】従来、印刷に用いる版としては、陽極酸化
アルミを親水性の非画線部とし、その表面上に感光性樹
脂を硬化させて形成した疎水性の画線部を有する、いわ
ゆるＰＳ版（Presensitized Plate）が一般的に用いら
れてきた。このＰＳ版を用いて印刷用版を作製するには
複数の工程が必要であり、このため版の製作には時間が
かかり、コストも高くなるため、印刷工程の時間短縮お
よび印刷の低コスト化を推進しにくい状況である。特に
少部数の印刷においては印刷コストアップの要因となっ
ている。また、ＰＳ版では現像液による現像工程を必要
とし、手間がかかるだけでなく、現像廃液の処理が環境
汚染防止という観点から重要な課題となっている。

【０００４】さらに、ＰＳ版では、一般に原画像が穿設
されたフィルムを版面に密着させて露光する方法が用い
られており、デジタルデータから直接版を作製し印刷工
程のデジタル化を進めるうえで印刷用版の作製が障害と
なっている。また、一つの絵柄の印刷が終わると、版を
交換して次の印刷を行なわなければならず、版は使い捨
てにされていた。

【０００５】上記ＰＳ版の欠点に対して、印刷工程のデ
ジタル化に対応し、さらに現像工程を省略できる方法が
提案され商品化されているものもある。例えば、特開昭
６３−１０２９３６号公報では、液体インクジェットプ
リンタのインクとして感光性樹脂を含むインクを用い、
これを印刷用版材に噴射し、その後で、光照射により、
画像部を硬化させることを特徴とする製版方法が開示さ
れている。また、特開平１１−２５４６３３号公報に
は、固体インクを吐出するインクジェットヘッドにより
カラーオフセット印刷用版を作製する方法が開示されて
いる。

【０００６】また、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレー
ト）フィルム上にカーボンブラック等のレーザ吸収層、
さらにその上にシリコン樹脂層を塗布したものに、レー
ザ光線で画像を書き込むことによりレーザ吸収層を発熱
させ、この熱によりシリコン樹脂層を焼き飛ばして印刷
用版を作製する方法、あるいは、アルミ版の上に親油性
のレーザ吸収層を塗布し、さらにその上に塗布した親水
層を前記と同様にレーザ光線で焼き飛ばして印刷用版と
する方法、等が知られている。

【０００７】この他にも、親水性ポリマーを版材として
使用し、画像露光により照射部を親油化させ版を作製す
る手段も提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような方法では、デジタルデータから直接版を作製する
ことは可能であるが、１つの絵柄の印刷が終わると新し
い版に交換しなければ次の印刷が出来ず、従って、一度
使用された版が廃棄されることに変わりはない。これに
対し、版の再生を含んだ技術も提案されている。例え
ば、特開平１０−２５００２７号公報においては、酸化
チタン光触媒を用いた潜像版下、潜像版下の製造方法及
び潜像版下を有する印刷装置が、また、特開平１１−１
４７３６０号公報においても、光触媒を用いた版材によ
るオフセット印刷法が開示されており、これらには、い
ずれも画像書き込みには光触媒を活性化させる光、すな
わち実質的に紫外線を用い、加熱処理で光触媒を疎水化
して版を再生する方法が提案されている。また、特開平
１１−１０５２３４号公報で開示された平版印刷版の作
製方法では、光触媒を活性光、すなわち紫外線で親水化
した後、ヒートモード描画にて画線部を書き込む方法が
提案されている。

【０００９】しかし、東大・藤嶋教授、橋本教授らによ
り加熱処理で酸化チタン光触媒は親水化することが確認
されており〔三邊ら「酸化チタン表面の構造変化に伴う
光励起親水化現象の挙動に関する研究」、光機能材料研
究会第５回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」資
料、（１９９８）ｐ．１２４−１２５〕、これによれ
ば、上記各公開公報で開示された方法、即ち、加熱処理
で光触媒を疎水化して版を再生しようとすることはでき
ず、この方法では、版の再生利用あるいは版の作製は不
可能ということになる。

【００１０】一方、版の再生過程で、版に形成された画
像を消去する技術も提案されており、特開２０００−６
３６０号公報には、印刷用版材において、印刷終了後、
版表面の光触媒を含む層に紫外域を主とする活性光を照
射して版全面を親水化することによって画像を消去する
技術が開示されている。このように版の再生利用には、
版材の感光層の親水化及び疎水化を確実に行なうことが
必要となるが、この一方で、感光層の強度が高くなくて
は再生利用が困難になる。

【００１１】ところで、上記の光触媒を含む感光層に活
性光を照射して親水化させる際に、この親水性をより高
める、あるいは、この親水性状態を長時間維持する方法
として、感光層にシリコン系化合物を添加することが知
られている。例えば、光触媒微粒子をシリカＳｉＯ₂ゾ
ル中に分散させ、これを基材に塗布し、常温乾燥あるい
は加熱乾燥することにより光触媒を含む感光層を形成す
ることが知られている。

【００１２】しかし、感光層の強度の面で比較すると、
常温乾燥による形成では強度が出にくいため、加熱乾燥
により感光層を形成する方が好ましい。ところが、例え
ば、光触媒として酸化チタン光触媒を用いる場合、ある
温度を超えて加熱すると、酸化チタン光触媒の結晶が、
活性の高いアナターゼ型から活性の低いルチル型に転移
してしまう（即ち、光触媒活性が低下してしまう）等の
課題がある。

【００１３】本発明は、上述の課題に鑑み創案されたも
ので、感光層を有する再生可能な印刷用版材に関して、
光触媒活性が高く、さらに、機械的な強度が高い高耐刷
性の感光層，その感光層を有する印刷用版材及びその作
製方法並びに印刷機を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
解決するために以下の手段をとった。すなわち、本発明
の感光層（請求項１）は、光触媒と水ガラスとを含み、
該光触媒のバンドギャップエネルギーよりも高いエネル
ギーをもつ活性光が照射されると表面が親水性を示す性
質を有することを特徴としている。

【００１５】さらに、該活性光が照射されると有機物を
分解する性質を有することを特徴とする（請求項２）。
該水ガラスは、リチウムＬｉを含んでいることが好まし
い（請求項３）。なお、ナトリウムＮａを含む水ガラス
が一般的であるが、本発明では、特に、リチウムＬｉを
含む水ガラスが好適である。

【００１６】該水ガラスは、シリカＳｉＯ₂とリチウム
Ｌｉとを含むとともに、該リチウムを酸化リチウムＬｉ
₂Ｏ成分として該水ガラス中に１〜１０重量パーセント
含んでいることが好ましい（請求項４）。該光触媒は、
酸化チタン光触媒又は酸化チタン光触媒改質物であるこ
とが好ましい（請求項５）。

【００１７】本発明の印刷用版材（請求項６）は、基材
と、該基材上に形成された請求項１〜５の何れか１項に
記載の感光層とをそなえ、繰り返して再利用されること
を特徴としている。該感光層と該基材との間に、水ガラ
スを含む中間層がそなえられることが好ましい（請求項
７）。

【００１８】該水ガラスは、リチウムＬｉを含んでいる
ことが好ましい（請求項８）。該水ガラスは、シリカＳ
ｉＯ₂とリチウムＬｉとを含むとともに、該リチウムを
酸化リチウムＬｉ₂Ｏ成分として該水ガラス中に１〜１
０重量パーセント含んでいることが好ましい（請求項
９）。本発明の印刷機（請求項１０）は、請求項６〜９
の何れか１項に記載の印刷用版材が取り付けられる版胴
と、該感光層表面を疎水化させる疎水化装置と、該疎水
化装置により疎水化された該感光層表面に該活性光を照
射して親水性の非画線部を形成することで該感光層表面
に画像を書き込む画像書き込み装置と、該感光層表面上
のインキを除去する版クリーニング装置と、該インキを
除去された該感光層表面に該活性光を照射することによ
り該感光層表面の全面を親水化して該感光層表面の画像
履歴を消去する画像履歴消去装置とをそなえていること
を特徴としている。

【００１９】該疎水化装置は、該活性光が照射されると
該光触媒の作用により分解される性質と、該感光層表面
と反応及び／又は強く相互作用して該感光層表面を疎水
化する性質とを有する有機系化合物を該感光層表面に供
給すること、及び、該感光層表面にエネルギー束を照射
すること、及び、該感光層表面に機械的エネルギーを投
入すること、の何れかによって該感光層表面を疎水化す
ることが好ましい（請求項１１）。

【００２０】本発明の印刷機（請求項１２）は、請求項
６〜９の何れか１項に記載の印刷用版材が取り付けられ
る版胴と、該感光層表面に画線部材を供給する画線部材
供給装置と、該画線部材を加熱することにより該感光層
表面に疎水性の画線部を形成することで該感光層表面に
画像を書き込む画像書き込み装置と、該感光層表面上の
インキを除去する版クリーニング装置と、該インキを除
去された該感光層表面に該活性光を照射することにより
該感光層表面の全面を親水化して該感光層表面の画像履
歴を消去する画像履歴消去装置とをそなえていることを
特徴としている。

【００２１】該画線部材供給装置は、該活性光が照射さ
れると該光触媒の作用により分解される性質と、該活性
光よりも波長の長い不活性光が照射されると溶融して感
光層表面と相互作用または固着し感光層表面を疎水化す
る性質とを有する有機系化合物を該感光層表面に供給す
ることが好ましい（請求項１３）。

【００２２】本発明の印刷用版材の作製方法（請求項１
４）は、請求項６記載の印刷用版材の作製方法であっ
て、該基材表面に該光触媒と該水ガラスとを少なくとも
含む感光層液を塗布する感光層液塗布工程と、上記の液
状の感光層を固化する感光層固化工程とをそなえている
ことを特徴としている。

【００２３】本発明の印刷用版材の作製方法（請求項１
５）は、請求項７〜９の何れか１項に記載の印刷用版材
の作製方法であって、該基材表面に該水ガラスを含む中
間層液を塗布する中間層液塗布工程と、上記の液状の中
間層を固化する中間層固化工程と、該中間層固化工程の
後、該光触媒と該水ガラスとを含む感光層液を塗布する
感光層液塗布工程と、上記の液状の感光層を固化する感
光層固化工程とをそなえていることを特徴としている。
上記感光層固化工程では、自然乾燥，加熱による乾燥又
は加熱による焼成等により固化を行なうことができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図を参照して説明する。 〔１〕第１実施形態 図１〜図３は、本発明の第１実施形態にかかる印刷用版
材を示すもので、図１はその構造を示す模式的な断面
図、図２はその版材表面が疎水性を示している場合の模
式的な断面図、図３はその版材表面が親水性を示してい
る場合の模式的な断面図である。

【００２５】図１に示すように、この印刷用版材５は、
基材１と、中間層２と、感光層３とから基本的に構成さ
れている。なお、印刷用版材５を単に版材ともいい、ま
た、表面に印刷用の画線部を形成された版材については
版という。基材１は、アルミニウムやステンレス等の金
属、ポリマーフィルム等により構成されている。ただ
し、基材１は、アルミニウムやステンレス等の金属ある
いはポリマーフィルムに限定されるものではない。

【００２６】中間層２は、基材１表面上に形成され、基
材１と後述する感光層３とを確実に付着させる、また、
密着性を向上させるように機能している。ただし、基材
１と感光層３との付着強度が十分に確保できる場合に
は、中間層２はなくても差し支えない。また、この中間
層２が水ガラスを含んでいることが本発明の特徴の１つ
である。

【００２７】中間層２としては、例えば、シリコン樹
脂、シリコンゴム等のシリコン系化合物が一般的に知ら
れているが、これらに比較して、本実施形態における中
間層２では、リチウム（Ｌｉ）を含有する水ガラスを用
いており、このようにリチウムを含有させることによ
り、中間層２自身の機械的な強度が飛躍的に高められて
いる。中間層２の膜強度は、中間層２上にそなえられる
感光層３の強度に影響を及ぼすため、この中間層２の膜
強度が高くなれば、中間層２上にそなえられる感光層３
の機械的な強度も高くなる。

【００２８】中間層２の形成に用いる水ガラス中のリチ
ウム含有量としては、リチウムを酸化リチウムＬｉ₂Ｏ
成分として水ガラス中に１〜１０ｗｔ％（重量パーセン
ト）含んでいることが好ましい。この酸化リチウムの含
有量が、１ｗｔ％よりも少ないと、リチウム水ガラスの
上記の効果が発揮できなくなり、また、１０ｗｔ％より
も多いと、液体としてのハンドリングが困難である。即
ち、リチウム含有量が１〜１０ｗｔ％であれば、中間層
２の膜強度を高めるという効果を十分に発揮でき、液体
としてのハンドリングを容易にすることができる。な
お、上記のようなリチウムを含む水ガラスとしては、日
産化学製の商品名ＬＳＳ−３５（酸化リチウム成分は
２．５〜３．３ｗｔ％）、商品名ＬＳＳ−４５（酸化リ
チウム成分は２．０〜２．５ｗｔ％）等の市販品がある
が、これに限るものではない。

【００２９】また、中間層２には、後述する感光層３の
形成のために加熱処理する際に、基材１から不純物が熱
拡散して感光層３に混入し、光触媒活性を低下させるこ
とを防ぐ効果もある。さらに、中間層２は、基材１がポ
リマーフィルム等で形成されている場合には必要に応じ
て基材１の保護のために形成されることもある。感光層
３は、光触媒と水ガラスとを含んで中間層２表面に形成
されている。

【００３０】この感光層３では、光触媒のバンドギャッ
プエネルギーよりも高いエネルギーをもつ活性光を感光
層３表面に照射することにより、その照射面を親水性に
変換すること、及び、感光層３表面に存在する有機系化
合物を分解・除去することが可能となっている。この性
質は、光触媒の性質によるものであり、感光層３表面の
親水化と有機系化合物の分解・除去とは本来異なる現象
であるが、活性光照射下の感光層３表面では同時に起こ
る。そして、親水性に変換された面は湿し水が優先的に
付着し、疎水性インキが付着しにくい非画線部として機
能するようになっている。なお、図３は、活性光照射に
より親水性を示している感光層３が露出した状態を表し
ており、この親水性光触媒を有する感光層３の露出によ
り印刷用版材５の非画線部を形成することが可能となっ
ている。

【００３１】感光層３には、活性光照射による親水化を
促進する為、あるいは、活性光照射により現出した親水
性を長時間維持する為、あるいは、感光層３の強度や基
材１との密着性を向上させることを目的として、シリカ
系化合物を添加している。このシリカ系化合物として
は、例えば、シリカＳｉＯ₂，シリカゾル，オルガノシ
ラン，シリコン樹脂等が一般的である。本実施形態で
は、このようにシリカ系化合物に加えて、あるいはこの
ようなシリカ系化合物の替わりに、感光層３にリチウム
を含有した水ガラスを添加しているのが特徴の１つであ
る。

【００３２】図１に示すように、リチウム含有水ガラス
及びシリカを含むバインダ３２、あるいはリチウム含有
水ガラスからなるバインダ３２を用いることにより、常
温でも通常のゾルゲル法による感光層３の膜よりも高い
膜強度を得ることができるとともに、加熱することによ
り更に膜強度を高めることができる。この場合の加熱温
度としては、例えば、酸化チタン光触媒の結晶型が、活
性の高いアナターゼ型から活性の低いルチル型に転移す
る温度（転移温度、例えば、５００℃）Ｔ_Tよりも低い
加熱温度でも十分な強度を得ることができるため、高い
触媒活性を維持したまま感光層３の膜強度を高くするこ
とが可能である。

【００３３】なお、この理由は、少なくとも水ガラスを
含む感光層液を用いて成膜された感光層３のシリカＳｉ
Ｏ₂層は、ゾルゲル法で成膜されたシリカＳｉＯ₂層より
も緻密であることが電子顕微鏡観察で分かっていること
から、緻密なＳｉＯ₂層が、バインダ３２として光触媒
微粒子３１を固定するために膜強度が上がるものと推定
される。また、一般に、水ガラス単体の膜強度が高いの
も同様の理由によるものと考えられる。

【００３４】なお、通常のナトリウム（Ｎａ）を含有す
る水ガラスでは、加熱成膜後に長時間水に浸すと膜成分
が溶出する場合があるが、本実施形態のリチウム含有水
ガラスでは、ナトリウム含有水ガラスよりもさらに緻密
であるので、膜強度を高くでき、成膜後に水に長時間浸
しても膜成分が溶出することもない。このように、リチ
ウムを含む水ガラスとナトリウムを含む水ガラスとの間
に生じる性質の差は、リチウムとナトリウムとのイオン
の電荷が同じプラス１価であるにも関わらず、リチウム
イオン（Ｌｉ⁺）の方がナトリウムイオン（Ｎａ⁺）より
もイオン半径が小さいため、水ガラス中の負電荷をもつ
酸素イオン（Ｏ^2-）とのクーロン引力が強く、結果とし
て膜強度が上がるためと考えられる。もちろん、膜の溶
出を防止できれば、ナトリウムを含有する水ガラスも適
用可能となる。

【００３５】また、感光層３の形成に用いる水ガラス中
のリチウム含有量としては、中間層２のリチウム含有量
と同様に、リチウムを酸化リチウムＬｉ₂Ｏ成分として
水ガラス中に１〜１０ｗｔ％（重量パーセント）含んで
いることが好ましい。この酸化リチウムの含有量が、１
ｗｔ％よりも少ないと、リチウム水ガラスの上記の効果
が発揮できなくなり、また、１０ｗｔ％よりも多いと、
液体としてのハンドリングが困難である。即ち、リチウ
ム含有量が１〜１０ｗｔ％であれば、感光層３の膜強度
を高めるという効果を十分に発揮でき、液体としてのハ
ンドリングを容易にすることができる。なお、上記のよ
うなリチウムを含む水ガラスとしては、日産化学製の商
品名ＬＳＳ−３５（酸化リチウム成分は２．５〜３．３
ｗｔ％）、商品名ＬＳＳ−４５（酸化リチウム成分は
２．０〜２．５ｗｔ％）等の市販品があるが、これに限
るものではない。

【００３６】また、感光層３に含まれている光触媒は、
波長６００ｎｍの可視光以下の波長を有する光で触媒活
性を発現するようになっている。即ち、感光層３に含ま
れている光触媒は、波長４００〜６００ｎｍの可視光ま
たは波長４００ｎｍ以下の紫外線の少なくとも一方の光
を活性光として利用し、触媒活性を発現することが可能
である。

【００３７】このような光触媒を含むことにより、波長
６００ｎｍ以下の活性光が感光層３表面に照射されると
感光層３表面が高い親水性を示したり、また、感光層３
表面に有機系化合物が存在する場合には、この有機系化
合物を酸化分解したりするようになっている。この有機
系化合物に関しては詳細を後述する。なお、光触媒は、
バンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーをもつ
光を照射しなければ光触媒活性を示さない。例えば、酸
化チタン光触媒では、バンドギャップエネルギーが３ｅ
Ｖもあるため、波長約４００ｎｍ以下の紫外線にしか反
応しない。

【００３８】本実施形態では、このバンドギャップ間に
新たな準位を形成することで、紫外線よりも波長の大き
い可視光も含んだ波長６００ｎｍ以下の活性光に反応す
る光触媒を用いている。もちろん、波長６００ｎｍ以下
の活性光の中には紫外線も含まれるが、活性光の中に紫
外線が含まれていてもいなくても良い。即ち、波長６０
０ｎｍ〜４００ｎｍ程度の可視光のみを含んでいる場合
でも同様に光触媒が反応するようになっている。

【００３９】なお、酸化チタン光触媒としては、ルチル
型，アナターゼ型，ブルッカイト型があるが、本実施形
態においてはいずれも利用可能であり、これらの混合物
を用いても良いが、光触媒活性を考慮すると、アナター
ゼ型が好ましい。また、後述するように、活性光照射下
で画線部を分解する光触媒活性を高くするためには、酸
化チタン光触媒の粒子径はある程度小さい方が好まし
い。具体的には、酸化チタン光触媒の粒径は０．１μｍ
以下、さらに好ましくは、粒径０．０５μｍ以下である
と良い。なお、光触媒としては酸化チタン光触媒が好適
であるが、もちろん、これに限定されるものではない。

【００４０】本実施形態において紫外線を活性光として
使用可能でかつ市販されている酸化チタン光触媒を具体
的に列挙すれば、石原産業製のＳＴ−０１，ＳＴ−２
１、その加工品であるＳＴ−Ｋ０１，ＳＴ−Ｋ０３、水
分散タイプのＳＴＳ−０１，ＳＴＳ−０２，ＳＴＳ−２
１、また、堺化学工業製のＳＳＰ−２５，ＳＳＰ−２
０，ＳＳＰ−Ｍ，ＣＳＢ，ＣＳＢ−Ｍ、塗料タイプのＬ
ＡＣＴｌ−０１，ＬＡＣＴＩ−０３−Ａ、テイカ製の光
触媒用酸化チタンコーティング液ＴＫＳ−２０１，ＴＫ
Ｓ−２０２，ＴＫＣ−３０１，ＴＫＣ−３０２，ＴＫＣ
−３０３，ＴＫＣ−３０４，ＴＫＣ−３０５，ＴＫＣ−
３５１，ＴＫＣ−３５２、光触媒用酸化チタンゾルＴＫ
Ｓ−２０１，ＴＫＳ−２０２，ＴＫＳ−２０３，ＴＫＳ
−２５１、アリテックス製のＰＴＡ，ＴＯ，ＴＰＸ等を
挙げることができる。ただし、本発明は、もちろんこれ
らの酸化チタン光触媒以外であっても適用可能である。

【００４１】なお、可視光領域の光にも反応する光触媒
の製造方法としては、公知の方法を用いれば良い。例え
ば、特開２００１−２０７０８２号公報には、窒素原子
をドーピングした酸化チタン光触媒、また、特開２００
１−２０５１０４号公報には、クロム原子および窒素原
子をドーピングした酸化チタン光触媒が開示されてい
る。さらに、特開平１１−１９７５１２号公報には、ク
ロム等の金属イオンをイオン注入した酸化チタン光触媒
が開示されている。この他にも、低温プラズマを利用し
た酸化チタン光触媒や白金担持した酸化チタン光触媒が
公表されている。本実施形態にかかる印刷用版材５の作
製にあたっては、これら公知の方法で製造された、いわ
ゆる可視光応答型の光触媒を使用すれば良い。

【００４２】また、波長４００ｎｍ以下の紫外線を活性
光とする光触媒としては、通常の酸化チタン光触媒とし
て市販されているものから適宜選択して用いればよい。
なお、感光層３の膜厚は、０．００５〜１μｍの範囲内
にあることが好ましい。この理由は、膜厚があまりに小
さければ、前記性質を十分に活かすことが困難であり、
また、膜厚があまりに大きければ、感光層３がひび割れ
しやすくなり耐刷性低下の要因となるためである。な
お、このひび割れは、膜厚が１０μｍを越えるようなと
きに顕著に観察されるため、前記範囲を緩和するとして
も１０μｍをその上限として認識する必要がある。ま
た、実際上は、０．０１〜０．５μｍ程度の膜厚とする
のが、より好ましい。

【００４３】さらに、この感光層３の形成方法として
は、いわゆるゾルゲル法といわれる方法、すなわちゾル
を塗布した後、該塗布層を固化させる方法が好ましい。
塗布するゾル（以下、ゾル塗布液という）には、酸化チ
タン光触媒あるいは酸化チタン光触媒の改質物、およ
び、前記水ガラスの他に、前記シリカ系化合物、溶剤や
界面活性剤等を添加しても良い。また、ゾル塗布液は、
常温乾燥タイプでも加熱乾燥タイプでも良いが、後者の
方がより好ましい。この理由は、加熱により感光層３の
強度を高めた方が、版の耐刷性を向上させるのに有利と
なるからであるが、上述したように加熱処理温度が転移
温度Ｔ_Tを越えると、酸化チタン光触媒の結晶型がアナ
ターゼ型からルチル型へ転移し始めるため、加熱処理温
度は転移温度Ｔ_T以下であることが好ましい。また、転
移温度Ｔ_T以下でも水ガラスの効果により十分な膜強度
を発現させることが可能である。

【００４４】次に、上述のように構成された版材表面へ
の画像書き込み方法について説明する。なお、本発明に
おいては、画像書き込み方法として２種類の方法が可能
である。第１の方法は、版全面を疎水化した後に、活性
光で画像を書き込み、光触媒の作用により活性光照射部
分を親水性の非画線部として画像形成する方法である。
さらに、この版全面を疎水化する方法として、有機系化
合物（後述する第２の方法における有機化合物と区別す
るため、タイプＡの有機系化合物という）を供給する方
法、又は、感光層３表面に不活性光等のエネルギー束を
照射する方法、又は、感光層３表面に版面を擦る等の機
械的エネルギーを投入する方法を適宜選択できる。

【００４５】第２の方法は、版全面に活性光を照射し
て、版全面を親水性にした後、版面に画線部材となる有
機系化合物（タイプＢ）を塗布し、加熱（例えば、不活
性光照射）により画像を書き込んで有機系化合物を溶融
させ、有機系化合物と版面とを相互作用又は固着させて
版面に疎水性画線部を形成する方法である。本実施形態
では、上記の第１の方法を用いて画像を書き込む方法に
ついて説明する。

【００４６】なお、第２の方法を用いた画像の書き込み
については、第２実施形態において説明する。本実施形
態において版全面を疎水化させるために使用される有機
系化合物（タイプＡ）は、版材５表面に供給され、必要
に応じて乾燥や加熱乾燥されるだけで感光層３表面と反
応及び／又は強く相互作用して感光層３表面を疎水化す
るとともに、活性光を照射されると感光層３の光触媒の
作用により分解されて感光層３表面から除去されるよう
になっている。

【００４７】このような有機系化合物（タイプＡ）とし
ては、具体的には、有機チタン化合物，有機シラン化合
物，イソシアナート系化合物及びエポキシド系化合物が
好ましい。これらの化合物は、親水性の感光層３表面に
存在する水酸基と反応して表面に固定化されるため、原
理的に感光層３表面に単分子層的な有機系化合物層（図
示省略）を形成する。このように単分子層で感光層３表
面を疎水化するため、活性光照射下での分解が容易なも
のとなっている。

【００４８】なお、上記の有機チタン化合物としては、
１）テトラ−ｉ−プロポキシチタン，テトラ−ｎ−プロ
ポキシチタン，テトラ−ｎ−ブトキシチタン，テトラ−
ｉ−ブトキシチタン，テトラステアロキシチタン等のア
ルコキシチタン、２）トリ−ｎ−ブトキシチタンステア
レート，イソプロポキシチタントリステアレート等のチ
タンアシレート、３）ジイソプロポキシチタンビスアセ
チルアセトネート，ジヒドロキシ・ビスラクタトチタ
ン，チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコール
等のチタンキレート、等がある。

【００４９】また、有機シラン化合物としては、１）ト
リメチルメトキシシラン，トリメチルエトキシシラン，
ジメチルジエトキシシラン，メチルトリメトキシシラ
ン，テトラメトキシシラン，メチルトリエトキシシラ
ン，テトラエトキシシラン，メチルジメトキシシラン，
オクタデシルトリメトキシシラン，オクタデシルトリエ
トキシシラン等のアルコキシシラン、２）トリメチルク
ロロシラン，ジメチルジクロロシラン，メチルトリクロ
ロシラン，メチルジクロロシラン，ジメチルクロロシラ
ン等のクロロシラン、３）ビニルトリクロロシラン，ビ
ニルトリエトキシシラン，γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン，γ−クロロプロピルメチルジクロロシラ
ン，γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン，γ−
クロロプロピルメチルジエトキシシラン，γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤、
４）パーフロロアルキルトリメトキシシラン等のフロロ
アルキルシラン、等がある。

【００５０】また、イソシアナート化合物としては、イ
ソシアン酸ドデシル，イソシアン酸オクタデシル等があ
る。さらに、エポキシド系化合物としては、１，２−エ
ポキシデカン，１，２−エポキシヘキサデカン，１，２
−エポキシオクタデカン等がある。なお、有機チタン化
合物，有機シラン化合物，イソシアナート系化合物及び
エポキシド系化合物は、上記の物質に限定されるもので
はない。

【００５１】上記の有機系化合物は、常温で液体の場合
は、ブレードコーティングやロールコーティング，ディ
ップコーティング等の方法で感光層３に塗布するか、ス
プレー等で微小液滴にして塗布すれば良い。また、分解
温度以下の温度で加熱して気化させたり、超音波を利用
した液体の霧化装置、いわゆるネブライザー等を用いて
蒸気化させたりして感光層３表面に吹き付ける等の方法
を用いても良い。なお、有機系化合物の濃度や粘度等を
調整することを目的に、他の液体に溶解して用いても良
いことはいうまでもない。

【００５２】なお、上述したように、感光層３表面、即
ち、版面を疎水化する方法として、感光層３表面に不活
性光等のエネルギー束を照射する方法、又は、版面を擦
る等の機械的エネルギーを投入する方法を、感光層３に
使用している光触媒の特性に応じて用いることができ
る。次に、本実施形態にかかる版の作製方法及びその再
生方法について説明する。

【００５３】図６に示すように、版の作製及び再生のフ
ローは、版面の疎水化工程（Ｓ２００），画像書き込み
工程（Ｓ２１０），印刷工程（Ｓ２２０），インキ除去
工程（Ｓ２３０），画像履歴消去工程（Ｓ２４０）のス
テップからなる。まず、印刷用版の作製方法について説
明する。なお、以下において、「版の作製」とは、版材
５表面（即ち、感光層３表面）が疎水化された状態（初
期状態）から、版材５表面の少なくとも一部にデジタル
データに基づいて活性光を照射して親水性の非画線部を
形成し、活性光が照射されなかった版材５表面の疎水性
部分（画線部）と併せて、版材５表面上に疎水性の画線
部と親水性の非画線部とからなる潜像を形成することを
いうものとする。

【００５４】まず、図４（ａ）に示すように、前工程
〔画像履歴消去工程（Ｓ２４０）〕で全面を親水化され
た感光層３表面に、有機系化合物（タイプＡ）を塗布す
る、又は、感光層３表面に不活性光等のエネルギー束を
照射する、又は、感光層３表面を擦る等の機械的エネル
ギーを投入することにより感光層３表面を疎水化する
〔版面の疎水化工程（Ｓ２００）〕。なお、図４（ａ）
は、有機系化合物を塗布して感光層３表面、即ち、版材
５全面が疎水化された初期状態を示している。ここで、
疎水性の版材５表面とは、図２に示すように、水６の接
触角が５０°以上、好ましくは８０°以上の版材５表面
であり、印刷用の疎水性インキが容易に付着し、一方、
湿し水の付着は困難な状態になっている。

【００５５】また、感光層３表面のこの状態を「版作製
時の初期状態」という。この「版作製時の初期状態」と
は、実際上の印刷工程（Ｓ２２０）におけるその開始時
とみなして良い。より具体的にいえば、任意の画像に関
して、それをデジタル化したデータが既に用意されてい
て、これを版材５上に書き込みしようとするときの状態
を指すものとみなせる。

【００５６】そして、図４（ｂ）に示すように、画像書
き込み工程（Ｓ２１０）として、疎水性状態となってい
る感光層３表面に画像を書き込む。この画像書き込み
は、画像に関するデジタルデータに準拠して、そのデー
タに対応するように、感光層３表面に非画線部が書き込
まれることにより画像書き込みが行われる。ここで、非
画線部とは、図３に示すように、水６の接触角が１０°
以下の親水性の部分であり、湿し水が容易に付着し、一
方、印刷用インキの付着は困難な状態となっている。

【００５７】この親水性の非画線部を画像データに基づ
いて現出させる方法として、波長６００ｎｍ以下の光、
即ち、活性光によって触媒活性を発現する光触媒を含む
感光層３に活性光を照射する。この活性光照射によっ
て、感光層３表面がタイプＡの有機系化合物で疎水化さ
れている場合は、光触媒の作用で有機系化合物を酸化分
解して感光層３表面から除去すると同時に、感光層３表
面が親水化することになる。また、感光層３表面がエネ
ルギー束照射あるいは機械的エネルギー投入によって疎
水化されている場合は、光触媒自身が活性光により疎水
性から親水性に変換することになる。

【００５８】一方、活性光が照射されなかった感光層３
表面は疎水性を示す状態のままであることから、版材５
表面には親水性部分と疎水性部分とが形成される。つま
り、例えば、図５に示すように、活性光を照射した部分
３ａを親水性を示す非画線部とし、活性光を照射しなか
った部分３ｂを疎水性を示す画線部とすることで版を作
製することができるようになっている。

【００５９】なお、図４（ｂ）では、可視光、例えば波
長４０５ｎｍのバイオレットレーザを用いた書き込みヘ
ッドによって、非画線部３ａを書き込み、疎水性の感光
層３表面に非画線部３ａを形成している。また、親水性
の非画線部３ａを画像データに基づいて現出させる方法
としては、波長４０５ｎｍのバイオレットレーザを用い
た書き込みヘッド以外に、例えば、ベイシスプリント社
（ドイツ）が発表しているＵＶセッター７１０に用いら
れている波長３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を発生する光
源とマイクロミラーとを用いた書き込みヘッド等、活性
光を用いて画像を書き込むものであれば良い。

【００６０】上記の画像書き込み工程（Ｓ２１０）が終
了した時点で、図４（ｃ）に示すように、感光層３表面
には画線部と非画線部とが形成され、次の印刷工程（Ｓ
２２０）において印刷が可能な状態となる。この印刷工
程（Ｓ２２０）において、版材５表面に湿し水及び印刷
用の疎水性インキと湿し水とを混合したいわゆる乳化イ
ンキを塗布する。

【００６１】したがって、例えば、図５に示すような画
像が書き込まれた場合には、網掛けされた部分（即ち、
疎水性の画線部）３ｂには疎水性インキが付着した状態
を示しており、残りの白地の部分（即ち、親水性の非画
線部）３ａには湿し水が優先的に付着する一方、疎水性
インキははじかれて付着しなかった状態を示している。
このように画像（絵柄）が浮かび上がることにより、感
光層３表面は、印刷用版としての機能を有することにな
る。この後、通常の印刷工程（Ｓ２２０）を実行し、印
刷を終了する。

【００６２】次に、印刷用版の再生方法について説明す
る。なお、以下において、「版の再生」とは、少なくと
も一部が疎水性を示し、残りの部分が親水性を示す版材
５表面を、全面均一に親水化した後、この親水性の版材
５表面に、有機系化合物を感光層３表面に供給して、こ
の有機系化合物と感光層３とを相互作用させることによ
り、又は、感光層３表面にエネルギー束を照射すること
により、又は、機械的エネルギーを投入することによっ
て感光層３の特性（即ち、光触媒特性）を親水性から疎
水性へ変換させ、再び「版作製時の初期状態」に復活さ
せることをいうものとする。

【００６３】また、疎水化処理前の版材５表面全面を均
一に親水化する処理は、版の画像履歴を完全に消去する
ために行なわれるものである。まず、図４（ｄ）に示す
ように、インキ除去工程（Ｓ２３０）として、印刷終了
後の感光層３表面に付着したインキ，湿し水，紙粉等を
除去する。このインキ除去方法としては、版材５表面へ
のインキ供給を止めて刷り減らす方法、インキ拭き取り
用の布状テープを巻き取る機構により版材５表面のイン
キを拭き取る方法、インキ拭き取り用の布状物を巻きつ
けたローラにより版材５表面のインキを拭き取る方法、
洗浄液をスプレーで版材５表面に吹き付けてインキを洗
浄する方法等を適宜用いれば良い。

【００６４】その後、図４（ｅ）に示すように、感光層
３全面に活性光を照射することにより、画線部３ｂをも
親水化して、感光層３全面を水６の接触角が１０°以下
の親水性表面にすることができる。即ち、感光層３全面
を図３に示す状態にすることができ、画像履歴を全て消
去することができる〔画像履歴消去工程（Ｓ２４
０）〕。

【００６５】また、このとき、感光層３表面への活性光
照射と同時に、感光層３表面を加熱するようにしても良
い。つまり、活性光照射下で感光層３表面を加熱するこ
とにより、感光層３表面の有機系化合物の分解反応を加
速させ、版の画像履歴の消去を短時間で行なうことがで
きる。なお、ここでは、図４（ｅ）に示すように、紫外
線（ＵＶ）ランプを用いて活性光を感光層３表面に照射
するとともに、赤外線（ＩＲ）ランプを用いて感光層３
表面を加熱する例を示している。

【００６６】また、加熱方法としては、感光層３表面を
加熱する熱風送風又は光照射が好ましい。また、照射す
る光としては、加熱効率を考慮すると赤外線がより好ま
しい。さらに、他の加熱方法としては、例えば、印刷用
版材５を取り付ける版胴１１内部にヒータを設けて版胴
１１を内部から加熱する方法もあるが、この方法では版
胴１１自体の温度が高くなるため、その後の印刷工程
（Ｓ２２０）においてインキの粘度等の印刷品質に影響
する物性が温度の影響を受けて変動する場合があるた
め、この点を考慮して適用する必要がある。

【００６７】画像履歴消去工程（Ｓ２４０）において、
活性光照射下での加熱により全面を親水性に回復された
感光層３は、図４（ａ）に示す版面の疎水化工程（Ｓ２
００）に戻し、有機系化合物を供給し、この有機系化合
物と感光層３とを相互作用させること、又は、感光層３
表面に不活性光等のエネルギー束を照射すること、又
は、感光層３表面を擦る等の機械的エネルギーを投入す
ることによって感光層３の特性（光触媒特性）を親水性
から疎水性へ変換させ（即ち、疎水化処理を行なう）、
版作製時の初期状態にする。

【００６８】以上説明したことを、まとめて示している
のが図７に示したグラフである。この図７は、横軸に時
間（又は操作）、縦軸に版材５表面の水６の接触角をと
ったグラフであって、本実施形態における印刷用版材５
に関して、その感光層３表面の水６の接触角が、時間あ
るいは操作に伴ってどのように変化するかを示したもの
である。即ち、疎水状態であるか親水状態であるかがわ
かる。なお、この図７において、一点鎖線は非画線部３
ａの接触角を、実線は画線部３ｂの接触角を各々示して
いる。

【００６９】まず、感光層３表面に活性光を照射して、
感光層３表面を、水６の接触角が１０°以下の高い親水
性を示す状態にしておく。そして、版面の疎水化工程
（Ｓ２００）（図７中に示すＡの工程）として、感光層
３表面に有機系化合物を供給して、この有機系化合物と
感光層３とを相互作用させること、又は、感光層３表面
に不活性光等のエネルギー束を照射すること、又は、感
光層３表面を擦る等の機械的エネルギーを投入すること
によって感光層３の光触媒特性を親水性から疎水性へ変
換させる。即ち、水６の接触角が５０°以上、好ましく
は８０°以上になる。図７中（ａ）は疎水化処理を開始
した時点を示しており、図７中（ｂ）は疎水化処理が終
わった時点、即ち、「版作製時の初期状態」を示してい
る。

【００７０】その後、画像書き込み工程（Ｓ２１０）
（非画線部書き込み工程、図７中に示すＢの工程）とし
て、疎水性の感光層３表面に活性光を照射して非画線部
３ａの書き込みを開始する〔図７中の時点（ｂ）〕。こ
れにより、活性光を照射された感光層３表面が疎水性か
ら親水性へ変換する。即ち、感光層３表面の水６の接触
角が１０°以下となる。一方、活性光を照射してない感
光層３表面は疎水性の状態を維持するため、活性光未照
射部分は疎水性の画線部３ｂとなり、活性光照射部分は
親水性の非画線部３ａとなるため、版として機能するこ
とができるようになる。

【００７１】そして、非画線部３ａの書き込みが完了し
た後、印刷工程（Ｓ２２０）（図７中に示すＣの工程）
として、印刷を開始する〔図７中の時点（ｃ）〕。印刷
が終了した後、インキ除去工程（Ｓ２３０）（図７中に
示すＤの工程）として、感光層３表面のインキ，汚れ等
を除去する〔図７中の時点（ｄ）〕。インキ除去完了後
に、画像履歴消去工程（Ｓ２４０）（図７中に示すＥの
工程）として、感光層３表面に活性光を照射するととも
に、感光層３表面を加熱する〔図７中の時点（ｅ）〕。
これにより、疎水性の画線部３ｂは感光層３の光触媒に
より速やかに分解除去され、さらに光触媒が疎水性から
親水性へ変換され、感光層３全面は親水化される。つま
り、この画像履歴消去工程（Ｓ２４０）によって、版の
履歴を完全に消去することができる。

【００７２】この後、次の版面の疎水化工程（Ｓ２０
０）（図７中に示すＡ′の工程）として、再度、有機系
化合物を感光層３表面に供給して、この有機系化合物と
感光層３とを相互作用させること、又は、感光層３表面
に不活性光等のエネルギー束を照射すること、又は、感
光層３表面を擦る等の機械的エネルギーを投入すること
により〔図７中の時点（ａ′）〕、印刷用版材５を「版
作製時の初期状態」に戻すことができ、この印刷用版材
５を再利用することができる。

【００７３】なお、上記の印刷及び版再生を印刷機上で
行なうためには、図８に示すような印刷システム（印刷
機）１０を用いるのが好ましい。この印刷機１０は、版
胴１１を中心として、その周囲に版クリーニング装置１
２、画像書き込み装置１３、版面の疎水化装置１４、加
熱装置１５、画像履歴消去装置としての親水化処理用活
性光照射装置１６、インキングローラ１７、湿し水供給
装置１８及びブランケット胴１９を備えたものとなって
いる。なお、印刷用版材５は、版胴１１に巻き付けられ
て設置されている。

【００７４】以下、図８を参照して版の再生及び作製を
説明すると、まず、版クリーニング装置１２を版胴１１
に対して接した状態とし、版材５表面に付着したイン
キ，湿し水，紙粉等をきれいに拭き取る。図８では、版
クリーニング装置１２としてインキ拭き取り用の布状テ
ープを巻き取る機構を有する装置を示しているが、これ
に限るものではない。

【００７５】その後、版クリーニング装置１２を版胴１
１から脱離させ、加熱装置１５で版材５表面を加熱しな
がら親水化処理用活性光照射装置１６により版材５全面
に活性光を照射して版材５全面を親水化する。なお、こ
こでは、活性光として、波長２５４ｎｍの紫外線を用い
ているが、光触媒が波長４００ｎｍ〜６００ｎｍの光で
も活性を示す場合は、波長４００ｎｍ〜６００ｎｍの光
を用いても良い。

【００７６】そして、版面の疎水化装置１４により版材
５全面に有機系化合物を供給して、この有機系化合物と
感光層３とを相互作用させること、又は、感光層３表面
に不活性光等のエネルギー束を照射すること、又は、感
光層３表面を擦る等の機械的エネルギーを投入すること
により版材５全面を疎水化する。なお、図８では、版面
の疎水化装置１４を、ローラにより有機系化合物（タイ
プＡ）を塗布する有機系化合物供給装置として示してい
るが、これに限るものではなく、もちろん、不活性光等
のエネルギー束を照射する装置であったり、又は、機械
的エネルギーを投入する装置であったりしても良いこと
はいうまでもない。

【００７７】次に、予め用意された画像のデジタルデー
タに基づいて画像書き込み装置１３により版材５表面に
活性光を照射して非画線部３ａを書き込む（即ち、版材
５表面に画像を書き込む）。そして、画像を書き込んだ
後、インキングローラ１７、湿し水供給装置１８、ブラ
ンケット胴１９を版胴に対して接する状態とし、紙２０
がブランケット胴１９に接するようする。そして、図７
に示す矢印の方向にそれぞれ回転することによって版材
５表面に湿し水及びインキが順次供給されて、紙２０に
印刷が行われるようになっている。

【００７８】このように、印刷機１０においては、版胴
１１に取り付けられた版材５表面のクリーニングを行な
う版クリーニング装置１２、活性光照射により画線部の
消去（画像履歴消去）を行なう親水化処理用活性光照射
装置１６、版材５表面を疎水化する疎水化装置１４、お
よび版材５表面を加熱して親水化を促進する加熱装置１
５が、版を再生する再生装置として機能しており、さら
に、版材５への画像書き込みを行なう画像書き込み装置
１３がそなえられることにより、印刷用版材５を印刷機
１０の版胴１１に取り付けた状態で一連の版再生及び版
作製の工程を行なうことができる。これによれば、印刷
機１０を停止することなく、また、印刷用版材の交換作
業を挟むことなく連続的な印刷作業の実施を行なうこと
が可能になる。

【００７９】この印刷機１０では、印刷用版材５を版胴
１１に巻き付けるように構成しているが、これに限定さ
れるものではなく、光触媒を含む感光層３を、版胴１１
表面に直接設ける、即ち、版胴１１と印刷用版材５とを
一体に構成したものを用いても良いことはいうまでもな
い。

【００８０】〔２〕第２実施形態 図９及び図１０は、本発明の第２実施形態にかかる印刷
用版材を示すもので、図９はその版材表面が疎水性を示
している場合の断面図、図１０はその版材表面が親水性
を示している場合の断面図である。

【００８１】図９に示すように、この印刷用版材３５
は、基材１と、中間層２と、感光層３と、有機系化合物
が加熱溶融されて形成された層３４とから基本的に構成
されている。なお、印刷用版材３５を単に版材ともい
い、また、表面に印刷用の画線部を形成された版材につ
いては版という。また、基材１，中間層２，感光層３
は、第１実施形態において図１を用いて説明したものと
同様であるので、これらの説明は省略し、以下、第１実
施形態とは異なる点について詳述する。

【００８２】本実施形態では、第２の方法、即ち、タイ
プＢの有機系化合物を用いて画像書き込みを行なうよう
になっている。有機系化合物（タイプＢ）が加熱溶融さ
れて形成された層３４は、上記のタイプＢの有機系化合
物が、感光層３表面に塗布されて加熱処理されることに
より形成されている。

【００８３】この有機系化合物（タイプＢ）は、熱可塑
性樹脂であり、この樹脂の微粒子が水や有機溶剤といっ
た液体中に分散された液を画線部材として版面に供給す
る。熱可塑性樹脂粒子を含む液を版面に塗布した後、必
要に応じて風乾等で液を乾燥させ、その後、疎水性画線
部を形成したい領域を加熱すると、この樹脂微粒子が加
熱溶融されてフィルム状になるとともに、感光層３表面
に反応及び／又は固着した際に、疎水性の画線部として
作用するようになっている。なお、加熱の方法として
は、活性光よりも波長の長い不活性光を照射して加熱す
る方法、又は、サーマルヘッドにより加熱を行なう方法
等を適宜用いればよいが、不活性光を照射することによ
り、加熱処理を行なうのが好ましい。

【００８４】なお、以下、「熱可塑性樹脂の微粒子」と
は、「加熱処理により溶融してフィルム状になるととも
に、感光層３表面と反応して、あるいは感光層３表面に
固着して感光層３表面を疎水化する性質と、活性光が照
射されると光触媒の作用により分解される性質とを併せ
持つ熱可塑性樹脂微粒子」のことをいう。ここで、反応
及び／又は固着とは、版材３５表面として印刷時にも十
分な強度を保ち得る程度に加熱溶融されて感光層３表面
と密着することを指している。また、感光層３との間で
何らかの化学反応を生じていると否とを問わず、物理的
結合によるか化学的結合によるかを問わない。

【００８５】また、熱可塑性樹脂の微粒子径としては、
一次粒子径が５μｍ以下、好ましくは１μｍ以下が良
い。粒子径が大きすぎると、加熱溶融して形成されたフ
ィルム、即ち、画線部の膜厚が大きすぎて、再生工程に
おける画線部の分解に時間がかかりすぎるため実用的で
はなくなる。一方、粒子径が小さすぎると比表面積増大
の効果で常温成膜してしまい、インキの粘着力及び／又
は湿し水の洗浄効果による非画線部の熱可塑性樹脂微粒
子の除去が困難となる。

【００８６】さらに、熱可塑性樹脂微粒子には、加熱さ
れることにより溶融してフィルム化するとともに、版材
５表面の親水性部分と反応もしくは強く固着し感光層３
表面に疎水性を付与する作用を有する一方、常温では前
記反応もしくは固着が実質的に起こらないものが好まし
い。このような熱可塑性樹脂として種々の樹脂が知られ
ているが、本実施形態の版材用疎水化剤としては上記の
大きさの微粒子を形成できる樹脂が好ましく、（メタ）
アクリル酸，（メタ）アクリル酸エステル等のアクリル
系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン・アクリル酸，スチ
レン・アクリル酸エステル等のスチレン・アクリル系樹
脂、ウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、エチレン、エ
チレン・アクリル酸，エチレン・アクリル酸エステル，
エチレン酢酸ビニル，変性エチレン酢酸ビニル等のエチ
レン系樹脂、酢酸ビニル，プロピオン酸ビニル，ポリビ
ニルアルコール，ポリビニルエーテル等のビニル系樹脂
が好適である。

【００８７】なお、これらの樹脂を単独で用いても良い
し、必要に応じて混合して用いても良いことはいうまで
もない。また、これらの樹脂は、分解時に塩素化合物等
の有害成分を生成しないという利点がある。さらに、熱
可塑性樹脂微粒子を含む液には、いわゆるエマルジョン
やラテックスが含まれることはいうまでもない。次に、
本実施形態にかかる印刷用版の作製方法及びその再生方
法について説明する。

【００８８】なお、本実施形態における版の作製及び再
生のフロー（図１３）は、画線部材供給工程（Ｓ３０
０），画像書き込み工程（Ｓ３１０），印刷工程（Ｓ３
２０），インキ除去工程（Ｓ３３０），画像履歴消去工
程（Ｓ３４０）のステップからなる。まず、印刷用版の
作製方法について説明する。

【００８９】なお、以下において「版の作製」とは、有
機系化合物（画線部材）を含む液を感光層３表面に塗布
した後、版材３５表面の少なくとも一部をデジタルデー
タに基づいて加熱処理して疎水性の画線部を形成し、加
熱処理されなかった版材３５表面の樹脂微粒子を除去し
て親水性の感光層３表面を露出させ、版材３５表面上に
疎水性の画線部と親水性の非画線部とからなる潜像を形
成することをいうものとする。

【００９０】まず、図１１（ａ）に示すように、前工程
〔画像履歴消去工程（Ｓ３４０）〕で全面を親水化され
た感光層３表面に、画線部材（樹脂微粒子）を含む液を
塗布し、必要に応じて室温程度の温度で乾燥させる。ま
た、感光層３表面のこの状態を「版作製時の初期状態」
という。この「版作製時の初期状態」とは、実際上の印
刷工程におけるその開始時とみなして良い。より具体的
にいえば、任意の画像に関して、それをデジタル化した
データが既に用意されていて、これを版材３５上に書き
込みしようとするときの状態を指すものとみなせる。

【００９１】そして、図１１（ｂ）に示すように、画像
書き込み工程（Ｓ３１０）として、感光層３表面に画像
を書き込む。この画像書き込みは、画像に関するデジタ
ルデータに準拠して、そのデータに対応するように、感
光層３表面に画線部が書き込まれることにより画像書き
込みが行われる。ここで、画線部とは、図９に示すよう
に、水６の接触角が５０°以上、好ましくは８０°以上
の疎水性の部分であり、印刷用の疎水性インキが容易に
付着し、一方、湿し水の付着は困難な状態となってい
る。

【００９２】このように、疎水性の画線部を画像データ
に基づいて現出させる方法としては、樹脂微粒子層を加
熱し、この樹脂微粒子を溶融させて感光層３表面にフィ
ルム化させるとともに、感光層３表面に反応及び／又は
固着させる方法が好適である。画線部を加熱した後、加
熱されなかった部分の樹脂微粒子を除去することによ
り、非画線部を現出させ、版を作製することができる。

【００９３】こうした加熱方法としては、光触媒のバン
ドギャップエネルギーよりも低いエネルギーをもつ光を
照射することにより、加熱処理を行なうのが好ましい。
この「光触媒のバンドギャップエネルギーよりも低いエ
ネルギーをもつ光」として、具体的には、赤外線が挙げ
られる。こうした光を照射すれば、樹脂微粒子を分解す
ることなく溶融してフィルム化させるとともに、感光層
３上に反応及び／又は固着させることができる。

【００９４】ここでは、図１１（ｂ）に示すように、赤
外線書き込みヘッドを用いた赤外照射によって、少なく
とも一部の樹脂微粒子を加熱溶解してフィルム化させる
とともに、感光層３表面に反応あるいは固着させて画線
部を形成するようにしている。画線部を形成した後、図
１１（ｃ）に示すように、印刷開始直後の段階で、画像
書き込みをしなかった部分の樹脂微粒子を、インキの粘
着力及び／又は湿し水の洗浄作用により版材表面から除
去して、非画線部を現出させる。これによって、図１１
（ｃ）に示すように、感光層３表面への画線部と非画線
部の形成が完了し、印刷可能な状態となる。

【００９５】なお、樹脂微粒子を含む液の塗布面を加熱
し、疎水性の画線部を画像データに基づいて現出させる
方法としては、ここでは、光のエネルギーで加熱して画
線部を書き込むように構成した例を示しているが、他の
構成、例えばサーマルヘッドによる樹脂微粒子物塗布面
の直接加熱であってもよいことはいうまでもない。上記
の処理が終了したら、図１１（ｃ）に示す印刷工程（Ｓ
３２０）において、版材３５表面に湿し水および印刷用
の疎水性インキと湿し水を混合したいわゆる乳化インキ
を塗布する。これによって、例えば、図１２に示すよう
な印刷用版材が製作されたことになる。

【００９６】図１２において、網掛けされた部分は、樹
脂微粒子が加熱溶融されてフィルム化するとともに、光
触媒を含む感光層３表面と反応もしくは固着して形成さ
れた層３４、即ち、疎水性の画線部に、疎水性インキが
付着した状態を示している。また、残りの白地の部分
（感光層３表面）、即ち、親水性の非画線部３ａには、
湿し水が優先的に付着する一方、疎水性インキははじか
れて付着しなかった状態を示している。このように画像
（絵柄）が浮かび上がることにより、感光層３表面は、
印刷用版材３５としての機能を有することになる。この
後、印刷を実行し、印刷を終了する。

【００９７】次に、印刷用版材の再生方法について説明
する。なお、「版の再生」とは、少なくとも一部が疎水
性を示し残りが親水性を示す版材表面を、全面均一に親
水化した後、この親水性の版材表面に、樹脂微粒子を含
む液を塗布し、必要に応じて室温程度の温度で乾燥させ
ることによって、再び「版作製時の初期状態」に復活さ
せることをいう。

【００９８】「版の再生」では、まず、図１１（ｄ）に
示すインキ除去工程（Ｓ３３０）として、印刷終了後の
感光層３表面に付着したインキ，湿し水，紙粉などを拭
き取る。その後、図１１（ｅ）に示す画像履歴消去工程
（Ｓ３４０）において、少なくとも一部が疎水性を示す
感光層３全面に、光触媒のバンドギャップエネルギーよ
りも高いエネルギーをもつ活性光を照射する。感光層３
全面に活性光を照射することで、樹脂微粒子が溶融して
形成された画線部３４を分解して除去し、感光層３全面
を、水６の接触角が１０°以下の親水性表面とするこ
と、即ち、図１０に示す状態とすることができる。

【００９９】ここでは、図１１（ｅ）に示すように、紫
外線照射ランプを用いて、紫外線照射で画線部を分解
し、感光層３の親水性表面を露出させる場合を示してい
る。また、このとき、感光層３表面への活性光照射と同
時に、感光層３表面を加熱するようにしている。これに
より、感光層３表面の有機系化合物の分解反応を加速さ
せ、版の画像履歴の消去を短時間で行なうことができ
る。

【０１００】なお、ここでは、図１１（ｅ）に示すよう
に、紫外線（ＵＶ）ランプを用いて活性光を感光層３表
面に照射するとともに、赤外線（ＩＲ）ランプを用いて
感光層３表面を加熱する例を示している。また、加熱方
法としては、感光層３表面を加熱する熱風送風又は光照
射が好ましい。ここで、照射する光としては、加熱効率
を考慮すると赤外線がより好ましい。

【０１０１】画像履歴消去工程（Ｓ３４０）の後、全面
親水性に回復された感光層３表面に、樹脂微粒子を含む
液を再度常温で塗布し、必要に応じて室温程度の温度で
乾燥させることによって、版作製時の初期状態に戻すこ
とが可能である。以上説明したことを、まとめて示して
いるのが図１４に示すグラフである。この図１４は、横
軸に時間（又は操作）、縦軸に版材３５表面の水６の接
触角をとったグラフであって、本実施形態における印刷
用版材３５に関して、その感光層３表面の水６の接触角
が、時間あるいは操作に伴ってどのように変化するかを
示したものである。なお、図１４において、一点鎖線は
非画線部の接触角を示し、破線（開始点ａ，ａ′を起点
とする太線の破線）は画線部／非画線部に共通の感光層
３表面の接触角を示し、実線は画線部３４の接触角を示
している。

【０１０２】まず予め、感光層３表面に紫外線を照射し
て、感光層３表面における水６の接触角が１０°以下の
高い親水性を示すようにしておく。そして、画線部材供
給工程（Ｓ３００）（図１４中に示すＡの工程）とし
て、感光層３表面に、樹脂微粒子を含む液を塗布し〔図
１４中の時点（ａ）〕、その後、必要があれば液を室温
程度の常温で乾燥させる。図１１はこの乾燥工程を必要
としない場合を示す。樹脂微粒子を含む液を塗布し終わ
った状態が、つまり「版作製時の初期状態」である〔図
１４中の時点（ｂ）〕。

【０１０３】次に、画像書き込み工程（Ｓ３１０）（画
線部書き込み工程、図１４中に示すＢの工程）として、
感光層３表面の樹脂微粒子塗布面の画線部相当部分を加
熱処理して、画線部の書き込みを開始する〔図１４中の
時点（ｂ）〕。こうすることによって、樹脂微粒子は加
熱されて溶融しフィルム化するとともに、感光層３表面
と反応又は固着し、画線部は高い疎水性を示すようにな
る。一方、非画線部では樹脂微粒子と版面との反応又は
固着は実質的に起こらず、画像書き込み前と同じ状態を
維持する。

【０１０４】画線部書き込みが完了したら、非画線部の
画線部材除去工程（図１４中に示すＣの工程）として、
印刷直後の段階で、非画線部の樹脂微粒子を、インキの
粘着力及び／又は湿し水の洗浄効果により感光層３表面
から除去開始する〔図１４中の時点（ｃ）〕。すなわ
ち、非画線部として、親水性の感光層３表面を露出させ
る。これにより、感光層３表面は、樹脂微粒子が溶融し
て形成したフィルム状樹脂が反応又は固着して形成され
た疎水性の画線部と、樹脂微粒子が除去された親水性の
非画線部が現出し、版として機能することができるよう
になる。

【０１０５】非画線部の樹脂微粒子除去が完了した後、
印刷工程（Ｓ３２０）（図１４中に示すＤの工程）とし
て、印刷を開始することになる〔図１４中の時点
（ｄ）〕。印刷が終了すると、インキ除去工程（Ｓ３３
０）（図１４中に示すＥの工程）として、感光層３表面
のインキ，汚れ等を拭き取ってクリーニングを開始する
〔図１４中の時点（ｅ）〕。

【０１０６】このクリーニング完了後、即ち、インキの
拭き取りが完了した後には、画像履歴消去工程（Ｓ３４
０）（図１４中に示すＦの工程）として、感光層３表面
に活性光を照射するとともに、感光層３表面を加熱す
る。これにより、樹脂微粒子が溶融して形成された画線
部が速やかに分解・除去され、さらに光触媒が疎水性か
ら親水性へ変換され、感光層３全面は再び親水性に戻
る。この画像履歴消去工程（Ｓ３４０）によって、版の
履歴を完全に消去することができる。

【０１０７】この後、次の画線部材供給工程（Ｓ３０
０）（図１４中に示すＡ′の工程）として、再び樹脂微
粒子を含む液を塗布する〔図１４中の時点（ａ′）〕こ
とにより、「版作製時の初期状態」に戻ることになり、
この印刷用版材は再利用に供されることになる。なお、
上記の印刷及び版再生を印刷機上で行なうためには、第
１実施形態で説明した、図８に示すような印刷機１０を
用いるのが好ましい。ただし、第２実施形態では、第１
実施形態で用いたタイプＡの有機系化合物とは異なる、
タイプＢの有機系化合物を含む液を用いているので、図
８に符号１４で示す版面の疎水化装置を、有機系化合物
（タイプＢ）を含む液を供給する画線部材供給装置に置
き換えて構成する必要があることはいうまでもない。

【０１０８】〔３〕実施例 次に、本発明の第２実施形態における印刷用版材の作製
方法及び版の再生方法について、版材作製及び版再生の
手順及びその効果を、本願発明者らが確認したより具体
的な実施例及び比較例をあげて説明する。なお、図１５
に示すように、版材の作製のフローは、中間層液塗布工
程（Ｓ１００）、中間層固化工程（Ｓ１１０）、感光層
液塗布工程（Ｓ１２０）、感光層固化工程（Ｓ１３０）
のステップからなる。

【０１０９】〈基板作製〉まず、面積が２８０×２０４
ｍｍ、厚さが０．１ｍｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）
製の基材１を用意し、この基材にアルカリ脱脂処理を行
なった後、水洗した。次に、この基材に酸化クロム（Ｃ
ｒＯ）処理を行い、ステンレス基材表面を厚さ約１μｍ
の黒色皮膜で被覆した。この黒色化処理により、８３０
ｎｍの赤外線の吸収率は処理前の３０％から、処理後は
９０％以上に向上した。この黒色化処理ＳＵＳ基板を基
材１として用いた。

【０１１０】〈中間層形成〉次に、中間層液塗布工程
（Ｓ１００）において、日産化学製のリチウム（Ｌｉ）
含有水ガラスＬＳＳ−３５（ＳｉＯ₂含有量２０〜２１
ｗｔ％）５００ｇをイオン交換水５００ｇで稀釈した液
を用いて前記基材１にリチウム（Ｌｉ）含有水ガラスを
ディップコートした後、中間層固化工程（Ｓ１１０）に
おいて、５００℃で３０分加熱処理し、厚さ約０．０７
μｍの中間層２を形成した。

【０１１１】〈感光層形成〉そして、感光層液塗布工程
（Ｓ１２０）において、テイカ株式会社製の光触媒用ゾ
ルＴＫＳ−２０３と酸化チタンコーティング剤ＴＫＣ−
３０１と日産化学製のリチウム（Ｌｉ）含有水ガラスＬ
ＳＳ−３５とをＴｉＯ₂及びＳｉＯ₂として重量比４：
４：２の割合で混合した液を上記中間層２処理した基板
にディップコートした後、感光層固化工程（Ｓ１３０）
において、３５０℃で加熱して、アナターゼ型酸化チタ
ン光触媒を含む感光層３を版材表面に形成した。感光層
３の厚みは約０．１μｍであった。この感光層３の機械
的な強度を鉛筆硬度で評価すると５Ｈであった。

【０１１２】〈版材としての評価〉感光層３の塗布（コ
ーティング）が終了したものを再生可能な印刷用版材３
５として評価した。まず、感光層３、即ち、版材３５表
面の全面に低圧水銀ランプを用いて波長２５４ｎｍ、照
度１０ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を１０秒照射した後、紫外
線照射部分について直ちにＣＡ−Ｗ型接触角計で水の接
触角を測定したところ、接触角は８°となり、非画線部
として十分な親水性を示した。

【０１１３】次に、ジョンソンポリマー製のスチレン・
アクリル系樹脂（商品名「Ｊ−６７８」）をエタノール
に溶解し、濃度１ｗｔ％の樹脂溶液を調製した。この樹
脂溶液中に、界面活性剤イオネットＴ−６０−Ｃ（三洋
化成製）を樹脂に対して１０ｗｔ％添加した後、樹脂溶
液７０重量部に対してイオン交換水（冷水）３０重量部
を添加し、樹脂微粒子を析出させた。この樹脂微粒子分
散液を画線部形成用の塗布液とした。走査電子顕微鏡で
樹脂粒子を観察すると、粒径０．０７〜０．１μｍの球
状粒子であった。

【０１１４】紫外線を照射して親水性となっている版全
面に、スプレーにより上記画線部形成用の塗布液を塗布
した後、２５℃で５分間風乾し、次に、波長８３０ｎ
ｍ、出力１００ｍＷ、ビーム径１５μｍの赤外線レーザ
を用いた画像書き込み装置により版面に画線率１０％か
ら１００％までの１０％刻みの網点画像を書き込むこと
で、照射部分の樹脂微粒子を加熱溶融し、版面に固着さ
せ、フィルム状の層を形成した。この樹脂微粒子が固着
した部分についてＣＡ−Ｗ型接触角計で水の接触角を測
定したところ、接触角は８２°で、画線部が出来ている
ことを確認した。

【０１１５】この版材を（株）アルファー技研の卓上オ
フセット印刷機ニューエースプロに取り付け、東洋イン
キ製のインキＨＹＥＣＯＯＢ紅ＭＺと三菱重工業製の湿
し水リソフェロー１％溶液を用いて、アイベスト紙に印
刷速度３５００枚／時にて印刷を開始し、紙面上には網
点画像が印刷できた。次に、印刷用版の再生に係わる実
施例を説明する。

【０１１６】印刷終了後、版面上に付着したインキ，湿
し水，紙粉等をきれいに拭き取った版全面に、ハロゲン
ランプを用いて赤外線を照射して版面を１２０℃に加熱
しながら低圧水銀ランプを用いて波長２５４ｎｍ、照度
１０ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を２０秒照射した。その後、
網点を書き込んでいた部分について直ちにＣＡ−Ｗ型接
触角計で水の接触角を測定したところ、接触角は６°と
なり、十分な親水性を確認した。すなわち、版材３５は
疎水化剤塗布前の状態に戻り、版再生ができたことを確
認した。

【０１１７】〈比較例１〉上記実施例の版材の作製にお
いて、感光層３を塗布する際、テイカ株式会社製の光触
媒用ゾルＴＫＳ−２０３と酸化チタンコーティング剤Ｔ
ＫＣ−３０１をＴｉＯ₂として重量比５：５の割合で混
合した液を前記中間層２を形成した基板１にディップコ
ートし、５００℃で加熱して、アナターゼ型酸化チタン
光触媒を含む感光層３を版材３５表面に形成した以外
は、実施例と同様にして印刷用版材を作製した。感光層
３の厚みは約０．１μｍであった。この感光層３の機械
的な強度を鉛筆硬度で評価すると２Ｈで、実施例より感
光層３の機械的な強度が低下していることが判明した。

【０１１８】〈比較例２〉上記実施例の版材の作製にお
いて、感光層３を塗布する際、テイカ株式会社製の光触
媒用ゾルＴＫＳ−２０３と酸化チタンコーティング剤Ｔ
ＫＣ−３０１とをＴｉＯ₂として重量比５：５の割合で
混合した液を前記中間層２を形成した基板１にディップ
コートし、８００℃で加熱して、光触媒を含む感光層３
を版材表面に形成した以外は、実施例と同様にして版材
を作製した。このときの感光層３の厚みは約０．１μｍ
であった。また、感光層３の機械的な強度を鉛筆硬度で
評価すると４Ｈで、実施例に近い機械的な強度をもつこ
とが確認できた。感光層３の酸化チタン光触媒について
エックス線回折により結晶型を調べたところ９０％以上
がルチル型に転移していた。

【０１１９】この比較例２の版材３５を用いて、実施例
と同様に印刷を実施した後、版の再生処理を行った。印
刷終了後、版面上に付着したインキ，湿し水，紙粉等を
きれいに拭き取った版全面に、ハロゲンランプを用いて
赤外線を照射して版面を１２０℃に加熱しながら低圧水
銀ランプを用いて波長２５４ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ
²の紫外線を２０秒照射した。その後、網点を書き込ん
でいた部分について直ちにＣＡ−Ｗ型接触角計で水６の
接触角を測定したところ、接触角は１８°となり、まだ
充分な親水性を示すには至らなかった。さらに前記低圧
水銀ランプを用いて紫外線を照射し、実施例と同様に接
触角６°になるまでには２０秒の追加の照射時間を要し
た。即ち、比較例２の版材は、実施例の版材に比べて光
触媒活性が低下していることが判明した。

【０１２０】〈比較例３〉上記実施例の版材３５の作製
において、中間層２を塗布する際に、堺化学製の光触媒
用プライマーＬＡＣＰＲ−０１を用いて前記基板１に中
間層２をディップコートした後、１１０℃で２０分加熱
処理した以外は、実施例と同様にして印刷用版材を作製
した。このときの中間層２の厚みは約０．１μｍであっ
た。感光層３の機械的な強度を鉛筆硬度で評価するとＨ
で、実施例より感光層３の機械的な強度が低下している
ことが判明した。

【０１２１】以上詳述したように、本発明の第１，２実
施形態にかかる感光層３においては、光触媒活性を低下
させることなく光触媒を含む感光層３の機械的な強度を
高くすることができる。したがって、この感光層３を印
刷用版材に用いた場合には、印刷用版材の機械的な強度
も高くすることができ、版の再生サイクルを低下させる
ことなく、版の耐久性を上げることができる。つまり、
印刷工程全体を極めて速やかに完了させることができ
る。

【０１２２】また、版材の再生・再利用を可能とし、使
用後に廃棄される版材の量を著しく減少させることがで
きる。これにより、版材作製にかかるコストを大幅に低
減することができる。また、画像に係わるデジタルデー
タに基づいて、版材表面への画像書き込みを直接実施す
ることが可能であることから、印刷工程のデジタル化対
応がなされており、その相応分の大幅な時間短縮又はコ
スト削減を実現できる。

【０１２３】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではな
く、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。例えば、第１，２実施形態におい
て、中間層２に水ガラスを含むように構成したが、中間
層２上にそなえられる感光層３の膜強度が高く、また、
これにより、印刷用版材の強度が高い場合には、特に、
中間層２に水ガラスを含まなくても良い。

【０１２４】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載の本
発明の感光層によれば、光触媒活性を低下させることな
く、光触媒を含む感光層の機械的な強度を高くすること
ができる。従って、例えば、印刷用版材に用いた場合、
版の再生サイクルを低下させることなく、版の耐久性を
高めることができる。また、印刷工程に占める版再生時
間が短縮できるため、印刷準備時間の短縮ができる。さ
らに、版材を再生し繰り返し使用することにより、使用
後に廃棄される版材の量を著しく減少させることができ
るとともに、版材に関わるコストが低減できるようにな
る。また、デジタルデータから直接版を作成することに
より、印刷工程のデジタル化対応や時間短縮ができるよ
うになる。

【０１２５】請求項２記載の本発明の感光層によれば、
活性光を照射すると有機物を分解するので、感光層表面
に塗布された有機系化合物を除去することができ、版の
再生が可能である。請求項３記載の本発明の感光層によ
れば、水ガラスはリチウムＬｉを含んでいるので、長時
間水に浸しても溶解することがなく、膜強度を高めるこ
とができる。従って、この感光層を印刷用版材に用いれ
ば、版の耐久性を高めることができる。

【０１２６】請求項４記載の本発明の感光層によれば、
水ガラスが、シリカＳｉＯ₂とリチウムＬｉとを含むと
ともに、リチウムを酸化リチウムＬｉ₂Ｏ成分として水
ガラス中に１〜１０重量パーセント含んでいるので、膜
強度を高めるという効果を十分に発揮でき、液体として
のハンドリングを容易にすることができる。請求項５記
載の本発明の感光層によれば、光触媒として、酸化チタ
ン光触媒あるいは酸化チタン光触媒改質物を用いること
ができる。

【０１２７】請求項６記載の本発明の印刷用版材によれ
ば、基材と、この基材上に形成された請求項１〜５の何
れか１項に記載の感光層とをそなえているので、光触媒
活性を低下させずに機械的な強度を高くすることができ
る。従って、版の再生サイクルを低下させることなく、
版の耐久性を高めることができる。また、印刷工程に占
める版再生時間が短縮できるため、印刷準備時間の短縮
ができる。さらに、版材を再生し繰り返し使用すること
により、使用後に廃棄される版材の量を著しく減少させ
ることができるとともに、版材に関わるコストが低減で
きるようになる。また、デジタルデータから直接版を作
成することにより、印刷工程のデジタル化対応や時間短
縮ができるようになる。

【０１２８】請求項７記載の本発明の印刷用版材によれ
ば、感光層と基材との間にそなえられる中間層が水ガラ
スを含んでいるので、中間層自身の機械的な強度を高く
することができ、中間層上にそなえられる感光層の機械
的な強度も高くすることができる。請求項８記載の本発
明の印刷用版材によれば、水ガラスはリチウムＬｉを含
んでいるので、長時間水に浸しても溶解することがな
く、中間層の膜強度を高めることができる。つまり、こ
のような中間層を含んでいるので、版の耐久性を高める
ことができる。

【０１２９】請求項９記載の本発明の印刷用版材によれ
ば、シリカＳｉＯ₂とリチウムＬｉとを含むとともに、
リチウムを酸化リチウムＬｉ₂Ｏ成分として水ガラス中
に１〜１０重量パーセント含んでいるので、膜強度を高
めるという効果を十分に発揮でき、液体としてのハンド
リングを容易にすることができる。

【０１３０】請求項１０記載の本発明の印刷機によれ
ば、請求項６〜９の何れか１項に記載の印刷用版材を版
胴に取り付け、疎水化装置により、版材の感光層表面を
疎水化させた後、画像書き込み装置により、感光層表面
に画像を書き込み、版クリーニング装置により版材表面
に塗布されたインキを除去した後、画像履歴消去装置に
より、版材表面に活性光を照射して感光層表面の全面を
親水化し、感光層表面の画像履歴を消去するので、版材
を再生して繰り返し使用できる。また、使用後に廃棄さ
れる版材の量を著しく減少させることができ、版材に関
わるコストを低減できる。

【０１３１】請求項１１記載の本発明の印刷機によれ
ば、疎水化装置が、活性光が照射されると光触媒の作用
により分解される性質と、感光層表面と反応及び／又は
強く相互作用して感光層表面を疎水化する性質とを有す
る有機系化合物を感光層表面に供給すること、及び、感
光層表面にエネルギー束を照射すること、及び、感光層
表面に機械的エネルギーを投入すること、の何れかによ
って感光層表面を疎水化するので、この後、版材の非画
線部分となるところに活性光を照射することにより親水
性を示す非画線部分を形成することができる。即ち、感
光層表面に親水性を示す非画線部と疎水性を示す画線部
とからなる画像を書き込むことができる。

【０１３２】請求項１２記載の本発明の印刷機によれ
ば、請求項６〜９の何れか１項に記載の印刷用版材を版
胴に取り付け、画線部供給装置により、感光層表面に画
線部材を供給し、画像書き込み装置により感光層表面に
画像を書き込み、版クリーニング装置により版材表面に
塗布されたインキを除去した後、画像履歴消去装置によ
り、版材表面に活性光を照射して感光層表面の全面を親
水化し、感光層表面の画像履歴を消去するので、版材を
再生して繰り返し使用できる。また、使用後に廃棄され
る版材の量を著しく減少させることができ、版材に関わ
るコストを低減できる。

【０１３３】請求項１３記載の本発明の印刷機によれ
ば、画線部材供給装置が、活性光が照射されると光触媒
の作用により分解される性質と、加熱されると溶融して
感光層表面と相互作用または固着し感光層表面を疎水化
する性質とを有する有機系化合物を感光層表面に供給す
るので、感光層表面にこの有機系化合物を供給した後、
版材の画線部分となるところを加熱することにより有機
系化合物を感光層表面に溶融固着させて疎水性を示す画
線部を形成し、また、加熱していない部分の有機系化合
物を除去することにより、感光層表面に親水性を示す非
画線部と疎水性を示す画線部とからなる画像を書き込む
ことができる。

【０１３４】請求項１４記載の本発明の印刷用版材の作
製方法によれば、請求項６記載の印刷用版材の作製方法
であって、感光層液塗布工程において基材表面に光触媒
と水ガラスとを少なくとも含む感光層液を塗布し、その
後、感光層固化工程において上記の液状の感光層を固化
することにより、基材上に感光層を形成することができ
る。

【０１３５】請求項１５記載の本発明の印刷用版材の作
製方法によれば、請求項７〜９の何れか１項に記載の印
刷用版材の作製方法であって、中間層液塗布工程におい
て基材表面に水ガラスを含む中間層液を塗布した後、中
間層固化工程のおいて上記の液状の中間層を固化し、そ
の後、感光層液塗布工程において光触媒と水ガラスとを
含む感光層液を塗布し、感光層固化工程において上記の
液状の感光層を固化することにより、基材上に中間層を
形成し、この中間層上に感光層を形成することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態にかかる印刷用版材の構
造を示す模式的な断面図である。

【図２】本発明の第１実施形態にかかる印刷用版材の表
面が疎水性を示している場合の模式的な断面図である。

【図３】本発明の第１実施形態にかかる印刷用版材の表
面が親水性を示している場合の模式的な断面図である。

【図４】本発明の第１実施形態にかかる印刷用版の画像
書き込みから再生までのサイクルを示す模式的な斜視図
である。

【図５】本発明の第１実施形態にかかる印刷用版材の一
例を示す模式的な斜視図である。

【図６】本発明の第１実施形態にかかる版の作製及び再
生を説明するためのフローチャートである。

【図７】本発明の第１実施形態にかかる版材表面の水の
接触角と時間（又は操作）との関係を示すグラフであ
る。

【図８】本発明の第１実施形態にかかる版の印刷及び再
生を行なう印刷機を模式的に示す図である。

【図９】本発明の第２実施形態にかかる印刷用版材の表
面が疎水性を示している場合の模式的な断面図である。

【図１０】本発明の第２実施形態にかかる印刷用版材の
表面が親水性を示している場合の模式的な断面図であ
る。

【図１１】本発明の第２実施形態にかかる印刷用版の画
像書き込みから再生までのサイクルを示す模式的な斜視
図である。

【図１２】本発明の第２実施形態にかかる印刷用版材の
一例を示す模式的な斜視図である。

【図１３】本発明の第２実施形態にかかる版の作製及び
再生を説明するためのフローチャートである。

【図１４】本発明の第２実施形態にかかる版材表面の水
の接触角と時間（又は操作）との関係を示すグラフであ
る。

【図１５】本発明の第２実施形態にかかる印刷用版材の
作製を説明するためのフローチャートである。

【符号の説明】

１ 基材 ２ Ｌｉ含有水ガラスを含む中間層 ３ 感光層 ３ａ 非画線部 ３ｂ 画線部 ５，３５ 印刷用版材 ６ 水 １０ 印刷システム（印刷機） １１ 版胴 １２ 版クリーニング装置 １３ 画像書き込み装置 １４ 版面の疎水化装置 １５ 加熱装置 １６ 親水化処理用活性光照射装置（画像履歴消去装
置） １７ インキングローラ １８ 湿し水供給装置 １９ ブランケット胴 ２０ 紙 ３１ 光触媒微粒子 ３２ Ｌｉ含有水ガラスを含むバインダ ３４ 有機系化合物が加熱溶融されて形成された層（画
線部）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大藤 豊士 広島県三原市寿町一丁目１番地 三原菱重 エンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2C034 AA00 AA08 2H025 AB03 AC01 BH03 FA03 2H096 AA07 BA20 CA05 EA02 LA30 2H114 AA04 AA22 AA23 AA30 BA01 BA10 DA14 EA01 EA02 EA10 GA29

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光触媒と水ガラスとを含み、該光触媒の
   バンドギャップエネルギーよりも高いエネルギーをもつ
   活性光が照射されると表面が親水性を示す性質を有する
   ことを特徴とする、感光層。
2. 【請求項２】 該活性光が照射されると有機物を分解す
   る性質を有することを特徴とする、請求項１記載の感光
   層。
3. 【請求項３】 該水ガラスは、リチウムＬｉを含んでい
   ることを特徴とする、請求項１又は２記載の感光層。
4. 【請求項４】 該水ガラスは、シリカＳｉＯ₂とリチウ
   ムＬｉとを含むとともに、該リチウムを酸化リチウムＬ
   ｉ₂Ｏ成分として該水ガラス中に１〜１０重量パーセン
   ト含んでいることを特徴とする、請求項１〜３の何れか
   １項に記載の感光層。
5. 【請求項５】 該光触媒は、酸化チタン光触媒又は酸化
   チタン光触媒改質物であることを特徴とする、請求項１
   〜４の何れか１項に記載の感光層。
6. 【請求項６】 基材と、該基材上に形成された請求項１
   〜５の何れか１項に記載の感光層とをそなえ、繰り返し
   て再利用されることを特徴とする、印刷用版材。
7. 【請求項７】 該感光層と該基材との間に、水ガラスを
   含む中間層がそなえられることを特徴とする、請求項６
   記載の印刷用版材。
8. 【請求項８】 該水ガラスは、リチウムＬｉを含んでい
   ることを特徴とする、請求項７記載の印刷用版材。
9. 【請求項９】 該水ガラスは、シリカＳｉＯ₂とリチウ
   ムＬｉとを含むとともに、該リチウムを酸化リチウムＬ
   ｉ₂Ｏ成分として該水ガラス中に１〜１０重量パーセン
   ト含んでいることを特徴とする、請求項７又は８記載の
   印刷用版材。
10. 【請求項１０】 請求項６〜９の何れか１項に記載の印
    刷用版材が取り付けられる版胴と、 該感光層表面を疎水化させる疎水化装置と、 該疎水化装置により疎水化された該感光層表面に該活性
    光を照射して親水性の非画線部を形成することで該感光
    層表面に画像を書き込む画像書き込み装置と、 該感光層表面上のインキを除去する版クリーニング装置
    と、 該インキを除去された該感光層表面に該活性光を照射す
    ることにより該感光層表面の全面を親水化して該感光層
    表面の画像履歴を消去する画像履歴消去装置とをそなえ
    ていることを特徴とする、印刷機。
11. 【請求項１１】 該疎水化装置は、 該活性光が照射されると該光触媒の作用により分解され
    る性質と、該感光層表面と反応及び／又は強く相互作用
    して該感光層表面を疎水化する性質とを有する有機系化
    合物を該感光層表面に供給すること、及び、該感光層表
    面にエネルギー束を照射すること、及び、該感光層表面
    に機械的エネルギーを投入すること、の何れかによって
    該感光層表面を疎水化することを特徴とする、請求項１
    ０記載の印刷機。
12. 【請求項１２】 請求項６〜９の何れか１項に記載の印
    刷用版材が取り付けられる版胴と、 該感光層表面に画線部材を供給する画線部材供給装置
    と、 該画線部材を加熱することにより該感光層表面に疎水性
    の画線部を形成することで該感光層表面に画像を書き込
    む画像書き込み装置と、 該感光層表面上のインキを除去する版クリーニング装置
    と、 該インキを除去された該感光層表面に該活性光を照射す
    ることにより該感光層表面の全面を親水化して該感光層
    表面の画像履歴を消去する画像履歴消去装置とをそなえ
    ていることを特徴とする、印刷機。
13. 【請求項１３】 該画線部材供給装置は、 該活性光が照射されると該光触媒の作用により分解され
    る性質と、加熱されると溶融して該感光層表面と相互作
    用又は固着し該感光層表面を疎水化する性質とを有する
    有機系化合物を該感光層表面に供給することを特徴とす
    る、請求項１２記載の印刷機。
14. 【請求項１４】 請求項６記載の印刷用版材の作製方法
    であって、 該基材表面に該光触媒と該水ガラスとを少なくとも含む
    感光層液を塗布する感光層液塗布工程と、 上記の液状の感光層を固化する感光層固化工程とをそな
    えていることを特徴とする、印刷用版材の作製方法。
15. 【請求項１５】 請求項７〜９の何れか１項に記載の印
    刷用版材の作製方法であって、 該基材表面に該水ガラスを含む中間層液を塗布する中間
    層液塗布工程と、 上記の液状の中間層を固化する中間層固化工程と、 該中間層固化工程の後、該光触媒と該水ガラスとを含む
    感光層液を塗布する感光層液塗布工程と、 上記の液状の感光層を固化する感光層固化工程とをそな
    えていることを特徴とする、印刷用版材の作製方法。