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TECHNISCHES GEBIET
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regeneration einer
Druckplatte, welche für die
Wiederverwendung regeneriert werden kann. Eine Regenerationsvorrichtung,
eine Druckpresse, eine Druckplatte sowie ein Verfahren zur Herstellung der
Druckplatte, ein geschichteter Aufbau sowie ein Verfahren zur Herstellung
des geschichteten Aufbaus sind ebenso beschrieben.
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Die
US 2002/000169 A1 offenbart
die Kombination der technischen Merkmale des Oberbegriffs des Anspruchs
1.
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STAND DER TECHNIK
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Auf
dem Gebiet der Drucktechnologie generell bestand in der letzten
Zeit ein Fortschritt hin zur Digitalisierung des Druckprozesses.
Diese Technologie beinhaltet die Erzeugung von Bildern und Dokumenten
oder Manuskripten in digitalisierter Form auf einem PC oder das
Auslesen von Bildern auf einem Scanner, um die Bilddaten zu digitalisieren
und das direkt Erzeugen einer Druckplatte basierend auf den so erhaltenden
digitalen Daten. Dies erlaubt eine Arbeitsersparnis im gesamten
Druckprozess und erleichtert das präzise Drucken.
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Gemäß einer
konventionellen Weise wurde generell eine Platte zur Verwendung
beim Drucken als sogenannte PS-Platte (vorsensibilisierte Platte) verwendet,
die ein anodisiertes Aluminium als hydrophilen Nichtbildbereich
und einen hydrophoben Bildbereich, der durch Aushärten eines
lichtsensitiven Kunststoffs auf einer Oberfläche des Nichtbildbereichs aufwies.
Um eine Druckplatte unter Verwendung der PS-Platte herzustellen,
war eine Vielzahl von Schritten notwendig, so dass die Herstellung
der Platten eine lange Zeitdauer erforderte und hohe Kosten nach
sich zog. Daher ist es derzeit schwierig, eine Zeitreduzierung des
Druckprozesses und eine Reduzierung der Kosten beim Drucken voranzutreiben.
Insbesondere besteht ein Hauptfaktor am Anstieg der Druckkosten
in Fällen
der Herstellung einer kleinen Anzahl von Druckkopien. Daher ist,
wenn das Drucken mit PS-Platten ausgeführt wird, ein Herstellungsprozess
unter Verwendung eines Entwicklers notwendig, was den Prozess des
Druckens schwieriger macht, und eine Behandlung nach der Verwendung
des Entwicklers ist ein wichtiges Ziel im Hinblick auf die Verhinderung
von Umweltverschmutzungen.
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Darüber hinaus
wird dann, wenn das Drucken mit dem PS-Plattenverfahren ausgeführt wird, generell
ein Film mit einem darauf vorgesehenen Originalbild in engem Kontakt
mit einer Plattenoberfläche
gebracht und anschließend
einer Lichtstrahlung ausgesetzt. Daher ist dann, wenn ein Anwender
die Druckplatte direkt aus digitalen Daten herstellen will und die
Digitalisierung des Druckprozesses vorantreiben will, der Herstellungsschritt
der Druckplatte ein Hinderungsfaktor. Darüber hinaus muss dann, wenn
der Druck eines Bildmusters abgeschlossen wurde, die Platte durch
eine neue ausgetauscht werden, bevor der Druck durchgeführt wird
und die verwendeten Platten müssen
weggeschmissen werden.
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Um
die oben beschriebenen Nachteile mit PS-Platten zu überwinden,
wurden einige Verfahren vorgeschlagen, die Herstellern der Druckplatten
in Übereinstimmung
mit der Digitalisierung des Druckprozesses zu erleichtern, und einige
dieser Verfahren wurden auch kommerziell genutzt. Beispielsweise
offenbart das veröffentlichte
japanische Patent (Kokai) Nr. Sho
63-102936 ein Verfahren zur Herstellung einer Platte, dadurch
gekennzeichnet, dass ein Tinte enthaltender photosensitiver Kunststoff
als Tinte für eine
Flüssigkeits-Tintenstrahl-Druckpresse
verwendet wurde, wobei diese Tinte auf eine Druckplatte aufgesprüht wurde
und im Anschluss eine Lichtstrahlungs-Bestrahlung ausgeführt wurde,
um den Bildbereich auszuhärten.
Darüber
hinaus offenbart das offengelegte
japanische
Patent (Kokai) Nr. Hei 11-254633 ein Verfahren zur Herstellung
einer Farb-Offset-Druckplatte
unter Verwendung eines Tintenstrahlkopfs, der in der Lage ist, eine
feste Tinte auszusprühen.
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Die
US 2002/0001776 A1 betrifft
ein planographes Druckverfahren, eine Originaldruckplatte und eine
Druckpresse. Die Druckplatte kann ein Substrat sowie eine photosensitive
Schicht mit einem Photokatalysator-Pulver umfassen, wobei die Schicht
aus Titandioxid gefertigt ist. Eine Wärmeisolationsschicht kann zwischen
der photosensitiven Schicht und dem Substrat vorgesehen sein, um
eine Diffusion der Wärme
zum Substrat hin zu unterbinden. Ein Reproduktionsprozess für die gebrauchten Druckplatten
wird ebenso beschrieben. Im Reproduktionsprozess wird die Tinte
von der Druckplatte abgewaschen und die Druckplatte wird initialisiert,
so dass deren Verlaufsgeschichte keine nachteiligen Einflüsse ausübt. Die
Initialisierung kann durch eine hydrophile Herstellung der gesamten
Oberfläche
der Druckplatte durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht auf die
Oberfläche
bewirkt werden. Ein hydrophober Bearbeitungsagens kann auf die Originalplatte
zur hydrophoben Erzeugung der gesamten Oberfläche der Originalplatte aufgebracht
werden. Das Agens kann beispielsweise auf die Originalplatte mittels
eines Dampfkondensationsverfahrens aufgebracht werden.
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Die
EP 1084863 A1 beschreibt
ein Druckplattenmaterial um die Herstellung und deren Regenerationsverfahren.
Die Druckplatte kann ein Substrat, eine Zwischenschicht sowie eine
Beschichtungsschicht umfassen, die einen Titanoxid-Photokatalysator
enthält.
Die Zwischenschicht erlaubt eine Herstellung der Bindungsfestigkeit
des Substrats an der Beschichtungsschicht.
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Darüber hinaus
gibt es verschiedene bekannte Verfahren. Eines dieser Verfahren
ist ein Verfahren, das das Bereitstellen eines PET-(Polyethylenterephthalat)Films
umfasst, der darauf eine Laserabsorptionsschicht wie etwa eine schwarze
Kohlenstoffschicht aufweist, sowie eine Silikonkunststoffschicht,
um bildweise den Film mit Laserlicht zu bestrahlen, um eine Wärme in der
Laserabsorptionsschicht zu erzeugen, um die Silikonkunststoffschicht durch
Wärme abzubrennen,
um eine Druckplatte herzustellen. Es besteht ebenso ein bekanntes
Verfahren, dass die Beschichtung einer oleophilen Laserabsorptionsschicht
auf einer Aluminiumplatte sowie einer hydrophilen Schicht auf der
oleophilen Laserabsorptionsschicht und die Bestrahlung der hydrophilen Schicht
mit Laserlicht umfasst, um diese abzubrennen und eine Druckplatte
herzustellen.
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Eines
der anderen Verfahren, welche bereits vorgeschlagen worden sind,
ist eines, in dem ein hydrophiles Polymer als Druckplatte verwendet
wird und ein Bestrahlungsabschnitt einer bildweisen Lichtbestrahlung
unterzogen wurde, so dass der Bestrahlungsabschnitt oleophil gemacht
wird und die Plattenherstellung abgeschlossen wird.
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Darüber hinaus
wurde ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem Bild direkt mit Licht
aus digitalen Daten auf die PS-Platte gezogen wurde. beispielsweise
kann eine Vorrichtung zum Beschreiben eines Bilds unter Verwendung
eines blauen Lasers mit einer Wellenlänge von 405 nm, eine Vorrichtung
zum Beschreiben eines Bilds unter Verwendung eines Mikro-Spiegels
und eine UV-Lampe oder sogenanntes CTP (Computer To Plate) kommerziell
erhältlich sein.
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Obwohl
dieses Verfahren eine direkte Herstellung der Druckplatten basierend
auf digitalen Daten erlauben, müssen
in diesen Verfahren die Druckplatten nach dem Drucken eines Bildmusters
durch eine neue ersetzt werden, bevor der nächste Druck durchgeführt werden
kann. Daher müssen
einmal benutzte Druckplatten weggeworfen werden.
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Im
Gegensatz hierzu wurden Technologien, die einen Schritt der Regeneration
einer Platte beinhalten, bereits vorgeschlagen. Beispielsweise wurden
gemäß dem offengelegten
japanischen Patent (Kokai) Nr. Hei
10-250027 eine latente Bildblockkopie offenbart, die einen
Titandioxid-Photokatalysator verwendet,
ein Verfahren zum Herstellung der latenten Bildblockkopie und eine
Druckvorrichtung mit der latenten Bildblockkopie. Darüber hinaus
wurde gemäß dem offengelegten
japanischen Patent (Kokai) Nr. Hei
11-147360 ein Verfahren zum Ausführen des Offset-Drucks unter
Verwendung einer Druckplatte mit einem Photokatalysator offenbart.
Die oben erwähnten
vorgeschlagenen Verfahren beinhalten einen Schritt der Bestrahlung
mit Licht, d.h. im Wesentlichen mit Ultraviolettlicht, welches den
Photokatalysator beim Beschreiben eine Bilds aktivieren kann, und
eine Wärmebehandlung
wird ausgeführt,
um den Photokatalysator so zu hydrophobisieren, dass die Platte
regeneriert wird. Darüber
hinaus wurde gemäß dem offengelegten
japanischen Patent (Kokai) Nr. Hei
11-105234 ein Verfahren zur Beschreibung eines Bildbereichs
auf eine solche Weise vorgeschlagen, dass der Photokatalysator durch
das Aktivierungslicht, oder das Ultraviolettlicht, hydrophilisiert
wurde, und im Anschluss wird ein Bildbereich durch den Wärmemodus-Zeichnen
aufgeschrieben.
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Jedoch
haben Fujishima und Hashimoto, Professoren der Tokyo University,
bestätigt,
dass ein Titandioxid-Photokatalysator durch eine Wärmebehandlung
hydrophilisiert werden könnte
[Minabe und andere, "Study
of photo-induced hydrophilic conversion an th TiO2 surfaces
involved by structural conformation thereof", ein Material, das beim 5. Symposium der
photo functionalized Materials society unter dem Titel "Recent deployment
of Photokatalyst Reaction" im
Jahr 1998 auf den Seiten 124 bis 125] beschrieben wurde. Gemäß dem oben beschriebenen
Material offenbarten die oben eingeführten Verfahren in den jeweiligen
Patentveröffentlichungen,
dass sie nicht für
die Regeneration der Platte sinnvoll sind. In anderen Worten ist
die Hydrophobisierung es Photokatalysators durch Wärmebehandlung
nicht für
die Regeneration der Platte sinnvoll. Somit ist es unmöglich, die
Platte zu regenerieren oder dieselbe mittels dieser Verfahren herzustellen.
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Im
Gegensatz hierzu haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung mit
Nachdruck studiert, dass es bei der Druckplattenherstellung möglich ist,
ein Bild auf die Druckplatte unter Verwendung einer Schreibvorrichtung
aufzuschreiben, die das oben bereits erwähnte Aktivierungslicht verwendet,
wobei das Licht eine Wellenlänge
von länger
als das Aktivierungslicht aufweist, oder ein Inaktivierungslicht, und
nach dem Abschluss des Druckprozesses, um die Platte schnell für die Wiederverwendung
als Druckplatte zu regenerieren. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung
haben ebenso mit Nachdruck ein Verfahren zur Herstellung wie einer
Druckplatte und ein Verfahren zur Regenerierung derselben studiert.
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Infolgedessen
haben die Erfinder eine Technologie entwickelt, die einen Schritt
der Beschichtung einer organischen Verbindung beinhaltet, welche
die Oberfläche
der Druckplatte zur Regeneration der Regeneration der Platte (oder
der Druckplatte) hydrophobisieren könnte. In diesem Fall ist es
ein Problem, einen Weg zu ermitteln, den Schritt der Zersetzung des
organischen Materials, das in dem Photokatalysator enthalten ist,
unter einer Aktivierungslicht-Bestrahlung während des Prozesses der Regeneration der
Platte schnell auszuführen.
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Währenddessen
ist in dem offengelegten
japanischen
Patent (Kokai) Nr. 2000-6360 eine Technologie offenbart,
in der dann, wenn ein Druckprozess bei Verwendung einer Druckplatte
abgeschlossen wurde, ein Aktivierungslicht, das hauptsächlich aus
Ultraviolettstrahlung zusammengesetzt ist, auf eine Schicht aufgestrahlt
wird, die einen Photokatalysator enthält, um ein Bild zu löschen. Es
hat jedoch eine lange Zeit gedauert, um das Bild nur durch die Bestrahlung
des Aktivierungslichts zu löschen.
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Darüber hinaus
wird in dem offengelegten
japanischen
Patent (Kokai) Nr. 2002-1900 eine Technologie offenbart,
in der das hydrophile/oleophile Material, das auf der Oberfläche der
Druckplatte vorgesehen ist, ein photothermisches Verarbeitungsmaterial
ist und eine thermische Strahlung wie etwa eine Infrarotstrahlen
Bestrahlung ausgeführt
wird, um das Bild zu löschen.
Es ist wahr, dass diese Offenbarung enthält, dass dann, wenn das hydrophile/oleophile Material
eine metallische Verbindung mit einer Photokatalysator-Eigenschaft ist (d.h.
ein hydrophiles/oleophiles Material, das analog zur photosensitiven
Schicht gemäß der vorliegenden
Erfindung ist), dann ein Aktivierungslicht auf die gesamte Oberfläche aufgestrahlt
wird, um das Bild zu löschen.
Dabei liegt jedoch kein Nachweis über eine Kombination der Aktivierungsstrahlungs-Bestrahlung
und der Wärmeaufbringung
hierin vor.
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Auf
der anderen Seite wurden Technologien vorgeschlagen, in denen ein
Photokatalysator so gefertigt ist, dass er mit Siliziumdioxid oder
Silikon zusammen vorliegt, um so zu bewirken, dass die Plattenoberfläche eine
hochgradig hydrophile Beschaffenheit aufweisen kann, oder die hydrophile
Beschaffenheit über
eine lange Zeitdauer beibehalten werden kann.
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Beispielsweise
offenbart die
japanische Patentveröffentlichung
mit der offiziellen Gazettennummer 2756474 ein Verbindungsmaterial,
das aus einem Substrat, das auf dessen Oberfläche mit einer aus einem Photokatalysator
hergestellten Beschichtungsfilm, der einen Photokatalysator, wie
etwa Titanoxid und Siliziumdioxid enthält, zusammengesetzt ist. Die
oben erwähnte
offizielle Gazette offenbart ebenso ein Verbindungsmaterial, das
aus einem Substrat zusammengesetzt ist, das auf dessen Oberfläche mit
einem Photokatalysator gefertigten Beschichtungsfilm angebunden
ist, der aus Silizium mit darin gleichmäßig verteilten Photokatalysatormaterial-Partikeln
zusammengesetzt ist. Diese Verbindungsmaterialien haben eine Eigenschaft,
dass dann, wenn die Verbindungsmaterialien durch optische Energetisierungsmittel
hydrophilisiert werden, eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft
auf der Oberfläche
des Verbindungsmaterials über
eine lange Zeitdauer unter einer schwachen Raumbeleuchtung oder
an einem dunklen Platz beibehalten werden können.
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Die
japanische Patentveröffentlichung
mit der offiziellen Gazettennummer 3077199 offenbart eine
Verbindung, die eine auf der Oberfläche mit einem Material, das
aus Photokatalysatorpartikeln wie etwa solchen aus Titanoxid, kleinsten
Siliziumdioxidpartikeln und einer Vorstufe aus Siliziumdioxid oder Silikon
zusammengesetzt ist, aufweist, und durch optische Energetisierungsmittel
hydrophilisiert wird. Diese Verbindung hat eine Eigenschaft, dass
die Oberfläche
hochgradig hydrophil ist und die hydrophile Eigenschaft beibehalten
wird.
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Ebenso
offenbart die
japanische Patentveröffentlichung
mit der offiziellen Gazettennummer 3087682 ein hydrophiles
Element, das ein photokatalytische Eigenschaft aufweist und aus
einem Substrat zusammengesetzt ist, das auf dessen Oberfläche eine
Schicht aufweist, die aus einem oxidischen Material mit photokatalysatorischen
Eigenschaften wie etwa Titanoxid über eine Acrylsilikon-Kunststoffschicht
oder eine Schicht, die ein Oxidmaterial mit einer photokatalytischen
Eigenschaft und Siliziumdioxid oder eine Schicht, die ein Oxidmaterial
mit einer photokatalytischen Eigenschaft und Silikon enthält, besteht.
Dieses hydrophile Element weist eine solche Eigenschaft auf, dass
es in Erwiderung auf optische Energetisierungsmittel eine hochgradig
hydrophile Eigenschaft zeigt und dessen Oberflächenschicht ist fest mit dem
Substrat verbunden.
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Es
kann hier ebenso ein Material gefunden werden, das eine Beziehung
zwischen der Photokatalysator-Eigenschaft und der Umgebungstemperatur
offenbart. Beispielsweise offenbart das offengelegte
japanische Patent (Kokai) Nr. 2002-79447 ein Verfahren
zum Drucken, eine Originalplatte sowie eine Vorrichtung, die dieses
Verfahren implementiert, in dem ein Vorteil aus der einzigartigen
Temperaturabhängigkeit
der Rate oder des Veränderungsgrads der
Polarisations-Umrechnung in einem "Material mit einer photokatalytischen
Eigenschaft" gezogen
wird, um so die Sensibilität
und die Lernfähigkeit
zu verbessern.
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Eine
konkretere Beschreibung ist wie folgt. Dies bedeutet, dass eine
originale Druckplatte mit einer photokatalytischen Eigenschaft gleichmäßig mit einer
Schicht aus einer hydrophoben Distanz beschichtet ist und im Anschluss
die oben beschriebene originale Platte eine Wärmeaufbringung bei einer Temperatur
von 40°C
bis 200°C
und einer Aktivierungslicht-Bestrahlung
unterzogen wird. Somit wird eine bildähnliche Verteilung, die aus
einem hydrophilen Bereich und einem hydrophoben Bereich zusammengesetzt
ist, auf der Platte ausgebildet. Das bedeutet, dass 1 gemäß der oben
angegebenen Veröffentlichung
ein Ergebnis der Messung unter Bedingungen darstellt, dass ein ultraviolettes
Licht mit einer Energieintensität
von 1,3 mW/cm2 (Aktivierungslicht) auf die
Oberfläche
des Titanoxids bestrahlt wird und eine Messung über eine Zeitdauer ausgeführt wird,
die notwendig ist, dass der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche 5° wird. Studien dieser
Figur ergeben, dass dies etwa 280 s benötigt, um zu bewirken, dass
die hydrophile Beschaffenheit ein Niveau unterhalb einer üblichen
(Raum)-Temperatur erreicht, dass jedoch die Zeitdauer, die für das Erreichen
der hydrophilen Beschaffenheit auf einem Niveau um etwa 100 s verkürzt wird,
wenn die Platte unter einer Umgebung bei einer Temperatur von 60°C platziert
wird. Wie oben beschrieben, offenbart die oben angegebene Veröffentlichung,
dass die Rate des Fortschritts in der hydrophilen Beschaffenheit
durch die Heranziehung des Vorteils des Temperatureffekts erhöht werden
kann.
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Ebenso
offenbart die oben angegebene Veröffentlichung TiO2,
RtiO3, AB2-xCxD3-xExO10, SnO2, ZrO2, Bi2O3,
ZnO und FeOx, als Substanzen mit einer photokatalytischen
Eigenschaft. Darüber
hinaus offenbart die oben angegebene Veröffentlichung eine thermische
Isolationsschicht, die zwischen einer Schicht mit einer photokatalytischen
Eigenschaft und einem Stützkörper vorgesehen
ist. Als thermische Isolationsschicht wird ebenso ein Bindermaterial,
das aus einem organischen makromolekularen Material und einem anorganischen
Sol-Gel-Umwandlungsmaterial
ausgewählt
ist, offenbart.
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Während der
Studien in Bezug auf das Bild-Beschreiben und das Bild auf der Druckplatte
mit einem Schichtaufbau, der einen Photokatalysator enthält, bestätigten die
Erfinder, dass dann, wenn eine Bildbeschreibung mit einem Aktivierungslicht
mit einer Bestrahlung erfolgte, die hoch genug ist, um eine Bildbeschreibungsrate
bei einem praktikablen Niveau zu erhalten, die Temperatur an der
Plattenoberfläche
erhöht
wurde. Darüber
hinaus haben die Erfinder bestätigt,
dass dann, wenn eine Druckplatte eine Anordnung ähnlich der, wie sie in dem
offengelegten
japanischen Patent
(Kokai) Nr. 2002-79774 offenbart
wurde, in der oben beschriebenen Bedingung mit erhöhter Temperatur
auf der Plattenoberfläche platziert
wurde, die Hydrophilisierungsfunktion des Photokatalysators nicht
aufgrund der Aktivität
der Bestrahlung unter der Wärmeaufbringungsumgebung notwendigerweise
verbessert werden konnte. In einigen Fällen wurde die Hydrophilisierungsfunktion
des Photokatalysators eher verringert.
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Die
vorliegende Erfindung soll die oben beschriebenen Probleme lösen und
daher ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Regeneration einer Druckplatte zur Verfügung zu stellen. Eine Regenerationsvorrichtung,
eine Druckplatte, die es möglich
macht, die Druckplatte für
die wiederholte Verwendung zu registrieren und eine für die Regeneration
der Platte erforderliche Zeitdauer, insbesondere eine Zeitdauer,
die für
die Zersetzung und Entfernung einer organischen Mischung erforderlich
ist, welche einen Bildbereich unter einer Aktivierungslicht-Bestrahlung
ausbildet, sind ebenso beschrieben.
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Darüber hinaus
sind eine Druckplatte, ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte,
ein Schichtaufbau sowie ein Verfahren zur Herstellung des Aufbaus
beschrieben, in denen unter Wärmeaufbringung
ein Aktivierungslicht mit einer Energie, höher als die Bandspaltenergie
des Photokatalysators, auf die photosensitive Schicht aufgestrahlt
wird, so dass die Oberfläche
der photosensitiven Schicht hydrophilisiert werden kann.
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OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
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Aspekte
der Erfindung sind in Anspruch 1 definiert. Die abhängigen Ansprüche sind
auf optionale und bevorzugte Merkmale gerichtet.
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Um
die oben beschriebenen Probleme zu lösen, hat die vorliegende Erfindung
die nachfolgend angegebenen Gegenmaßnahmen ergriffen.
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Dies
bedeutet, dass gemäß der vorliegenden Erfindung
ein Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte zur Verfügung gestellt
wird, das die Wiederverwendung der Druckplatte ermöglicht und
wie in Anspruch 1 definiert ist. Die Druckplatte beinhaltet ein
Substrat, eine photosensitive Schicht, die auf einer Oberfläche des
Substrats vorgesehen ist und einen Photokatalysator enthält, der
eine hydrophile Eigenschaft in Reaktion auf eine Bestrahlung mit
Aktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als Bandspaltenergie ausübt, und
einen hydrophoben Bildbereich, der auf einer Oberfläche der
photosensitiven Schicht vorgesehen ist und eine Tintenannahmeeigenschaft
aufweist, wobei das Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte
die Schritte der Entfernung von auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht
anhaftenden Tinte, die Löschung
eines Bilds auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht auf eine solche Weise, dass das Aktivierungslicht
auf die Oberfläche
der photosensitiven Schicht mit der im Schritt der Entfernung von
Tinte davon entfernten Tinte beinhaltet, und die photosensitive
Schicht so erhitzt wird, dass die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht
hydrophil gemacht wird, und Aufbringen einer organischen Mischung
auf die Oberfläche
der photosensitiven Schicht mit dem Schritt des Löschens des
Bilds gelöschten
Bilds.
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Im
Schritt des Löschens
des Bilds wird die Druckplatte auf der Druckplattenoberfläche mit
dem photokatalytischen Aktivierungslicht bestrahlt, um den hydrophoben
Bildbereich auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht zu zersetzen, und zur gleichen Zeit
wird die Oberfläche
der photosensitiven Schicht in eine hydrophile Beschaffenheit überführt, wodurch
das Bild gelöscht
wird. Zum gleichen Zeitpunkt wird die Bildbereichs-Zersetzung durch
Erhitzung der Oberfläche
der photosensitiven Schicht unterstützt.
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Auf
diese Weise kann im Schritt des Entfernens der Tinte die auf der
Oberfläche
der Druckplatte anhaftende Tinte entfernt werden, im Schritt des
Löschens
des Lichts wird das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht auf der Druckplatte mit der im oben erwähnten Tintenentfernungsschritt
davon entfernten Tinte bestrahlt und die Oberfläche der photosensitiven Schicht
wird erhitzt, um die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht
zu hydrophilisieren und das Bild auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht
zu löschen, um
im Schritt des Aufbringens der organischen Mischung wird die organische
Mischung auf die Oberfläche
der photosensitiven Schicht mit dem davon entfernten Bild aufgebracht.
Dementsprechend kann die Druckplatte regeneriert und wiederholt
verwendet werden. Daher kann die Menge an nach der Verwendung weggeworfenen
Druckplatte deutlich reduziert und die Kosten in Bezug auf die Druckplatte
können verringert
werden. Darüber
hinaus kann, da die photosensitive Schicht auf der Oberfläche unter
einer Aktivierungslicht-Bestrahlung erwärmt wird, die Bildlöschung der
Platte über
eine kurze Zeitdauer mit dem Ergebnis, dass es möglich wird, die Plattenregenerationszeit
zu verkürzen,
ausgeführt
werden.
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Im
Schritt der Aufbringung der organischen Mischung wird die photosensitive
Schicht auf deren Oberfläche
mit einer organischen Mischung versehen, die eine solche Beschaffenheit
hat, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung mit
Aktivierungslicht aufgrund der Reaktion des Photokatalysators zersetzt
wird und eine Beschaffenheit, dass die organischen Mischung die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion
mit der Oberfläche
der photosensitiven Schicht hydrophobisiert.
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Mit
dem oben beschriebenen Aufbau kann der Nichtbildbereich der photosensitiven
Schichtfläche
mit dem Aktivierungslicht bestrahlt werden und so hydrophilisiert
werden, dass ein Bild darauf geschrieben werden kann. Dies bedeute,
dass dann, wenn das Aktivierungslicht für den Photokatalysator auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht gestrahlt wird, der Photokatalysator
aktiviert wird, um die organische Mischung, die auf der Oberfläche der photosensitiven
Schicht platziert wurde, zu oxidieren und zu zersetzen. Zur gleichen
zeit wird, da der Photokatalysator selbst eine hydrophile Beschaffenheit annimmt,
der bestrahlte Abschnitt der photosensitiven Schicht hydrophil.
Somit wird es möglich,
einen hydrophilen Bereich (Nichtbildbereich) sowie einen hydrophoben
Bereich (Bildbereich) auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht
(Druckplattenoberfläche)
auszubilden.
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Im
Schritt der Aufbringung der organischen Mischung wird die photosensitiven
Schicht auf deren Oberfläche
mit einer organischen Mischung versehen, die eine solche Beschaffenheit
aufweist, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung
mit Aktivierungslicht aufgrund der Aktionen des Photokatalysators
und einer Beschaffenheit, dass die organische Mischung durch Wärmeaufbringung
aufschmilzt, um in einer filmähnlichen
Form ausgebildet zu werden, zersetzt wird, und die Oberfläche der
photosensitiven Schicht hydrophobisiert aufgrund der Reaktion und/oder
Interaktion mit der Oberfläche
der photosensitiven Schicht oder der Fixierung auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht.
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Als
Weg zur oben beschriebenen Wärmeaufbringung
wird bevorzugt, eine Wärmebehandlung durch
Bestrahlung mit Licht mit einem Energieniveau niedriger als die
Bandspaltenergie des Photokatalysators oder mit einem inaktiven
Licht auszuführen.
Infrarotlicht kann als Beispiel für das "Inaktivierungslicht" angegeben werden. Die Bestrahlung mit
einer derartigen Art von Licht wird die organische Mischung aufschmelzen,
ohne dieselbe zu zersetzen, die Mischung in einen filmähnlichen
Bogen überführen und
eine Reaktion mit und/oder die Fixierung auf der photosensitiven
Schicht bewirken. Darüber
hinaus kann eine andere Anordnung für die Wärmeaufbringung verwendet werden.
Beispielsweise ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass ein thermischer Kopf
zur Aufbringung von Wärme
direkt auf die Beschichtungsoberfläche der organischen Mischung verwendet
werden kann.
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Mit
dem oben beschriebenen Aufbau wird, nachdem die organische Mischung
beschichtet ist, wenn das Inaktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven
Schicht beispielsweise aufgestrahlt wurde und die organische Mischung
aufgeschmolzen und auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht anhaftet,
um die Oberfläche
zu hydrophobisieren, die Oberfläche
ein hydrophober Bildbereich werden, auf den ein Bild aufgeschrieben
werden kann. Danach wird in der Stufe direkt nach dem Start des
Druckens die organische Mischung auf dem Nichtbildbereich aufgrund
des Effekts der Tintenviskosität
und/oder des Reinigungseffekts des Befeuchtungswassers entfernt.
Das bedeutet, dass die hydrophile photosensitive Schichtoberfläche als
Nichtbildbereich exponiert ist. Auf diese Weise wird es möglich, einen hydrophilen
Bereich (Nichtbildbereich) und einen hydrophoben Bereich (Bildbereich)
auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht (Druckplattenoberfläche) auszubilden.
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Im
Schritt des Löschens
des Bilds wird bevorzugt, dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht
auf eine Temperatur im Bereich von zumindest 50°C und unterhalb von 200°C erhitzt
wird. Mit dieser Anordnung kann die Zersetzungsreaktion der organischen
Mischung aufgrund der Aktion des Photokatalysators beschleunigt
werden und das Bild auf der Platte kann innerhalb einer kurzen Zeitdauer
gelöscht
werden, was zum Ergebnis hat, dass es möglich wird, die Plattenregenerationszeit
zu verkürzen.
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Es
wird für
den Aufheizprozess im Schritt des Löschens des Bilds bevorzugt,
dass dies durch Aufbringen von heißer Luft auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht ausgeführt
wird. Alternativ hierzu kann der Aufheizprozess vorzugsweise durch
Bestrahlung von Licht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht
bewirkt werden.
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Das
Aktivierungslicht ist vorzugsweise ein solches, das eine Wellenlänge von
600 nm oder niedriger aufweist. Mit dieser Anordnung kann die photokatalytische
Aktion auf der photosensitiven Schicht unter Verwendung von Licht
mit einer Wellenlänge kleiner
als der von sichtbarem Licht aktiviert werden.
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Der
Photokatalysator ist vorzugsweise ein Titandioxid-Photokatalysator
oder ein Titandioxid-Photokatalysator, der auf sichtbares Licht
reagiert.
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Währenddessen
bedeutet der Begriff "Titandioxid-Photokatalysator
des auf sichtbares Licht reagierenden Typs (reformierter Titandioxid-Photokatalysator)
eine Substanz, die basierend auf einen Titandioxid-Photokatalysator
mit einem metallischen Element oder einem nicht metallischen Element
erzeugt wurde, welches sich von den ursprünglich in dem dotierten oder
darin gehaltenen Titandioxid-Photokatalysator
enthaltenen Elementen oder alternativ hierzu ein Titandioxid-Photokatalysator,
der aus einem Titan-Element und einem Sauerstoff-Element bei einem
Verhältnis,
das von deren stöchiometrischem Verhältnis, d.h.
das Verhältnis
von Titan-Atomen zu Sauerstoff-Atomen von 1:2 usw. verschoben wurde, zusammengesetzt
ist.
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Es
wird ebenso eine Regenerationsvorrichtung zur Verwendung mit einer
Druckplatte beschrieben, die mit der oben bereits erwähnten Vorrichtung zur
Unterstützung
der Hydrophililsierung aufgebracht wurde, gekennzeichnet durch das
Bereitstellen eines Plattenzylinders mit daran angebrachter Druckplatte, die
ein Substrat sowie eine photosensitive Schicht beinhaltet, die einen
Photokatalysator enthält,
der eine hydrophile Beschaffenheit in Reaktion auf ein Aktivierungslicht
mit einem Energieniveau höher
als die Bandspaltenergie ausübt,
eine Plattenreinigungseinheit zum Entfernen von auf der Oberfläche der photosensitiven
Schicht aufgebrachter Tinte, sowie eine Bildlöscheinheit zum Bestrahlen des
Aktivierungslichts auf die photosensitive Schicht, um so die gesamte
Oberfläche
der photosensitiven Schicht hydrophil zu machen und das Bild auf
der Oberfläche der
photosensitiven Schicht zu löschen,
eine Aufheizeinheit zum Aufheizen der Oberfläche der photosensitiven Schicht,
und die Hydrophilisierung beim Löschen
des Bilds zu unterstützen,
sowie eine Sprüheinheit
für die
organische Mischung zum Aufbringen einer organischen Mischung auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht.
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Dementsprechend
bestrahlt die Bildlöscheinheit,
nachdem die Plattenreinigungseinheit die auf der Oberfläche der
Druckplatte, die an dem Plattenzylinder angebracht ist, beschichtete
Tinte entfernt wird, das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der Druckplatte,
während
die Aufheizeinheit die Oberfläche
der Druckplatte aufheizt, wodurch die gesamte Oberfläche der
photosensitiven Schicht hydrophilisiert wird und das auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht ausgebildete Bild gelöscht wird. Danach bringt die
Aufbringeinheit auf die organische Mischung eine organische Mischung
auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht auf.
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Somit
kann die Druckplatte regeneriert und wiederholt verwendet werden.
Daher wird es möglich,
das Maß an
nach der Verwendung weggeworfenen Druckplatten deutlich abzusenken
und die Kosten in Bezug auf die Druckplatte zu reduzieren. Darüber hinaus
wird die Bestrahlung mit Aktivierungslicht auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht ausgeführt,
um diese zu erwärmen,
wodurch es möglich
wird, die photokatalytische Aktivierung zu beschleunigen, um die
für das
Löschen
des Bilds auf der Platte erforderliche Zeitdauer zu verkürzen. Auf diese
Weise kann die Plattenregenerationszeit verkürzt werden.
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Es
wird bevorzugt, dass die Aufheizeinheit die Oberfläche der
photosensitiven Schicht mittels eines elektrischen Heizers aufheizt.
Alternativ hierzu wird auch bevorzugt, dass die Oberfläche der
photosensitiven Schicht mittels Lichtbestrahlung aufgeheizt wird.
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Als
eine erste Anordnung der Regenerationsvorrichtung wird für die Aufbringeinheit
für die
organische Mischung bevorzugt, dass diese eine organische Mischung
auf die Oberfläche
der photosensitiven Schicht aufbringt, die eine solche Beschaffenheit
aufweist, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung
mit Aktivierungslicht aufgrund der Aktion des Photokatalysators
versetzt wird, und eine solche Beschaffenheit aufweist, dass die
organische Mischung die Oberfläche
der photosensitiven Schicht aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion
mit der Oberfläche
der photosensitiven Schicht hydrophobisiert.
-
Die
wie oben beschrieben angeordnete organische Mischung wird auf die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht aufgebracht, um dieselbe zu hydrophobisieren,
und im Bildschritt wird Licht darauf aufgestrahlt. Daher kann die
organische Mischung zeitgleich mit der Hydrophilisierung der photosensitiven
Schicht zersetzt werden. Somit wird es möglich, eine Platte herzustellen,
die aus einem Nichtbildbereich, der die hydrophile Beschaffenheit
aufweist, und einem Bildbereich, der die hydrophobe Beschaffenheit
aufweist, zu stellen.
-
Das
bedeutet, dass ein Bereich der Oberfläche, der zur hydrophilen Beschaffenheit
hin umgewandelt wurde, mit Befeuchtungswasser vorab angebracht wird,
welches als Nichtbildbereich agiert, auf dem die hydrophobe Tinte
davon abgehalten wird, darauf anzuhaften. Im Gegensatz hierzu ermöglicht ein
Bereich der Plattenoberfläche,
der vor der Bestrahlung mit Aktivierungslicht geschützt wurde,
die Reaktion und/oder Interaktion der organischen Mischung mit der
photosensitiven Schichtoberfläche und
somit wird die Oberfläche
der photosensitiven Schicht hydrophobisiert. Danach wird dieser
Bereich der Plattenoberfläche
mit Priorität
mit hydrophober Tinte angebracht, die als Bildbereich agiert, auf
dem Befeuchtungswasser davon abgehalten wird, darauf anzuhaften.
-
Als
Ergebnis hiervon kann der hydrophile Nichtbildbereich und der hydrophobe
Bildbereich auf der Druckplattenoberfläche erzeugt werden und die Druckplatte
kann als planographe Druckplatte verwendet werden.
-
Als
eine zweite Anordnung der Regenerationsvorrichtung wird bevorzugt,
dass die Aufbringeinheit für
die organische Mischung eine organische Mischung auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht aufbringt, die eine solche Beschaffenheit
aufweist, dass die organische Mischung in Erwiderung auf die Bestrahlung
mit Aktivierungslicht aufgrund der Aktion des Photokatalysators
zersetzt wird, und eine solche Beschaffenheit, dass die organische
Mischung durch Erwärmen
aufschmilzt, um so eine filmähnliche
Form aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der
photosensitiven Schicht oder durch Fixierung auf der Oberfläche der photosensitiven
Schicht annimmt. Das bedeutet, dass nachdem die Plattenoberfläche, nachdem
sie mit der organischen Mischung beschichtet wurde, beispielsweise
eine Bestrahlung mit Inaktivierungslicht auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht aufgebracht wird, um die organische Mischung
zu erwärmen,
die gleiche aufzuschmelzen und auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht
zu fixieren, wodurch die Oberfläche
der photosensitiven Schicht hydrophobisiert wird. Auf diese Weise
kann ein hydrophobisierter Bildbereich auf der Oberfläche beschrieben
werden. Dann neigt der hydrophobisierte Bildbereich dazu, eine hydrophobe
Tinte mir Vorrang aufzunehmen und das Befeuchtungswasser abzuweisen
und somit als Bildbereich zu agieren.
-
Auf
der anderen Seite kann die organische Mischung auf der Druckplattenoberfläche, auf
die das Inaktivierungslicht aufgestrahlt wurde, von der Plattenoberfläche gleichzeitig
mit dem Start des Druckens aufgrund des Befeuchtungswassers oder
der Viskosität
der Tinte entfernt werden. Somit ist die hydrophile photosensitive
Schichtoberfläche
exponiert. Dementsprechend neigt dieser hydrophile Bereich der photosensitiven
Schichtoberfläche
dazu, das Befeuchtungswasser mit Vorrang anzunehmen und die hydrophobe
Tinte abzuweisen und somit als Bildbereich zu agieren.
-
Als
Konsequenz kann der hydrophile Nichtbildbereich und der hydrophobe
Bildbereich auf der Druckplattenoberfläche erzeugt werden und die Druckplatte
kann als planographe Druckplatte verwendet werden.
-
Zusätzlich wird
eine erste Druckplatte beschrieben, die dadurch gekennzeichnet ist,
dass sie eine Regenerationsvorrichtung beinhaltet, die eine Aufbringeinheit
für die
organische Mischung der ersten Anordnung und eine Bildeinheit zum
Bestrahlen von Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht,
die mit einer hydrophoben organischen Mischung bedeckt ist, um die
hydrophobe organische Mischung zu zersetzen und zu entfernen, sowie
das Aussetzen der Oberfläche
der hydrophilen photosensitiven Schicht und das Beschreiben eines Bilds
auf der Oberfläche
der hydrophilen photosensitiven Schicht beinhaltet.
-
Dementsprechend
kann die Bildeinheit das Aktivierungslicht auf den Photokatalysator
auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht, die mit der organischen Mischung bedeckt
ist, aufstrahlen, um die hydrophobe organische Mischung zu zersetzen und
zu entfernen, sowie um die hydrophile photosensitive Schichtoberfläche so zu
exponieren, dass die photosensitive Schichtoberfläche ein
darauf ausgebildetes Bild (latentes Bild) bekommt, welches aus einem
hydrophilen Nichtbildbereich und einem hydrophoben Bildbereich besteht.
Somit kann ein Bild wiederum auf der Druckplatte aufgeschrieben
werden, welche durch die Regenerationsvorrichtung regeneriert wurde.
-
Darüber hinaus
wird eine zweite Druckpresse zur Verfügung gestellt, die dadurch
gekennzeichnet ist, dass sie eine Regenerationsvorrichtung beinhaltet,
die die Aufbringungseinheit für
die organische Mischung der zweiten Anordnung aufweist, sowie eine
Bildeinheit zum Bestrahlen eines Inaktivierungslichts für den Photokatalysator,
um so den Bildbereich in Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der
photosensitiven Schicht zu bringen, so dass die organische Mischung
darauf fixiert wird, wodurch ein Bild auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht aufgeschrieben wird.
-
Dementsprechend
erwärmt
die Bildeinheit die photosensitive Schichtoberfläche, die mit der organischen
Mischung bedeckt ist, um so die photosensitive Schichtoberfläche in Reaktion
und/oder Interaktion mit der organischen Mischung zu bringen, so
dass die organische Mischung darauf fixiert wird, wodurch ein aus
einem hydrophilen Nichtbildbereich und einem hydrophoben Bildbereich
zusammengesetztes Bild darauf beschrieben werden kann. Somit kann
wiederum ein Bild auf der Druckplatte beschrieben werden, welche
durch die Regenerationsvorrichtung regeneriert wurde.
-
Es
wird ebenso eine Druckplatte mit einer photosensitiven Schicht zur
Verfügung
gestellt, die einen Photokatalysator enthält, welcher es möglich macht,
eine Bildbeschreibung und eine Bildlöschung in Erwiderung auf eine
Bestrahlung mit Inaktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als
die Bandspaltenergie des Photokatalysators auszuführen, wodurch
die Druckplatte regeneriert wird, um deren Wiederverwendung der
Druckplatte zu ermöglichen,
wobei eine die Hydrophilisierung unterstützende Schicht zum Unterstützend er
Hydrophilisierung zwischen einem Substrat und der photosensitiven Schicht
zur Verfügung
gestellt ist.
-
Mit
der oben beschriebenen Anordnung wird es möglich, eine hohe photokatalytische
Aktivierung unter der erwärmten
Atmosphäre
zu erzeugen, mit dem Ergebnis, dass die photosensitive Schichtoberfläche schnell
hydrophilisiert werden kann.
-
Dementsprechend
kann die für
den Druckprozess erforderliche Zeitdauer verkürzt werden. Insbesondere wird
es möglich,
die Zeitdauer für
die Bildbeschreibung und die Zeitdauer für die Bildlöschung deutlich zu verkürzen, was
das Ergebnis hat, dass die Bildvorbereitungszeit verkürzt werden
kann.
-
Es
ist für
die Hydrophilisierungs-Unterstützungsschicht
vorteilhaft, wenn sie eine Wasserrückhalteeigenschaft aufweist.
-
Es
wird bevorzugt, dass das Material mit der Wasserrückhalteeigenschaft
aus einer Siliziumdioxid-Mischung zusammengesetzt ist.
-
Es
wird bevorzugt, dass der Photokatalysator ein Titandioxid-Photokatalysator
oder eine Titandioxid-Photokatalysator des auf sichtbares Licht
reagierenden Typs ist. Mit dieser Anordnung kann das Bild mit einem
Licht beschrieben werden, das eine Wellenlänge des sichtbaren Lichts bis
zu einer Wellenlänge
von ultraviolettem Licht aufweist.
-
Es
wird bevorzugt, dass die Druckplatte eine solche Beschaffenheit
aufweist, dass sie dann, wenn ein Aktivierungslicht aufgestrahlt
wird, um eine Bildbeschreibung und eine Bildlöschung zu bewirken, zumindest
ein Teil der Oberfläche
der photosensitiven Schicht von einem hydrophoben zu einem hydrophilen
Zustand überführt wird.
-
Es
wird bevorzugt, dass das Aktivierungslicht eine Wellenlänge von
600 nm oder kleiner aufweist.
-
Es
wird bevorzugt, dass die Oberfläche
der photosensitiven Schicht durch eine der folgenden Aktionen hydrophobisierbar
ist: ein Bündel
von Lichtstrahlen oder Strahlen elektrischer Energie wird alleine
oder zusammen auf die Oberfläche
der photosensitiven Schicht aufgebracht, eine Reibung wird auf die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht aufgebracht oder eine organische Mischung,
die in der Lage ist, eine Interaktion mit der Oberfläche der
photosensitiven Schicht zu bewirken, wird auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht aufgebracht.
-
Darüber hinaus
wird ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte beschrieben,
dadurch gekennzeichnet, dass es einen Schritt der Ausbildung der
Hydrophilisierungs-Unterstützungsschicht
auf dem Substrat und im Anschluss das Ausbilden der photosensitiven
Schicht auf der die Hydrophilisierung unterstützenden Schritt beinhaltet.
-
Zusätzlich wird
ein Nichtaufbau beschrieben, der eine photosensitive Schicht aufweist,
indem der Schichtaufbau gleichzeitig zwei Eigenschaften ausübt, d.h.
eine Eigenschaft, die es möglich
macht, eine organische Mischung, die auf der Oberfläche der photosensitiven
Schicht vorgesehen ist, in Reaktion auf eine Bestrahlung mit Aktivierungslicht
mit einem Energieniveau höher
als die Bandspaltenergie des Photokatalysators zu zersetzen, sowie
eine Eigenschaft, die es möglich
macht, die Oberfläche
der photosensitiven Schicht zu hydrophilisieren, und eine Wasserrückhalteschicht,
die ein Material enthält,
das eine Wasserrückhalteeigenschaft
aufweist, ist zwischen einem Substrat und der photosensitiven Schicht
vorgesehen.
-
Es
wird bevorzugt, dass das Material, welches die Wasserrückhalteeigenschaft
aufweist, eine Siliziumdioxid-Mischung
ist.
-
Es
wird bevorzugt, dass der Photokatalysator ein Titandioxid-Photokatalysator
oder ein Titandioxid-Photokatalysator ist, der auf sichtbares Licht
reagiert.
-
Es
wird ebenso ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtaufbaus beschrieben,
welches dadurch gekennzeichnet ist, dass es einen Schritt der Ausbildung
der Wasserrückhalteschicht
auf dem Substrat und anschließend
das Ausbilden der photosensitiven Schicht auf der Wasserrückhalteschicht
beinhalte.
-
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
-
1 ist
eine schematische Querschnittsansicht, die eine Druckplatte gemäß einer
ersten Ausführungsform
zeigt, in der die Oberfläche
des Materials eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist;
-
2 ist
eine schematische Querschnittsansicht, die eine Druckplatte gemäß der ersten
Ausführungsform
zeigt, in der die Form des Materials eine hydrophile Beschaffenheit
aufweist.
-
3 ist
eine Reihe schematischer Perspektivansichten, die einen Zyklus davon
der Bildbeschreibung zur Regeneration der Druckplatte gemäß der ersten
Ausführungsform
darstellt.
-
4 ist
ein Flussdiagramm zur Erläuterung der
Herstellung und Regeneration der Platte gemäß der ersten Ausführungsform,
wobei die Regeneration in den Schutzbereich der anhängenden
Ansprüche fällt.
-
5 ist
eine schematische Perspektivansicht, die ein Beispiel der Druckplatte
gemäß der ersten
Ausführungsform
zeigt.
-
6 ist
ein Graph, der eine Beziehung zwischen einer Aufheiztemperatur und
einer Zeitdauer zeigt, die für
die Hydrophilisierung im Schritt der Bildlöschung der Druckplatte gemäß der ersten
Ausführungsform
erforderlich ist.
-
7 ist
ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Wasserkontaktwinkel auf
der Druckplattenoberfläche
und den Zeitdauern (oder jeweiligen Vorgängen) gemäß der ersten Ausführungsform zeigt.
-
8 ist
ein Diagramm, das schematisch eine Druckpresse zum Ausführen des
Drucks und Regeneration der Platte gemäß der ersten Ausführungsform
zeigt.
-
9 ist
ein Graph, der eine Beziehung zwischen der Temperatur der Plattenoberfläche und
der für
die Hydrophilisierung im Schritt der Bildlöschung der Druckplatte gemäß der ersten
Ausführungsform erforderlichen
Energie zeigt.
-
10 ist eine schematische Querschnittsansicht,
die eine Druckplatte gemäß einer
zweiten Ausführungsform
zeigt, in der die Oberfläche
des Materials eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist.
-
11 ist eine schematische Querschnittsansicht,
die eine Druckplatte gemäß der zweiten
Ausführungsform
zeigt, in der die Oberfläche
des Materials eine hydrophile Beschaffenheit aufweist.
-
12 ist eine Reihe schematischer Perspektivansichten,
die einen Zyklus von der Bildbeschreibung zur Regeneration der Druckplatte
gemäß der zweiten
Ausführungsform
darstellt, wobei die Regeneration in den Schutzbereich der anhängenden Ansprüche fällt.
-
13 ist ein Flussdiagramm zur Erläuterung
der Herstellung der Platte gemäß der zweiten Ausführungsform.
-
14 ist eine schematische Perspektivansicht, die
ein Beispiel der Druckplatte gemäß der zweiten
Ausführungsform
zeigt.
-
15 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen
dem Wasserkontaktwinkel und der Druckplattenoberfläche und
den Zeitdauern (oder jeweiligen Betriebsschritten) gemäß der zweiten
Ausführungsform
zeigt.
-
16 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen
der Temperatur der Plattenoberfläche
und der für
die Hydrophilisierung im Schritt der Bildlöschung der Druckplatte gemäß der ersten
Ausführungsform
erforderlichen Energie zeigt.
-
17 ist ein Graph, der zeigt wie die Hydrophilisierungsenergie
in Bezug auf die Oberflächentemperatur
eines Schichtaufbaus (Druckplatte) als dritte Ausführungsform
variiert.
-
WEGE ZUR AUSFÜHRUNG DER
Erfindung
-
Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung und weitere vorteilhafte Ausführungsformen werden
im Anschluss unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
-
[1] Erste Ausführungsform
-
Die 1 und 2 sind
Diagramme, die eine Druckplatte (Schichtaufbau) als erste Ausführungsform
zeigen. 1 ist eine Querschnittsansicht,
die einen Fall zeigt, in dem die Oberfläche der Druckplatte eine hydrophobe
Beschaffenheit aufweist, während 2 eine
Querschnittsansicht ist, die einen Fall zeigt, in dem die Oberfläche der
Druckplatte eine hydrophile Beschaffenheit aufweist.
-
Wie
in 1 gezeigt, ist die Druckplatte 5 im Wesentlichen
aus einem Substrat 1, eine Zwischenschicht 2 sowie
einer photosensitiven Schicht (photosensitive Schicht) 3 aufgebaut.
Die Druckplatte kann einfach als Druckplatte bezeichnet werden.
Darüber hinaus
wird eine Druckplatte, die einen Bildbereich auf deren Oberfläche zum
Drucken aufweist, als Platte bezeichnet.
-
Das
Substrat 1 ist aus einem Metall wie etwa Aluminium, Edelstahl
und einem Polymerfilm oder dergleichen zusammengesetzt. Das Material
muss jedoch nicht auf ein Metall wie etwa Aluminium, Edelstahl und
einem Polymerfilm beschränkt
sein. Der Zwischenfilm 2 ist auf der Oberfläche des
Substrats 1 derart ausgebildet, dass das Substrat 1 und
die photosensitive Schicht 3, die später beschrieben werden, zuverlässig aneinander
anhaften. Der Zwischenfilm ist ebenso vorgesehen, den engen Kontakt zwischen
diesen zu verbessern. Darüber
hinaus kann die Zwischenschicht 2 abhängig von der Notwendigkeit
zum Schutz des Substrats 1, wenn das Substrat 1 aus
einem Polymerfilm oder dergleichen gefertigt ist, vorgesehen sein.
-
Als
Material für
die Zwischenschicht 2 wird beispielsweise eine Silizium-Mischung
wie etwa Siliziumoxid (SiO2) ein Silikonkunststoff,
Silikongummi verwendet. Von diesen Materialien können insbesondere Silikonalkyd-Harz,
Silikon-Urethanharz,
Silikonepoxidharz, Silikonacrylharz, Silokonpolyesterharz und so
weiter als Silikonharz verwendet werden.
-
Die
Zwischenschicht 2 kann eine solche sein, die die photokatalytische
Aktion der photosensitiven Schicht 3 erhöht. Als
eine derartige Zwischenschicht 2 kann eine Schicht, die
einen Halbleiter oder ein elektrisch leitfähiges Material enthält, verwendet werden.
-
Wenn
ein Halbleiter in die Zwischenschicht eingeführt wird, wird ein Oxid-Halbleiter
wie etwa Zinkoxid Zno, Zinnoxid SnO2, Wolframoxid
WO3 bevorzugt. Währenddessen wird bevorzugt,
ein Verfahren zur Ausbildung der Zwischenschicht 2 aus
sämtlichen
dieser Halbleiter zu verwenden. Die Zwischenschicht 2 kann
jedoch auch durch ein anderes Verfahren ausgebildet werden, durch
das die Halbleiterpartikel zusammen mit anderen Bindermaterialien gebunden
werden und in eine filmähnliche
Komponente ausgeformt werden.
-
Darüber hinaus
kann dann, wenn ein elektrisch leitfähiges Material eingeführt wird,
ein Oxidmaterial wie etwa ITO (Oxidmaterial aus Indium und Zinn),
ein Metall wie etwa Aluminium, Silber, Kupfer oder alternativ hierzu
Ruß, ein
leitfähiges
Polymer usw. verwendet werden. Die Zwischenschicht 2 kann aus
diesen elektrisch leitfähigen
Materialien selbst ausgebildet sein. Alternativ hierzu können Partikel aus
dem elektrisch leitfähigen
Material in einer filmähnlichen
Form zusammen mit anderen Bindermaterialien ausgebildet sein, um
die Zwischenschicht 2 bereitzustellen.
-
Wenn
die Zwischenschicht 2, die die oben beschriebenen Halbleiter
oder die elektrisch leitfähigen
Materialien enthält,
zur Verfügung
gestellt wird, kann die Beschreibungsrate beim Bildbeschreiben mit
Aktivierungslicht erhöht
werden, um die Plattenerzeugungszeit zu verkürzen. Darüber hinaus kann die für die Bildbeschreibung
erforderliche optisch Energie verringert werden. Darüber hinaus
kann die Bestrahlungsenergie des auf die Plattenoberfläche beim
Regenerieren der Platte aufgestrahlten Aktivierungslichts zum Löschen (Entfernen)
des Bilds verringert werden. Als Grund hierfür wird angenommen, dass Halbleiter
oder das elektrisch leitfähige
Material, das die Zwischenschicht 2 ausbildet, die Funktion des
in der photosensitiven Schicht 3, die später beschrieben
werden wird, enthaltenen Photokatalysators erhöht.
-
Die
Zwischenschicht 2 bietet den folgenden Vorteil. Dieser
ist, dass dann, wenn eine Wärmebehandlung
durchgeführt
wird, um die photosensitive Schicht 3 zu bilden, welche
später
beschrieben wird, eine Unreinheit von dem Substrat 1 in
die photosensitive Schicht 3 aufgrund thermischer Diffusion
eintreten kann, was zu einer Störung
in der photokatalytischen Aktivierung führt. Aufgrund der Zwischenschicht
jedoch kann diese Störung
in der photokatalytischen Aktivierung verhindert werden.
-
Die
photosensitive Schicht 3 enthält einen Photokatalysator und
ist auf der Oberfläche
der Zwischenschicht 2 ausgebildet.
-
Die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 ist so angeordnet, dass sie
eine hohe photokatalytische Aktivität in Erwiderung auf Bestrahlung
mit einem Aktivierungslicht mit einem Energieniveau, das höher als
die Bandspaltenergie des Photokatalysators ist, ausübt. Diese
Eigenschaft rührt
von der Beschaffenheit der Photokatalysators her. 2 zeigt einen
Zustand der exponierten photosensitiven Schicht 3, die
aufgrund der Bestrahlung mit Aktivierungslicht eine hydrophile Beschaffenheit
zeigt. Da die photosensitive Schicht 3, die den hydrophilen Photokatalysator
aufweist, exponiert ist, wird es möglich, einen Nichtbildbereich
auf der Druckplatte 5 auszubilden.
-
Eines
der Merkmale der Druckplatte 5 gemäß der vorliegenden Ausführungsform
ist, dass die photosensitive Schicht 3, die darauf ausgebildet
ist, einen Photokatalysator enthält,
der auf Licht mit einer Wellenlänge
von gleich oder kürzer
als sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von 600 nm (d.h. dass das
Aktivierungslicht zumindest sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von
400 nm bis 600 nm und ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge gleich
oder kürzer
400 nm ist) reagiert. Da die photosensitive Schicht den oben beschriebenen
Photokatalysator enthält,
zeigt, wenn ein Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich
oder kürzer
als 600 nm auf die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 gestrahlt wird, die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 eine hochgradig hydrophile Beschaffenheit.
Darüber hinaus
oxidiert und zersetzt das aufgestrahlte Licht die organische Mischung,
wenn eine organische Mischung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgeschichtet
ist. Die organische Mischung wird im Folgenden detaillierter beschrieben.
-
Der
Photokatalysator wird keine photokatalytische Aktivität zeigen,
bis das aufgestrahlte Licht ein Energieniveau höher als die Bandspaltenergie
aufweist. Beispielsweise wird dieser Photokatalysator, da ein Titandioxid-Photokatalysator
eine Bandspaltenergie von 3eV aufweist, nicht auf ultraviolettes
Licht mit einer Wellenlänge
gleich oder kürzer
als 400 nm regenerieren.
-
Gemäß der vorliegenden
Ausführungsform wird
ein neues Energieniveau in den Bandspalt eingeführt, so dass der Photokatalysator
auf Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als
600 nm, was ein sichtbares Licht mit einer Wellenlänge länger als
der von ultraviolettem Licht umfasst, reagieren. Selbstverständlich kann
das Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer 600
nm ein ultraviolettes Licht enthalten, jedoch muss das Aktivierungslicht
nicht notwendigerweise ultraviolettes Licht enthalten. Das bedeutet,
dass der Photokatalysator so Anordnung ist, dass er auf Licht reagiert, das
nur sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von etwa 600 nm bis 400
nm in einfacher Weise reagiert.
-
Der
auf Licht innerhalb des sichtbaren Bereichs reagierende Photokatalysator
kann mittels eines öffentlich
bekannten Verfahrens hergestellt werden. Beispielsweise offenbart
das offengelegte
japanische
Patent (Kokai) Nr. 2001-207082 einen Titandioxid-Photokatalysator
des auf Licht reagierenden Typs, der mit Stickstoffatomen dotiert
ist. Darüber
hinaus offenbart das offengelegte
japanische
Patent (Kokai) Nr. 2001-205104 einen Titandioxid-Photokatalysator
des auf Licht reagierenden Typs, der mit Chromatomen und Stickstoffatomen
dotiert ist.
-
Darüber hinaus
offenbart das offengelegte
japanische
Patent (Kokai) Nr. 11-197512 einen Titandioxid-Photokatalysator
des auf Licht reagierenden Typs, der Metall-Ionen aufweist, sowie
solche aus Ionen-implantiertem Chrom. Es sind auch Informationen
hinsichtlich anderer Arten von Titandioxid-Photokatalysatoren des auf sichtbares
Licht reagierenden Typs erhältlich,
welche unter Verwendung eines Niedertemperatur-Plasmas erzeugt werden, oder in Bezug
auf einen Titandioxid-Photokatalysator
des auf sichtbares Licht reagierenden Typs, der ein Platin-Atom
hält.
-
Wenn
die Druckplatte 5 erzeugt wird, können diese Arten von sogenannten
Photokatalysatoren des auf sichtbares Licht reagierenden Typs durch
die öffentlich
bekannten Verfahren (beispielsweise Titandioxid-Photokatalysator
des auf sichtbares Licht reagierenden Typs (modifizierter Titandioxid-Photokatalysator))
verwendet werden.
-
Wenn
der Photokatalysator in Reaktion auf das Aktivierungslicht mit einer
Wellenlänge
gleich oder kürzer
als 400 nm energetisiert wird, kann jede Art von Photokatalysator
aus kommerziell erhältlichen üblichen
Arten von Titan-Photokatalysatoren ausgewählt und verwendet werden.
-
Als
Titandioxid-Photokatalysator sind rutil-artige, anatas-artige sowie brushit-haltige
bekannt. Jede dieser Arten kann in der vorliegenden Ausführungsform
verwendet werden und auch eine Mischung hiervon kann verwendet werden.
Jedoch werden im Hinblick auf die photokatalytische Aktivität anatas-artige
bevorzugt.
-
Darüber hinaus
wird, wie später
beschrieben werden wird, um die photokatalytische Aktivität zur Zersetzung
der Mischung am Bildbereich unter Bestrahlung mit Aktivierungslicht
zu verbessern, gewünscht,
dass die Partikel des Titandioxid-Photokatalysators einen etwas kleineren
Durchmesser aufweisen. Konkreter weisen die Partikel des Titandioxid-Photokatalysators
vorzugsweise einen Durchmesser gleich oder kleiner 0,1 μm und ganz
besonders bevorzugt einen Durchmesser gleich oder kleiner als 0,5 μm auf. Als
Photokatalysator ist ein Titandioxid-Photokatalysator geeignet.
Selbstverständlich ist
der Photokatalysator hierauf nicht beschränkt.
-
In
Bezug auf den Titandioxid-Photokatalysator beinhalten dessen spezielle
Beispiele, die kommerziell erhältlich
sind und in der vorliegenden Ausführungsform verwendet werden
können,
ST-01, ST-21, deren bearbeitete Produkte ST-K01 und ST K03, wasserverdünntes STS-01,
STS-02 und STS-21, die sämtlich
von der Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. produziert werden; SSP-25,
SSP-20, SSP-M, CSB sowie CSB-M und farbartige LAC Tl-01, LAC Tl-03-A,
erzeugt von der Sakai Chemical Industry Co., Ltd. In Bezug auf die
Titanoxid-Beschichtungsflüssigkeit
zur Verwendung mit dem Photokatalysator beinhalten deren spezielle
Beispiele TKS-201,
TKS-202, TKC-301, TKC-302, TKC-303, TKC-304, TKC-305, TKC-351, TKC-352,
und spezielle Beispiele von Titanoxid-Sol zur Verwendung mit dem
Photokatalysator beinhalten TKS-201, TKS-202, TKS-203, TKS-251,
sämtlich
produziert von der TAYCA Corporation, sowie PTA, TO, TPX und so
weiter, erzeugt von ARITEKKUSU und so weiter. Es ist jedoch nicht
notwendig zu sagen, dass die vorliegende Erfindung mit einem anderen
Titandioxid-Photokatalysator verwirklicht werden kann.
-
Es
wird bevorzugt, dass die Beschichtungsschicht 3 eine Dicke
im Bereich von 0,005 bis 1 μm aufweist.
Dies ist darin begründet,
dass eine zu geringe Filmdicke es schwierig macht, die oben beschriebenen
Eigenschaften in zufriedenstellender Weise zu verwenden, während eine
zu große
Filmdicke dazu neigt, einen Riss der Beschichtungsschicht 3 herbeizuführen, wodurch
ein Absenken in der Haltbarkeit bewirkt wird. Die Rissbildung wird
von Zeit zu Zeit dann beobachtet, wenn die Filmdicke 10 μm übersteigt,
so dass es nicht notwendig ist, diesem Problem Beachtung zu schenken,
wenn die Filmdicke 10 μm
beträgt.
Vom praktischen Gesichtspunkt her ist es bevorzugt, dass die Filmdicke
auf etwa 0,01 bis etwa 0,5 μm
eingestellt wird.
-
Darüber hinaus
kann als Verfahren zur Ausbildung der photosensitiven Schicht 3 jedes
Verfahren, das in geeigneter Weise aus einem Sol-Beschichtungsverfahren,
einem Organotitan-Verfahren, einem Dampfablagerungsverfahren oder
dergleichen zur Ausbildung der Schicht ausgewählt ist, angewendet werden.
Zu diesem Zeitpunkt kann dann, wenn beispielsweise das Sol-Beschichtungsverfahren
ausgewählt
wurde, die hierfür
verwendete Sol-Flüssigkeitsbeschichtung mit
einem Lösungsmittel,
einem Vernetzungsagens, einem oberflächenaktiven Stoff oder dergleichen
zusätzlich
zu den oben beschriebenen jeweiligen Materialien hinzugegeben werden, welche
die Festigkeit des Titandioxid-Photokatalysators
und der photosensitiven Schicht 3 sowie die enge Anhaftung
zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 verbessert.
-
Die
Sol-Beschichtungsflüssigkeit
kann entweder eine solche sein, die bei Raumtemperatur trocknet,
oder eine solche, die bei Aufbringung von Wärme trocknet. Es ist mehr bevorzugt,
die letztere Art zu verwenden. Dies ist darin begründet, dass
es vorteilhafter ist, die Dauerhaftigkeit der Druckplatte 5 beim
Drucken dadurch zu erhöhen,
dass die Festigkeit der photosensitiven Schicht 3 durch
die Wärmeaufbringung
erhöht
wird. Darüber
hinaus kann die photosensitive Schicht 3 so durch verschiedene
Verfahren erzeugt werden, dass sie eine höhere Festigkeit aufweist. Beispielsweise
kann eine Titanoxid-Zwischenschicht auf einem Metallsubstrat in
einer Vakuumkammer unter Verwendung eines Dampfablagerungsverfahrens
oder dergleichen aufgebracht werden, und im Anschluss wird eine
Kristallisierung durch Ausführen
einer Wärmebehandlung eintreten,
so dass die photosensitive Schicht eine große Festigkeit aufweist.
-
Für die Hydrophilisierung
der photosensitiven Schicht 3 ist es nicht notwendig zu
erwähnen, dass
die organische Mischung wünschenswerter Weise
eine solche Funktion aufweist, dass sie eine chemische Reaktion
oder starke Interaktion mit zumindest dem hydrophilen Bereich der
Druckplattenoberfläche 5 (Oberfläche für die Platte)
unterstützt,
um die hydrophile Oberfläche
abzudecken und die hydrophile Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in eine
hydrophobe umzuwandeln. Zur gleichen Zeit weist die organische Mischung
vorzugsweise eine solche Beschaffenheit auf, dass sie leicht aufgrund der
Aktion der Oxidation und Zersetzung des Photokatalysators unter
Bestrahlung mit Aktivierungslicht zersetzt wird.
-
Die
oben beschriebenen Arten organischer Mischungen können in
zwei Arten abhängig
von dem System der Beschreibung klassifiziert werden.
-
Die
betreffende Ausführungsform
wird basierend auf einem Fall beschrieben werden, in dem eine der
zwei Arten organischer Mischungen verwendet wird, d.h., dass eine
Beschreibung für
einen solchen Fall angegeben wird, bei dem die zwei Beschreibungssysteme
verwendet werden. In Bezug auf das zwar andere Beschreibungssystem
wird dessen Beschreibung zusammen mit der zweiten Ausführungsform
zur Verfügung
gestellt.
-
Das
bedeutet, dass die in der vorliegenden Ausführungsform (Typ A) verwendete
organische Mischung auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufgebracht
wird und nur auf die Trocknung oder Wärmetrocknung abhängig von
der Notwendigkeit, eine Reaktion und/oder starke Interaktion mit
der Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 zu bewirken, reagiert. Somit
kann die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert werden. Darüber hinaus wird
dann, wenn das Aktivierungslicht auf die Oberfläche aufgestrahlt wird, die
organische Mischung aufgrund der Aktion des Photokatalysators und
der photosensitiven Schicht 3 zersetzt, mit dem Ergebnis,
dass die Mischung von der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 entfernt werden kann.
-
In
Bezug auf die oben beschriebene organische Mischung beinhalten speziell
bevorzugte Beispiele eine organische Titan-Mischung, eine organische
Silan-Mischung, eine Isocyanat-Mischung und eine Epoxid-Mischung.
Da diese Arten von Mischungen mit einer Hydroxidgruppe, die auf
der hydrophilen Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3, die auf der Oberfläche zu fixieren
ist, reagieren kann, wird eine organische Mischungsschicht aus einer
monomolekularen Schicht (nicht gezeigt) auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 in Übereinstimmung mit deren Prinzipien ausgebildet.
Auf diese Weise wird eine Hydrophilisierung auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 bei der monomolekularen Schicht
bewirkt, mit dem Ergebnis, dass es leicht wird, die Mischung unter
Bestrahlung mit Aktivierungslicht zu zersetzen.
-
Beispiele
derartiger organischer Titan-Mischungen sind wie folgt. 1) Titanalkoxide,
wie etwa Titan-Tetroisopropoxid, Titan-Tetra-n-Propoxid, Titan-Tetra-n-Butoxid
sowie Titan-Tetra-Isobutoxid,
Titan-Tetra-Stearoxid; 2) Titenalkylate wie etwa Tri-n-Butoxytitan-Stearat
und Isopropoxy-Titan-Tristearat;
3)Titan-Chelat wie etwa Diisopropoxy-Titan-Bisacetylacetonat, Dihydroxy-Bislactato-Titan
und Isopropoxy-Titan-Octylen-Glykol.
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Beispiele
der organischen Silan-Mischungen sind wie folgt: 1) Alkoxysilan
wie ein Trimethylmethoxysilan, Trimethylethoxysilan, Dimethyldiethosysilan, Methyltrimethoxysilan,
Tetramethoxysilan, Methyltrimethoxysilan, Tetramethoxysilan, Methyldimethoxysilan,
Octadecyltrimethoxysilan, und Octadecyltrimethosysilan; 2) Chlorosilane
wie Trimeethylchlorosilan, Dimethyldichlorosilan, Methyltrichlorosilan,
Methyldichlorosilan, und Dimethylchlorosilan; 3) Silan Kopplungs-Agentien
wie Vinyltrichlorosilan, Vinyltriethosysilan, γ-Chloropropyltrimethosysilan, γ-Chloropropylenmethyldichlorosilan, γ-Chloropropylmethyldimethoxysilan, γ-Chloropropylmethyldiethoxysilan,
und γ-Aminopropyltriethoxysilan;
und 4) Fluoroalkylsilan wie Perfluoralkyltrimethoxysilan.
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Beispiele
der Isocyanat-artigen Mischungen enthalten Dodecyl-Isocyanat, Octadecyl-Isocyanat, und
dergleichen.
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Des
weiteren beinhalten Beispiele der epoxidartigen Mischungen 1,2-Epoxy-Decan,
1,2-Epoxy-Hexadecan, 1,2-Epoxy-Octadecan
und dergleichen.
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Organische
Titan-Mischungen, organische Silan-Mischungen, Isocyanat-artige
Mischungen und Epoxid-artige Mischungen sind nicht auf die oben aufgelisteten
Substanzen beschränkt.
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Wenn
die Mischungen bei Raumtemperatur in flüssigem Zustand vorliegen, können die
oben aufgelisteten organischen Mischungen auf der photosensitiven
Schicht 3 mittels einer Abstreifbeschichtung, eines Sprüh-Beschichtungsverfahrens,
eines Eintauchbeschichtungsverfahrens oder dergleichen beschichtet
werden oder können
auf demselben durch Aufsprühen
mit feinen Partikeln beschichtet werden. Darüber hinaus kann die Flüssigkeit
bei einer Verdampfung bis zu einer Temperatur unterhalb derer eine
Zersetzung eintritt, erwärmt
werden. Ebenso kann die Flüssigkeit
durch eine Nebelerzeugungsvorrichtung für eine Flüssigkeit unter Verwendung von
Ultraschall, d.h. einen soggenannten Vernebler, verdampft werden.
Somit kann die Flüssigkeit auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgesprüht werden. Dabei ist es nicht
notwendig zu erwähnen,
dass die Flüssigkeit
mit einem anderen Lösungsmittel
zum Zwecke der Einstellung der Konzentration, Viskosität oder dergleichen
der organischen Mischungen verdünnt
werden kann.
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Ein
Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte und ein Verfahren zur
Regeneration derselben, welches in den Schutzbereich der anhängenden
Ansprüche
fällt,
wird im Anschluss beschrieben.
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Wie
in 4 gezeigt, ist der Strom der Erzeugung und Regeneration
der Platte so, dass er einen Schritt der Aufbringung einer organischen
Mischung (Schritt der Hydrophilisierung der Plattenoberfläche) (S200),
einen Schritt des Beschreibens eines Bilds (S210), einen Schritt des
Druckens (S220), einen Schritt der Entfernung von Tinte (S230),
sowie einen Schritt des Löschens
eines Bilds (S240) beinhaltet.
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Zu
Beginn wird eine Beschreibung eines Verfahrens der Herstellung der
Druckplatte angegeben.
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In
der nachfolgend angegebenen Beschreibung bedeutet der Begriff "Herstellung einer
Platte" die Herstellung
einer Druckplatte 5, deren Oberfläche (d.h. die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3) hydrophobisiert ist (Anfangszustand),
um ein Aktivierungslicht auf zumindest einen Teil der Oberfläche auf
die Druckplatte 5 basierend auf den digitalen Daten zu
strahlen, um einen hydrophilen Nichtbildbereich auszubilden, sowie
um ein latentes Bild auszubilden, das aus einem hydrophoben Bildbereich
und einem hydrophilen Nichtbildbereich besteht, auf der Oberfläche der
Druckplatte 5 zusammen mit dem hydrophoben Bereich (d.h.
dem Bildbereich) der Oberfläche
der Druckplatte 5, auf die das Aktivierungslicht aufgestrahlt
wird.
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Wie
im Schritt (a) aus 3 gezeigt, wird eine organische
Mischung auf die Oberfläche
der Flüssigkeitssystem 3,
die vollständig
im vorhergehenden Schritt (dem Schritt des Löschens des Bilds) (Schritt
S240)) hydrophilisiert wurde, aufgeschichtet, und anschließend wird
eine Reaktion und/oder Interaktion zwischen der organischen Mischung
und der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 bewirkt (Schritt der Hydrophobisierung
der Plattenoberfläche (Schritt
S200)). Das Diagramm aus Schritt (a) aus 3 illustriert
einen Anfangszustand, in dem die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 oder
die gesamte Oberfläche
der Druckplatte 5 mit der organischen Mischung beschichtet
und hierdurch hydrophobisiert ist. In diesem Fall ist, wie dies
in 1 gezeigt ist, die hydrophobisierte Oberfläche der
Druckplatte 5 die Oberfläche der Druckplatte 5,
die einen Kontaktwinkel des Wassers 6 von 50° oder mehr
und ganz besonders bevorzugt 80° oder
mehr zeigt. Somit ist es für
die hydrophobe Tinte für
das Drucken leicht, daran anzuhaften, während es für das Befeuchtungswasser schwer
ist, daran anzuhaften.
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Darüber hinaus
wird der Zustand der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 als "Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung" bezeichnet. Dieser "Anfangszustand der
Druckplatten-Herstellung" kann
als Zeitpunkt betrachtet werden, bei dem der Schritt des Druckens
(Schritt S220) tatsächlich
beginnt. Noch konkreter kann dieser Zustand als ein solcher betrachtet
werden, in dem die digitalisierten Daten in Bezug auf ein beliebiges
Bild schon vorbereitet sind und die Daten auf die Druckplatte 5 aufgeschrieben
werden sollen.
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Danach
wird, wie dies beim Schritt (b) aus 3 gezeigt
ist, beim Schritt des Bildbeschreibens (Schritt S210) ein Bild auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3, die in den hydrophoben Zustand gebracht
wurde, aufgeschrieben.
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Diese
Bildbeschreibung wird auf eine solche Weise ausgeführt, dass
auf Basis der digitalen Daten in Bezug auf das Bild, der Nichtbildbereich
auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 so beschrieben wird, dass
er mit dessen Daten korrespondiert. Auf diese Weise wird die Bildbeschreibung
ausgeführt.
In diesem Fall ist, wie dies in 2 gezeigt ist,
der Nichtbildbereich ein hydrophiler Bereich, auf dem der Kontaktwinkel
des Wassers 6 gleich dem oder kleiner gleich 10° ist. Somit
ist es für
das Befeuchtungswasser leicht, daran anzuhaften, während es
für die
hydrophobe Tinte für
das Drucken schwer ist, hiervon angenommen zu werden.
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Als
Verfahren zum Erzeugen des hydrophilen Nichtbildbereichs basierend
auf den Bilddaten wird ein Aktivierungslicht auf die photosensitive Schicht 3,
die einen Photokatalysator enthält,
der eine photokatalytische Aktivität in Erwiderung auf Licht mit
einer Wellenlänge
gleich oder kleiner 600 nm, d.h. ein Aktivierungslicht aufweist,
aufgestrahlt. Mit dieser Aktivierungslicht-Bestrahlung wird der Photokatalysator
aktiviert, um die organische Mischung zu oxidieren und zu zersetzen,
wodurch die organische Mischung von der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 entfernt
werden kann. Zu diesem Zeitpunkt ist die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophilisiert.
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Auf
der anderen Seite wird ein Bereich der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3,
auf dem kein Aktivierungslicht aufgestrahlt wurde, in seinem Zustand
mit hydrophober Beschaffenheit beibehalten. Somit wird auf der Oberfläche der
Druckplatte 5 ein hydrophiler Bereich und ein hydrophober
Bereich ausgebildet. Das bedeutet, dass wie im 5 gezeigten
Beispiel ein Bereich 3a, auf den ein Aktivierungslicht
aufgestrahlt wurde, ein Nichtbildbereich wird, der eine hydrophile
Beschaffenheit aufweist, während
ein Bereich 3b, der nicht mit Aktivierungslicht bestrahlt
wurde, ein Bildbereich wird, der eine hydrophobe Beschaffenheit
aufweist, wodurch die Platte hergestellt werden kann.
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Im
Schritt (b) aus 3 wird der Nichtbildbereich 3a mittels
eines Schreibkopfs beschrieben, der ein sichtbares Licht verwendet,
beispielsweise ein Violettlaser mit einer Wellenlänge von
405 nm. Somit wird ein Nichtbildbereich 3a auf der Oberfläche der hydrophoben
photosensitiven Schicht 3 ausgebildet.
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In
Bezug auf das Verfahren zur Herstellung des hydrophilen Nichtbildbereichs 3a basierend
auf den Bilddaten kann zusätzlich
zu dem Schreibkopf unter Verwendung des Violettlasers mit einer
Wellenlänge
von 40 nm eine Einheit zum Beschreiben eines Bild unter Verwendung
von Aktivierungslicht verwendet werden. Beispielsweise kann eine
Anordnung verwendet werden, die einen Schreibkopf durch gemeinsames
Einführen
einer Lichtquelle, die in der Lage ist, ein Licht mit einer Wellenlänge von
360 nm bis 400 nm zu erzeugen und in einem UV-Setter 710, der von
der basysPrint Corporation (Deutschland) hergestellt wird, und einen
Mikrospiegel umfasst, aufgebaut ist.
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Wenn
der oben beschriebene Bildbeschreibungsschritt (Schritt S210) abgeschlossen
ist, werden im Schritt (c) aus 3 der Bildbereich
und der Nichtbildbereich auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet
und dann wird das Drucken im nächsten
Druckschritt (Schritt S220) ermöglicht.
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Im
Druckschritt (Schritt S220) wird die Druckplatte 5 auf
deren Oberfläche
mit einem Befeuchtungswasser und einer sogenannten emulgierten Tinte
mit einer hydrophoben Drucktinte und dem darin vermischten Befeuchtungswasser
beschichtet.
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Daher
wird dann, wenn beispielsweise das in 5 gezeigte
Bild aufgeschrieben wird, der Halbton-Repräsentationsabschnitt
(d.h. der hydrophobe Bildbereich) 3b mit der hydrophoben
Tinte aufgebracht. Im Gegensatz hierzu wird der verbleibende blanke
Abschnitt (d.h. der hydrophile Nichtbildbereich) 3a mit
dem Befeuchtungswasser mit Vorrang aufgebracht und die hydrophobe
Tinte wird abgestoßen
und es wird verhindert, dass sie daran anhaftet. Auf diese Weise
erscheint das Bild (Muster) und die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 kann
als Druckplatte agieren. Danach wird das Drucken ausgeführt und
der Druck wird abgeschlossen.
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Ein
Verfahren zur Regeneration der Druckplatte in Übereinstimmung mit der vorliegenden
Erfindung wird im Anschluss beschrieben.
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In
der nachfolgenden Beschreibung bedeutet der Begriff "Regeneration einer
Platte" eine Reihe von
Prozessen inklusive eines Prozesses, einer Druckplatte 5 mit
einer Oberfläche,
die eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist, an zumindest einem Teilbereich
hiervon, und einer hydrophilen Beschaffenheit am verbleibenden Bereich
hiervon vollständig und
gleichmäßig zu hydrophilisieren,
und im Anschluss eine organische Mischung auf die hydrophile Oberfläche der
Druckplatte 5 auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufzubringen,
so das eine Reaktion und/oder Interaktion in der organischen Mischung
mit der photosensitiven Schicht 3 bewirkt wird, um die
Oberflächeneigenschaft
der photosensitiven Schicht 3 (d.h. die Oberflächeneigenschaft
des Photokatalysators) von hydrophil in hydrophob umzuwandeln, und
wiederum den "Ursprungszustand der
Druckplatten-Herstellung" wiederherzustellen.
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Der
Prozess zum vollständigen
und gleichmäßigen Hydrophilisieren
der Oberfläche
der Druckplatte vor der Hydrophobisierungs-Bearbeitung wird so ausgeführt, dass
das Bild auf der Platte vollständig gelöscht werden
kann.
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Anfangs
werden, wie dies im Schritt (d) aus 3 gezeigt
wird, beim Tintenentfernungsschritt (Schritt S230) Tinte, Befeuchtungswasser,
Papierstopp und dergleichen, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 nach
dem Abschluss des Druckens anhafteten, entfernt. Die Verfahren zur
Entfernung von Tinte beinhalten ein Verfahren zum Stoppen der Tintenzufuhr
auf die Oberfläche
der Druckplatte 5 und die Verringerung der Menge von Tinte auf
der Druckfläche,
ein Verfahren zum Abwischen der Tinte auf der Oberfläche der
Druckplatte 5 durch einen Wischmechanismus, der ein stoffähnliches Band
zum Abwischen der Tinte verwendet, ein Verfahren zum Abwischen der
Tinte auf der Oberfläche der
Druckplatte 5 mittels einer Walze, die darum herum ein ähnliches
? Material gewickelt hat, zum Abwischen der Tinte, ein Verfahren
zum Aufsprühen
einer Reinigungsflüssigkeit
mittels eines Sprühers
auf die Oberfläche
der Druckplatte 5, um die Tinte abzuwaschen, und dergleichen.
Jedes Verfahren kann in geeigneter Weise ausgewählt werden.
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Im
Anschluss wird, wie dies im Schritt (e) aus 3 gezeigt
ist, das Aktivierungslicht auf die gesamte Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, so dass auch der
Bildbereich 3b hydrophilisiert werden kann und die gesamte
Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 eine hydrophile Oberfläche wird,
deren Kontaktwinkel zu Wasser 6 gleich oder kleiner als
10° ist.
Das bedeutet, dass die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 dazu
gebracht wird, den in 2 gezeigten Zustand anzunehmen.
Somit kann das Bild vollständig
gelöscht werden
(Bildlöschschritt
(Schritt S240)).
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Zu
diesem Zeitpunkt ist eines der Merkmale der vorliegenden Erfindung,
dass dann, wenn das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, die Oberfläche der photosensitiven
Schicht 3 gleichzeitig erhitzt wird. In anderen Worten
kann dann, wenn die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 unter den Bestrahlung mit Aktivierungslicht
erhitzt wird, die Zersetzungsreaktion der organischen Mischung auf
der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 beschleunigt werden, was das
Ergebnis hat, dass das Bild auf der Platte in kurzer Zeit gelöscht werden
kann.
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Darüber hinaus
ist, wie dies in 6 gezeigt wird, die Höhe der Temperatur,
bei der die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 unter der Bestrahlung mit Aktivierungslicht
erwärmt
wird, desto kürzer
die Zeitdauer, die für
die Herstellung eines Kontaktwinkels zum Wasser 6 gleich
oder kleiner 10° erforderlich
ist, d.h. desto kürzer
ist die Zeit, die benötigt
wird, die Oberfläche
der photosensitiven Schicht zu hydrophilisieren. Dementsprechend
kann die Hydrophilisierung der Oberfläche der Druckplatte 5 unterstützt werden.
-
In
diesem Beispiel wird, wie dies im Schritt (e) aus 3 gezeigt
wird, die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht
durch eine Ultraviolett(UV)-Lampe bestrahlt und die photosensitive
Schicht 3 wird mittels einer Infrarot(IR)-Lampe erwärmt.
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Als
Verfahren zur Wärmeaufbringung
wird bevorzugt, eine Heißluft-Ventilation
oder eine Lichtbestrahlung zu verwenden, die in der Lage sind, die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 aufzuheizen. Darüber hinaus
wird als Licht zur Bestrahlung ein Infrarotlichtstrahl bevorzugt,
wenn eine Art von Licht für
die Aufheizung im Hinblick auf die Effizienz ausgewählt wird.
Darüber
hinaus können
dann, wenn Wärme
auf die Plattenoberfläche
aufgebracht werden soll, Mittel hierfür ein elektrischer Heizer sein.
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Ein
anderes Verfahren der Wärmeaufbringung
beinhaltet ein Verfahren, bei dem ein Aufheizer innerhalb eines
Plattenzylinders vorgesehen ist, an dem die Druckplatte 5 angebracht
ist, und Wärme aufgebracht
wird. Gemäß diesem
Verfahren wird der Plattenzylinder selbst bis zu einer exzessiv
hohen Temperatur erwärmt.
Daher können
im nachfolgenden Druckschritt (Schritt S220) die die Druckqualität beeinflussenden
physikalischen Eigenschaften wie etwa die Viskosität der Tinte
aufgrund des Einflusses der Temperatur fluktuieren. Dementsprechend
muss dies bei Anwendung dieses Verfahrens berücksichtigt werden.
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Im
Bildlöschschritt
(Schritt S240) gewinnt die photosensitive Schicht 3 die
hydrophile Eigenschaft auf deren gesamter Oberfläche aufgrund der Wärmeaufbringung
und Bestrahlung mit Aktivierungslicht wieder. Anschließend kehrt
die Bearbeitung zum Hydrophobisierungsschritt (Schritt S200) der
Plattenoberfläche,
wie er bei Schritt (a) aus 3 gezeigt
ist, zurück,
indem die organische Mischung darauf aufgebracht wird, um die organische
Mischung in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 zu
bringen, so dass die Eigenschaft der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 (Eigenschaft
der Katalysatoroberfläche)
von hydrophil zu hydrophob umgewandelt wird (d.h. dass ein Hydrophobisierungs-Bearbeiten
ausgeführt
wird). Somit kann der Ursprungszustand der Druckplatten-Herstellung
eintreten.
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7 ist
ein Graph, der insgesamt illustriert, was oben bereits beschrieben
wurde. Im Graph aus 7 ist die Zeit (oder der Betrieb)
auf der Abszisse abgetragen, während
der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der
Druckplatte 5 auf der Ordinate abgetragen ist. Daher illustriert
dieser Graph, wie der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht mit dem Zeitablauf oder dem Betrieb in Bezug
auf die Druckplatte 5 gemäß der vorliegenden Erfindung
variiert. Das bedeutet, dass Bezug genommen werden kann hinsichtlich
der Bewertung, welchen Zustand die Oberfläche annimmt, entweder hydrophob
oder hydrophil. In 7 stellt die gepunktete Linie
die Variation des Kontaktwinkels des Nichtbildbereichs 3a dar,
während
die durchgezogene Linie die Variation des Kontaktwinkels des Bildbereichs 3b darstellt.
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Anfangs
wird das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt,
so dass die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 in einen Zustand gebracht
wird, der eine hochgradig hydrophile Eigenschaft aufweist, so dass der
Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder kleiner 10° ist.
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Anschließend wird
beim Hydrophobisierungsschritt die Plattenoberfläche (Schritt S200) (der bei
A in 7 gezeigte Schritt) die organische Mischung auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgebracht, um die organische
Mischung in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven
Schicht 3 zu bringen, so dass die Eigenschaft des Photokatalysators
der photosensitiven Schicht 3 von hydrophil zu hydrophob
umgewandelt wird. Somit wird der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich
oder größer als
50° oder
noch bevorzugter wird er gleich oder größer 80°. Ein Zeitpunkt (a) in 7 stellt
den Startzeitpunkt der Hydrophobisierungs-Bearbeitung dar, während der
Zeitpunkt (b) in 7 einen Endzeitpunkt der Hydrophobisierungs-Bearbeitung darstellt,
d.h. den Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung.
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Danach
wird beim Bildbeschreibungsschritt (Schritt S210) (Nichtbildbereichs-Beschreibungsschritt
(Schritt, der bei B in 7 gezeigt ist), das Aktivierungslicht
auf die hydrophobe Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, so dass die Beschreibung
des Nichtbildbereichs 3a begonnen wird (Zeitpunkt (b) in 7).
Auf diese Weise wird die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3, die mit Aktivierungslicht
bestrahlt wurde, von hydrophob zu hydrophil umgewandelt. In anderen
Worten wird der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der photosensitiven
Schicht 3 gleich oder kleiner 10°. Auf der anderen Seite verbleibt
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3, die nicht mit Aktivierungslicht bestrahlt
wurde, im hydrophoben Zustand. Somit wird der nicht mit Aktivierungslicht
bestrahlte Bereich der hydrophobe Bildbereich b, während der
mit Aktivierungslicht bestrahlte Bereich ein hydrophiler Nichtbildbereich 3a wird,
mit dem Ergebnis, dass die Oberfläche als Platte agieren kann.
-
Dann
wird, nachdem der Nichtbildbereich 3a beschrieben wurde,
beim Druckschritt (Schritt S220) (Schritt, der bei C in 7 gezeigt
wird) das Drucken begonnen (Zeitpunkt (c) in 7).
-
Nachdem
das Drucken abgeschlossen wurde, werden im Tintenentfernungsschritt
(Schritt S230) (Schritt, der bei D in 7 gezeigt
ist), die auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 verbleibende Tinte, Staub
und dergleichen entfernt (Zeitpunkt (d) in 7).
-
Nachdem
die Tintenentfernung abgeschlossen wurde, wird beim Bildlöschschritt
(Schritt S240) (Schritt, der bei E in 7 gezeigt
ist), das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gestrahlt
und die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 wird erwärmt (Zeitpunkt (e) in 7).
Auf diese Weise kann der hydrophobe Bildbereich 3b schnell
zersetzt und aufgrund der Photokatalysators entfernt werden und
der Photokatalysator wird von hydrophob zu hydrophil umgewandelt. Somit
kann die gesamte Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 hydrophil sein. In anderen
Worten kann aufgrund des Bildlöschschritts
(Schritt S240) die Historie der Platte vollständig gelöscht werden.
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Danach
wird beim nächsten
Hydrophobisierungsschritt der Platte (Schritt S200) (Schritt, der
bei A' in 7 gezeigt
ist), die organische Mischung wiederum auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 aufgebracht, um so die organische
Mischung in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven
Schicht 3 zu bringen (Zeitpunkt (a') in 7), wobei
der "Ursprungszustand
der Druckplatten-Herstellung" auf
der Druckplatte 6 wiedergewonnen werden kann. Somit kann
die Druckplatte 5 wiederverwendet werden.
-
Wenn
die oben beschriebenen Druck- und Platten-Regeneration auf einer
Druckpresse ausgeführt
werden, wird bevorzugt, ein Drucksystem (Druckpresse) 10,
wie es in 8 gezeigt ist, zu verwenden.
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Die
Druckpresse 10 ist aus einem Plattenzylinder zusammengesetzt,
der an dessen Zentrum vorgesehen ist, einer Plattenreinigungseinheit 12,
die um den Plattenzylinder herum vorgesehen ist, einer Bildeinheit 13,
einer Aufbringeinheit 14 für die organische Mischung,
einer Aufheizelement 15, einer Hydrophilisierungs-Bearbeitungseinheit 16,
die ein Aktivierungslicht aufstrahlt und als Bildlöscheinheit
dient, einen Auftragsroller 17, eine Aufbringeinheit 18 für Feuchtigkeitswasser
sowie ein Deckzylinder 19. Die Druckplatte 5 ist
um den Plattenzylinder 11 herum gewunden.
-
Die
Platten-Regeneration und -Fabrikation wird im Anschluss unter Bezugnahme
auf 8 beschrieben. Anfangs wird die Plattenreinigungseinheit 12 in
Kontakt mit dem Plattenzylinder 11 gebracht, so dass Tinte,
Feuchtigkeitswasser, Papierstaub und dergleichen, die auf der Oberfläche des
Plattenzylinders 5 anhaften, sauber abgewischt werden können. Obwohl
die Plattenreinigungseinheit 12, die in 8 gezeigt
ist, eine solche ist, die einen Mechanismus mit einem aufgewickelten
Stoffband zum Abwischen der Tinte aufweist, ist die Anordnung der
Einheit nicht hierauf beschränkt.
-
Danach
wird die Plattenreinigungseinheit 12 weg von dem Plattenzylinder 11 gebracht
und die Aufheizeinheit 15 wird auf der Oberfläche der
Druckplatte 5 aktiviert, um diese zu erhitzen. Zum gleichen Zeitpunkt
wird die Hydrophilisierungs-Bearbeitungseinheit 16,
die ein Aktivierungslicht aufstrahlt, aktiviert, um das Aktivierungslicht
auf die gesamte Oberfläche
der Druckplatte 5 aufzustrahlen. Somit wird die gesamte
Oberfläche
der Druckplatte 5 hydrophilisiert. In diesem Fall wird
ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 400 nm oder weniger
als Aktivierungslicht verwendet. Wenn der Photokatalysator jedoch
eine Aktivierungsbeschaffenheit unter Licht mit einer Wellenlänge von
400 nm bis 600 nm aufweist, kann auch ein Licht mit einer Wellenlänge von 400
nm bis 600 nm verwendet werden.
-
Anschließend wird
die Aufbringeinheit 14 für die organische Mischung aktiviert,
um die organische Mischung auf die gesamte Oberfläche der
Druckplatte 5 aufzubringen, um so die organische Mischung
in Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 zu bringen,
wodurch die Druckplatte 5 vollständig hydrophobisiert werden
kann. Obwohl in 8 die Aufbringeinheit 14 für die organische
Mischung eine Rollenbeschichtungseinheit ist, ist die Anordnung
der Einheit nicht hierauf beschränkt.
-
Im
Anschluss wird die Bildbeschreibungseinheit 13 aktiviert,
um das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der Druckplatte 5 auf
Basis der digitalen Daten des vorab bereitgestellten Bilds aufzustrahlen und
somit wird ein Nichtbildbereich 3a beschrieben (d.h. das
Bild auf der Oberfläche
der Punkt 5 aufgetragen).
-
Nachdem
das Bild beschrieben wurde, werden die Tintenwalze 17,
Der Quelllösungs-Zuführer 18 und
der Deckzylinder 19 in Kontakt mit dem Plattenzylinder
gebracht, so dass ein Papierbogen 20 in Kontakt zum Deckzylinder 19 gehalten
wird. Dann werden die Zylinder in diejenigen Richtungen gedreht,
die jeweils durch die Pfeile in 8 angedeutet
sind, wodurch die Druckplatte 5 auf deren Oberfläche mit
dem Feuchtigkeitswasser und der Tinte aufgebracht wird, um das Drucken
auf dem Papierbogen 20 auszuführen.
-
Wie
oben beschrieben, agieren die Druckpresse 10, die Plattenreinigungseinheit
zum Reinigen der Oberfläche
der Druckplatte 5, die am Plattenzylinder 11 angebracht
ist, die Hydrophilisierungs-Bearbeitungseinheit 16, die
eine Bestrahlung mit Aktivierungslicht verwendet, zum Ausführen einer Bildlöschung mit
der Bestrahlung mit Aktivierungslicht, die Aufbringeinheit 14 für die organische
Mischung zum Aufbringen der organischen Mischung auf die Oberfläche der
Druckplatte 5 sowie die Aufheizeinheit 15 zum
Aufheizen der Oberfläche
der Druckplatte 5 zur Unterstützung der Hydrophilisierung
zusammen als Regenerationsvorrichtung zum Regenerieren der Platte.
Darüber
hinaus ist die Druckpresse so angeordnet, dass sie die Bildeinheit 13 zum
Beschreiben eines Bilds auf der Druckplatte 5 beinhaltet.
Daher kann eine Reihe von Prozessen der Plattenregeneration und
Plattenherstellung unter der Bedingung ausgeführt werden, dass die Druckplatte 5 am
Plattenzylinder 11 auf der Druckpresse 10 angebracht
ist. Mit dieser Anordnung kann die Reihe von Druckarbeiten ohne
Anhalten der Druckpresse 10 und ohne eine Austauscharbeit
für die
druckende Druckplatte ausgeführt
werden.
-
Während die
Druckpresse 10 eine Anordnung aufweist, in der die Druckplatte 5 um
den Plattenzylinder 11 herum gewickelt ist, ist die vorliegende Ausführungsform
hierauf nicht beschränkt.
Das bedeutet, dass es nicht notwendig ist zu erwähnen, dass eine andere Anordnung
auf eine solche Weise verwendet werden kann, dass die photosensitive Schicht 3,
die den Photokatalysator enthält,
direkt auf der Oberfläche
des Plattenzylinders 11 vorgesehen ist, d.h. dass der Plattenzylinder 11 und
die Druckplatte 5 gemeinsam aufgebaut sein können.
-
Im
Folgenden wird eine Beschreibung der Druckplatte, eines Verfahrens
zur Herstellung der Druckplatte sowie eines Verfahrens zur Regeneration
der Druckplatte angegeben. Insbesondere wird die Beschreibung auf
die Abfolge von Plattenherstellung und Plattenregeneration und deren
Vorteile zusammen mit konkreteren Beispielen, die von den Erfindern
der vorliegenden Erfindung bestätigt
wurden, fokussiert.
-
<Katalysator-Vorbereitung>
-
Titansulfat
als Rohmaterial (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) wurde vorbereitet
und dieses Agens wurde mit Ammoniumwasser durch Rühren der
Mischung hinzugegeben. Somit wurde eine Hydrolyse des Titansulfats
erhalten. Diese Hydrolyse wurde unter Verwendung eines Saugtrichters
gefiltert und durch Ionenaustauschwasser gereinigt, bis die gefilterte
Flüssigkeit
eine elektrische Leitfähigkeit ähnlich der
oder kleiner 2 μS/cm
aufwies. Nach dem Reinigen wurde die Hydrolyse bei Raumtemperatur getrocknet
und anschließend
für zwei
Stunden bei 400°C
in Atmosphäre
gebrannt. Das gebrannte Material wurde zum groben Korn in einem
Mörser
reduziert, um ein photokatalytisches Pulver zu erhalten.
-
<Bestätigung der
Aktivität
durch sichtbares Licht>
-
Das
oben beschriebenen photokatalytische Pulver wurde zu 0,2 g aufgenommen
und gleichmäßig auf
dem Boden eines zylindrischen Reaktionskessels (500 ml Volumen),
der aus Pyrex®-Glas
gefertigt war, gesprüht.
Dann wurde der Reaktionskessel evakuiert und die innere Luft wurde
durch hochreine Luft ersetzt. Danach wurde Aceton in den Kessel
hineingegossen, so dass dessen Konzentration innerhalb des Reaktionskessels
500 ppm wurde. Dann wurde das Pulver bei Raumtemperatur von 25°C an einem
dunklen Ort für
zehn Stunden belassen, bis die Adsorption des Pulvers ein Adsorptions-Gleichgewicht
erreichte. Danach wurde Licht (Hauptwellenlänge von 470 nm) auf das Pulver
unter Verwendung einer blauen LED, die von NICHIA Chemical Industry
gefertigt wurde, aufgestrahlt. Dann wurde die Menge an Aceton und
CO2 durch einen Gaschromatographen, hergestellt
von Shimadzu Corp., gemessen. Diese Messung ergab, dass kein Aceton
nach der Bestrahlung mittels blauer LED über 25 Stunden gefunden wurde
und dass anstelle dessen dieses Verschwinden von Aceton und die
Erzeugung von CO2dessen stöchiometrisches
Verhältnis mit
dem von Aceton korrespondiert, bestätigt wurde. Das bedeutet, dass
ausreichend bestätigt
wurde, dass das oben erwähnte
photokatalytische Pulver die photokatalytische Aktivität mit Licht
mit einer Wellenlänge
von 470 nm aufweist.
-
<Herstellung
der Druckplatte>
-
Bei
der Herstellung der Druckplatte, die nicht in den Schutzbereich
der anhängenden
Ansprüche fällt, wurde
das oben beschriebenen photokatalytische Pulver innerhalb eines
Ionenaustauschwassers verdünnt,
um einen Schlamm mit 20 Gew-% Feststoffkörperkomponente zu erhalten.
Dieser Schlamm wurde zu einem Pulver mittels einer Nassmühle (Handelsname:
DAINO mill PILOT) reduziert, um die photokatalytisch verdünnte Flüssigkeit
zu erhalten.
-
Ein
Substrat aus Edelstahlplatte (SUS 301) mit einem Bereich von 280 × 204 mm
und einer Dicke von 0,1 mm wurde vorbereitet und diese Platte wurde einer
Alkali-Entfettungsbearbeitung unterzogen, so dass das Substrat 1 erhalten
wurde.
-
Die
wie oben beschrieben photokatalytisch verdünnte Flüssigkeit wurde mit einem Titanoxid-Beschichtungsagens
TKC-301, hergestellt
von der TAYCA Corporation, bei einem Gewichtsprozentverhältnis von
1:8 vermischt und die daraus resultierende Flüssigkeit wurde auf das oben
erwähnte
Substrat 1 durch Eintauchbeschichtung beschichtet. Dieses Substrat
wurde auf eine Temperatur von 350°C
erhitzt, um so eine photosensitive Schicht 3 zu erzeugen,
die den Photokatalysator auf der Oberfläche der Basisplatte enthält. Die
Dicke der photosensitiven Schicht 3 betrug etwa 0,1 μm. Der Wasserkontaktwinkel
der Druckplattenoberfläche
wurde unter Verwendung eines Kontaktwinkelmessers des Typs CA-W,
hergestellt von Kyowa Kaimen Kagaku Co., Ltd., gemessen und ein
Kontaktwinkel von 8° wurde ermittelt.
Diese Messung bewies, dass eine ausreichende hydrophile Eigenschaft
erreicht wurde.
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<Herstellung
der Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit>
-
Zwei
Gramm einer organischen Mischung, Isopropoxytitan-Octylen-Glykol (hergestellt
von Nippon Soda Co., Ltd.) wurde in 98 g eines paraffinartigen Lösungsmittels
(Handelsname: Isoper L, ein Produkt von Exxon Mobile Co.) aufgelöst, um eine
Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit X zu erhalten.
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Die
Druckplatte, die die Hydrophilisierung aufweist, wurde auf einer
Desktop-Offset-Druckpresse "NEW
ACE PRO", hergestellt
von Alpha Techno Company, abgelegt, die oben erwähnte Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit
X wurde auf der Plattenoberfläche
unter Verwendung eines Sprühers aufbeschichtet
und die Platte wurde mittels eines Heißlufttrockners getrocknet.
Diese Druckplatte wurde einmal von der Druckpresse entfernt und
der Wasserkontaktwinkel der Oberfläche wurde durch den oben bereits
erwähnten
Kontaktwinkelmesser gemessen. Die Messung ergab, dass der Kontaktwinkel 75° betrug.
Diese Messung bewies, dass eine zufriedenstellende Eigenschaft erreicht
wurde, und es wurde bestätigt,
dass die oben bereits erwärmte
Druckplatte bei der Plattenherstellung in ihren Ursprungszustand
gebracht wurde.
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<Bildbeschreibung>
-
Im
Anschluss wurde eine Bildeinheit unter Verwendung eines Halbleiterlasers
mit einer Wellenlänge
von 405 nm, einer Ausgabeleistung von 5 mW/Kanal und einem Strahldurchmesser
von 15 μm aktiviert
für die
Plattenoberfläche,
um Halbtonbilder mit einer Druckelementrate, die von 10% bis 100% bei
einem Schritt von 10% variiert, aufzuschreiben. Der Wasserkontaktwinkel
der Druckplattenoberfläche
nach dem Abschluss des Beschreibungsschritts wurde durch oben bereits
erwähnten
Kontaktwinkelmesser gemessen. Es wurde bestätigt, dass der Kontaktwinkel
an einem Abschnitt, an dem ein Bild durch dem Halbleiterlaser aufgeschrieben
wurde, 8° betrug und
dieser Abschnitt wurde ein hydrophiler Nichtbildbereich, während der
Kontaktwinkel an einem Abschnitt, auf dem kein Bild beschrieben
war, 75° betrug,
und dieser Abschnitt wurde ein Bildbereich, der für seine
hydrophobe Beschaffenheit beibehielt.
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<Drucken>
-
Diese
Druckplatte wurde auf die oben bereits erwähnte Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO" aufgesetzt, das
Drucken wurde auf AIBESTO Papier mit einer Tinte HYECOOB Red MZ,
hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. ausgeführt, und
ein Befeuchtungswasser, eine 1%-ige Lösung aus LITHOFELLOW, hergestellt
von Mitsubishi Heavy Industries, Lt., wurde bei einer Druckgeschwindigkeit
von 3500 Bögen/Stunde
ausgeführt. Das
Halbtonbild wurde erfolgreich vom ersten Papierbogen, der zum Beginn
des Druckens zugeführt wurde,
aufgedruckt.
-
Nachdem
das Drucken abgeschlossen wurde, wurden die Tinte, das Befeuchtungswasser,
der Papierstaub und dergleichen, die an der Plattenoberfläche anhafteten,
sauber abgewischt. Dann wurde ein Infrarotlicht auf die gesamte
Oberfläche
der Platte unter Verwendung einer Halogenlampe aufgestrahlt, um
so die Plattenoberfläche
zu erhitzen. Zur gleichen Zeit wurde eine Niederdruck-Quecksilberlampe
dazu verwendet, ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von
254 nm und eine Belichtungs-Fluxdichte von 10 mW/cm2 aufzustrahlen.
Somit wurde der Bildbereich der Oberfläche der Druckplatte 5 zersetzt und
die Oberfläche
der Druckplatte 5 wurde hydrophilisiert, um das Bild zu
löschen.
Die Halogenlampe konnte unter Einstellung in der zugeführten Spannung
mit einem Slidax platziert werden, um so die Temperatur der Plattenoberfläche einzustellen.
Die Temperatur der Plattenoberfläche
wurde mittels eines Thermistors gemessen, um so die Menge an Bestrahlungsenergie
der oben erwähnten
ultravioletten Strahlen zu bestimmen, die dafür erforderlich war, dass ein
Bildbereich, der einen Kontaktwinkel von 75° aufwies, in eine hydrophile
Oberfläche
mit einem Kontaktwinkel von 10° oder
weniger zu überführen.
-
9 zeigt
die Beziehung zwischen der Hydrophilisierungsenergie (Bestrahlungsenergie
des ultravioletten Lichts), die für die Hydrophilisierung der Plattenoberfläche erforderlich
ist, und der Temperatur der Plattenoberfläche. Wenn die Temperatur der Plattenoberfläche auf
25°C eingestellt
wurde (die Halogenlampe war nicht angeschaltet), war eine Bestrahlungsenergie
des ultravioletten Lichts von 1,2 J/cm2 für die Hydrophilisierung erforderlich.
Wenn jedoch die Halogenlampe angeschaltet war, um die Plattenoberfläche zu erwärmen, wurde
die erforderliche Bestrahlungsenergie mit dem Anstieg der Temperatur
der Plattenoberfläche
abgesenkt. wenn deren Temperatur 50° erreichte, wurde die Bestrahlungsenergie
auf die halbe Menge von deren Energie abgesenkt. Wenn deren Temperatur
200°C erreichte, wurde
die Bestrahlungsenergie auf 0,1 J/cm2 abgesenkt.
Diese Energie korrespondiert mit der in 10 Sekunden Bestrahlung
einer Lampe mit einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm2 bereitgestellten
Energiemenge. Diese Tatsache lehrt uns, dass das oben erwähnte Bildlöschen 120
s ohne Wärmeaufbringungsbedingungen
erforderte, während
die gleiche Bildlöschung nur
zehn Sekunden unter der Bedingung erforderte, dass die Plattenoberfläche auf
bis zu 200°C
erhitzt wurde. Das bedeutet, dass bestätigt wurde, dass die Platteregeneration
schnell aufgrund der Wärmeaufbringung
auf die Plattenoberfläche
ausgeführt
werden kann. Es wurde bestätigt,
dass mit dem Hydrophilisierungsbearbeiten die Druckplatte den Status vor
der Aufbringung der organischen Mischung zurückgewonnen hat und die Plattenregeneration
somit erreicht wurde.
-
Wie
bereits oben beschrieben, kann dann, wenn die Plattenoberflächentemperatur
auf 50°C oder
höher ansteigt,
die Bestrahlungsenergie offensichtlich verringert werden. Im Gegensatz
hierzu wird dann, wenn die Plattenoberflächentemperatur stark erhöht wird
(auf etwa 200°C
oder mehr), die Plattenoberfläche
negativ in ihren physikalischen Eigenschaften beeinflusst. Dementsprechend
wird bevorzugt, dass die Plattenoberfläche (Oberfläche der photosensitiven Schicht 3)
auf eine Temperatur im Bereich von 50°C bis 200°C erwärmt wird.
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[2] Zweite Ausführungsform
-
Die 10 und 11 sind
Diagramme, die jeweils die Druckplatte (Schichtaufbau) gemäß einer zweiten Ausführungsform
zeigen. 10 ist eine Querschnittsansicht,
die einen Fall zeigt, in dem die Druckplattenoberfläche eine
hydrophobe Eigenschaft aufweist, während 11 eine
Querschnittsansicht eines Falls ist, in dem die Druckplattenoberfläche eine
hydrophile Eigenschaft aufweist.
-
Wie
in 10 gezeigt, ist eine Druckplatte 35 im
Wesentlichen aus dem Substrat 1, der Zwischenschicht 2,
der photosensitiven Schicht 3 sowie einer thermoplastischen
Schicht 34 aus geschmolzenem Kunststoff, ausgebildet durch
Erwärmen
und Schmelzen von feinen Kunststoffpartikeln, zusammengesetzt. Die
Druckplatte 35 wird manchmal der Einfachheit halber als
Druckplatte bezeichnet. Ebenso kann, wenn die Druckplatte einen
Bildbereich für das
Drucken auf deren Oberfläche
ausgebildet hat, diese Druckplatte als Platte bezeichnet werden.
-
Das
Substrat 1, die Zwischenschicht 2 und die photosensitive
Schicht 3 sind ähnlich
denen, die in der Beschreibung der ersten Ausführungsform beschrieben wurden,
und werden somit nicht weiter erläutert. Daher wird die nachfolgende
Beschreibung sich auf die Unterschiede zur ersten Ausführungsform
beschränken.
-
Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist die Mischung (Typ B), die in der Ausführungsform
verwendet wurde, anders als die organische Mischung (Typ A), die
zur Beschichtung der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 gemäß der ersten Ausführungsform
verwendet wurde.
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Die
thermoplastische Schicht 34 aus geschmolzenem Kunststoff
wird auf eine solche Weise ausgebildet, dass die oben bereits erwähnte organische
Mischung des Typs B auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 beschichtet
wird und einer Wärmebehandlung
unterzogen wird.
-
Die
organische Mischung (Typ B) ist ein thermoplastischer Kunststoff.
Ein Verfahren zur Beschichtung der organischen Mischung ist so,
dass feine Partikel dieses Kunststoffs in einer Flüssigkeit
wie etwa Wasser oder einem organischen Lösungsmittel verdünnt werden
und diese verdünnte
Flüssigkeit
auf die Plattenoberfläche
aufgeschichtet wird. Nach der Beschichtung der die thermoplastischen
Kunststoffpartikel enthaltenden Flüssigkeit auf der Plattenoberfläche wird
die Flüssigkeit
mittels Luftventilation oder dergleichen abhängig von der entsprechenden
Notwendigkeit getrocknet. Danach werden dann, wenn eine Wärme auf
eine Region aufgebracht ist, die in einem hydrophoben Bildbereich überführt werden
soll, die feinen Kunststoffpartikel durch Wärme aufgeschmolzen und in einem
filmähnlichen
Bogen ausgebildet. Somit wird der filmähnliche Bogen in Reaktion und/oder
Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 auf deren
Oberfläche
gebracht, um hierauf fixiert zu werden, mit dem Ergebnis, dass der
filmähnliche
Bogen als hydrophober Bildbereich dient.
-
Als
Verfahren zur Wärmeaufbringung
kann ähnlich
zum oben bereits erwähnten
Fall jedes Verfahren in geeigneter Weise aus den nachfolgenden ausgewählt werden:
Bestrahlung mit Inaktivierungslicht, thermischer Kopf und dergleichen.
Es wird jedoch bevorzugt, den Weg der Wärmebehandlung durch Bestrahlung
mit Inaktivierungslicht auszuwählen.
Noch bevorzugter ist eine Bildbeschreibung mit einem Infrarotlicht
wünschenswert.
In einer derartigen Art Licht wird das Licht für die Bestrahlung ausgewählt, die
organische Mischung wird ohne Zersetzung aufgeschmolzen. Darüber hinaus
wird die organische Mischung in einem filmähnlichen Bogen ausgebildet
und in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 gebracht,
um auf der Schicht anzuhaften.
-
In
der nachfolgend angegebenen beschrieben bedeuten die Begriffe "feine Partikel des
thermoplastischen Kunststoffs feine Partikel aus thermoplastischem
Kunststoff, die sowohl eine solche Eigenschaft aufweisen, dass die
Partikel aufgrund der Wärmebehandlung
in einem filmähnlichen
Bogen ausgebildet sind, aufgeschmolzen und in Reaktion und/oder
Interaktion mit der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 gebracht werden oder auf
der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 fixiert werden, wodurch die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert wird, und
eine Eigenschaft, dass die Partikel in Reaktion auf Aktivierungslicht
mit der Aktion des Photokatalysators zersetzt werden". Darüber hinaus
können
in der vorliegenden Erfindung die feinen thermoplastischen Kunststoffpartikel manchmal
als "Bildelement" gekennzeichnet werden.
-
In
diesem Fall wird der Begriff Reaktion und/oder Fixierungsmittel,
dass der filmähnliche
Bogen mit Wärme
aufgebracht und so aufgeschmolzen wird, dass der Bogen im engen
Kontakt mit der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 mit einer gewissen Festigkeit
gebracht wird, die groß genug
ist, den engen Kontakt mit der Oberfläche auch dann aufrecht zu erhalten,
wenn die Oberfläche
der Druckplatte 35 dem Druckprozess unterzogen wird. Darüber hinaus
beinhaltet der Sinn des Begriffs Reaktion und/oder Fixierung sämtliche
Fälle des
engen Kontakts zwischen dem filmähnlichen
Bogen und der photosensitiven Schicht unabhängig ob irgendeine chemische
Reaktion zwischen diesen auftritt oder nicht und unabhängig davon,
ob die Bindung eine physikalische Bindung oder eine chemische Bindung ist
oder nicht.
-
Der
Durchmesser der feinen Partikel des thermoplastischen Kunststoffs
kann vorzugsweise 5 μm
oder weniger als Primärpartikel
und noch bevorzugter 1 μm
oder weniger betragen. Wenn der Durchmesser des Partikels exzessiv
groß ist,
wird ein durch Wärmeaufbringung
und Aufschmelzen ausgebildeter Film, d.h. der Bildbereich eine exzessive
Dicke aufweisen, mit dem Ergebnis, dass es zu viel Zeit beansprucht,
den Bildbereich im Regenerationsschritt zu zersetzen, wobei diese
Tatsache die Regeneration unpraktikabel macht.
-
Darüber hinaus
weisen die feinen thermoplastischen Kunststoffpartikel wünschenswerter
Weise eine solche Eigenschaft auf, die im Wesentlichen die oben
erwähnte
Reaktion oder Fixierung unter Raumtemperatur unterbindet, zusätzlich zu
einer Eigenschaft, dass die Partikel in einem filmähnlichen Bogen
aufgrund der Wärmebehandlung
ausgebildet werden, aufgeschmolzen und in chemischer Reaktion mit
dem hydrophilen Bereich der Oberfläche der Druckplatte 35 gebracht
oder stark auf der Oberfläche
der Druckplatte 35 fixiert werden, wodurch die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert wird.
-
Verschiedene
Arten von Kunststoffen sind als thermoplastischer Kunststoff bekannt.
Als Hydrophobisierungs-Agens
zur Verwendung in der Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung
wird jedoch gewünscht,
einen Kunststoff auszuwählen,
der es möglich
macht, Partikel mit dem oben erwähnten Durchmesser
der feinen Partikel auszubilden. Bevorzugte Kunststoffe beinhalten
ein Acrylharz wie etwa Acryl(Methacryl)-Säure und Acryl(Methacryl)-Ester, Styren-Harz,
Styren-Acryl-Harz wie etwa Styrenacrylsäure und Styrenacrylester, Urethan-Harz, Phenolharz,
Ethylen-Harz wie etwa Ethylen, Ethylen-Acrylsäure, Ethylen-Acrylester, Vinylethyl-Acetat, naturisiertes
Vinyl-Ethylen-Acetat, Vinyl-Harz
wie etwa Vinyl-Acetat, Vinyl-Propionat, Polyvinyl-Alkohol, Polyvinyl-Ether.
-
Es
muss nicht erwähnt
werden, dass einer dieser Kunststoffe allein verwendet werden kann oder
eine Vielzahl dieser Kunststoffe miteinander abhängig von der Notwendigkeit
und der daraus resultierenden Mischung verwendet werden können. Es wird
angemerkt, dass diese Harze einen Vorteil dahingehend aufweisen,
dass die keine schädliche Komponente
wie etwa eine Chlormischung bei der Zersetzung erzeugen. Darüber hinaus
ist es nicht notwendig zu erwähnen,
dass die Flüssigkeit,
die die thermoplastischen Kunststoffpartikel enthält, eine
sogenannte Emulsion oder Latex enthalten.
-
Im
Anschluss wird eine Beschreibung in Bezug auf das Verfahren zur
Herstellung der planographen Druckplatte und eines Verfahrens zur
Regeneration der gleichen angegeben. Wie in 13 gezeigt,
wird ein Strom der Herstellung der Platte und deren Regeneration
gemäß der vorliegenden
Ausführungsform
aus einem Aufbringungsschritt für
das Bildbereichsmaterial (Aufbringungsschritt für die organische Mischung)
(S300), einem Bildaufschreibschritt (S310), einem Druckschritt (S320),
einem Tintenentfernungsschritt (S330), einem Bildlöschschritt (S340)
bestehen.
-
Zu
Beginn wird das Verfahren zur Herstellung der Druckplatte beschrieben
werden.
-
In
der nachfolgend angegebenen Beschreibung bedeutet der Begriff "Herstellung einer
Platte" eine Reihe
von Schritten, bei denen eine feine Kunststoffpartikel enthaltende
Flüssigkeit
(organische Mischung) auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufbeschichtet
wird und anschließend
zumindest ein Teil der Oberfläche
der Druckplatte 35 einer Wärmebehandlung basierend auf
den digitalen Daten unterzogen wird, um einen hydrophoben Bildbereich
auszubilden, eine Kunststoffpartikel auf der Oberfläche der
Druckplatte, die keiner Wärmebehandlung
? unterzogen wurden, entfernt werden, um die hydrophile photosensitive
Schicht 3 freizulegen, und dass ein latentes Bild dort
ausgebildet wird, das aus dem hydrophoben Bildbereich und dem hydrophilen
Nichtbildbereich auf der Oberfläche
der Druckplatte 35 besteht.
-
Anfangs
wird, wie dies in Schritt (a) in 12 gezeigt
ist, die die organische Mischung (feine Kunststoffpartikel) enthaltende
Flüssigkeit,
die das Bildbereichsmaterial darstellen soll, auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgebracht,
welche vollständig
im vorhergehenden Schritt (Bildlöschungsschritt
(Schritt S340)) hydrophilisiert wurde. Die beschichtete Oberfläche kann
in einer Atmosphäre
von etwa Raumtemperatur getrocknet werden, wenn erforderlich.
-
Darüber hinaus
wird der Zustand der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 als "Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung" bezeichnet. Dieser "Anfangszustand der
Druckplatten-Herstellung" kann
als Zeitpunkt betrachtet werden, bei dem der Schritt des Bedruckens
tatsächlich
beginnt. Konkreter kann dieser Zustand als ein solcher betrachtet werden,
bei dem die ein beliebiges Bild betreffenden digitalen Daten bereits
vorbereitet sind und die Daten auf der Druckplatte 35 aufgeschrieben
werden sollen.
-
Danach
wird, wie dies im Schritt (b) aus 12 gezeigt
wird, als Schritt der Bildbeschreibung (Schritt S310) ein Bild auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgeschrieben.
-
Diese
Bildbeschreibung wird auf eine solche Weise ausgeführt, dass
auf Basis der das Bild betreffenden digitalen Daten der Bildbereich
auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 so aufgeschrieben wird, dass
er mit deren Daten korrespondiert. Auf diese Weise wird die Bildbeschreibung
ausgeführt.
In diesem Fall ist, wie dies in 10 gezeigt
ist, der Bildbereich ein hydrophober Bereich, auf dem der Kontaktwinkel
des Wassers 6 gleich oder größer 50° ist, oder noch bevorzugter
der Kontaktwinkel gleich oder größer 80° ist. Somit
ist es für
die hydrophobe Tinte für
das Drucken leicht, daran anzuhaften, während es für das Befeuchtungswasser schwer
ist, hierdurch aufgenommen zu werden.
-
Wie
oben bereits beschrieben, ist ein Verfahren zur Herstellung des
hydrophoben Bildbereichs basierend auf den Bilddaten ein solches,
bei dem die Schritt aus feinen Kunststoffpartikeln so erwärmt wird,
dass die feinen Kunststoffpartikel aufgeschmolzen werden und die
feinen Kunststoffpartikel derart in einen filmähnlichen Bogen auf der Oberfläche der photosensitiven
Schicht 3 ausgebildet werden, und zur gleichen Zeit der
filmähnliche
Bogen in Reaktion mit der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 gebracht wird oder auf der
gleichen fixiert wird. Nachdem der Bildbereich erwärmt wurde,
werden diejenigen feinen Kunststoffpartikel auf einem Abschnitt,
der nicht mit Wärme
beaufschlagt wurde, entfernt. Somit kann der Nichtbildbereich auf
der Oberfläche
infolgedessen erzeugt werden und die Platte kann hergestellt werden.
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Das
Verfahren für
die oben beschriebene Wärmeaufbringung
kann ähnlich
zu dem oben beschriebenen Fall ein Inaktivierungslicht, beispielsweise
ein Infrarotlicht, vorzugsweise für die Bestrahlung und die Wärmebehandlung
ausgewählt
werden.
-
In
diesem Fall wird, wie dies beim Schritt (b) in 12 gezeigt wird, das Infrarotlicht unter Verwendung
eines Infrarotstrahlen-Schreibkopfs so aufgestrahlt, dass zumindest
ein Teil der feinen Kunststoffpartikelmasse erhitzt und aufgeschmolzen
wird, um einen filmähnlichen
Bogen auszubilden und in Reaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gebracht
wird oder auf der gleichen fixiert wird. Somit kann der Bildbereich
ausgebildet werden.
-
Nachdem
der Bildbereich ausgebildet wurde, werden, wie dies beim Schritt
(c) in 12 gezeigt ist, die feinen
Kunststoffpartikel auf einem Abschnitt der Oberfläche der
Plattenoberfläche 35,
auf dem keine Bildbeschreibung ausgeführt wurde, in der Stufe direkt
nach dem Start des Druckens von der Oberfläche durch Tintenanhaftung und/oder
die Reinigungsaktion des Befeuchtungswassers entfernt. Somit erscheint
der Nichtbildbereich. Auf diese Weise kann, wie dies beim Schritt
(c) in 12 gezeigt wird, der Bildbereich
und der Nichtbildbereich vollständig auf
der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet werden und der
Druckbetrieb kann ausgeführt
werden.
-
Während in
dem Beispiel eine Beschreibung über
die Anordnung angegeben wurde, in der der Bildbereich durch Infrarotlicht
beschrieben wurde, ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass eine andere Anordnung
verwendet werden kann, wie etwa die direkte Wärmeaufbringung auf die Beschichtungsoberfläche der
feinen Kunststoffpartikel mit beispielsweise einem Thermokopf.
-
Wenn
die oben beschriebene Bearbeitung abgeschlossen wurde, wird im bei
Schritt (c) in 12 gezeigten Druckschritt (Schritt
S320), die Druckplatte 35 auf deren Oberfläche mit
dem Befeuchtungswasser und einer sogenannte Emulsionstinte als Mischung
der hydrophoben Tinte und des Befeuchtungswassers beschichtet. Somit
wurde beispielsweise die in 14 gezeigte
Druckplatte hergestellt.
-
14 zeigt einen Zustand der Druckplatte mit einem
gepunktet unterlegten Abschnitt. Dieser gepunktet unterlegte Abschnitt
kennzeichnet die thermoplastische Kunststoffschmelzschicht 34 oder den
hydrophoben Bildbereich, der aus einer Reihe von Prozessen herrührt, in
denen Wärme
auf die feinen Kunststoffpartikel aufgebracht wird, um diese aufzuschmelzen,
um so einen filmähnlichen
Bogen auszubilden, wobei die Schicht in Reaktion mit der Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3, die den Photokatalysator enthält, gebracht
wird oder darauf fixiert wird, und die hydrophobe Tinte daran anhaftet. Der
verbleibende weiße
Abschnitt (Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3), d.h. der hydrophile Nichtbildbereich 3a wird
in einen Zustand gebracht, in dem das Befeuchtungswasser daran mit
Vorrang anhaftet und die hydrophobe Tinte abgewiesen und daran gehindert
wird, daran anzuhaften. Auf diese Weise wird das Bild (Bildmuster)
erzeugt und die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 bekommt ihre Funktion als Druckplatte 35 verliehen.
Danach wird das Drucken ausgeführt
und das Drucken wird abgeschlossen.
-
Ein
Verfahren zur Regeneration der Druckplatte, das in den Schutzbereich
der anhängenden Ansprüche fällt, wird
im Anschluss beschrieben werden.
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In
der nachfolgend angegebenen Beschreibung bedeutet der Begriff "Regeneration einer
Platte" eine Reihe
von Prozessen inklusive eines Prozesses zur vollständigen und
gleichmäßigen Hydrophilisierung
einer Druckplatte, die zumindest teilweise eine Oberfläche aufweist,
die eine hydrophobe Eigenschaft und eine hydrophile Eigenschaft
am verbleibenden Bereich aufweist, danach die die feinen Kunststoffpartikel
enthaltende Flüssigkeit
als organische Mischung auf der hydrophilen Oberfläche der Druckplatte
aufzubeschichten und die Oberfläche
der Druckplatte in einer Atmosphäre
von etwa Raumtemperatur abhängt
von dem Erfordernis zu trocknen, um hierdurch den "Ursprungszustand
der Druckplattenherstellung" wiederzugewinnen.
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Im
Prozess der "Plattenregeneration" wird im Tintenentfernungsschritt
(Schritt S330), der beim Schritt (d) in 12 gezeigt
ist, die Tinte, das Befeuchtungswasser, Papierstaub und dergleichen,
die an der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 nach dem Durchführen des
Druckprozesses anhafteten, entfernt.
-
Danach
wird im Bildlöschschritt
(Schritt S340), der bei Schritt (e) in 12 gezeigt
wird, ein Aktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als die
Bandspaltenergie des Photokatalysators auf die gesamte Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, von der zumindest
ein Teil eine hydrophobe Eigenschaft aufweist, und zur gleichen
Zeit wird die gesamte Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 erhitzt. Da das Aktivierungslicht
auf die gesamte Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, sind die
feinen Kunststoffpartikel aufgeschmolzen und der Bildbereich 34,
der aus den feinen Kunststoffpartikeln zusammengesetzt ist, wird zersetzt
und entfernt. Auf diese Weise wird es möglich, die gesamte Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 zu hydrophilisieren, so dass
die Oberfläche einen
Kontaktwinkel des Wassers 6 von 10° oder weniger zeigt, d.h. dass
die Oberfläche
in den in 11 gezeigten Zustand überführt wird.
-
Im
dargestellten Beispiel zersetzt ultraviolettes Licht, das von einer
UV-Lampe emittiert wird, wie dies in 12(e) gezeigt
wird, den Bildbereich, um den hydrophilen Abschnitt der photosensitiven Schicht 3 freizulegen.
-
Zu
diesem Zeitpunkt ist eines der Merkmale der vorliegenden Erfindung,
dass dann, wenn das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, die Oberfläche der photosensitiven
Schicht 3 gleichzeitig erhitzt wird. In anderen Worten
kann dann, wenn die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 unter Aktivierungslicht-Bestrahlung
erhitzt wird, die Reaktion der Zersetzung der organischen Mischung
auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 beschleunigt werden, was zum
Ergebnis hat, dass das Bild auf der Platte über eine kurze Zeitdauer gelöscht werden
kann.
-
In
diesem Beispiel wird, wie dies im Schritt (e) aus 12 gezeigt wird, das Aktivierungslicht auf die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 unter Verwendung einer ultravioletten
(UV) Lampe aufgestrahlt und zur gleichen Zeit wir ein Aktivierungslicht auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, um dieselbe
zu erhitzen. Das Licht für
die Wärmeaufbringung
ist vorzugsweise ein Infrarotlicht vom Standpunkt der Aufheizungseffizienz,
wie dies beim Schritt (e) aus 12 gezeigt
ist.
-
Ein
anderes Verfahren für
die Wärmeaufbringung
kann die Aufblasung heißer
Luft sein, welche in der Lage ist, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 zu
erhitzen.
-
Nachdem
der Bildlöschschritt
(Schritt S340) ausgeführt
wurde, wird die die feine Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit
wiederum auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3, die vollständig ihre
hydrophile Eigenschaft wiedergewonnen hat, aufgeschichtet und die
Oberfläche
der photosensitiven Schicht wird in einer Atmosphäre von etwa Raumtemperatur
abhängig
von den Erfordernissen getrocknet. Somit kann der Ursprungszustand
der Plattenherstellung wiederhergestellt werden.
-
5 ist
ein Graph, der insgesamt darstellt, was oben beschrieben wurde.
In dem Graph aus 15 wird die Zeit (oer der Betrieb)
an der Abszisse abgetragen, während
der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der
Druckplatte 35 an der Ordinate abgetragen ist. Daher illustriert
dieser Graph, wie der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 mit dem Zeitablauf oder dem Betrieb
in Bezug auf die Druckplatte 35 gemäß der vorliegenden Erfindung
variiert. In 15 stellt die gepunktete Linie
die Variation des Kontaktwinkels des Nichtbildbereichs dar, die
unterbrochene Linie (gestrichelte Linie, die an den Startpunkten
a und a' beginnt)
die Variation des Kontaktwinkels auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gemeinsam
mit Bildbereich und Nichtbildbereich, und die durchgezogene Linie
die Variation des Kontaktwinkels des Bildbereichs.
-
Anfänglich wird
das ultraviolette Licht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 vorab
aufgestrahlt, so dass die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 in einen hochgradig hydrophilen
Zustand überführt wird,
so dass der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder kleiner
10° ist.
-
Anfangs
wird, wie dies im Aufbringungsschritt für das Bildbereichsmaterial
(Schritt S300) (Schritt S bei A in 15 gezeigt)
der Fall ist, die photosensitive Schicht 3 auf deren Oberfläche mit der
die feinen Kunststoffpartikel (organische Mischung) enthaltenen
Flüssigkeit
beschichtet (Zeitpunkt, gezeigt bei (a) in 15).
Danach wird die photosensitive Schicht 3 in einer Atmosphäre von etwa
Raumtemperatur falls notwendig getrocknet. 12 zeigt
einen Fall, in dem dieser Trocknungsschritt nicht erforderlich ist.
Wenn die photosensitive Schicht vollständig mit der die feinen Kunststoffpartikel
enthaltenen Flüssigkeit
beschichtet wurde, wird die Druckplatte in den "Ursprungszustand der Plattenherstellung" gebracht (Zeitpunkt,
gezeigt bei (b) in 15).
-
Danach
wird, wie im Bildbeschreibungsschritt (Schritt S310) (Bildbereichs-Beschreibungsschritt,
d.h., der bei B in 15 gezeigte Schritt), eine
Wärmebehandlung
auf einem Bereich ausgeführt,
der Bildbereich der Beschichtungsoberfläche mit feinen Kunststoffpartikeln
auf der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 korrespondiert, so dass die Bildbereichsbeschreibung
begonnen wird (Zeitpunkt, gezeigt bei (b) in 15).
Mit dieser Behandlung werden die feinen Kunststoffpartikel aufgeheizt
und aufgeschmolzen, um in einem filmähnlichen Bogen ausgebildet
zu werden, Reagieren mit der photosensitiven Schicht 3 oder
werden auf der gleichen fixiert, und der Bildbereich wird eine hochgradig
hydrophobe Eigenschaft aufweisen. Auf der anderen Seite kann der
Nichtbildbereich der Plattenoberfläche im Wesentlichen von der
Reaktion und/oder dem Anhaften der feinen Kunststoffpartikel abgehalten
werden und somit verbleibt dieser Bereich in einem Zustand, der
mit dem übereinstimmt,
bevor die Bildbeschreibung ausgeführt wurde.
-
Wenn
die Bildbeschreibung abgeschlossen ist, wird, wie im Entfernungsschritt
des Nichtbildbereichs (Schritt, gezeigt bei C in 15) in einem Zustand direkt nach dem Abschluss des
Druckens der Entfernungsbetrieb zur Entfernung der feinen Kunststoffpartikel
auf den Nichtbildbereich von der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgrund
der Adhäsionskraft
der Tinte und/oder des Reinigungseffekts des Feuchtigkeitswassers
(Zeitpunkt, gezeigt bei (c) in 15)
begonnen. Das bedeutet, dass ein Bereich der hydrophilen Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 als Nichtbildbereich frei liegt.
Somit wird die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 zu einem hydrophoben Bildbereich,
der durch Aufschmelzen der feinen Kunststoffpartikel ausgebildet wird,
um einen filmähnlichen
Kunststoff auszubilden und durch Reaktion oder Fixierung mit der
Oberfläche
und dem hydrophilen Nichtbildbereich, von dem die feinen Kunststoffpartikel
entfernt wurden. Somit kann die Druckplatte als Platte agieren.
-
Nachdem
die feinen Kunststoffpartikel vollständig von dem Nichtbildbereich
entfernt wurden, wie im Druckschritt (Schritt S320) (Schritt S,
gezeigte bei D in 15), wird das Drucken gestartet
(Zeitpunkt, gezeigte bei (d) in 15).
-
Wenn
das Drucken abgeschlossen wurde, wie im Tintenentfernungsschritt
(Schritt S330) (Schritt bei E in 15 gezeigt),
werden Tinte, Staub und dergleichen entfernt und eine Reinigung
wird begonnen (Zeitpunkt, gezeigt bei (e) in 15).
-
Nachdem
die Reinigung abgeschlossen wurde, d.h. die Tintenreinigung abgeschlossen
wurde, wird wie in dem Bildlöschschritt
(Schritt S340) (Schritt, bei F in 15 gezeigt)
das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt
und zur gleichen Zeit die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 erwärmt. Auf diese Weise kann der
durch Aufschmelzen der feinen Kunststoffpartikel ausgebildete Bildbereich
schnell zersetzt und entfernt werden und der Photokatalysator kann
von hydrophob zu hydrophil umgewandelt werden. Somit nimmt die gesamte
Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 wieder ihre hydrophile Eigenschaft
an. Aufgrund des Bildlöschschritts
(Schritt S340) kann das Bild auf der Platte vollständig entfernt
werden.
-
Danach
können
wie im nachfolgenden Aufbringungsschritt für das Bildbereichsmaterial
(Schritt S300) (Schritt bei A in 15 gezeigt)
die feine Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit aufgeschichtet werden
(Zeitpunkt, gezeigte bei (a')
in 15) und der "Ursprungszustand
der Plattenherstellung" kann
wiedererlangt werden. Somit kann die Druckplatte wieder verwendet
werden.
-
Wenn
das oben beschriebene Drucken und die Platten-Regeneration auf der Druckpresse ausgeführt wurden,
wird bevorzugt, die in 8 gezeigte Druckpresse 10 zu
verwenden, die in der Beschreibung der ersten Ausführungsform
erläutert
wurde. Die zweite Ausführungsform
verwendet jedoch die feine thermoplastische Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit
(organische Mischung Typ B), die sich von der organischen Mischung
gemäß der ersten Ausführungsform
unterscheidet. Daher soll die in 8 gezeigte
Anbringungseinheit für
die organische Mischung (Hydrophobisierungseinheit für die Plattenoberfläche) 14 anders
als sie Aufbringungseinheit für
die organische Mischung zum Aufbringen der organischen Mischung
(Typ A) gemäß der ersten Ausführungsform
angeordnet sein. Das bedeutet, dass es nicht notwendig ist zu erwähnen, dass
die Einheit so angeordnet wird, dass sie die thermoplastischen Kunststoffpartikel
zuführt,
d.h. die die organische Mischung (Typ B) enthaltende Flüssigkeit.
Darüber
hinaus wird die Bildeinheit so angeordnet, dass sie ein Infrarotlicht
auf die Oberfläche
der Druckplatte 35 aufstrahlt.
-
Im
Anschluss werden die Druckplatte und das Verfahren zur Herstellung
der Druckplatte beschrieben werden. Zusätzlich wird das Verfahren zur Regeneration
der Druckplatte gemäß einer
zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung beschrieben. Insbesondere wird diese
Beschreibung auf die Abfolge und die Vorteile der Druckplatten-Herstellung
und die Druckplatten-Regeneration durch Zitierung konkreter Beispiele,
die von den Erfindern bestätigt
wurden, fokussiert.
-
<Druckplatten-Herstellung>
-
Anfangs
wurde ein Substrat, gefertigt aus einer Edelstahlplatte (SUS 304)
mit einem Bereich von 280 × 204
mm und einer Dicke von 0,1 mm vorbereitet. Anschließend wurde
dieses Substrat 1 einer anodischen Oxidationsbehandlung
und einer Schwärzung
unterzogen. Aufgrund dieser Behandlungen wurden Verbesserungen in
dem Absorptionsverhältnis
für Infrarotlicht
von 830 nm von 30% vor der Ausführung
der Behandlungen zu 90% nach der Schwärzungsbehandlung bestätigt. Dieses
SUS-Substrat 1, das der Schwärzung unterzogen worden ist,
wurde einer alkalischen Entfettungsbehandlung unterzogen und als
Substrat 1 verwendet.
-
Anschließend wurde
eine Feststoffkomponente von 5 Gew-% enthaltendem Siliziumdioxid-Sol auf
dem Substrat 1 eintauchbeschichtet und anschließend wurde
die Basisplatte einer Wärmebehandlung
für 30
Minuten bei 500°C
unterzogen. Somit wurde eine Zwischenschicht 2 mit einer
Dicke von 0,07 μm
ausgebildet.
-
Ein
als Photokatalysator verwendetes Sol TKS-203 wurde mit einem Titanoxid-Beschichtungsagens
TKC-301, hergestellt von TAYCA Corporation bei einem Gewichtsprozentverhältnis von
1:4 vermischt und die daraus resultierende Flüssigkeit wurde auf der Oberfläche der
vorab erwähnten
Zwischenschicht 2 durch Eintauchbeschichtung aufgeschichtet.
Die daraus resultierende Platte wurde einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur
von 500°C
unterzogen, so dass die einen Anatas-Titandioxid- Photokatalysator enthaltende photosensitive Schicht 3 auf
der Druckplattenoberfläche
ausgebildet wurde. Die Dicke der photosensitiven Schicht 3 wurde
auf etwa 0,1 μm
eingestellt.
-
Dann
wurde die Platte auf ihrer gesamten Oberfläche einer Bestrahlung mit ultraviolettem
Licht mit einer Wellenlänge
von 244 nm und einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm2 unter
Verwendung einer Niederdruck-Quecksilberlampe für zehn Sekunden unterzogen.
Danach wurde eine Messung direkt auf dem mit ultravioletten Licht
bestrahlten Abschnitt in Bezug auf den Wasserkontaktwinkel unter
Verwendung eines CA-W-artigen Kontaktwinkelmessers ausgeführt. Die
Messung ergab, dass der Abschnitt einen Kontaktwinkel von 7° aufwies.
Diese Messung bewies, dass eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft
im Nichtbildbereich erreicht wurde.
-
<Herstellung
einer Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit>
-
Im
Anschluss wurde ein Styrenalcryl-Harz (Handelsname: J-678), hergestellt
von Johnson Polymer, als organische Mischung verwendet und diese Mischung
wurde in Ethanol aufgelöst,
um ein Kunststofflösungsmittel
mit einer Konzentration von 1 Gew-% herzustellen. Als oberflächenaktiver
Stoff wurde Ionet T-60-C (hergestellt von Sanyo Kasei) zu der Kunststofflösung bei
einer Rate von 10 Gew-% in Bezug auf den Harz zugegeben. Danach
wurde ein Ionenaustauschwasser (Kühlwasser) zu der Harzlösung bei
einer Rate von 40 Gewichtseinheiten in Bezug auf 70 Gewichtseinheiten
der Kunststofflösung zugegeben.
Somit wurden die feinen Kunststoffpartikel separiert. Danach wurde
ein Verdampfer zur Evakuierung von Ethanol bei einer Flüssigkeitstemperatur
von 40°C
verwendet und die wasserverdünnte Flüssigkeit
der feinen thermoplastischen Kunststoffpartikel wurde vorbereitet.
Diese mit Wasser verdünnte
Flüssigkeit
wurde als Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit
Y verwendet. Eine Beobachtung mit einem Elektrodenrastermikroskop
der Kunststoffpartikel ergab, dass die Partikel eine Kugelform aufwiesen
und deren Durchmesser im Bereich von 0,07 bis 0,1 μm lag.
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<Bildbeschreibung>
-
Das
oben bereits erwähnte
Hydrophobisierungsagens wurde auf der gesamten Oberfläche der Druckplatte,
die aufgrund der ultravioletten Licht-Bestrahlung eine hydrophile
Eigenschaft aufwies, aufgebracht. Danach wurde die Druckplatte in
einer belüfteten
Atmosphäre
bei einer Temperatur von 25°C für fünf Minuten
getrocknet und anschließend
wurde eine Bildeinheit 13 unter Verwendung eines Infrarotstrahlenlasers
mit einer Wellenlänge
von 830 nm, einer Ausgabeleistung von 100 mW und einem Strahldurchmesser
von 15 μm
für die
Plattenoberfläche
aktiviert, um Halbtonbilder mit einer Druckelementrate aufzuschreiben,
die beim Schritt von 10% von 10% bis 100% variierte. Somit wurden
die Kunststoffpartikel erhitzt und am bestrahlten Abschnitt aufgeschmolzen
und der Kunststoff wurde auf der Plattenoberfläche fixiert, um eine geschmolzene Schicht 34 aus
thermoplastischem Kunststoff auszubilden. Der Wasserkontaktwinkel
an dem Abschnitt, auf dem die feinen Kunststoffpartikel fixiert
waren, wurde mittels des oben bereits erwähnten CA-W-Kontaktwinkel-Messers
gemessen. Diese Messung ergab, dass der Wasserkontaktwinkel an diesem
Abschnitt 82° betrug
und es wurde bestätigt, dass
ein Bildbereich ausgebildet wurde.
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<Drucken>
-
Diese
Druckplatte wurde auf der oben erwähnten Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von
Alpha Techno Company, abgesetzt, das Drucken wurde auf AIBESTO-Papier mit einer
Tinte HYECOOB Red Mz, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co.,
Ltd. und Feuchtigkeitswasser, einer 1%-igen Lösung aus LITHOFELLOW, hergestellt
von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., bei einer Druckgeschwindigkeit
von 3500 Bögen/Stunde durchgeführt. Es
wurde bestätigt,
dass das Halbtonbild erfolgreich auf einem Papierbogen aufgedruckt waren.
-
<Regeneration
der Druckplatte>
-
Nachdem
das Drucken abgeschlossen wurde, wurden Tinte, Feuchtigkeitswasser,
Papierstaub und dergleichen, die auf der Plattenoberfläche anhafteten,
sauber abgewischt. Dann wurde ein Infrarotlicht auf die gesamte
Oberfläche
der Platte unter Verwendung einer Halogenlampe aufgestrahlt, um
so die Plattenoberfläche
zu erhitzen. Zu diesem Zeitpunkt wurde eine Niederdruck-Quecksilberlampe dazu
verwendet, ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von
254 nm und einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm2 aufzustrahlen.
Somit wurde der Bildbereich der Oberfläche der Druckplatte 5 zersetzt
und die Oberfläche
der Druckplatte 5 wurde hydrophilisiert, um das Bild zu
löschen.
Die Halogenlampe könnte unter
Einstellung der angelegten Spannung mit einem Slidax so platziert
werden, das die Temperatur der Plattenoberfläche eingestellt wird. Die Temperatur
der Plattenoberfläche
wurde mittels eines Thermistors so gemessen, dass die Menge an Bestrahlungsenergie
des oben bereits erwähnten
ultravioletten Lichts, was zur Erzeugung eines Kontaktwinkels von
82° im Bildbereich
in einen hydrophilen Oberflächenbereich,
der einen Kontaktwinkel von 10° oder weniger
zeigt, zu bestimmen.
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16 zeigt die Beziehung zwischen der Hydrophilisierungsenergie
(Bestrahlungsenergie des ultravioletten Lichts), die für die Hydrophilisierung
der Plattenoberfläche
erforderlich ist, und der Temperatur der Plattenoberfläche. Wenn
die Temperatur der Plattenoberfläche
auf 25°C
eingestellt wurde (die Halogenlampe war nicht angeschaltet), wurde
die Bestrahlungsenergie des ultravioletten Lichts von 10,8 J/cm2 für
die Hydrophilisierung erforderlich. Wenn jedoch die Halogenlampe angeschaltet
war, um die Plattenoberfläche
zu erhitzen, wurde die erforderliche Bestrahlungsenergie mit Anstieg
der Temperatur der Plattenoberfläche
verringert. Wenn die Temperatur 50°C erreichte, wurde die Bestrahlungsenergie auf
die halbe Menge der Energie abgesenkt. Wenn die Temperatur 200°C erreichte,
wurde die Bestrahlungsenergie auf 1,2 J/cm2 abgesenkt.
Diese Energie korrespondiert mit der Energiemenge, die in 60 s Strahlung
einer Lampe mit einer Lichtfluxdichte von 20 mW/cm2 zur
Verfügung
gestellt wird. Diese Tatsache lehrt uns, dass das oben erwähnte Bildlöschen 540
s bei keiner Wärmeaufbringungsbedingung
erfordert, während
die Bildlöschung
nur 60 s unter einer Wärmeaufbringungsbedingung
erfordert, bei der die Plattenoberfläche auf 200°C aufgeheizt ist. Das bedeutet,
dass bestätigt
wurde, dass die Platten-Regeneration
schnell aufgrund der Wärmeaufbringung
auf die Plattenoberfläche
ausgeführt
werden kann. Es wurde bestätigt,
dass beim Hydrophilisierungs-Bearbeiten die Druckplatte ihren Zustand
vor der Aufbringung der organischen Mischung wiedergewonnen hatte
und die Platten-Regeneration erreicht wurde.
-
Dementsprechend
kann dann, wenn die Plattenoberflächen-Temperatur auf 50°C oder höher angehoben wird, die Bestrahlungsenergien
offensichtlich abgesenkt werden. Im Gegensatz hierzu wird dann,
wenn die Plattenoberflächentemperatur exzessiv
erhöht
wird (über
200°C oder
höher)
die Plattenoberfläche
negativ in ihren physikalischen Eigenschaften beeinflusst. Dementsprechend
wird bevorzugt, dass die Plattenoberfläche (Oberfläche der photosensitiven Schicht 3)
auf einer Temperatur im Bereich von 50°C bis 200°C erhitzt wird.
-
Wie
oben beschrieben wurde, kann gemäß dem Verfahren
zur Regeneration der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform
und der zweiten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung die Regenerationsvorrichtung und die
Druckpresse zusätzlich
zu dem Vorteil, dass die Druckplatte wiederverwendet werden kann,
mit einem weiteren Vorteil betrieben werden, dass deren Zyklus schneller
ausgeführt
werden kann. Das bedeutet, dass nachdem das Drucken abgeschlossen
wurde, die für
die Löschung des
Bildbereichs zum Löschen
des Bilds der Druckplatte erforderliche Zeitdauer verkürzt werden
kann, mit dem Ergebnis, dass es weniger Zeit erfordert, die Arbeit
der Platten-Regeneration auszuführen.
Dementsprechend wird es möglich,
den gesamten Prozess des Druckens sehr schnell auszuführen.
-
Darüber hinaus
kann, da die Regeneration und die Wiederverwendung der Druckplatte
möglich wird,
die Menge an nach der Verwendung weggeworfenen Druckplatten deutlich
reduziert werden. Dementsprechend kann das Verfahren zur Regeneration und
Wiederverwendung der Druckplatte im Hinblick auf den Umweltschutz
gesehen werden und es wird möglich,
die Kosten in Bezug auf die Druckplatte deutlich abzusenken.
-
Darüber hinaus
kann, da die Bildbeschreibung auf die Bildplatte direkt von das
Bild betreffenden digitalen Daten implementiert werden kann, dieses
Verfahren auf die Digitalisierung im Druckprozess abgestimmt werden.
Dementsprechend wird es möglich,
die für
das Drucken erforderliche Zeitdauer deutlich zu reduzieren oder
die Kosten abzusenken.
-
Vorzugsweise
wird im Bildlöschschritt
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht
bestrahlt und mit Wärme
beaufschlagt. Zu diesem Zeitpunkt kann der Bildbereich, der eine
höhere
Hydrophilisierungsenergie als der Nichtbildbereich erfordert, auf
eine höhere
Temperatur erhitzt werden. Auf diese Weise wird die gesamte Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 gleichmäßig auf noch zuverlässigere
Weise gleichmäßig hydrophilisiert.
Dementsprechend kann in diesem Fall die Wärmeaufbringung auf die Region
basierend auf den Bilddaten gesteuert werden.
-
[3] Dritte Ausführungsform
-
Wie
bereits im Hinblick auf den oben beschriebenen Stand der Technik
beschrieben wurde, haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung
Studien in Bezug auf das Bildbeschreiben und die Bildlöschung der
Druckplatte (Schichtaufbau) mit der photosensitiven Schicht ausgeführt und
während
dieser Studien bestätigten
die Erfinder, dass die Bildbeschreibung mit Aktivierungslicht mit
einer Lichtfluxdichte ausgeführt
wird, die ein praktikables Niveau der Bildbeschreibungsrate zur
Verfügung
stellen könnte
und dass hier eine Möglichkeit
der Temperaturerhöhung
der Plattenoberfläche
vorliegen könnte.
-
Anschließend haben
die Erfinder der vorliegenden Erfindung ihre Studien auf eine Technologie konzentriert,
die es möglich
macht, das photokatalytische Verformen ? deutlich und gleichzeitig
zu verbessern oder eine Performance zum Zersetzen der organischen
Mischung auch unter Temperaturanstiegsbedingungen und einer Performance
zur Hydrophilisierung des Photokatalysators selbst. Als Konsequenz
hiervon haben die Erfinder schließlich einen unabdingbaren Faktor
gefunden, der diese zwei Leistungsmerkmale auch unter Bedingungen
einer erhöhten
Temperatur der Druckplatte verbessern könnte.
-
Diese
Technologie wird im Anschluss detailliert als dritte Ausführungsform
unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben und ebenso auf diejenigen
Zeichnungen, die in der ersten Ausführungsform verwendet wurden.
-
Der
Schichtaufbau (es wird später
beschrieben werden, dass dieser Aufbau als Druckplatte verwendet
werden kann) 5 gemäß der dritten
Ausführungsform
ist grundsätzlich
aus dem Substrat (oder dem Materialkörper) 1, der Zwischenschicht
(im Anschluss als wasserabweisende Schicht oder Hydrophilisierungs-Unterstützungsschicht
bezeichnet) 2, die eine Substanz enthält, die eine wasserabweisende
Funktion aufweist, und der photosensitiven Schicht 3, die
den Photokatalysator enthält,
zusammengesetzt, wie dies in 1 gezeigt
ist.
-
Das
bedeutet, dass der Schichtaufbau 5 gemäß der vorliegenden Ausführungsform
eine Anordnung aufweist, die sich von der der ersten Ausführungsform
in der Zwischenschicht 2 unterscheidet.
-
Wie
bereits in der Beschreibung der ersten Ausführungsform beschrieben wurde,
ist das Substrat 1 aus einem Metall wie etwa Aluminium,
Edelstahl und einem Polymerfilm oder dergleichen ausgebildet. Das
Substrat 1 muss jedoch nicht notwendigerweise aus Metall
wie etwa Aluminium, Edelstahl und einem Polymerfilm oder dergleichen
bestehen, sondern andere Materialien können abhängig von den Eigenschaften
wie etwa Flexibilität,
Härte der
Oberfläche, thermische
Leitfähigkeit,
elektrische Leitfähigkeit, Dauerhaftigkeit
des Substrats, welche für
den Einsatz der photosensitiven Schicht 3 in der Praxis
als notwendig erachtet werden, ausgewählt werden. Darüber hinaus
sind die bei der Auswahl des Materials in Betracht zu ziehenden
Eigenschaften nicht auf die oben aufgelisteten Eigenschaften beschränkt.
-
Die
wasserabweisende Schicht 2 als Zwischenschicht ist auf
der Oberfläche
des Substrats 1 ausgebildet. Während in den 1 und 2 die Zwischenschicht 2 so
ausgebildet ist, dass sie die photosensitive Schicht 3 berührt, ist
die Zwischenschicht nicht notwendigerweise in Kontakt mit der photosensitiven
Schicht, es ist vielmehr für
die Zwischenschicht ausreichend, dass sie zwischen dem Substrat 1 und
der photosensitiven Schicht 3 angebracht ist.
-
Als
Substanz mit wasserabweisender Funktion, die in der wasserabweisenden
Schicht 2 enthalten sein muss, wird besonders eine Siliziumdioxid-Mischung
bevorzugt.
-
Beispielsweise
beinhalten bevorzugte Mischungen einen Siliziumdioxidfilm, und einen
Siliziumdioxidfilm-Formmaterial,
das in der Lage ist, einen Siliziumdioxidfilm auszuformen, wie etwa
eine organische Siliziummischung und Wasserglas, oder feine Siliziumdioxidpartikel
und feine Siliziumdioxidpartikel-Formmaterialien, die in der Lage
sind, feine Siliziumdioxidpartikel auszubilden. Wenn die Substanz mit
der wasserabweisenden Funktion auf feinen Partikeln besteht, wird
bevorzugt, dass diese feinen Partikel unter Verwendung eines hydrophilen
Binders in einem Film ausgebildet werden.
-
Um
einen engen Kontakt zwischen dem Substrat 1 und der wasserabweisenden
Schicht 2 zu erreichen oder um den engen Kontakt zwischen
dem Substrat 1 und der wasserabweisenden Schicht 2 zu verbessern,
kann zwischen dem Substrat 1 und der wasserabweisenden
Schicht 2 abhängig
von den Erfordernissen eine Unterschicht-Schicht (nicht gezeigt)
vorgesehen sein. Wenn eine derartige Unterschicht-Schicht vorgesehen
ist, beinhaltet deren bevorzugtes Material eine Silizium-Mischung
wie etwa Siliziumdioxid (SiO2), Silikonharz
oder beispielsweise Silikongummi. Insbesondere dann, wenn ein Silikonharz
für das
Material verwendet wird, werden Silikon-Alkyl, Silikon-Urethan, Silikon-Epoxid,
Silikon-Acryl, Silikon-Polyester und dergleichen bevorzugt.
-
Wenn
eine Wärmebehandlung,
die später beschrieben
wird, zur Ausbildung der photosensitiven Schicht 3 ausgeführt wird,
neigt eine Diffusion von Verunreinigungen dazu, vom Substrat 1 in
die photosensitive Schicht 3 aufgrund einer thermischen Diffusion
aufzutreten und hierin vermischt zu werden, was zu einer Störung der
Aktivität
des Photokatalysators führt.
Die wasserabweisende Schicht 2 übt jedoch einen Effekt zur
Verhinderung einer derartigen thermischen Diffusion und der daraus
resultierenden Störung
aus. Darüber
hinaus übt
dann, wenn die wasserabweisende Schicht 2 aus einem Polymerfilm oder
dergleichen ausgebildet ist, die wasserabweisende Schicht 2 einen
Effekt des Schutzes des Substrats aus.
-
Währenddessen
wurde bestätigt,
dass auch dann, wenn die wasserabweisende Schicht 2 auf
der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen ist oder alternativ
hierzu die photosensitive Schicht 3 eine Substanz aufweist,
die eine wasserabweisende Funktion besitzt, die photokatalytische
Aktivität
unter der erhitzten Atmosphäre
höher als
die photokatalytische Aktivität
bei üblicher
Temperatur ist.
-
Wenn
die wasserabweisende Schicht 2 jedoch auf der photosensitiven
Schicht 3 vorgesehen ist oder die photosensitive Schicht 3 so
angeordnet ist, dass sie eine Substanz aufweist, welche eine wasserabweisende
Funktion ausübt,
wird die Aufnahmerate des Photokatalysators auf deren Oberfläche verringert.
Daher wird verglichen mit dem Fall der vorliegenden Ausführungsform,
in dem die wasserabweisende Schicht 2 als Zwischenschicht
zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen
ist, die photokatalytische Aktivität verringert.
-
Dementsprechend
wird dann, wenn der Schichtaufbau 5 so ausgebildet ist,
dass er eine hohe photokatalytische Aktivität bei Raumtemperatur aufweist
und eine weitere Zusammenwirkung auf der Substanz mit wasserabweisender
Funktion mit dem Photokatalysator erbracht wird, welche eine noch bessere
Verbesserung in der oben erwähnten
photokatalytischen Aktivität
unter erhitzter Atmosphäre
erbringen soll, wie in der vorliegenden Ausführungsform, offenkundig für die photosensitive
Schicht 3 von Vorteil, dass sie als oberste Schicht (die übergeordnete
Schicht) vorgesehen ist und dass die wasserabweisende Schicht 2 zwischen
dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen
ist.
-
Auf
diese Weise kann der Grund, warum die Verbesserung in der Aktivität des Photokatalysators unter
einer erhitzten Umgebung aufgrund der zwischen dem Substrat 1 und
der photosensitiven Schicht 3 vorgesehenen wasserabweisenden Schicht 2 erreicht
wird, wie folgt angenommen werden.
-
Dies
bedeutet, dass bereits erwähnt
wurde, dass dann, wenn Aktivierungslicht auf den Photokatalysator
aufgestrahlt wird, der Photokatalysator Elektronen und positive
Löcher
erzeugt, wobei diese Tatsache eine Reaktion der positiven Löcher mit
den wasserabsorbierenden Molekülen
auf der Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 bewirkt, was zu einer Erzeugung
von OH-Radikalen (Hydroxyradikale) führt. Darüber hinaus ist bereits erwähnt worden, dass
diese OH-Radikale die organische Mischung oxidieren und zersetzen.
-
Daher
wird die Menge an absorbiertem Wasser üblicherweise unter einer erwärmten Atmosphäre verringert
und ebenso wird die Menge an Wassermolekülen verringert. Aus diesem
Grund wird eine Verringerung in der Menge von für die Erzeugung von OH-Radikalen
notwendigen Wassermolekülen
bewirkt. Als Ergebnis hiervon wird die Menge an erzeugten OH-Radikalen
verringert und das Betriebsverhalten des Photokatalysators zur Zersetzung
der organischen Substanz wird verringert.
-
Somit
ist die Substanz mit der wasserabweisenden Funktion nahe dem Photokatalysator
in einer zusammenwirkenden Weise vorgesehen, so dass eine ausreichende
Zufuhr von Wassermolekülen
von der Substanz mit der wasserabweisenden Funktion zu dem Photokatalysator
unter der erhitzten Atmosphäre
gewährleistet
wird. Mit dieser Anordnung wird eine ausreichende Anzahl von OH-Radikalen
erzeugt und die Oxidierung und Zersetzungsreaktion wird aufgrund
der Wärmeaufbringung
unterstützt.
Als ein Ergebnis hiervon wird angenommen, dass das Ergebnis in Bezug
auf die Zersetzung der organischen Mischung verbessert wird.
-
Wie
bereits oben beschrieben, wird es, wenn die photokatalytische Aktion
unter der erhitzten Atmosphäre
verbessert wird und der Schichtaufbau 5, der die photosensitive
Schicht 3 aufweist, als Druckplatte verwendet wird, möglich, die
Bestrahlungsenergie (im Anschluss als Hydrophilisierungsenergie bezeichnet),
die zur Umwandlung der hydrophoben Eigenschaft in eine hydrophile
Eigenschaft aufgrund der Wärmeaufbringung
auf den mit Aktivierungslicht bestrahlten Abschnitt erforderlich
ist, wenn das Aktivierungslicht auf die Plattenoberfläche beim
Bildbeschreiben aufgestrahlt wird, und ebenso aufgrund der Wärmeaufbringung
auf die Plattenoberfläche
mit der Energie, die von dem Aktivierungslicht selbst herrührt, zu
verringern.
-
Mit
dieser Konsequenz wird es möglich,
die für
das Beschreiben und die Herstellung der Platte erforderliche Zeitdauer
zu verkürzen
und die Ausgabeleistung der Bildeinheit abzusenken, um die Kosten
der Schreibeinheit zu reduzieren. Ebenso kann dann, wenn das Bild
auf der Plattenoberfläche
gelöscht
wird, der Temperaturanstieg der Plattenoberfläche sowie die Bestrahlung mit
Aktivierungslicht gleichzeitig ausgeführt werden, um die Bestrahlungsenergie
des Aktivierungslichts, das zum Löschen des Bilds erforderlich
ist, abzusenken. Dementsprechend wird es möglich, die für das Löschen des
Bilds erforderliche Zeitdauer zu verkürzen oder die Ausgabeleistung
der Bildlöscheinheit
zu verringern (d.h. die Kosten der Herstellung zu verringern).
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Die
photosensitive Schicht 3 ist auf der wasserabweisenden
Schicht 2 vorgesehen. Wenn das Aktivierungslicht, das auf
die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, ein Energieniveau
höher als
die Bandspaltenergie des Photokatalysators aufweist, dann wird erwartet,
dass die organische Mischung, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 angebracht
ist, zersetzt wird und zur gleichen Zeit der Photokatalysator selbst
eine hochgradig hydrophile Eigenschaft aufweist.
-
Zu
der photosensitiven Schicht 3 können im Hinblick auf die Beibehaltung
der hydrophilen Eigenschaft und die Verbesserung der Festigkeit
der photosensitiven Schicht 3 sowie den engen Kontakt der photosensitiven
Schicht 3 mit der wasserabweisenden Schicht 2 die
folgenden Substanzen zugegeben werden. Derartige Substanzen beinhalten
beispielsweise eine Siliziumdioxid-Mischung wie etwa Siliziumdioxid,
Siliziumdioxid-Sol, Organosilan, Silikon-Harz, ein Metalloxid-Material wie etwa
Zirkonium, Aluminium, Titan oder ein Fluor-Harz.
-
Darüber hinaus
kann der Schichtaufbau eine modifizierte Anordnung aufweisen, so
dass eine photosensitive Schicht 3, die auf Licht mit einer
Wellenlänge
von 380 nm oder weniger (nicht gezeigt) reagiert, zusätzlich als
Schutzschicht vorgesehen ist, oder dass eine Siliziumdioxidschicht
(nicht gezeigt) zur Erreichung einer leichteren Erhaltung der hydrophilen
Eigenschaft vorgesehen ist. Die photosensitive Schicht 3 gemäß der vorliegenden
Erfindung beinhaltet konzeptionell die oben angeordneten Schichten.
Darüber
hinaus kann die photosensitive Schicht 3 eine Schicht sein,
die aus einer einzelnen Komponente eines Photokatalysators ausgebildet
wurde.
-
Wie
oben bereits beschrieben, kann der Schichtaufbau 5 mit
der photosensitiven Schicht 3 grundsätzlich als Druckplatte verwendet
werden. Wenn beispielsweise Aluminium als Substrat 1 verwendet
wird, kann dessen Oberfläche
einer sogenannten Graubehandlung unterzogen werden, an der die Oberfläche mittels
einer anodischen Oxidationsbehandlung oder dergleichen je nach Erfordernis
aufgeraut wird. Mit dieser Behandlung wird der Schichtaufbau eine
noch bessere Funktion mit Eignung für das Drucken aufweisen. Konsequenterweise
kann der Schichtaufbau 5 mit der oben erwähnten photosensitiven Schicht 3 direkt
als Druckplatte verwendet werden, und der Schichtaufbau mit dem
Substrat 1, der der oben erwähnten Graubehandlung unterzogen
wurde, kann ebenso als Druckplatte verwendet werden.
-
Darüber hinaus
zeigt der Schichtaufbau eine deutlich höhere photokatalytische Aktivität in erhitzter Atmosphäre als bei
Raumtemperatur. Daher wird sich dann, wenn der oben erwähnte Schichtaufbau 5 für eine Oberflächenschicht
der Struktur verwendet wird, welche unter erhitzter Atmosphäre wie etwa
in einem Kamin verwendet wird, insbesondere der Photokatalysator
die darin in Schmutzkomponenten enthaltenen organischen Verbindungen
zersetzen. Darüber
hinaus wird, da der Photokatalysator eine hochgradig hydrophile
Eigenschaft aufweist, eine Schmutzkomponente einer organischen Mischung, die
nicht in der Lage ist, durch den Photokatalysator zersetzt zu werden,
von Regentropfen abgewaschen werden. Dementsprechend kann eine Verschmutzung
der äußeren Wandoberfläche verhindert
werden.
-
Darüber hinaus
soll dann, wenn der Schichtaufbau 5 für die Druckplatte verwendet
wird, die organische Mischung zur Hydrophobisierung der photosensitiven
Schicht 3 eine organische Mischung sein.
-
Dies
bedeutet, dass die organische Mischung auf die Druckplattenoberfläche (Plattenoberfläche) aufgebracht
werden kann und ebenso wird gewünscht,
dass die organische Mischung eine solche Eigenschaft aufweist, dass
sie falls erforderlich nur auf Trocknung oder dass Trocknung mit
Wärmeaufbringung
reagiert, um so eine Reaktion oder starke Interaktion mit der Plattenoberfläche, d.h.
der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 bewirkt, so dass die Oberfläche der
photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert werden kann.
Ebenso wird gewünscht,
dass die organische Mischung eine solche Eigenschaft aufweist, dass
sie aufgrund der Aktion des Photokatalysators zersetzt wird und
von der Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 (d.h. der organischen Mischung
des Typs A, die in der Beschreibung der ersten Ausführungsform
erläutert
wurde, entfernt wird. Während
eine Beschreibung diesbezüglich
in der vorliegenden Ausführungsform
nicht angegeben wird, wurde dies bereits in der zweiten Ausführungsform
erläutert
und es ist nicht erforderlich zu erwähnen, dass eine organische
Mischung des Typs B für
die Hydrophobisierung der photosensitiven Schicht 3 ebenso
verwendet werden kann.
-
Das
Verfahren zur Herstellung der Platte und das Verfahren zur Regeneration
der Platte, wenn der Schichtaufbau auf die Druckplatte aufgebracht
ist, sind ähnlich
denen, die in der ersten Ausführungsform
beschrieben worden sind. Daher wird keine weitere Erläuterung
hierzu angegeben.
-
In
der vorliegenden Ausführungsform
müssen
dann, wenn die Plattenoberfläche
nur durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht erhitzt werden kann, welches
beim Beschreiben eines Bilds verwendet wird, und es sichergestellt
ist, die Temperatur der Plattenoberfläche auf eine solche anzuheben,
die eine schnelle Ausführung
der Bildbeschreibung ermöglicht,
besondere Aufheizmittel nicht vorbereitet werden.
-
Darüber hinaus
kann, wenn die photokatalytische Eigenschaft von hydrophil zu hydrophob
für die Wiedergewinnung
des "Ursprungszustands
der Plattenherstellung" umgewandelt
wurde, zusätzlich
zur Aufbringung der organischen Mischung, die in der Lage ist, mit
der Plattenoberfläche
zu interagieren, auf die Oberfläche,
ein anderer Betrieb ausgeführt werden.
Beispielsweise kann ein Bündel
von Energiestrahlen wie etwa Lichtstrahlen und elektrische Strahlen
einzeln oder in Kombination auf die Plattenoberfläche aufgestrahlt
werden oder jede mechanische Stimulierung wie etwa Reiben kann auf
die Plattenoberfläche
aufgebracht werden, um dieses zu hydrophobisieren. Nun wird im Anschluss
eine Beschreibung noch konkreterer Beispiele und vom Vergleichsbeispiel
in Bezug auf die Herstellung der Druckplatte 5, die Plattenerzeugung
und die Plattenregeneration angegeben, welche von den Erfindern der
vorliegenden Anmeldung bestätigt
wurden.
-
[A] Ausführungsform
-
(1) Photokatalysator-Vorbereitung
-
Titansulfat
als Rohmaterial (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) wurde vorbereitet
und dieses Agens wurde mit Ammoniumwasser unter Rühren der
Mischung hinzugegeben. Somit wurde eine Hydrolyse des Titansulfats
erhalten. Diese Hydrolyse wurde unter Verwendung eines Saugtrichters
gefiltert und mittels Ionenaustauschwasser gereinigt, bis die gefilterte
Flüssigkeit
eine elektrische Leitfähigkeit gleich
oder kleiner 2 μS/cm
aufwies. Nach dem Reinigen wurde die Hydrolyse bei Raumtemperatur
getrocknet und anschließend
für zwei
Stunden bei 400°C
in Atmosphäre
gebrannt. Das gebrannte Material wurde zu einem groben Korn in einem
Mörser reduziert,
um ein Photokatalysator-Pulver zu erhalten.
-
(2) Bestätigung der Aktivität durch
sichtbares Licht
-
Das
oben beschriebene Photokatalysator-Pulver wurde in einer Menge von
0,2 g aufgenommen und gleichmäßig auf
einen Boden eines zylindrischen Reaktionskessels (Volumen 500 ml)
hergestellt aus Pyrex®-Glas gesprüht. Dann
wurde der Reaktionskessel evakuiert und die Innenluft wurde durch
hochreine Luft ersetzt. Danach wurde Aceton in den Kessel eingegossen,
so dass dessen Konzentration innerhalb des Reaktionskessels 500
ppm betrug. Anschließend
wurde das Pulver bei einer Temperatur von 25°C in einem dunklen Ort für zehn Stunden
aufbewahrt, bis die Adsorption des Pulvers ein Adsorptions-Gleichgewicht
erreichte. Danach wurde Licht (Hauptwellenlänge von 470 nm) auf das Pulver unter
Verwendung einer blauen LED, hergestellt von NICHIA Chemical Industry,
aufgestrahlt. Dann wurde die Menge an Aceton und CO2 mittels eines
Gaschromatographen, hergestellt von Shimadzu Corp. gemessen. Diese
Messung ergab, dass kein Aceton nach der Bestrahlung durch die blaue
LED über
20 Stunden vorlag und anstelle dessen dieses Verschwinden des Acetons
durch die Erzeugung von CO2, dessen stöchiometrisches
Verhältnis
dem des Acetons entspricht, bestätigt
wurde. Das bedeutet, dass ausreichend bestätigt wurde, dass das oben erwähnte Photokatalysator-Pulver
die photokatalytische Eigenschaft mit einem Licht mit einer Wellenlänge von
470 nm aufweist.
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(3) Herstellung der Druckplatte
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(3-1) Herstellung der photokatalytischen
Dispersionsflüssigkeit
und der Basisplatte 1
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Das
oben beschriebenen Photokatalysator-Pulver wurde innerhalb eines
Ionenaustauschwassers dispergiert, um einen Schlamm mit 20 Gewichtsprozent
(Gew-%) Feststoffkörperkomponent herzustellen.
Diesem Schlamm wurde Polycarboxyl-Säure mit 1 Gew-% in Bezug auf
den Photokatalysator zugegeben. Danach wurde dieser Schlamm zu einem
Pulver mittels einer Nassmühle
(Handelsname: DAINO mill PILOT) reduziert, um die dispergierte photokatalytische
Flüssigkeit
zu erhalten.
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Ein
Substrat 1 aus einer Edelstahlplatte (SUS 301) mit einem
Bereich von 280 × 204
mm und einer Dicke von 0,1 mm wurde hergestellt und diese Platte
wurde einer alkalischen Entfettungsbearbeitung unterzogen, um das
Substrat 1 zu erhalten.
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(3-2) Bildung der wasserabweisenden Schicht
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Ein
Wasserlglas LSS-35, das Li2O (Nissan Chemical
Industries, Ltd.) enthält,
wurde mit destilliertem Wasser verdünnt, so dass die Feststoffkomponente
des SiO2 5 Gew-% wurde. Somit wurde die SiO2-Beschichtungsflüssigkeit hergestellt. Diese SiO2-Beschichtungsflüssigkeit wurde mittels Eintauchbeschichtung
auf die oben beschriebene Basisplatte 1 aufgebracht und
die Basisplatte wurde mittels Lufttrocknung getrocknet. Danach wurde
die Basisplatte für
eine Stunde bei einer Temperatur von 500°C gebacken, um die SiO2-wasserabweisende Schicht 2 auszubilden.
Die Dicke der SiO2-wasserabweisenden Schicht 2 betrug
etwa 0,12 μm.
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(3-3) Bildung der photosensitiven Schicht 3
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Die
oben erwähnte
photokatalytische Dispersionsflüssigkeit
und der Titanoxid-Beschichtungsagens TKC-310, hergestellt von TAYCA
Corporation, wurden mit einander bei einem Verhältnis von 6:4 wie das TiO2 vermischt, und die daraus resultierende Flüssigkeit
wurde mittels Tauchbeschichtung auf der Basisplatte 1 mit
der oben bereits erwähnten SiO2-wasserabweisenden
Schicht 2 darauf beschichtet und die Basisplatte wurde
mittels Lufttrocknung getrocknet. Danach wurde die Basisplatte für eine Stunde
bei einer Temperatur von 350°C
gebacken, um die photosensitive Schicht 3 auszubilden.
Somit wurde die Druckplatte 5 vorbereitet. Diese Dicke
der photosensitiven Schicht 3 betrug etwa 0,1 μm. Der Kontaktwinkel
des Wassers 6 auf der Plattenoberfläche wurde unter Verwendung
eines Kontaktwinkelmessers ces CA-W-Typs, hergestellt von Kyowa
Kaimen Kagaku Co., Ltd., gemessen und ein Kontaktwinkel von 8° wurde erhalten.
Diese Messung bewies, dass eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft
erreicht wurde.
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(4) Hydrophobisierung der Plattenoberfläche
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Im
Anschluss wurde 1,2-Epoxy-Dodecan (Wako Pure Chemical Industries,
LTd.) Isoparaffin (Handelsname: Isoper L, ein Produkt der Exxon
Mobile Co.) aufgelöst,
um eine 1 Gew-%-Lösung hiervon zu
erhalten. Diese 1,2-Epoxy-Dodecan-Lösung wurde auf der Druckplattenoberfläche mittels
Walzen aufgebracht und die Druckplatte wurde für zehn Minuten bei einer Temperatur
von 60°C
getrocknet. Danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 mittels des
oben bereits erwähnten
Kontaktwinkelmessers gemessen und ein Kontaktwinkel von 83° wurde erhalten.
Diese Messung bewies, dass die Platte eine zufriedenstellende hydrophobe
Eigenschaft aufwies und es wurde bestätigt, dass die Oberfläche der Druckplatte 5 in
ihren Ursprungszustand der Plattenherstellung zurückgebracht
wurde.
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(5) Messung der Hydrophilisierungsenergie-Variation mit
Veränderung
der Temperatur der Plattenoberfläche
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Die
Variation der Hydrophilisierungsenergie mit der Veränderung
der Plattenoberflächentemperatur
wurde in einem solchen Verfahren gemessen, bei dem die Oberflächentemperatur
der oben bereits erwähnten
hydrophobisierten Druckplatte 5 verändert wurde, ein Aktivierungslicht
mit einer Wellenlänge von
360 nm und einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm2 auf
die Druckplatte aufgestrahlt wurde und die Hydrophilisierungsenergie
durch Berechnung eines Produkts der Lichtfluxdichte des Aktivierungslichts
und einer Zeitdauer der Aktivierungslicht-Bestrahlung, die für die Veränderung
des Zustands der Plattenoberfläche
vom hydrophoben Zustand, wie oben bereits beschrieben, zu dem Zustand,
in dem der Kontaktwinkel 10° oder
weniger aufweist, erforderlich ist. 17 ist
ein Graph, der das Ergebnis dieser Messung zeigt.
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Wie
in der durchgezogenen Linie gezeigt, betrug dann, wenn die wasserabweisende
Schicht 2 (TiO2-photosensitive
Schicht 3/SiO2Schicht 2/Edelstahl-Basisplatte 1)
vorlag, die Hydrophilisierungsenergie bei der Plattenoberflächentemperatur
von 25°C 0,1
J/cm2. Wenn die Plattenoberflächentemperatur 100°C betrug,
betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,04 J/cm2 und
wenn die Plattenoberflächentemperatur
200°C betrug,
betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,02 J/cm2.
Wie aus diesem Ergebnis der Messung nachvollzogen werden kann, wurde
je höher
die Plattenoberflächentemperatur
erhöht
wurde, desto geringer wurde die Hydrophilisierungsenergie (Energie
der Aktivierungslicht-Bestrahlung, die für die Hydrophilisierung erforderlich
ist).
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(6) Bildbeschreibung
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Im
Anschluss wurde ein UV-Setter 710, der von der basysPrint
Corporation (Deutschland) vertrieben wird und ein ultraviolettes
Licht mit einer Wellenlänge
von 360 nm bis 450 nm erzeugt und in der Lage ist, ein Bild (Nichtbildbereich)
zu beschreiben, für
die Beschreibung eines Halbtonbildes mit einer Druckelementrate,
die von 10% bis 100% bei einem Schritt von 10% Variation, verwendet.
Wenn die Bildbeschreibung ausgeführt
wurde, wurde eine Bestrahlung im Infrarotlicht auf die Plattenoberfläche 0,1
Sekunden vor der Bildbeschreibung mit dem Aktivierungslicht ausgeführt, wodurch
die Temperatur der Plattenoberfläche
sofort auf etwa 240°C
erhöht
wurde. Somit wurde die Temperatur der Plattenoberfläche beim
Beschreiben eines Bilds mit dem Aktivierungslicht auf eine solche
eingestellt, die leicht die Temperatur von 200°C überstieg. Unter dieser Bedingung
wurde die Bildbeschreibung ausgeführt. Da eine Einstellung der
Lichtfluxdichte auf 200 mW/cm2 erfolgte,
wenn der UV-Setter 710 das Licht mit der Wellenlänge von 350 nm auf der Plattenoberfläche aufstrahlt,
wurde die Zeitdauer der Aktivierungslicht-Bestrahlung für einen
Einheitsbereich bei 0,02 J/cm2 als Bestrahlungsenergie
eingestellt.
-
Da
die Größe des Einheitsbereichs
17 mm × 13
mm beträgt,
benötigte
man 24 s zur Beschreibung des Bilds auf der Plattenoberfläche mit
einer Größe von 280
mm × 204
mm (der Bildbereich hat eine Größe von 272
mm × 195
mm). Der Wasserkontaktwinkel der Druckplattenoberfläche nach
dem Abschluss des Beschreibungsschritts wurde durch den oben bereits
erwähnten
Kontaktwinkelmesser gemessen. Es wurde bestätigt, dass der Kontaktwinkel
des Wassers 6 an dem Abschnitt, auf dem ein Bild aufgeschrieben worden
war, 8° betrug
und dass dieser Abschnitt ein hydrophiler Nichtbildbereich wurde,
während
der Kontaktwinkel an einem Abschnitt, auf den kein Bild aufgeschrieben
wurde, 83° betrug
und dieser Abschnitt ein Bildbereich wurde, der die hydrophobe Eigenschaft
beibehielt.
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(7) Drucken
-
Diese
Druckplatte wurde auf eine Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von
Alpha Techno Company, abgesetzt, das Drucken wurde auf ein AIBESTO-Papier
mit einer Tinte HYECOOB Red MZ, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing
Co., Ltd. und mit einem Befeuchtungswasser, einer 1%-igen Lösung aus
LITHOFELLOW, hergestellt von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.,
bei einer Druckgeschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde ausgeführt. Das
Halbtonbild wurde vom ersten Papierbogen an, der zum Beginn des
Druckens zugeführt
wurde, erfolgreich bedruckt.
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(8) Regeneration
-
Eine
Ausführungsform
gemäß der Plattenregeneration
wird im Anschluss beschrieben werden.
-
Nach
dem Abschluss des Druckens wurde die Tinte, das Befeuchtungswasser,
Papierstaub und dergleichen, die auf der Plattenoberfläche anhafteten,
sauber abgewischt. Dann bestrahlt ein Infrarotlicht die gesamte
Oberfläche
der Platte so, dass die Plattenoberfläche sofort bis zu einer Temperatur
von etwa 100°C
erhitzt wurde. Unter dieser Bedingung wurde ein ultraviolettes Licht
mit einer Wellenlänge von
360 nm und einer Lichtfluxdichte von 5 mW/cm2 über acht
Sekunden aufgestrahlt (0,04 J/cm2 aufgestrahlte
Energie). Danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 direkt
unter Verwendung des oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmessers
an einem Abschnitt gemessen, auf den das Halbtonbild aufgeschrieben wurde,
und ein Kontaktwinkel von 80° wurde
ermittelt. Diese Messung bewies, dass die Plattenoberfläche eine
zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft aufwies und dass somit
bestätigt
werden konnte, dass das Bild auf der Platte gelöscht werden konnte.
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Im
Anschluss wurde die oben bereits erwähnte 1,2-Epoxy-Dodecan-Lösung mittels
Walzen auf die Plattenoberfläche
aufgebracht und die Platte wurde für zehn Minuten bei einer Temperatur
von 60°C
getrocknet. Danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 mittels
des oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmessers
gemessen und ein Kontaktwinkel von 84° wurde ermittelt. Diese Messung
bewies, dass die Platte eine ausreichend hydrophobe Eigenschaft
aufwies und es wurde bestätigt,
dass die Druckplatte 5 zu ihrem "Ursprungszustand der Plattenherstellung" zurückgebracht
wurde und die Platten-Regeneration erreicht wurde.
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[B] Vergleichsbeispiel
-
Die
Druckplatte wurde auf eine ähnliche
Weise wie im oben bereits erwähnten
Ausführungsbeispiel
erzeugt, außer
dass die photosensitive Schicht 3 direkt auf dem Edelstahl-Substrat 1 bereitgestellt wurde.
Das bedeutet, dass die Druckplatte ohne wasserabweisende Schicht 2 erzeugt
wurde.
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Die
Variation der Hydrophilisierungsenergie mit der Veränderung
der Plattenoberflächentemperatur
wurde auf einer Druckplatte als Vergleichsbeispiel in einer ähnlichen
Weise wie in der oben beschriebenen Ausführungsform gemessen. 17 ist ein Graph, der das Ergebnis dieser Messung
zeigt.
-
Wie
in der gepunkteten Linie in 17 gezeigt,
betrug dann, wenn keine wasserabweisende Schicht 2 zur
Verfügung
steht (TiO2-photosensitive Schicht 3/Edelstahl-Basisplatte 1),
die Hydrophilisierungsenergie bei einer Plattenoberflächentemperatur von
25°C 0,15
J/cm2. Wenn die Oberflächentemperatur 100°C betrug,
betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,35 J/cm2 und
wenn die Plattenoberflächentemperatur
200°C betrug,
betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,9 J/cm2.
Wie hier aus den Ergebnissen der Messung leicht ersichtlich ist,
wurde je höher
die Plattenoberflächentemperatur
anstieg, eine umso höherer
Hydrophilisierungsenergie (Energie der Aktivierungslicht-Bestrahlung,
die für
die Hydrophilisierung erforderlich war) erforderlich.
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Darüber hinaus
wurde ähnlich
zu der oben beschriebenen Ausführungsform
der oben bereits erwähnte
UV-Setter 710 dazu verwendet, eine Bildbeschreibung bei
einer Lichtbestrahlungszeit von 0,1 Sekunden pro Bereichseinheit
auszuführen
(die vollständige
Zeitdauer für
die Beschreibung des Bilds betrug 24 s). Nachdem die Bildbeschreibung
abgeschlossen war, wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf
der Plattenoberfläche
durch den oben bereits erwähnten
Kontaktwinkelmesser gemessen. Die Messung ergab, dass der Kontaktwinkel
des Abschnitts, auf dem das Bild aufgeschrieben war, 68° betrug und
dass dieser Abschnitt immer noch eine hochgradig hydrophobe Eigenschaft
beibehielt. Ähnlich
zu der oben bereits erwähnten
Ausführungsform wurde
diese Platte auf einer Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von
Alpha Techno Company, abgesetzt, das Drucken wurde auf AIBESTO-Papier
mit einer Tinte HYECOOB Red MZ, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing
Co., Ltd. und mit Befeuchtungswasser, einer 1%-igen Lösung aus LITHOFELLOW,
hergestellt von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., bei einer Druckgeschwindigkeit
von 3500 Bögen/Stunde,
ausgeführt.
Die Untersuchung des daraus resultierenden bedruckten Papiers ergab, dass
auch ein Abschnitt, der ein Nichtbildbereich sein sollte, die Tinte
nicht abwies und nur ein Ergebnis beim sogenannten "durchgehenden" Drucken erreicht
wurde, bei dem das Drucken über
die gesamte Oberfläche
der Platte erfolgte, welche mit roter Tinte befüllt wurde.
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Das
oben beschriebene Drucken und die Regeneration der Platte können unter
Verwendung der Druckpresse 10 (siehe 8)
ausgeführt
werden, welche zusammen mit der ersten Ausführungsform beschrieben worden
ist. Ebenso ist in diesem Fall die Hydrophobisierungseinheit 14 für die Plattenoberfläche als
Einheit konstruiert, die jeden der Schritte durchführen kann,
d.h. ein Bündel
von Energiestrahlen wie etwa Lichtstrahlen und elektrische Strahlen alleine
oder in Kombination auf die Plattenoberfläche aufzustrahlen, eine mechanische
Stimulation wie etwa ein Reiben der Plattenoberfläche zu bewirken oder
eine organische Mischung auf die Plattenoberfläche aufzubringen, die in der
Lage ist, eine Interaktion mit der Plattenoberfläche zu bewirken.
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Wie
bereits oben beschrieben, ist der Schichtaufbau 5 gemäß der vorliegenden
Ausführungsform
die Zwischenschicht (wasserabweisende Schicht) 2, die eine
Substanz enthält,
die eine wasserabweisende Funktion aufweist, zwischen dem Substrat 1 und
der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen. Daher kann die
Aktivität
des Photokatalysators unter erwärmter
Atmosphäre
deutlich verbessert werden und die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 kann
schnell hydrophilisiert werden.
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Daher
können,
wenn der oben beschriebene Schichtaufbau 5 auf der Druckplatte
aufgebracht ist, die folgenden Vorteile zusätzlich zu dem Vorteil erzielt
werden, dass die Druckplatte wiederverwendet werden kann. Dies sind,
da die Bildbeschreibung mit dem Aktivierungslicht unter erwärmter Atmosphäre ausgeführt werden
kann, die mögliche
Verkürzung der
Zeitdauer, die für
die Bildbeschreibung erforderlich ist. Alternativ hierzu kann, da
die bestrahlte Energie des Aktivierungslichts, die für die Hydrophilisierung
erforderlich ist, verkleinert werden kann, auch eine Schreibeinheit
verwendet werden, die in der Lage ist, nur eine kleine Ausgabeleistung
zu erzeugen, und somit können
die Kosten der Einheit verringert werden.
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Darüber hinaus
kann, da das Bild auf der Plattenoberfläche durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht
unter erwärmter
Atmosphäre
gelöscht
werden kann, die für
die Bildlöschung
erforderliche Zeitdauer verkürzt
werden. Alternativ hierzu kann ähnlich zu
dem oben bereits Erwähnten,
da die aufgestrahlte Energie des Aktivierungslichts, die für die Hydrophilisierung
erforderlich ist, verkleinert werden kann, auch eine Bildlöscheinheit
verwendet werden, die in der Lage ist, nur eine kleine Ausgabeleistung
zu erzeugen, und somit können
die Kosten der Einheit verringert werden.
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Wie
bereits oben beschrieben, kann, da der Photokatalysator unter erwärmter Atmosphäre aktiviert
werden kann, wenn die Oberfläche
der photosensitiven Schicht 3 vom hydrophoben zum hydrophilen
Zustand umgewandelt (umgeschaltet) werden kann, die Arbeitszeit
auch im Schritt der Plattenherstellung und dem Schritt der Bildlöschung während des
Platten-Regenerationsprozesses
nach dem Drucken eingespart werden, was zum Ergebnis hat, dass der
Zyklus der Plattenerzeugung und der Platten-Regeneration schnell
ausgeführt
werden kann.
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Darüber hinaus
kann ein Licht mit einer Wellenlänge
von 600 nm oder weniger inklusive sichtbarem Licht als Aktivierungslicht
verwendet werden. Daher kann sichtbares Licht für die Bildbeschreibung und
die Bildlöschung
verwendet werden, was es leichter macht, die Druckplatte zu handhaben.