DE60315824T2

DE60315824T2 - Verfahren zur regenerierung einer lithographischen druckplatte

Info

Publication number: DE60315824T2
Application number: DE60315824T
Authority: DE
Inventors: Y. Mihara-shi SUDA; H. Mihara-shi SAKURAI; T. Hiroshima-shi YASUI; T. Mihara-shi OHTO
Original assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Current assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date: 2002-03-22
Filing date: 2003-03-19
Publication date: 2008-05-15
Anticipated expiration: 2023-03-20
Also published as: DE60315824D1; EP1495877A4; WO2003080362A1; EP1495877A1; EP1495877B1; US20050139110A1

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte, welche für die Wiederverwendung regeneriert werden kann. Eine Regenerationsvorrichtung, eine Druckpresse, eine Druckplatte sowie ein Verfahren zur Herstellung der Druckplatte, ein geschichteter Aufbau sowie ein Verfahren zur Herstellung des geschichteten Aufbaus sind ebenso beschrieben.
Die US 2002/000169 A1 offenbart die Kombination der technischen Merkmale des Oberbegriffs des Anspruchs 1.
STAND DER TECHNIK
Auf dem Gebiet der Drucktechnologie generell bestand in der letzten Zeit ein Fortschritt hin zur Digitalisierung des Druckprozesses. Diese Technologie beinhaltet die Erzeugung von Bildern und Dokumenten oder Manuskripten in digitalisierter Form auf einem PC oder das Auslesen von Bildern auf einem Scanner, um die Bilddaten zu digitalisieren und das direkt Erzeugen einer Druckplatte basierend auf den so erhaltenden digitalen Daten. Dies erlaubt eine Arbeitsersparnis im gesamten Druckprozess und erleichtert das präzise Drucken.
Gemäß einer konventionellen Weise wurde generell eine Platte zur Verwendung beim Drucken als sogenannte PS-Platte (vorsensibilisierte Platte) verwendet, die ein anodisiertes Aluminium als hydrophilen Nichtbildbereich und einen hydrophoben Bildbereich, der durch Aushärten eines lichtsensitiven Kunststoffs auf einer Oberfläche des Nichtbildbereichs aufwies. Um eine Druckplatte unter Verwendung der PS-Platte herzustellen, war eine Vielzahl von Schritten notwendig, so dass die Herstellung der Platten eine lange Zeitdauer erforderte und hohe Kosten nach sich zog. Daher ist es derzeit schwierig, eine Zeitreduzierung des Druckprozesses und eine Reduzierung der Kosten beim Drucken voranzutreiben. Insbesondere besteht ein Hauptfaktor am Anstieg der Druckkosten in Fällen der Herstellung einer kleinen Anzahl von Druckkopien. Daher ist, wenn das Drucken mit PS-Platten ausgeführt wird, ein Herstellungsprozess unter Verwendung eines Entwicklers notwendig, was den Prozess des Druckens schwieriger macht, und eine Behandlung nach der Verwendung des Entwicklers ist ein wichtiges Ziel im Hinblick auf die Verhinderung von Umweltverschmutzungen.
Darüber hinaus wird dann, wenn das Drucken mit dem PS-Plattenverfahren ausgeführt wird, generell ein Film mit einem darauf vorgesehenen Originalbild in engem Kontakt mit einer Plattenoberfläche gebracht und anschließend einer Lichtstrahlung ausgesetzt. Daher ist dann, wenn ein Anwender die Druckplatte direkt aus digitalen Daten herstellen will und die Digitalisierung des Druckprozesses vorantreiben will, der Herstellungsschritt der Druckplatte ein Hinderungsfaktor. Darüber hinaus muss dann, wenn der Druck eines Bildmusters abgeschlossen wurde, die Platte durch eine neue ausgetauscht werden, bevor der Druck durchgeführt wird und die verwendeten Platten müssen weggeschmissen werden.
Um die oben beschriebenen Nachteile mit PS-Platten zu überwinden, wurden einige Verfahren vorgeschlagen, die Herstellern der Druckplatten in Übereinstimmung mit der Digitalisierung des Druckprozesses zu erleichtern, und einige dieser Verfahren wurden auch kommerziell genutzt. Beispielsweise offenbart das veröffentlichte japanische Patent (Kokai) Nr. Sho 63-102936 ein Verfahren zur Herstellung einer Platte, dadurch gekennzeichnet, dass ein Tinte enthaltender photosensitiver Kunststoff als Tinte für eine Flüssigkeits-Tintenstrahl-Druckpresse verwendet wurde, wobei diese Tinte auf eine Druckplatte aufgesprüht wurde und im Anschluss eine Lichtstrahlungs-Bestrahlung ausgeführt wurde, um den Bildbereich auszuhärten. Darüber hinaus offenbart das offengelegte japanische Patent (Kokai) Nr. Hei 11-254633 ein Verfahren zur Herstellung einer Farb-Offset-Druckplatte unter Verwendung eines Tintenstrahlkopfs, der in der Lage ist, eine feste Tinte auszusprühen.
Die US 2002/0001776 A1 betrifft ein planographes Druckverfahren, eine Originaldruckplatte und eine Druckpresse. Die Druckplatte kann ein Substrat sowie eine photosensitive Schicht mit einem Photokatalysator-Pulver umfassen, wobei die Schicht aus Titandioxid gefertigt ist. Eine Wärmeisolationsschicht kann zwischen der photosensitiven Schicht und dem Substrat vorgesehen sein, um eine Diffusion der Wärme zum Substrat hin zu unterbinden. Ein Reproduktionsprozess für die gebrauchten Druckplatten wird ebenso beschrieben. Im Reproduktionsprozess wird die Tinte von der Druckplatte abgewaschen und die Druckplatte wird initialisiert, so dass deren Verlaufsgeschichte keine nachteiligen Einflüsse ausübt. Die Initialisierung kann durch eine hydrophile Herstellung der gesamten Oberfläche der Druckplatte durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht auf die Oberfläche bewirkt werden. Ein hydrophober Bearbeitungsagens kann auf die Originalplatte zur hydrophoben Erzeugung der gesamten Oberfläche der Originalplatte aufgebracht werden. Das Agens kann beispielsweise auf die Originalplatte mittels eines Dampfkondensationsverfahrens aufgebracht werden.
Die EP 1084863 A1 beschreibt ein Druckplattenmaterial um die Herstellung und deren Regenerationsverfahren. Die Druckplatte kann ein Substrat, eine Zwischenschicht sowie eine Beschichtungsschicht umfassen, die einen Titanoxid-Photokatalysator enthält. Die Zwischenschicht erlaubt eine Herstellung der Bindungsfestigkeit des Substrats an der Beschichtungsschicht.
Darüber hinaus gibt es verschiedene bekannte Verfahren. Eines dieser Verfahren ist ein Verfahren, das das Bereitstellen eines PET-(Polyethylenterephthalat)Films umfasst, der darauf eine Laserabsorptionsschicht wie etwa eine schwarze Kohlenstoffschicht aufweist, sowie eine Silikonkunststoffschicht, um bildweise den Film mit Laserlicht zu bestrahlen, um eine Wärme in der Laserabsorptionsschicht zu erzeugen, um die Silikonkunststoffschicht durch Wärme abzubrennen, um eine Druckplatte herzustellen. Es besteht ebenso ein bekanntes Verfahren, dass die Beschichtung einer oleophilen Laserabsorptionsschicht auf einer Aluminiumplatte sowie einer hydrophilen Schicht auf der oleophilen Laserabsorptionsschicht und die Bestrahlung der hydrophilen Schicht mit Laserlicht umfasst, um diese abzubrennen und eine Druckplatte herzustellen.
Eines der anderen Verfahren, welche bereits vorgeschlagen worden sind, ist eines, in dem ein hydrophiles Polymer als Druckplatte verwendet wird und ein Bestrahlungsabschnitt einer bildweisen Lichtbestrahlung unterzogen wurde, so dass der Bestrahlungsabschnitt oleophil gemacht wird und die Plattenherstellung abgeschlossen wird.
Darüber hinaus wurde ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem Bild direkt mit Licht aus digitalen Daten auf die PS-Platte gezogen wurde. beispielsweise kann eine Vorrichtung zum Beschreiben eines Bilds unter Verwendung eines blauen Lasers mit einer Wellenlänge von 405 nm, eine Vorrichtung zum Beschreiben eines Bilds unter Verwendung eines Mikro-Spiegels und eine UV-Lampe oder sogenanntes CTP (Computer To Plate) kommerziell erhältlich sein.
Obwohl dieses Verfahren eine direkte Herstellung der Druckplatten basierend auf digitalen Daten erlauben, müssen in diesen Verfahren die Druckplatten nach dem Drucken eines Bildmusters durch eine neue ersetzt werden, bevor der nächste Druck durchgeführt werden kann. Daher müssen einmal benutzte Druckplatten weggeworfen werden.
Im Gegensatz hierzu wurden Technologien, die einen Schritt der Regeneration einer Platte beinhalten, bereits vorgeschlagen. Beispielsweise wurden gemäß dem offengelegten japanischen Patent (Kokai) Nr. Hei 10-250027 eine latente Bildblockkopie offenbart, die einen Titandioxid-Photokatalysator verwendet, ein Verfahren zum Herstellung der latenten Bildblockkopie und eine Druckvorrichtung mit der latenten Bildblockkopie. Darüber hinaus wurde gemäß dem offengelegten japanischen Patent (Kokai) Nr. Hei 11-147360 ein Verfahren zum Ausführen des Offset-Drucks unter Verwendung einer Druckplatte mit einem Photokatalysator offenbart. Die oben erwähnten vorgeschlagenen Verfahren beinhalten einen Schritt der Bestrahlung mit Licht, d.h. im Wesentlichen mit Ultraviolettlicht, welches den Photokatalysator beim Beschreiben eine Bilds aktivieren kann, und eine Wärmebehandlung wird ausgeführt, um den Photokatalysator so zu hydrophobisieren, dass die Platte regeneriert wird. Darüber hinaus wurde gemäß dem offengelegten japanischen Patent (Kokai) Nr. Hei 11-105234 ein Verfahren zur Beschreibung eines Bildbereichs auf eine solche Weise vorgeschlagen, dass der Photokatalysator durch das Aktivierungslicht, oder das Ultraviolettlicht, hydrophilisiert wurde, und im Anschluss wird ein Bildbereich durch den Wärmemodus-Zeichnen aufgeschrieben.
Jedoch haben Fujishima und Hashimoto, Professoren der Tokyo University, bestätigt, dass ein Titandioxid-Photokatalysator durch eine Wärmebehandlung hydrophilisiert werden könnte [Minabe und andere, "Study of photo-induced hydrophilic conversion an th TiO₂ surfaces involved by structural conformation thereof", ein Material, das beim 5. Symposium der photo functionalized Materials society unter dem Titel "Recent deployment of Photokatalyst Reaction" im Jahr 1998 auf den Seiten 124 bis 125] beschrieben wurde. Gemäß dem oben beschriebenen Material offenbarten die oben eingeführten Verfahren in den jeweiligen Patentveröffentlichungen, dass sie nicht für die Regeneration der Platte sinnvoll sind. In anderen Worten ist die Hydrophobisierung es Photokatalysators durch Wärmebehandlung nicht für die Regeneration der Platte sinnvoll. Somit ist es unmöglich, die Platte zu regenerieren oder dieselbe mittels dieser Verfahren herzustellen.
Im Gegensatz hierzu haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung mit Nachdruck studiert, dass es bei der Druckplattenherstellung möglich ist, ein Bild auf die Druckplatte unter Verwendung einer Schreibvorrichtung aufzuschreiben, die das oben bereits erwähnte Aktivierungslicht verwendet, wobei das Licht eine Wellenlänge von länger als das Aktivierungslicht aufweist, oder ein Inaktivierungslicht, und nach dem Abschluss des Druckprozesses, um die Platte schnell für die Wiederverwendung als Druckplatte zu regenerieren. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben ebenso mit Nachdruck ein Verfahren zur Herstellung wie einer Druckplatte und ein Verfahren zur Regenerierung derselben studiert.
Infolgedessen haben die Erfinder eine Technologie entwickelt, die einen Schritt der Beschichtung einer organischen Verbindung beinhaltet, welche die Oberfläche der Druckplatte zur Regeneration der Regeneration der Platte (oder der Druckplatte) hydrophobisieren könnte. In diesem Fall ist es ein Problem, einen Weg zu ermitteln, den Schritt der Zersetzung des organischen Materials, das in dem Photokatalysator enthalten ist, unter einer Aktivierungslicht-Bestrahlung während des Prozesses der Regeneration der Platte schnell auszuführen.
Währenddessen ist in dem offengelegten japanischen Patent (Kokai) Nr. 2000-6360 eine Technologie offenbart, in der dann, wenn ein Druckprozess bei Verwendung einer Druckplatte abgeschlossen wurde, ein Aktivierungslicht, das hauptsächlich aus Ultraviolettstrahlung zusammengesetzt ist, auf eine Schicht aufgestrahlt wird, die einen Photokatalysator enthält, um ein Bild zu löschen. Es hat jedoch eine lange Zeit gedauert, um das Bild nur durch die Bestrahlung des Aktivierungslichts zu löschen.
Darüber hinaus wird in dem offengelegten japanischen Patent (Kokai) Nr. 2002-1900 eine Technologie offenbart, in der das hydrophile/oleophile Material, das auf der Oberfläche der Druckplatte vorgesehen ist, ein photothermisches Verarbeitungsmaterial ist und eine thermische Strahlung wie etwa eine Infrarotstrahlen Bestrahlung ausgeführt wird, um das Bild zu löschen. Es ist wahr, dass diese Offenbarung enthält, dass dann, wenn das hydrophile/oleophile Material eine metallische Verbindung mit einer Photokatalysator-Eigenschaft ist (d.h. ein hydrophiles/oleophiles Material, das analog zur photosensitiven Schicht gemäß der vorliegenden Erfindung ist), dann ein Aktivierungslicht auf die gesamte Oberfläche aufgestrahlt wird, um das Bild zu löschen. Dabei liegt jedoch kein Nachweis über eine Kombination der Aktivierungsstrahlungs-Bestrahlung und der Wärmeaufbringung hierin vor.
Auf der anderen Seite wurden Technologien vorgeschlagen, in denen ein Photokatalysator so gefertigt ist, dass er mit Siliziumdioxid oder Silikon zusammen vorliegt, um so zu bewirken, dass die Plattenoberfläche eine hochgradig hydrophile Beschaffenheit aufweisen kann, oder die hydrophile Beschaffenheit über eine lange Zeitdauer beibehalten werden kann.
Beispielsweise offenbart die japanische Patentveröffentlichung mit der offiziellen Gazettennummer 2756474 ein Verbindungsmaterial, das aus einem Substrat, das auf dessen Oberfläche mit einer aus einem Photokatalysator hergestellten Beschichtungsfilm, der einen Photokatalysator, wie etwa Titanoxid und Siliziumdioxid enthält, zusammengesetzt ist. Die oben erwähnte offizielle Gazette offenbart ebenso ein Verbindungsmaterial, das aus einem Substrat zusammengesetzt ist, das auf dessen Oberfläche mit einem Photokatalysator gefertigten Beschichtungsfilm angebunden ist, der aus Silizium mit darin gleichmäßig verteilten Photokatalysatormaterial-Partikeln zusammengesetzt ist. Diese Verbindungsmaterialien haben eine Eigenschaft, dass dann, wenn die Verbindungsmaterialien durch optische Energetisierungsmittel hydrophilisiert werden, eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft auf der Oberfläche des Verbindungsmaterials über eine lange Zeitdauer unter einer schwachen Raumbeleuchtung oder an einem dunklen Platz beibehalten werden können.
Die japanische Patentveröffentlichung mit der offiziellen Gazettennummer 3077199 offenbart eine Verbindung, die eine auf der Oberfläche mit einem Material, das aus Photokatalysatorpartikeln wie etwa solchen aus Titanoxid, kleinsten Siliziumdioxidpartikeln und einer Vorstufe aus Siliziumdioxid oder Silikon zusammengesetzt ist, aufweist, und durch optische Energetisierungsmittel hydrophilisiert wird. Diese Verbindung hat eine Eigenschaft, dass die Oberfläche hochgradig hydrophil ist und die hydrophile Eigenschaft beibehalten wird.
Ebenso offenbart die japanische Patentveröffentlichung mit der offiziellen Gazettennummer 3087682 ein hydrophiles Element, das ein photokatalytische Eigenschaft aufweist und aus einem Substrat zusammengesetzt ist, das auf dessen Oberfläche eine Schicht aufweist, die aus einem oxidischen Material mit photokatalysatorischen Eigenschaften wie etwa Titanoxid über eine Acrylsilikon-Kunststoffschicht oder eine Schicht, die ein Oxidmaterial mit einer photokatalytischen Eigenschaft und Siliziumdioxid oder eine Schicht, die ein Oxidmaterial mit einer photokatalytischen Eigenschaft und Silikon enthält, besteht. Dieses hydrophile Element weist eine solche Eigenschaft auf, dass es in Erwiderung auf optische Energetisierungsmittel eine hochgradig hydrophile Eigenschaft zeigt und dessen Oberflächenschicht ist fest mit dem Substrat verbunden.
Es kann hier ebenso ein Material gefunden werden, das eine Beziehung zwischen der Photokatalysator-Eigenschaft und der Umgebungstemperatur offenbart. Beispielsweise offenbart das offengelegte japanische Patent (Kokai) Nr. 2002-79447 ein Verfahren zum Drucken, eine Originalplatte sowie eine Vorrichtung, die dieses Verfahren implementiert, in dem ein Vorteil aus der einzigartigen Temperaturabhängigkeit der Rate oder des Veränderungsgrads der Polarisations-Umrechnung in einem "Material mit einer photokatalytischen Eigenschaft" gezogen wird, um so die Sensibilität und die Lernfähigkeit zu verbessern.
Eine konkretere Beschreibung ist wie folgt. Dies bedeutet, dass eine originale Druckplatte mit einer photokatalytischen Eigenschaft gleichmäßig mit einer Schicht aus einer hydrophoben Distanz beschichtet ist und im Anschluss die oben beschriebene originale Platte eine Wärmeaufbringung bei einer Temperatur von 40°C bis 200°C und einer Aktivierungslicht-Bestrahlung unterzogen wird. Somit wird eine bildähnliche Verteilung, die aus einem hydrophilen Bereich und einem hydrophoben Bereich zusammengesetzt ist, auf der Platte ausgebildet. Das bedeutet, dass 1 gemäß der oben angegebenen Veröffentlichung ein Ergebnis der Messung unter Bedingungen darstellt, dass ein ultraviolettes Licht mit einer Energieintensität von 1,3 mW/cm² (Aktivierungslicht) auf die Oberfläche des Titanoxids bestrahlt wird und eine Messung über eine Zeitdauer ausgeführt wird, die notwendig ist, dass der Wasserkontaktwinkel auf der Oberfläche 5° wird. Studien dieser Figur ergeben, dass dies etwa 280 s benötigt, um zu bewirken, dass die hydrophile Beschaffenheit ein Niveau unterhalb einer üblichen (Raum)-Temperatur erreicht, dass jedoch die Zeitdauer, die für das Erreichen der hydrophilen Beschaffenheit auf einem Niveau um etwa 100 s verkürzt wird, wenn die Platte unter einer Umgebung bei einer Temperatur von 60°C platziert wird. Wie oben beschrieben, offenbart die oben angegebene Veröffentlichung, dass die Rate des Fortschritts in der hydrophilen Beschaffenheit durch die Heranziehung des Vorteils des Temperatureffekts erhöht werden kann.
Ebenso offenbart die oben angegebene Veröffentlichung TiO₂, RtiO₃, AB_2-xC_xD_3-xE_xO₁₀, SnO₂, ZrO₂, Bi₂O₃, ZnO und FeO_x, als Substanzen mit einer photokatalytischen Eigenschaft. Darüber hinaus offenbart die oben angegebene Veröffentlichung eine thermische Isolationsschicht, die zwischen einer Schicht mit einer photokatalytischen Eigenschaft und einem Stützkörper vorgesehen ist. Als thermische Isolationsschicht wird ebenso ein Bindermaterial, das aus einem organischen makromolekularen Material und einem anorganischen Sol-Gel-Umwandlungsmaterial ausgewählt ist, offenbart.
Während der Studien in Bezug auf das Bild-Beschreiben und das Bild auf der Druckplatte mit einem Schichtaufbau, der einen Photokatalysator enthält, bestätigten die Erfinder, dass dann, wenn eine Bildbeschreibung mit einem Aktivierungslicht mit einer Bestrahlung erfolgte, die hoch genug ist, um eine Bildbeschreibungsrate bei einem praktikablen Niveau zu erhalten, die Temperatur an der Plattenoberfläche erhöht wurde. Darüber hinaus haben die Erfinder bestätigt, dass dann, wenn eine Druckplatte eine Anordnung ähnlich der, wie sie in dem offengelegten japanischen Patent (Kokai) Nr. 2002-79774 offenbart wurde, in der oben beschriebenen Bedingung mit erhöhter Temperatur auf der Plattenoberfläche platziert wurde, die Hydrophilisierungsfunktion des Photokatalysators nicht aufgrund der Aktivität der Bestrahlung unter der Wärmeaufbringungsumgebung notwendigerweise verbessert werden konnte. In einigen Fällen wurde die Hydrophilisierungsfunktion des Photokatalysators eher verringert.
Die vorliegende Erfindung soll die oben beschriebenen Probleme lösen und daher ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte zur Verfügung zu stellen. Eine Regenerationsvorrichtung, eine Druckplatte, die es möglich macht, die Druckplatte für die wiederholte Verwendung zu registrieren und eine für die Regeneration der Platte erforderliche Zeitdauer, insbesondere eine Zeitdauer, die für die Zersetzung und Entfernung einer organischen Mischung erforderlich ist, welche einen Bildbereich unter einer Aktivierungslicht-Bestrahlung ausbildet, sind ebenso beschrieben.
Darüber hinaus sind eine Druckplatte, ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, ein Schichtaufbau sowie ein Verfahren zur Herstellung des Aufbaus beschrieben, in denen unter Wärmeaufbringung ein Aktivierungslicht mit einer Energie, höher als die Bandspaltenergie des Photokatalysators, auf die photosensitive Schicht aufgestrahlt wird, so dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophilisiert werden kann.
OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
Aspekte der Erfindung sind in Anspruch 1 definiert. Die abhängigen Ansprüche sind auf optionale und bevorzugte Merkmale gerichtet.
Um die oben beschriebenen Probleme zu lösen, hat die vorliegende Erfindung die nachfolgend angegebenen Gegenmaßnahmen ergriffen.
Dies bedeutet, dass gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte zur Verfügung gestellt wird, das die Wiederverwendung der Druckplatte ermöglicht und wie in Anspruch 1 definiert ist. Die Druckplatte beinhaltet ein Substrat, eine photosensitive Schicht, die auf einer Oberfläche des Substrats vorgesehen ist und einen Photokatalysator enthält, der eine hydrophile Eigenschaft in Reaktion auf eine Bestrahlung mit Aktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als Bandspaltenergie ausübt, und einen hydrophoben Bildbereich, der auf einer Oberfläche der photosensitiven Schicht vorgesehen ist und eine Tintenannahmeeigenschaft aufweist, wobei das Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte die Schritte der Entfernung von auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht anhaftenden Tinte, die Löschung eines Bilds auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht auf eine solche Weise, dass das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht mit der im Schritt der Entfernung von Tinte davon entfernten Tinte beinhaltet, und die photosensitive Schicht so erhitzt wird, dass die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophil gemacht wird, und Aufbringen einer organischen Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht mit dem Schritt des Löschens des Bilds gelöschten Bilds.
Im Schritt des Löschens des Bilds wird die Druckplatte auf der Druckplattenoberfläche mit dem photokatalytischen Aktivierungslicht bestrahlt, um den hydrophoben Bildbereich auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht zu zersetzen, und zur gleichen Zeit wird die Oberfläche der photosensitiven Schicht in eine hydrophile Beschaffenheit überführt, wodurch das Bild gelöscht wird. Zum gleichen Zeitpunkt wird die Bildbereichs-Zersetzung durch Erhitzung der Oberfläche der photosensitiven Schicht unterstützt.
Auf diese Weise kann im Schritt des Entfernens der Tinte die auf der Oberfläche der Druckplatte anhaftende Tinte entfernt werden, im Schritt des Löschens des Lichts wird das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht auf der Druckplatte mit der im oben erwähnten Tintenentfernungsschritt davon entfernten Tinte bestrahlt und die Oberfläche der photosensitiven Schicht wird erhitzt, um die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht zu hydrophilisieren und das Bild auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht zu löschen, um im Schritt des Aufbringens der organischen Mischung wird die organische Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht mit dem davon entfernten Bild aufgebracht. Dementsprechend kann die Druckplatte regeneriert und wiederholt verwendet werden. Daher kann die Menge an nach der Verwendung weggeworfenen Druckplatte deutlich reduziert und die Kosten in Bezug auf die Druckplatte können verringert werden. Darüber hinaus kann, da die photosensitive Schicht auf der Oberfläche unter einer Aktivierungslicht-Bestrahlung erwärmt wird, die Bildlöschung der Platte über eine kurze Zeitdauer mit dem Ergebnis, dass es möglich wird, die Plattenregenerationszeit zu verkürzen, ausgeführt werden.
Im Schritt der Aufbringung der organischen Mischung wird die photosensitive Schicht auf deren Oberfläche mit einer organischen Mischung versehen, die eine solche Beschaffenheit hat, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung mit Aktivierungslicht aufgrund der Reaktion des Photokatalysators zersetzt wird und eine Beschaffenheit, dass die organischen Mischung die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophobisiert.
Mit dem oben beschriebenen Aufbau kann der Nichtbildbereich der photosensitiven Schichtfläche mit dem Aktivierungslicht bestrahlt werden und so hydrophilisiert werden, dass ein Bild darauf geschrieben werden kann. Dies bedeute, dass dann, wenn das Aktivierungslicht für den Photokatalysator auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht gestrahlt wird, der Photokatalysator aktiviert wird, um die organische Mischung, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht platziert wurde, zu oxidieren und zu zersetzen. Zur gleichen zeit wird, da der Photokatalysator selbst eine hydrophile Beschaffenheit annimmt, der bestrahlte Abschnitt der photosensitiven Schicht hydrophil. Somit wird es möglich, einen hydrophilen Bereich (Nichtbildbereich) sowie einen hydrophoben Bereich (Bildbereich) auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht (Druckplattenoberfläche) auszubilden.
Im Schritt der Aufbringung der organischen Mischung wird die photosensitiven Schicht auf deren Oberfläche mit einer organischen Mischung versehen, die eine solche Beschaffenheit aufweist, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung mit Aktivierungslicht aufgrund der Aktionen des Photokatalysators und einer Beschaffenheit, dass die organische Mischung durch Wärmeaufbringung aufschmilzt, um in einer filmähnlichen Form ausgebildet zu werden, zersetzt wird, und die Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophobisiert aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht oder der Fixierung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht.
Als Weg zur oben beschriebenen Wärmeaufbringung wird bevorzugt, eine Wärmebehandlung durch Bestrahlung mit Licht mit einem Energieniveau niedriger als die Bandspaltenergie des Photokatalysators oder mit einem inaktiven Licht auszuführen. Infrarotlicht kann als Beispiel für das "Inaktivierungslicht" angegeben werden. Die Bestrahlung mit einer derartigen Art von Licht wird die organische Mischung aufschmelzen, ohne dieselbe zu zersetzen, die Mischung in einen filmähnlichen Bogen überführen und eine Reaktion mit und/oder die Fixierung auf der photosensitiven Schicht bewirken. Darüber hinaus kann eine andere Anordnung für die Wärmeaufbringung verwendet werden. Beispielsweise ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass ein thermischer Kopf zur Aufbringung von Wärme direkt auf die Beschichtungsoberfläche der organischen Mischung verwendet werden kann.
Mit dem oben beschriebenen Aufbau wird, nachdem die organische Mischung beschichtet ist, wenn das Inaktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht beispielsweise aufgestrahlt wurde und die organische Mischung aufgeschmolzen und auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht anhaftet, um die Oberfläche zu hydrophobisieren, die Oberfläche ein hydrophober Bildbereich werden, auf den ein Bild aufgeschrieben werden kann. Danach wird in der Stufe direkt nach dem Start des Druckens die organische Mischung auf dem Nichtbildbereich aufgrund des Effekts der Tintenviskosität und/oder des Reinigungseffekts des Befeuchtungswassers entfernt. Das bedeutet, dass die hydrophile photosensitive Schichtoberfläche als Nichtbildbereich exponiert ist. Auf diese Weise wird es möglich, einen hydrophilen Bereich (Nichtbildbereich) und einen hydrophoben Bereich (Bildbereich) auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht (Druckplattenoberfläche) auszubilden.
Im Schritt des Löschens des Bilds wird bevorzugt, dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht auf eine Temperatur im Bereich von zumindest 50°C und unterhalb von 200°C erhitzt wird. Mit dieser Anordnung kann die Zersetzungsreaktion der organischen Mischung aufgrund der Aktion des Photokatalysators beschleunigt werden und das Bild auf der Platte kann innerhalb einer kurzen Zeitdauer gelöscht werden, was zum Ergebnis hat, dass es möglich wird, die Plattenregenerationszeit zu verkürzen.
Es wird für den Aufheizprozess im Schritt des Löschens des Bilds bevorzugt, dass dies durch Aufbringen von heißer Luft auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht ausgeführt wird. Alternativ hierzu kann der Aufheizprozess vorzugsweise durch Bestrahlung von Licht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht bewirkt werden.
Das Aktivierungslicht ist vorzugsweise ein solches, das eine Wellenlänge von 600 nm oder niedriger aufweist. Mit dieser Anordnung kann die photokatalytische Aktion auf der photosensitiven Schicht unter Verwendung von Licht mit einer Wellenlänge kleiner als der von sichtbarem Licht aktiviert werden.
Der Photokatalysator ist vorzugsweise ein Titandioxid-Photokatalysator oder ein Titandioxid-Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert.
Währenddessen bedeutet der Begriff "Titandioxid-Photokatalysator des auf sichtbares Licht reagierenden Typs (reformierter Titandioxid-Photokatalysator) eine Substanz, die basierend auf einen Titandioxid-Photokatalysator mit einem metallischen Element oder einem nicht metallischen Element erzeugt wurde, welches sich von den ursprünglich in dem dotierten oder darin gehaltenen Titandioxid-Photokatalysator enthaltenen Elementen oder alternativ hierzu ein Titandioxid-Photokatalysator, der aus einem Titan-Element und einem Sauerstoff-Element bei einem Verhältnis, das von deren stöchiometrischem Verhältnis, d.h. das Verhältnis von Titan-Atomen zu Sauerstoff-Atomen von 1:2 usw. verschoben wurde, zusammengesetzt ist.
Es wird ebenso eine Regenerationsvorrichtung zur Verwendung mit einer Druckplatte beschrieben, die mit der oben bereits erwähnten Vorrichtung zur Unterstützung der Hydrophililsierung aufgebracht wurde, gekennzeichnet durch das Bereitstellen eines Plattenzylinders mit daran angebrachter Druckplatte, die ein Substrat sowie eine photosensitive Schicht beinhaltet, die einen Photokatalysator enthält, der eine hydrophile Beschaffenheit in Reaktion auf ein Aktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als die Bandspaltenergie ausübt, eine Plattenreinigungseinheit zum Entfernen von auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebrachter Tinte, sowie eine Bildlöscheinheit zum Bestrahlen des Aktivierungslichts auf die photosensitive Schicht, um so die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophil zu machen und das Bild auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht zu löschen, eine Aufheizeinheit zum Aufheizen der Oberfläche der photosensitiven Schicht, und die Hydrophilisierung beim Löschen des Bilds zu unterstützen, sowie eine Sprüheinheit für die organische Mischung zum Aufbringen einer organischen Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht.
Dementsprechend bestrahlt die Bildlöscheinheit, nachdem die Plattenreinigungseinheit die auf der Oberfläche der Druckplatte, die an dem Plattenzylinder angebracht ist, beschichtete Tinte entfernt wird, das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der Druckplatte, während die Aufheizeinheit die Oberfläche der Druckplatte aufheizt, wodurch die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophilisiert wird und das auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht ausgebildete Bild gelöscht wird. Danach bringt die Aufbringeinheit auf die organische Mischung eine organische Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht auf.
Somit kann die Druckplatte regeneriert und wiederholt verwendet werden. Daher wird es möglich, das Maß an nach der Verwendung weggeworfenen Druckplatten deutlich abzusenken und die Kosten in Bezug auf die Druckplatte zu reduzieren. Darüber hinaus wird die Bestrahlung mit Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht ausgeführt, um diese zu erwärmen, wodurch es möglich wird, die photokatalytische Aktivierung zu beschleunigen, um die für das Löschen des Bilds auf der Platte erforderliche Zeitdauer zu verkürzen. Auf diese Weise kann die Plattenregenerationszeit verkürzt werden.
Es wird bevorzugt, dass die Aufheizeinheit die Oberfläche der photosensitiven Schicht mittels eines elektrischen Heizers aufheizt. Alternativ hierzu wird auch bevorzugt, dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht mittels Lichtbestrahlung aufgeheizt wird.
Als eine erste Anordnung der Regenerationsvorrichtung wird für die Aufbringeinheit für die organische Mischung bevorzugt, dass diese eine organische Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufbringt, die eine solche Beschaffenheit aufweist, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung mit Aktivierungslicht aufgrund der Aktion des Photokatalysators versetzt wird, und eine solche Beschaffenheit aufweist, dass die organische Mischung die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophobisiert.
Die wie oben beschrieben angeordnete organische Mischung wird auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht, um dieselbe zu hydrophobisieren, und im Bildschritt wird Licht darauf aufgestrahlt. Daher kann die organische Mischung zeitgleich mit der Hydrophilisierung der photosensitiven Schicht zersetzt werden. Somit wird es möglich, eine Platte herzustellen, die aus einem Nichtbildbereich, der die hydrophile Beschaffenheit aufweist, und einem Bildbereich, der die hydrophobe Beschaffenheit aufweist, zu stellen.
Das bedeutet, dass ein Bereich der Oberfläche, der zur hydrophilen Beschaffenheit hin umgewandelt wurde, mit Befeuchtungswasser vorab angebracht wird, welches als Nichtbildbereich agiert, auf dem die hydrophobe Tinte davon abgehalten wird, darauf anzuhaften. Im Gegensatz hierzu ermöglicht ein Bereich der Plattenoberfläche, der vor der Bestrahlung mit Aktivierungslicht geschützt wurde, die Reaktion und/oder Interaktion der organischen Mischung mit der photosensitiven Schichtoberfläche und somit wird die Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophobisiert. Danach wird dieser Bereich der Plattenoberfläche mit Priorität mit hydrophober Tinte angebracht, die als Bildbereich agiert, auf dem Befeuchtungswasser davon abgehalten wird, darauf anzuhaften.
Als Ergebnis hiervon kann der hydrophile Nichtbildbereich und der hydrophobe Bildbereich auf der Druckplattenoberfläche erzeugt werden und die Druckplatte kann als planographe Druckplatte verwendet werden.
Als eine zweite Anordnung der Regenerationsvorrichtung wird bevorzugt, dass die Aufbringeinheit für die organische Mischung eine organische Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufbringt, die eine solche Beschaffenheit aufweist, dass die organische Mischung in Erwiderung auf die Bestrahlung mit Aktivierungslicht aufgrund der Aktion des Photokatalysators zersetzt wird, und eine solche Beschaffenheit, dass die organische Mischung durch Erwärmen aufschmilzt, um so eine filmähnliche Form aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht oder durch Fixierung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht annimmt. Das bedeutet, dass nachdem die Plattenoberfläche, nachdem sie mit der organischen Mischung beschichtet wurde, beispielsweise eine Bestrahlung mit Inaktivierungslicht auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht wird, um die organische Mischung zu erwärmen, die gleiche aufzuschmelzen und auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht zu fixieren, wodurch die Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophobisiert wird. Auf diese Weise kann ein hydrophobisierter Bildbereich auf der Oberfläche beschrieben werden. Dann neigt der hydrophobisierte Bildbereich dazu, eine hydrophobe Tinte mir Vorrang aufzunehmen und das Befeuchtungswasser abzuweisen und somit als Bildbereich zu agieren.
Auf der anderen Seite kann die organische Mischung auf der Druckplattenoberfläche, auf die das Inaktivierungslicht aufgestrahlt wurde, von der Plattenoberfläche gleichzeitig mit dem Start des Druckens aufgrund des Befeuchtungswassers oder der Viskosität der Tinte entfernt werden. Somit ist die hydrophile photosensitive Schichtoberfläche exponiert. Dementsprechend neigt dieser hydrophile Bereich der photosensitiven Schichtoberfläche dazu, das Befeuchtungswasser mit Vorrang anzunehmen und die hydrophobe Tinte abzuweisen und somit als Bildbereich zu agieren.
Als Konsequenz kann der hydrophile Nichtbildbereich und der hydrophobe Bildbereich auf der Druckplattenoberfläche erzeugt werden und die Druckplatte kann als planographe Druckplatte verwendet werden.
Zusätzlich wird eine erste Druckplatte beschrieben, die dadurch gekennzeichnet ist, dass sie eine Regenerationsvorrichtung beinhaltet, die eine Aufbringeinheit für die organische Mischung der ersten Anordnung und eine Bildeinheit zum Bestrahlen von Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht, die mit einer hydrophoben organischen Mischung bedeckt ist, um die hydrophobe organische Mischung zu zersetzen und zu entfernen, sowie das Aussetzen der Oberfläche der hydrophilen photosensitiven Schicht und das Beschreiben eines Bilds auf der Oberfläche der hydrophilen photosensitiven Schicht beinhaltet.
Dementsprechend kann die Bildeinheit das Aktivierungslicht auf den Photokatalysator auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht, die mit der organischen Mischung bedeckt ist, aufstrahlen, um die hydrophobe organische Mischung zu zersetzen und zu entfernen, sowie um die hydrophile photosensitive Schichtoberfläche so zu exponieren, dass die photosensitive Schichtoberfläche ein darauf ausgebildetes Bild (latentes Bild) bekommt, welches aus einem hydrophilen Nichtbildbereich und einem hydrophoben Bildbereich besteht. Somit kann ein Bild wiederum auf der Druckplatte aufgeschrieben werden, welche durch die Regenerationsvorrichtung regeneriert wurde.
Darüber hinaus wird eine zweite Druckpresse zur Verfügung gestellt, die dadurch gekennzeichnet ist, dass sie eine Regenerationsvorrichtung beinhaltet, die die Aufbringungseinheit für die organische Mischung der zweiten Anordnung aufweist, sowie eine Bildeinheit zum Bestrahlen eines Inaktivierungslichts für den Photokatalysator, um so den Bildbereich in Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht zu bringen, so dass die organische Mischung darauf fixiert wird, wodurch ein Bild auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgeschrieben wird.
Dementsprechend erwärmt die Bildeinheit die photosensitive Schichtoberfläche, die mit der organischen Mischung bedeckt ist, um so die photosensitive Schichtoberfläche in Reaktion und/oder Interaktion mit der organischen Mischung zu bringen, so dass die organische Mischung darauf fixiert wird, wodurch ein aus einem hydrophilen Nichtbildbereich und einem hydrophoben Bildbereich zusammengesetztes Bild darauf beschrieben werden kann. Somit kann wiederum ein Bild auf der Druckplatte beschrieben werden, welche durch die Regenerationsvorrichtung regeneriert wurde.
Es wird ebenso eine Druckplatte mit einer photosensitiven Schicht zur Verfügung gestellt, die einen Photokatalysator enthält, welcher es möglich macht, eine Bildbeschreibung und eine Bildlöschung in Erwiderung auf eine Bestrahlung mit Inaktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als die Bandspaltenergie des Photokatalysators auszuführen, wodurch die Druckplatte regeneriert wird, um deren Wiederverwendung der Druckplatte zu ermöglichen, wobei eine die Hydrophilisierung unterstützende Schicht zum Unterstützend er Hydrophilisierung zwischen einem Substrat und der photosensitiven Schicht zur Verfügung gestellt ist.
Mit der oben beschriebenen Anordnung wird es möglich, eine hohe photokatalytische Aktivierung unter der erwärmten Atmosphäre zu erzeugen, mit dem Ergebnis, dass die photosensitive Schichtoberfläche schnell hydrophilisiert werden kann.
Dementsprechend kann die für den Druckprozess erforderliche Zeitdauer verkürzt werden. Insbesondere wird es möglich, die Zeitdauer für die Bildbeschreibung und die Zeitdauer für die Bildlöschung deutlich zu verkürzen, was das Ergebnis hat, dass die Bildvorbereitungszeit verkürzt werden kann.
Es ist für die Hydrophilisierungs-Unterstützungsschicht vorteilhaft, wenn sie eine Wasserrückhalteeigenschaft aufweist.
Es wird bevorzugt, dass das Material mit der Wasserrückhalteeigenschaft aus einer Siliziumdioxid-Mischung zusammengesetzt ist.
Es wird bevorzugt, dass der Photokatalysator ein Titandioxid-Photokatalysator oder eine Titandioxid-Photokatalysator des auf sichtbares Licht reagierenden Typs ist. Mit dieser Anordnung kann das Bild mit einem Licht beschrieben werden, das eine Wellenlänge des sichtbaren Lichts bis zu einer Wellenlänge von ultraviolettem Licht aufweist.
Es wird bevorzugt, dass die Druckplatte eine solche Beschaffenheit aufweist, dass sie dann, wenn ein Aktivierungslicht aufgestrahlt wird, um eine Bildbeschreibung und eine Bildlöschung zu bewirken, zumindest ein Teil der Oberfläche der photosensitiven Schicht von einem hydrophoben zu einem hydrophilen Zustand überführt wird.
Es wird bevorzugt, dass das Aktivierungslicht eine Wellenlänge von 600 nm oder kleiner aufweist.
Es wird bevorzugt, dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht durch eine der folgenden Aktionen hydrophobisierbar ist: ein Bündel von Lichtstrahlen oder Strahlen elektrischer Energie wird alleine oder zusammen auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht, eine Reibung wird auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht oder eine organische Mischung, die in der Lage ist, eine Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht zu bewirken, wird auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht.
Darüber hinaus wird ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte beschrieben, dadurch gekennzeichnet, dass es einen Schritt der Ausbildung der Hydrophilisierungs-Unterstützungsschicht auf dem Substrat und im Anschluss das Ausbilden der photosensitiven Schicht auf der die Hydrophilisierung unterstützenden Schritt beinhaltet.
Zusätzlich wird ein Nichtaufbau beschrieben, der eine photosensitive Schicht aufweist, indem der Schichtaufbau gleichzeitig zwei Eigenschaften ausübt, d.h. eine Eigenschaft, die es möglich macht, eine organische Mischung, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht vorgesehen ist, in Reaktion auf eine Bestrahlung mit Aktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als die Bandspaltenergie des Photokatalysators zu zersetzen, sowie eine Eigenschaft, die es möglich macht, die Oberfläche der photosensitiven Schicht zu hydrophilisieren, und eine Wasserrückhalteschicht, die ein Material enthält, das eine Wasserrückhalteeigenschaft aufweist, ist zwischen einem Substrat und der photosensitiven Schicht vorgesehen.
Es wird bevorzugt, dass das Material, welches die Wasserrückhalteeigenschaft aufweist, eine Siliziumdioxid-Mischung ist.
Es wird bevorzugt, dass der Photokatalysator ein Titandioxid-Photokatalysator oder ein Titandioxid-Photokatalysator ist, der auf sichtbares Licht reagiert.
Es wird ebenso ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtaufbaus beschrieben, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass es einen Schritt der Ausbildung der Wasserrückhalteschicht auf dem Substrat und anschließend das Ausbilden der photosensitiven Schicht auf der Wasserrückhalteschicht beinhalte.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
1 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Druckplatte gemäß einer ersten Ausführungsform zeigt, in der die Oberfläche des Materials eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist;
2 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform zeigt, in der die Form des Materials eine hydrophile Beschaffenheit aufweist.
3 ist eine Reihe schematischer Perspektivansichten, die einen Zyklus davon der Bildbeschreibung zur Regeneration der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform darstellt.
4 ist ein Flussdiagramm zur Erläuterung der Herstellung und Regeneration der Platte gemäß der ersten Ausführungsform, wobei die Regeneration in den Schutzbereich der anhängenden Ansprüche fällt.
5 ist eine schematische Perspektivansicht, die ein Beispiel der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform zeigt.
6 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen einer Aufheiztemperatur und einer Zeitdauer zeigt, die für die Hydrophilisierung im Schritt der Bildlöschung der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform erforderlich ist.
7 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Wasserkontaktwinkel auf der Druckplattenoberfläche und den Zeitdauern (oder jeweiligen Vorgängen) gemäß der ersten Ausführungsform zeigt.
8 ist ein Diagramm, das schematisch eine Druckpresse zum Ausführen des Drucks und Regeneration der Platte gemäß der ersten Ausführungsform zeigt.
9 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen der Temperatur der Plattenoberfläche und der für die Hydrophilisierung im Schritt der Bildlöschung der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform erforderlichen Energie zeigt.
10 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Druckplatte gemäß einer zweiten Ausführungsform zeigt, in der die Oberfläche des Materials eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist.
11 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine Druckplatte gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt, in der die Oberfläche des Materials eine hydrophile Beschaffenheit aufweist.
12 ist eine Reihe schematischer Perspektivansichten, die einen Zyklus von der Bildbeschreibung zur Regeneration der Druckplatte gemäß der zweiten Ausführungsform darstellt, wobei die Regeneration in den Schutzbereich der anhängenden Ansprüche fällt.
13 ist ein Flussdiagramm zur Erläuterung der Herstellung der Platte gemäß der zweiten Ausführungsform.
14 ist eine schematische Perspektivansicht, die ein Beispiel der Druckplatte gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt.
15 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Wasserkontaktwinkel und der Druckplattenoberfläche und den Zeitdauern (oder jeweiligen Betriebsschritten) gemäß der zweiten Ausführungsform zeigt.
16 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen der Temperatur der Plattenoberfläche und der für die Hydrophilisierung im Schritt der Bildlöschung der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform erforderlichen Energie zeigt.
17 ist ein Graph, der zeigt wie die Hydrophilisierungsenergie in Bezug auf die Oberflächentemperatur eines Schichtaufbaus (Druckplatte) als dritte Ausführungsform variiert.
WEGE ZUR AUSFÜHRUNG DER Erfindung
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und weitere vorteilhafte Ausführungsformen werden im Anschluss unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
[1] Erste Ausführungsform
Die 1 und 2 sind Diagramme, die eine Druckplatte (Schichtaufbau) als erste Ausführungsform zeigen. 1 ist eine Querschnittsansicht, die einen Fall zeigt, in dem die Oberfläche der Druckplatte eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist, während 2 eine Querschnittsansicht ist, die einen Fall zeigt, in dem die Oberfläche der Druckplatte eine hydrophile Beschaffenheit aufweist.
Wie in 1 gezeigt, ist die Druckplatte 5 im Wesentlichen aus einem Substrat 1, eine Zwischenschicht 2 sowie einer photosensitiven Schicht (photosensitive Schicht) 3 aufgebaut. Die Druckplatte kann einfach als Druckplatte bezeichnet werden. Darüber hinaus wird eine Druckplatte, die einen Bildbereich auf deren Oberfläche zum Drucken aufweist, als Platte bezeichnet.
Das Substrat 1 ist aus einem Metall wie etwa Aluminium, Edelstahl und einem Polymerfilm oder dergleichen zusammengesetzt. Das Material muss jedoch nicht auf ein Metall wie etwa Aluminium, Edelstahl und einem Polymerfilm beschränkt sein. Der Zwischenfilm 2 ist auf der Oberfläche des Substrats 1 derart ausgebildet, dass das Substrat 1 und die photosensitive Schicht 3, die später beschrieben werden, zuverlässig aneinander anhaften. Der Zwischenfilm ist ebenso vorgesehen, den engen Kontakt zwischen diesen zu verbessern. Darüber hinaus kann die Zwischenschicht 2 abhängig von der Notwendigkeit zum Schutz des Substrats 1, wenn das Substrat 1 aus einem Polymerfilm oder dergleichen gefertigt ist, vorgesehen sein.
Als Material für die Zwischenschicht 2 wird beispielsweise eine Silizium-Mischung wie etwa Siliziumoxid (SiO₂) ein Silikonkunststoff, Silikongummi verwendet. Von diesen Materialien können insbesondere Silikonalkyd-Harz, Silikon-Urethanharz, Silikonepoxidharz, Silikonacrylharz, Silokonpolyesterharz und so weiter als Silikonharz verwendet werden.
Die Zwischenschicht 2 kann eine solche sein, die die photokatalytische Aktion der photosensitiven Schicht 3 erhöht. Als eine derartige Zwischenschicht 2 kann eine Schicht, die einen Halbleiter oder ein elektrisch leitfähiges Material enthält, verwendet werden.
Wenn ein Halbleiter in die Zwischenschicht eingeführt wird, wird ein Oxid-Halbleiter wie etwa Zinkoxid Zno, Zinnoxid SnO₂, Wolframoxid WO₃ bevorzugt. Währenddessen wird bevorzugt, ein Verfahren zur Ausbildung der Zwischenschicht 2 aus sämtlichen dieser Halbleiter zu verwenden. Die Zwischenschicht 2 kann jedoch auch durch ein anderes Verfahren ausgebildet werden, durch das die Halbleiterpartikel zusammen mit anderen Bindermaterialien gebunden werden und in eine filmähnliche Komponente ausgeformt werden.
Darüber hinaus kann dann, wenn ein elektrisch leitfähiges Material eingeführt wird, ein Oxidmaterial wie etwa ITO (Oxidmaterial aus Indium und Zinn), ein Metall wie etwa Aluminium, Silber, Kupfer oder alternativ hierzu Ruß, ein leitfähiges Polymer usw. verwendet werden. Die Zwischenschicht 2 kann aus diesen elektrisch leitfähigen Materialien selbst ausgebildet sein. Alternativ hierzu können Partikel aus dem elektrisch leitfähigen Material in einer filmähnlichen Form zusammen mit anderen Bindermaterialien ausgebildet sein, um die Zwischenschicht 2 bereitzustellen.
Wenn die Zwischenschicht 2, die die oben beschriebenen Halbleiter oder die elektrisch leitfähigen Materialien enthält, zur Verfügung gestellt wird, kann die Beschreibungsrate beim Bildbeschreiben mit Aktivierungslicht erhöht werden, um die Plattenerzeugungszeit zu verkürzen. Darüber hinaus kann die für die Bildbeschreibung erforderliche optisch Energie verringert werden. Darüber hinaus kann die Bestrahlungsenergie des auf die Plattenoberfläche beim Regenerieren der Platte aufgestrahlten Aktivierungslichts zum Löschen (Entfernen) des Bilds verringert werden. Als Grund hierfür wird angenommen, dass Halbleiter oder das elektrisch leitfähige Material, das die Zwischenschicht 2 ausbildet, die Funktion des in der photosensitiven Schicht 3, die später beschrieben werden wird, enthaltenen Photokatalysators erhöht.
Die Zwischenschicht 2 bietet den folgenden Vorteil. Dieser ist, dass dann, wenn eine Wärmebehandlung durchgeführt wird, um die photosensitive Schicht 3 zu bilden, welche später beschrieben wird, eine Unreinheit von dem Substrat 1 in die photosensitive Schicht 3 aufgrund thermischer Diffusion eintreten kann, was zu einer Störung in der photokatalytischen Aktivierung führt. Aufgrund der Zwischenschicht jedoch kann diese Störung in der photokatalytischen Aktivierung verhindert werden.
Die photosensitive Schicht 3 enthält einen Photokatalysator und ist auf der Oberfläche der Zwischenschicht 2 ausgebildet.
Die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ist so angeordnet, dass sie eine hohe photokatalytische Aktivität in Erwiderung auf Bestrahlung mit einem Aktivierungslicht mit einem Energieniveau, das höher als die Bandspaltenergie des Photokatalysators ist, ausübt. Diese Eigenschaft rührt von der Beschaffenheit der Photokatalysators her. 2 zeigt einen Zustand der exponierten photosensitiven Schicht 3, die aufgrund der Bestrahlung mit Aktivierungslicht eine hydrophile Beschaffenheit zeigt. Da die photosensitive Schicht 3, die den hydrophilen Photokatalysator aufweist, exponiert ist, wird es möglich, einen Nichtbildbereich auf der Druckplatte 5 auszubilden.
Eines der Merkmale der Druckplatte 5 gemäß der vorliegenden Ausführungsform ist, dass die photosensitive Schicht 3, die darauf ausgebildet ist, einen Photokatalysator enthält, der auf Licht mit einer Wellenlänge von gleich oder kürzer als sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von 600 nm (d.h. dass das Aktivierungslicht zumindest sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von 400 nm bis 600 nm und ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer 400 nm ist) reagiert. Da die photosensitive Schicht den oben beschriebenen Photokatalysator enthält, zeigt, wenn ein Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als 600 nm auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gestrahlt wird, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 eine hochgradig hydrophile Beschaffenheit. Darüber hinaus oxidiert und zersetzt das aufgestrahlte Licht die organische Mischung, wenn eine organische Mischung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgeschichtet ist. Die organische Mischung wird im Folgenden detaillierter beschrieben.
Der Photokatalysator wird keine photokatalytische Aktivität zeigen, bis das aufgestrahlte Licht ein Energieniveau höher als die Bandspaltenergie aufweist. Beispielsweise wird dieser Photokatalysator, da ein Titandioxid-Photokatalysator eine Bandspaltenergie von 3eV aufweist, nicht auf ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als 400 nm regenerieren.
Gemäß der vorliegenden Ausführungsform wird ein neues Energieniveau in den Bandspalt eingeführt, so dass der Photokatalysator auf Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als 600 nm, was ein sichtbares Licht mit einer Wellenlänge länger als der von ultraviolettem Licht umfasst, reagieren. Selbstverständlich kann das Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer 600 nm ein ultraviolettes Licht enthalten, jedoch muss das Aktivierungslicht nicht notwendigerweise ultraviolettes Licht enthalten. Das bedeutet, dass der Photokatalysator so Anordnung ist, dass er auf Licht reagiert, das nur sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von etwa 600 nm bis 400 nm in einfacher Weise reagiert.
Der auf Licht innerhalb des sichtbaren Bereichs reagierende Photokatalysator kann mittels eines öffentlich bekannten Verfahrens hergestellt werden. Beispielsweise offenbart das offengelegte japanische Patent (Kokai) Nr. 2001-207082 einen Titandioxid-Photokatalysator des auf Licht reagierenden Typs, der mit Stickstoffatomen dotiert ist. Darüber hinaus offenbart das offengelegte japanische Patent (Kokai) Nr. 2001-205104 einen Titandioxid-Photokatalysator des auf Licht reagierenden Typs, der mit Chromatomen und Stickstoffatomen dotiert ist.
Darüber hinaus offenbart das offengelegte japanische Patent (Kokai) Nr. 11-197512 einen Titandioxid-Photokatalysator des auf Licht reagierenden Typs, der Metall-Ionen aufweist, sowie solche aus Ionen-implantiertem Chrom. Es sind auch Informationen hinsichtlich anderer Arten von Titandioxid-Photokatalysatoren des auf sichtbares Licht reagierenden Typs erhältlich, welche unter Verwendung eines Niedertemperatur-Plasmas erzeugt werden, oder in Bezug auf einen Titandioxid-Photokatalysator des auf sichtbares Licht reagierenden Typs, der ein Platin-Atom hält.
Wenn die Druckplatte 5 erzeugt wird, können diese Arten von sogenannten Photokatalysatoren des auf sichtbares Licht reagierenden Typs durch die öffentlich bekannten Verfahren (beispielsweise Titandioxid-Photokatalysator des auf sichtbares Licht reagierenden Typs (modifizierter Titandioxid-Photokatalysator)) verwendet werden.
Wenn der Photokatalysator in Reaktion auf das Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als 400 nm energetisiert wird, kann jede Art von Photokatalysator aus kommerziell erhältlichen üblichen Arten von Titan-Photokatalysatoren ausgewählt und verwendet werden.
Als Titandioxid-Photokatalysator sind rutil-artige, anatas-artige sowie brushit-haltige bekannt. Jede dieser Arten kann in der vorliegenden Ausführungsform verwendet werden und auch eine Mischung hiervon kann verwendet werden. Jedoch werden im Hinblick auf die photokatalytische Aktivität anatas-artige bevorzugt.
Darüber hinaus wird, wie später beschrieben werden wird, um die photokatalytische Aktivität zur Zersetzung der Mischung am Bildbereich unter Bestrahlung mit Aktivierungslicht zu verbessern, gewünscht, dass die Partikel des Titandioxid-Photokatalysators einen etwas kleineren Durchmesser aufweisen. Konkreter weisen die Partikel des Titandioxid-Photokatalysators vorzugsweise einen Durchmesser gleich oder kleiner 0,1 μm und ganz besonders bevorzugt einen Durchmesser gleich oder kleiner als 0,5 μm auf. Als Photokatalysator ist ein Titandioxid-Photokatalysator geeignet. Selbstverständlich ist der Photokatalysator hierauf nicht beschränkt.
In Bezug auf den Titandioxid-Photokatalysator beinhalten dessen spezielle Beispiele, die kommerziell erhältlich sind und in der vorliegenden Ausführungsform verwendet werden können, ST-01, ST-21, deren bearbeitete Produkte ST-K01 und ST K03, wasserverdünntes STS-01, STS-02 und STS-21, die sämtlich von der Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. produziert werden; SSP-25, SSP-20, SSP-M, CSB sowie CSB-M und farbartige LAC Tl-01, LAC Tl-03-A, erzeugt von der Sakai Chemical Industry Co., Ltd. In Bezug auf die Titanoxid-Beschichtungsflüssigkeit zur Verwendung mit dem Photokatalysator beinhalten deren spezielle Beispiele TKS-201, TKS-202, TKC-301, TKC-302, TKC-303, TKC-304, TKC-305, TKC-351, TKC-352, und spezielle Beispiele von Titanoxid-Sol zur Verwendung mit dem Photokatalysator beinhalten TKS-201, TKS-202, TKS-203, TKS-251, sämtlich produziert von der TAYCA Corporation, sowie PTA, TO, TPX und so weiter, erzeugt von ARITEKKUSU und so weiter. Es ist jedoch nicht notwendig zu sagen, dass die vorliegende Erfindung mit einem anderen Titandioxid-Photokatalysator verwirklicht werden kann.
Es wird bevorzugt, dass die Beschichtungsschicht 3 eine Dicke im Bereich von 0,005 bis 1 μm aufweist. Dies ist darin begründet, dass eine zu geringe Filmdicke es schwierig macht, die oben beschriebenen Eigenschaften in zufriedenstellender Weise zu verwenden, während eine zu große Filmdicke dazu neigt, einen Riss der Beschichtungsschicht 3 herbeizuführen, wodurch ein Absenken in der Haltbarkeit bewirkt wird. Die Rissbildung wird von Zeit zu Zeit dann beobachtet, wenn die Filmdicke 10 μm übersteigt, so dass es nicht notwendig ist, diesem Problem Beachtung zu schenken, wenn die Filmdicke 10 μm beträgt. Vom praktischen Gesichtspunkt her ist es bevorzugt, dass die Filmdicke auf etwa 0,01 bis etwa 0,5 μm eingestellt wird.
Darüber hinaus kann als Verfahren zur Ausbildung der photosensitiven Schicht 3 jedes Verfahren, das in geeigneter Weise aus einem Sol-Beschichtungsverfahren, einem Organotitan-Verfahren, einem Dampfablagerungsverfahren oder dergleichen zur Ausbildung der Schicht ausgewählt ist, angewendet werden. Zu diesem Zeitpunkt kann dann, wenn beispielsweise das Sol-Beschichtungsverfahren ausgewählt wurde, die hierfür verwendete Sol-Flüssigkeitsbeschichtung mit einem Lösungsmittel, einem Vernetzungsagens, einem oberflächenaktiven Stoff oder dergleichen zusätzlich zu den oben beschriebenen jeweiligen Materialien hinzugegeben werden, welche die Festigkeit des Titandioxid-Photokatalysators und der photosensitiven Schicht 3 sowie die enge Anhaftung zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 verbessert.
Die Sol-Beschichtungsflüssigkeit kann entweder eine solche sein, die bei Raumtemperatur trocknet, oder eine solche, die bei Aufbringung von Wärme trocknet. Es ist mehr bevorzugt, die letztere Art zu verwenden. Dies ist darin begründet, dass es vorteilhafter ist, die Dauerhaftigkeit der Druckplatte 5 beim Drucken dadurch zu erhöhen, dass die Festigkeit der photosensitiven Schicht 3 durch die Wärmeaufbringung erhöht wird. Darüber hinaus kann die photosensitive Schicht 3 so durch verschiedene Verfahren erzeugt werden, dass sie eine höhere Festigkeit aufweist. Beispielsweise kann eine Titanoxid-Zwischenschicht auf einem Metallsubstrat in einer Vakuumkammer unter Verwendung eines Dampfablagerungsverfahrens oder dergleichen aufgebracht werden, und im Anschluss wird eine Kristallisierung durch Ausführen einer Wärmebehandlung eintreten, so dass die photosensitive Schicht eine große Festigkeit aufweist.
Für die Hydrophilisierung der photosensitiven Schicht 3 ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass die organische Mischung wünschenswerter Weise eine solche Funktion aufweist, dass sie eine chemische Reaktion oder starke Interaktion mit zumindest dem hydrophilen Bereich der Druckplattenoberfläche 5 (Oberfläche für die Platte) unterstützt, um die hydrophile Oberfläche abzudecken und die hydrophile Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in eine hydrophobe umzuwandeln. Zur gleichen Zeit weist die organische Mischung vorzugsweise eine solche Beschaffenheit auf, dass sie leicht aufgrund der Aktion der Oxidation und Zersetzung des Photokatalysators unter Bestrahlung mit Aktivierungslicht zersetzt wird.
Die oben beschriebenen Arten organischer Mischungen können in zwei Arten abhängig von dem System der Beschreibung klassifiziert werden.
Die betreffende Ausführungsform wird basierend auf einem Fall beschrieben werden, in dem eine der zwei Arten organischer Mischungen verwendet wird, d.h., dass eine Beschreibung für einen solchen Fall angegeben wird, bei dem die zwei Beschreibungssysteme verwendet werden. In Bezug auf das zwar andere Beschreibungssystem wird dessen Beschreibung zusammen mit der zweiten Ausführungsform zur Verfügung gestellt.
Das bedeutet, dass die in der vorliegenden Ausführungsform (Typ A) verwendete organische Mischung auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufgebracht wird und nur auf die Trocknung oder Wärmetrocknung abhängig von der Notwendigkeit, eine Reaktion und/oder starke Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 zu bewirken, reagiert. Somit kann die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert werden. Darüber hinaus wird dann, wenn das Aktivierungslicht auf die Oberfläche aufgestrahlt wird, die organische Mischung aufgrund der Aktion des Photokatalysators und der photosensitiven Schicht 3 zersetzt, mit dem Ergebnis, dass die Mischung von der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 entfernt werden kann.
In Bezug auf die oben beschriebene organische Mischung beinhalten speziell bevorzugte Beispiele eine organische Titan-Mischung, eine organische Silan-Mischung, eine Isocyanat-Mischung und eine Epoxid-Mischung. Da diese Arten von Mischungen mit einer Hydroxidgruppe, die auf der hydrophilen Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die auf der Oberfläche zu fixieren ist, reagieren kann, wird eine organische Mischungsschicht aus einer monomolekularen Schicht (nicht gezeigt) auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in Übereinstimmung mit deren Prinzipien ausgebildet. Auf diese Weise wird eine Hydrophilisierung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 bei der monomolekularen Schicht bewirkt, mit dem Ergebnis, dass es leicht wird, die Mischung unter Bestrahlung mit Aktivierungslicht zu zersetzen.
Beispiele derartiger organischer Titan-Mischungen sind wie folgt. 1) Titanalkoxide, wie etwa Titan-Tetroisopropoxid, Titan-Tetra-n-Propoxid, Titan-Tetra-n-Butoxid sowie Titan-Tetra-Isobutoxid, Titan-Tetra-Stearoxid; 2) Titenalkylate wie etwa Tri-n-Butoxytitan-Stearat und Isopropoxy-Titan-Tristearat; 3)Titan-Chelat wie etwa Diisopropoxy-Titan-Bisacetylacetonat, Dihydroxy-Bislactato-Titan und Isopropoxy-Titan-Octylen-Glykol.
Beispiele der organischen Silan-Mischungen sind wie folgt: 1) Alkoxysilan wie ein Trimethylmethoxysilan, Trimethylethoxysilan, Dimethyldiethosysilan, Methyltrimethoxysilan, Tetramethoxysilan, Methyltrimethoxysilan, Tetramethoxysilan, Methyldimethoxysilan, Octadecyltrimethoxysilan, und Octadecyltrimethosysilan; 2) Chlorosilane wie Trimeethylchlorosilan, Dimethyldichlorosilan, Methyltrichlorosilan, Methyldichlorosilan, und Dimethylchlorosilan; 3) Silan Kopplungs-Agentien wie Vinyltrichlorosilan, Vinyltriethosysilan, γ-Chloropropyltrimethosysilan, γ-Chloropropylenmethyldichlorosilan, γ-Chloropropylmethyldimethoxysilan, γ-Chloropropylmethyldiethoxysilan, und γ-Aminopropyltriethoxysilan; und 4) Fluoroalkylsilan wie Perfluoralkyltrimethoxysilan.
Beispiele der Isocyanat-artigen Mischungen enthalten Dodecyl-Isocyanat, Octadecyl-Isocyanat, und dergleichen.
Des weiteren beinhalten Beispiele der epoxidartigen Mischungen 1,2-Epoxy-Decan, 1,2-Epoxy-Hexadecan, 1,2-Epoxy-Octadecan und dergleichen.
Organische Titan-Mischungen, organische Silan-Mischungen, Isocyanat-artige Mischungen und Epoxid-artige Mischungen sind nicht auf die oben aufgelisteten Substanzen beschränkt.
Wenn die Mischungen bei Raumtemperatur in flüssigem Zustand vorliegen, können die oben aufgelisteten organischen Mischungen auf der photosensitiven Schicht 3 mittels einer Abstreifbeschichtung, eines Sprüh-Beschichtungsverfahrens, eines Eintauchbeschichtungsverfahrens oder dergleichen beschichtet werden oder können auf demselben durch Aufsprühen mit feinen Partikeln beschichtet werden. Darüber hinaus kann die Flüssigkeit bei einer Verdampfung bis zu einer Temperatur unterhalb derer eine Zersetzung eintritt, erwärmt werden. Ebenso kann die Flüssigkeit durch eine Nebelerzeugungsvorrichtung für eine Flüssigkeit unter Verwendung von Ultraschall, d.h. einen soggenannten Vernebler, verdampft werden. Somit kann die Flüssigkeit auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgesprüht werden. Dabei ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass die Flüssigkeit mit einem anderen Lösungsmittel zum Zwecke der Einstellung der Konzentration, Viskosität oder dergleichen der organischen Mischungen verdünnt werden kann.
Ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte und ein Verfahren zur Regeneration derselben, welches in den Schutzbereich der anhängenden Ansprüche fällt, wird im Anschluss beschrieben.
Wie in 4 gezeigt, ist der Strom der Erzeugung und Regeneration der Platte so, dass er einen Schritt der Aufbringung einer organischen Mischung (Schritt der Hydrophilisierung der Plattenoberfläche) (S200), einen Schritt des Beschreibens eines Bilds (S210), einen Schritt des Druckens (S220), einen Schritt der Entfernung von Tinte (S230), sowie einen Schritt des Löschens eines Bilds (S240) beinhaltet.
Zu Beginn wird eine Beschreibung eines Verfahrens der Herstellung der Druckplatte angegeben.
In der nachfolgend angegebenen Beschreibung bedeutet der Begriff "Herstellung einer Platte" die Herstellung einer Druckplatte 5, deren Oberfläche (d.h. die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3) hydrophobisiert ist (Anfangszustand), um ein Aktivierungslicht auf zumindest einen Teil der Oberfläche auf die Druckplatte 5 basierend auf den digitalen Daten zu strahlen, um einen hydrophilen Nichtbildbereich auszubilden, sowie um ein latentes Bild auszubilden, das aus einem hydrophoben Bildbereich und einem hydrophilen Nichtbildbereich besteht, auf der Oberfläche der Druckplatte 5 zusammen mit dem hydrophoben Bereich (d.h. dem Bildbereich) der Oberfläche der Druckplatte 5, auf die das Aktivierungslicht aufgestrahlt wird.
Wie im Schritt (a) aus 3 gezeigt, wird eine organische Mischung auf die Oberfläche der Flüssigkeitssystem 3, die vollständig im vorhergehenden Schritt (dem Schritt des Löschens des Bilds) (Schritt S240)) hydrophilisiert wurde, aufgeschichtet, und anschließend wird eine Reaktion und/oder Interaktion zwischen der organischen Mischung und der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 bewirkt (Schritt der Hydrophobisierung der Plattenoberfläche (Schritt S200)). Das Diagramm aus Schritt (a) aus 3 illustriert einen Anfangszustand, in dem die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 oder die gesamte Oberfläche der Druckplatte 5 mit der organischen Mischung beschichtet und hierdurch hydrophobisiert ist. In diesem Fall ist, wie dies in 1 gezeigt ist, die hydrophobisierte Oberfläche der Druckplatte 5 die Oberfläche der Druckplatte 5, die einen Kontaktwinkel des Wassers 6 von 50° oder mehr und ganz besonders bevorzugt 80° oder mehr zeigt. Somit ist es für die hydrophobe Tinte für das Drucken leicht, daran anzuhaften, während es für das Befeuchtungswasser schwer ist, daran anzuhaften.
Darüber hinaus wird der Zustand der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 als "Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung" bezeichnet. Dieser "Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung" kann als Zeitpunkt betrachtet werden, bei dem der Schritt des Druckens (Schritt S220) tatsächlich beginnt. Noch konkreter kann dieser Zustand als ein solcher betrachtet werden, in dem die digitalisierten Daten in Bezug auf ein beliebiges Bild schon vorbereitet sind und die Daten auf die Druckplatte 5 aufgeschrieben werden sollen.
Danach wird, wie dies beim Schritt (b) aus 3 gezeigt ist, beim Schritt des Bildbeschreibens (Schritt S210) ein Bild auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die in den hydrophoben Zustand gebracht wurde, aufgeschrieben.
Diese Bildbeschreibung wird auf eine solche Weise ausgeführt, dass auf Basis der digitalen Daten in Bezug auf das Bild, der Nichtbildbereich auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 so beschrieben wird, dass er mit dessen Daten korrespondiert. Auf diese Weise wird die Bildbeschreibung ausgeführt. In diesem Fall ist, wie dies in 2 gezeigt ist, der Nichtbildbereich ein hydrophiler Bereich, auf dem der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich dem oder kleiner gleich 10° ist. Somit ist es für das Befeuchtungswasser leicht, daran anzuhaften, während es für die hydrophobe Tinte für das Drucken schwer ist, hiervon angenommen zu werden.
Als Verfahren zum Erzeugen des hydrophilen Nichtbildbereichs basierend auf den Bilddaten wird ein Aktivierungslicht auf die photosensitive Schicht 3, die einen Photokatalysator enthält, der eine photokatalytische Aktivität in Erwiderung auf Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kleiner 600 nm, d.h. ein Aktivierungslicht aufweist, aufgestrahlt. Mit dieser Aktivierungslicht-Bestrahlung wird der Photokatalysator aktiviert, um die organische Mischung zu oxidieren und zu zersetzen, wodurch die organische Mischung von der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 entfernt werden kann. Zu diesem Zeitpunkt ist die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophilisiert.
Auf der anderen Seite wird ein Bereich der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, auf dem kein Aktivierungslicht aufgestrahlt wurde, in seinem Zustand mit hydrophober Beschaffenheit beibehalten. Somit wird auf der Oberfläche der Druckplatte 5 ein hydrophiler Bereich und ein hydrophober Bereich ausgebildet. Das bedeutet, dass wie im 5 gezeigten Beispiel ein Bereich 3a, auf den ein Aktivierungslicht aufgestrahlt wurde, ein Nichtbildbereich wird, der eine hydrophile Beschaffenheit aufweist, während ein Bereich 3b, der nicht mit Aktivierungslicht bestrahlt wurde, ein Bildbereich wird, der eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist, wodurch die Platte hergestellt werden kann.
Im Schritt (b) aus 3 wird der Nichtbildbereich 3a mittels eines Schreibkopfs beschrieben, der ein sichtbares Licht verwendet, beispielsweise ein Violettlaser mit einer Wellenlänge von 405 nm. Somit wird ein Nichtbildbereich 3a auf der Oberfläche der hydrophoben photosensitiven Schicht 3 ausgebildet.
In Bezug auf das Verfahren zur Herstellung des hydrophilen Nichtbildbereichs 3a basierend auf den Bilddaten kann zusätzlich zu dem Schreibkopf unter Verwendung des Violettlasers mit einer Wellenlänge von 40 nm eine Einheit zum Beschreiben eines Bild unter Verwendung von Aktivierungslicht verwendet werden. Beispielsweise kann eine Anordnung verwendet werden, die einen Schreibkopf durch gemeinsames Einführen einer Lichtquelle, die in der Lage ist, ein Licht mit einer Wellenlänge von 360 nm bis 400 nm zu erzeugen und in einem UV-Setter 710, der von der basysPrint Corporation (Deutschland) hergestellt wird, und einen Mikrospiegel umfasst, aufgebaut ist.
Wenn der oben beschriebene Bildbeschreibungsschritt (Schritt S210) abgeschlossen ist, werden im Schritt (c) aus 3 der Bildbereich und der Nichtbildbereich auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet und dann wird das Drucken im nächsten Druckschritt (Schritt S220) ermöglicht.
Im Druckschritt (Schritt S220) wird die Druckplatte 5 auf deren Oberfläche mit einem Befeuchtungswasser und einer sogenannten emulgierten Tinte mit einer hydrophoben Drucktinte und dem darin vermischten Befeuchtungswasser beschichtet.
Daher wird dann, wenn beispielsweise das in 5 gezeigte Bild aufgeschrieben wird, der Halbton-Repräsentationsabschnitt (d.h. der hydrophobe Bildbereich) 3b mit der hydrophoben Tinte aufgebracht. Im Gegensatz hierzu wird der verbleibende blanke Abschnitt (d.h. der hydrophile Nichtbildbereich) 3a mit dem Befeuchtungswasser mit Vorrang aufgebracht und die hydrophobe Tinte wird abgestoßen und es wird verhindert, dass sie daran anhaftet. Auf diese Weise erscheint das Bild (Muster) und die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 kann als Druckplatte agieren. Danach wird das Drucken ausgeführt und der Druck wird abgeschlossen.
Ein Verfahren zur Regeneration der Druckplatte in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung wird im Anschluss beschrieben.
In der nachfolgenden Beschreibung bedeutet der Begriff "Regeneration einer Platte" eine Reihe von Prozessen inklusive eines Prozesses, einer Druckplatte 5 mit einer Oberfläche, die eine hydrophobe Beschaffenheit aufweist, an zumindest einem Teilbereich hiervon, und einer hydrophilen Beschaffenheit am verbleibenden Bereich hiervon vollständig und gleichmäßig zu hydrophilisieren, und im Anschluss eine organische Mischung auf die hydrophile Oberfläche der Druckplatte 5 auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufzubringen, so das eine Reaktion und/oder Interaktion in der organischen Mischung mit der photosensitiven Schicht 3 bewirkt wird, um die Oberflächeneigenschaft der photosensitiven Schicht 3 (d.h. die Oberflächeneigenschaft des Photokatalysators) von hydrophil in hydrophob umzuwandeln, und wiederum den "Ursprungszustand der Druckplatten-Herstellung" wiederherzustellen.
Der Prozess zum vollständigen und gleichmäßigen Hydrophilisieren der Oberfläche der Druckplatte vor der Hydrophobisierungs-Bearbeitung wird so ausgeführt, dass das Bild auf der Platte vollständig gelöscht werden kann.
Anfangs werden, wie dies im Schritt (d) aus 3 gezeigt wird, beim Tintenentfernungsschritt (Schritt S230) Tinte, Befeuchtungswasser, Papierstopp und dergleichen, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 nach dem Abschluss des Druckens anhafteten, entfernt. Die Verfahren zur Entfernung von Tinte beinhalten ein Verfahren zum Stoppen der Tintenzufuhr auf die Oberfläche der Druckplatte 5 und die Verringerung der Menge von Tinte auf der Druckfläche, ein Verfahren zum Abwischen der Tinte auf der Oberfläche der Druckplatte 5 durch einen Wischmechanismus, der ein stoffähnliches Band zum Abwischen der Tinte verwendet, ein Verfahren zum Abwischen der Tinte auf der Oberfläche der Druckplatte 5 mittels einer Walze, die darum herum ein ähnliches ? Material gewickelt hat, zum Abwischen der Tinte, ein Verfahren zum Aufsprühen einer Reinigungsflüssigkeit mittels eines Sprühers auf die Oberfläche der Druckplatte 5, um die Tinte abzuwaschen, und dergleichen. Jedes Verfahren kann in geeigneter Weise ausgewählt werden.
Im Anschluss wird, wie dies im Schritt (e) aus 3 gezeigt ist, das Aktivierungslicht auf die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, so dass auch der Bildbereich 3b hydrophilisiert werden kann und die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 eine hydrophile Oberfläche wird, deren Kontaktwinkel zu Wasser 6 gleich oder kleiner als 10° ist. Das bedeutet, dass die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 dazu gebracht wird, den in 2 gezeigten Zustand anzunehmen. Somit kann das Bild vollständig gelöscht werden (Bildlöschschritt (Schritt S240)).
Zu diesem Zeitpunkt ist eines der Merkmale der vorliegenden Erfindung, dass dann, wenn das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gleichzeitig erhitzt wird. In anderen Worten kann dann, wenn die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 unter den Bestrahlung mit Aktivierungslicht erhitzt wird, die Zersetzungsreaktion der organischen Mischung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 beschleunigt werden, was das Ergebnis hat, dass das Bild auf der Platte in kurzer Zeit gelöscht werden kann.
Darüber hinaus ist, wie dies in 6 gezeigt wird, die Höhe der Temperatur, bei der die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 unter der Bestrahlung mit Aktivierungslicht erwärmt wird, desto kürzer die Zeitdauer, die für die Herstellung eines Kontaktwinkels zum Wasser 6 gleich oder kleiner 10° erforderlich ist, d.h. desto kürzer ist die Zeit, die benötigt wird, die Oberfläche der photosensitiven Schicht zu hydrophilisieren. Dementsprechend kann die Hydrophilisierung der Oberfläche der Druckplatte 5 unterstützt werden.
In diesem Beispiel wird, wie dies im Schritt (e) aus 3 gezeigt wird, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht durch eine Ultraviolett(UV)-Lampe bestrahlt und die photosensitive Schicht 3 wird mittels einer Infrarot(IR)-Lampe erwärmt.
Als Verfahren zur Wärmeaufbringung wird bevorzugt, eine Heißluft-Ventilation oder eine Lichtbestrahlung zu verwenden, die in der Lage sind, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufzuheizen. Darüber hinaus wird als Licht zur Bestrahlung ein Infrarotlichtstrahl bevorzugt, wenn eine Art von Licht für die Aufheizung im Hinblick auf die Effizienz ausgewählt wird. Darüber hinaus können dann, wenn Wärme auf die Plattenoberfläche aufgebracht werden soll, Mittel hierfür ein elektrischer Heizer sein.
Ein anderes Verfahren der Wärmeaufbringung beinhaltet ein Verfahren, bei dem ein Aufheizer innerhalb eines Plattenzylinders vorgesehen ist, an dem die Druckplatte 5 angebracht ist, und Wärme aufgebracht wird. Gemäß diesem Verfahren wird der Plattenzylinder selbst bis zu einer exzessiv hohen Temperatur erwärmt. Daher können im nachfolgenden Druckschritt (Schritt S220) die die Druckqualität beeinflussenden physikalischen Eigenschaften wie etwa die Viskosität der Tinte aufgrund des Einflusses der Temperatur fluktuieren. Dementsprechend muss dies bei Anwendung dieses Verfahrens berücksichtigt werden.
Im Bildlöschschritt (Schritt S240) gewinnt die photosensitive Schicht 3 die hydrophile Eigenschaft auf deren gesamter Oberfläche aufgrund der Wärmeaufbringung und Bestrahlung mit Aktivierungslicht wieder. Anschließend kehrt die Bearbeitung zum Hydrophobisierungsschritt (Schritt S200) der Plattenoberfläche, wie er bei Schritt (a) aus 3 gezeigt ist, zurück, indem die organische Mischung darauf aufgebracht wird, um die organische Mischung in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 zu bringen, so dass die Eigenschaft der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 (Eigenschaft der Katalysatoroberfläche) von hydrophil zu hydrophob umgewandelt wird (d.h. dass ein Hydrophobisierungs-Bearbeiten ausgeführt wird). Somit kann der Ursprungszustand der Druckplatten-Herstellung eintreten.
7 ist ein Graph, der insgesamt illustriert, was oben bereits beschrieben wurde. Im Graph aus 7 ist die Zeit (oder der Betrieb) auf der Abszisse abgetragen, während der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der Druckplatte 5 auf der Ordinate abgetragen ist. Daher illustriert dieser Graph, wie der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht mit dem Zeitablauf oder dem Betrieb in Bezug auf die Druckplatte 5 gemäß der vorliegenden Erfindung variiert. Das bedeutet, dass Bezug genommen werden kann hinsichtlich der Bewertung, welchen Zustand die Oberfläche annimmt, entweder hydrophob oder hydrophil. In 7 stellt die gepunktete Linie die Variation des Kontaktwinkels des Nichtbildbereichs 3a dar, während die durchgezogene Linie die Variation des Kontaktwinkels des Bildbereichs 3b darstellt.
Anfangs wird das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, so dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in einen Zustand gebracht wird, der eine hochgradig hydrophile Eigenschaft aufweist, so dass der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder kleiner 10° ist.
Anschließend wird beim Hydrophobisierungsschritt die Plattenoberfläche (Schritt S200) (der bei A in 7 gezeigte Schritt) die organische Mischung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgebracht, um die organische Mischung in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 zu bringen, so dass die Eigenschaft des Photokatalysators der photosensitiven Schicht 3 von hydrophil zu hydrophob umgewandelt wird. Somit wird der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder größer als 50° oder noch bevorzugter wird er gleich oder größer 80°. Ein Zeitpunkt (a) in 7 stellt den Startzeitpunkt der Hydrophobisierungs-Bearbeitung dar, während der Zeitpunkt (b) in 7 einen Endzeitpunkt der Hydrophobisierungs-Bearbeitung darstellt, d.h. den Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung.
Danach wird beim Bildbeschreibungsschritt (Schritt S210) (Nichtbildbereichs-Beschreibungsschritt (Schritt, der bei B in 7 gezeigt ist), das Aktivierungslicht auf die hydrophobe Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, so dass die Beschreibung des Nichtbildbereichs 3a begonnen wird (Zeitpunkt (b) in 7). Auf diese Weise wird die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die mit Aktivierungslicht bestrahlt wurde, von hydrophob zu hydrophil umgewandelt. In anderen Worten wird der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gleich oder kleiner 10°. Auf der anderen Seite verbleibt die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die nicht mit Aktivierungslicht bestrahlt wurde, im hydrophoben Zustand. Somit wird der nicht mit Aktivierungslicht bestrahlte Bereich der hydrophobe Bildbereich b, während der mit Aktivierungslicht bestrahlte Bereich ein hydrophiler Nichtbildbereich 3a wird, mit dem Ergebnis, dass die Oberfläche als Platte agieren kann.
Dann wird, nachdem der Nichtbildbereich 3a beschrieben wurde, beim Druckschritt (Schritt S220) (Schritt, der bei C in 7 gezeigt wird) das Drucken begonnen (Zeitpunkt (c) in 7).
Nachdem das Drucken abgeschlossen wurde, werden im Tintenentfernungsschritt (Schritt S230) (Schritt, der bei D in 7 gezeigt ist), die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 verbleibende Tinte, Staub und dergleichen entfernt (Zeitpunkt (d) in 7).
Nachdem die Tintenentfernung abgeschlossen wurde, wird beim Bildlöschschritt (Schritt S240) (Schritt, der bei E in 7 gezeigt ist), das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gestrahlt und die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 wird erwärmt (Zeitpunkt (e) in 7). Auf diese Weise kann der hydrophobe Bildbereich 3b schnell zersetzt und aufgrund der Photokatalysators entfernt werden und der Photokatalysator wird von hydrophob zu hydrophil umgewandelt. Somit kann die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophil sein. In anderen Worten kann aufgrund des Bildlöschschritts (Schritt S240) die Historie der Platte vollständig gelöscht werden.
Danach wird beim nächsten Hydrophobisierungsschritt der Platte (Schritt S200) (Schritt, der bei A' in 7 gezeigt ist), die organische Mischung wiederum auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgebracht, um so die organische Mischung in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 zu bringen (Zeitpunkt (a') in 7), wobei der "Ursprungszustand der Druckplatten-Herstellung" auf der Druckplatte 6 wiedergewonnen werden kann. Somit kann die Druckplatte 5 wiederverwendet werden.
Wenn die oben beschriebenen Druck- und Platten-Regeneration auf einer Druckpresse ausgeführt werden, wird bevorzugt, ein Drucksystem (Druckpresse) 10, wie es in 8 gezeigt ist, zu verwenden.
Die Druckpresse 10 ist aus einem Plattenzylinder zusammengesetzt, der an dessen Zentrum vorgesehen ist, einer Plattenreinigungseinheit 12, die um den Plattenzylinder herum vorgesehen ist, einer Bildeinheit 13, einer Aufbringeinheit 14 für die organische Mischung, einer Aufheizelement 15, einer Hydrophilisierungs-Bearbeitungseinheit 16, die ein Aktivierungslicht aufstrahlt und als Bildlöscheinheit dient, einen Auftragsroller 17, eine Aufbringeinheit 18 für Feuchtigkeitswasser sowie ein Deckzylinder 19. Die Druckplatte 5 ist um den Plattenzylinder 11 herum gewunden.
Die Platten-Regeneration und -Fabrikation wird im Anschluss unter Bezugnahme auf 8 beschrieben. Anfangs wird die Plattenreinigungseinheit 12 in Kontakt mit dem Plattenzylinder 11 gebracht, so dass Tinte, Feuchtigkeitswasser, Papierstaub und dergleichen, die auf der Oberfläche des Plattenzylinders 5 anhaften, sauber abgewischt werden können. Obwohl die Plattenreinigungseinheit 12, die in 8 gezeigt ist, eine solche ist, die einen Mechanismus mit einem aufgewickelten Stoffband zum Abwischen der Tinte aufweist, ist die Anordnung der Einheit nicht hierauf beschränkt.
Danach wird die Plattenreinigungseinheit 12 weg von dem Plattenzylinder 11 gebracht und die Aufheizeinheit 15 wird auf der Oberfläche der Druckplatte 5 aktiviert, um diese zu erhitzen. Zum gleichen Zeitpunkt wird die Hydrophilisierungs-Bearbeitungseinheit 16, die ein Aktivierungslicht aufstrahlt, aktiviert, um das Aktivierungslicht auf die gesamte Oberfläche der Druckplatte 5 aufzustrahlen. Somit wird die gesamte Oberfläche der Druckplatte 5 hydrophilisiert. In diesem Fall wird ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 400 nm oder weniger als Aktivierungslicht verwendet. Wenn der Photokatalysator jedoch eine Aktivierungsbeschaffenheit unter Licht mit einer Wellenlänge von 400 nm bis 600 nm aufweist, kann auch ein Licht mit einer Wellenlänge von 400 nm bis 600 nm verwendet werden.
Anschließend wird die Aufbringeinheit 14 für die organische Mischung aktiviert, um die organische Mischung auf die gesamte Oberfläche der Druckplatte 5 aufzubringen, um so die organische Mischung in Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 zu bringen, wodurch die Druckplatte 5 vollständig hydrophobisiert werden kann. Obwohl in 8 die Aufbringeinheit 14 für die organische Mischung eine Rollenbeschichtungseinheit ist, ist die Anordnung der Einheit nicht hierauf beschränkt.
Im Anschluss wird die Bildbeschreibungseinheit 13 aktiviert, um das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der Druckplatte 5 auf Basis der digitalen Daten des vorab bereitgestellten Bilds aufzustrahlen und somit wird ein Nichtbildbereich 3a beschrieben (d.h. das Bild auf der Oberfläche der Punkt 5 aufgetragen).
Nachdem das Bild beschrieben wurde, werden die Tintenwalze 17, Der Quelllösungs-Zuführer 18 und der Deckzylinder 19 in Kontakt mit dem Plattenzylinder gebracht, so dass ein Papierbogen 20 in Kontakt zum Deckzylinder 19 gehalten wird. Dann werden die Zylinder in diejenigen Richtungen gedreht, die jeweils durch die Pfeile in 8 angedeutet sind, wodurch die Druckplatte 5 auf deren Oberfläche mit dem Feuchtigkeitswasser und der Tinte aufgebracht wird, um das Drucken auf dem Papierbogen 20 auszuführen.
Wie oben beschrieben, agieren die Druckpresse 10, die Plattenreinigungseinheit zum Reinigen der Oberfläche der Druckplatte 5, die am Plattenzylinder 11 angebracht ist, die Hydrophilisierungs-Bearbeitungseinheit 16, die eine Bestrahlung mit Aktivierungslicht verwendet, zum Ausführen einer Bildlöschung mit der Bestrahlung mit Aktivierungslicht, die Aufbringeinheit 14 für die organische Mischung zum Aufbringen der organischen Mischung auf die Oberfläche der Druckplatte 5 sowie die Aufheizeinheit 15 zum Aufheizen der Oberfläche der Druckplatte 5 zur Unterstützung der Hydrophilisierung zusammen als Regenerationsvorrichtung zum Regenerieren der Platte. Darüber hinaus ist die Druckpresse so angeordnet, dass sie die Bildeinheit 13 zum Beschreiben eines Bilds auf der Druckplatte 5 beinhaltet. Daher kann eine Reihe von Prozessen der Plattenregeneration und Plattenherstellung unter der Bedingung ausgeführt werden, dass die Druckplatte 5 am Plattenzylinder 11 auf der Druckpresse 10 angebracht ist. Mit dieser Anordnung kann die Reihe von Druckarbeiten ohne Anhalten der Druckpresse 10 und ohne eine Austauscharbeit für die druckende Druckplatte ausgeführt werden.
Während die Druckpresse 10 eine Anordnung aufweist, in der die Druckplatte 5 um den Plattenzylinder 11 herum gewickelt ist, ist die vorliegende Ausführungsform hierauf nicht beschränkt. Das bedeutet, dass es nicht notwendig ist zu erwähnen, dass eine andere Anordnung auf eine solche Weise verwendet werden kann, dass die photosensitive Schicht 3, die den Photokatalysator enthält, direkt auf der Oberfläche des Plattenzylinders 11 vorgesehen ist, d.h. dass der Plattenzylinder 11 und die Druckplatte 5 gemeinsam aufgebaut sein können.
Im Folgenden wird eine Beschreibung der Druckplatte, eines Verfahrens zur Herstellung der Druckplatte sowie eines Verfahrens zur Regeneration der Druckplatte angegeben. Insbesondere wird die Beschreibung auf die Abfolge von Plattenherstellung und Plattenregeneration und deren Vorteile zusammen mit konkreteren Beispielen, die von den Erfindern der vorliegenden Erfindung bestätigt wurden, fokussiert.
<Katalysator-Vorbereitung>
Titansulfat als Rohmaterial (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) wurde vorbereitet und dieses Agens wurde mit Ammoniumwasser durch Rühren der Mischung hinzugegeben. Somit wurde eine Hydrolyse des Titansulfats erhalten. Diese Hydrolyse wurde unter Verwendung eines Saugtrichters gefiltert und durch Ionenaustauschwasser gereinigt, bis die gefilterte Flüssigkeit eine elektrische Leitfähigkeit ähnlich der oder kleiner 2 μS/cm aufwies. Nach dem Reinigen wurde die Hydrolyse bei Raumtemperatur getrocknet und anschließend für zwei Stunden bei 400°C in Atmosphäre gebrannt. Das gebrannte Material wurde zum groben Korn in einem Mörser reduziert, um ein photokatalytisches Pulver zu erhalten.
<Bestätigung der Aktivität durch sichtbares Licht>
Das oben beschriebenen photokatalytische Pulver wurde zu 0,2 g aufgenommen und gleichmäßig auf dem Boden eines zylindrischen Reaktionskessels (500 ml Volumen), der aus Pyrex^®-Glas gefertigt war, gesprüht. Dann wurde der Reaktionskessel evakuiert und die innere Luft wurde durch hochreine Luft ersetzt. Danach wurde Aceton in den Kessel hineingegossen, so dass dessen Konzentration innerhalb des Reaktionskessels 500 ppm wurde. Dann wurde das Pulver bei Raumtemperatur von 25°C an einem dunklen Ort für zehn Stunden belassen, bis die Adsorption des Pulvers ein Adsorptions-Gleichgewicht erreichte. Danach wurde Licht (Hauptwellenlänge von 470 nm) auf das Pulver unter Verwendung einer blauen LED, die von NICHIA Chemical Industry gefertigt wurde, aufgestrahlt. Dann wurde die Menge an Aceton und CO₂ durch einen Gaschromatographen, hergestellt von Shimadzu Corp., gemessen. Diese Messung ergab, dass kein Aceton nach der Bestrahlung mittels blauer LED über 25 Stunden gefunden wurde und dass anstelle dessen dieses Verschwinden von Aceton und die Erzeugung von CO₂dessen stöchiometrisches Verhältnis mit dem von Aceton korrespondiert, bestätigt wurde. Das bedeutet, dass ausreichend bestätigt wurde, dass das oben erwähnte photokatalytische Pulver die photokatalytische Aktivität mit Licht mit einer Wellenlänge von 470 nm aufweist.
<Herstellung der Druckplatte>
Bei der Herstellung der Druckplatte, die nicht in den Schutzbereich der anhängenden Ansprüche fällt, wurde das oben beschriebenen photokatalytische Pulver innerhalb eines Ionenaustauschwassers verdünnt, um einen Schlamm mit 20 Gew-% Feststoffkörperkomponente zu erhalten. Dieser Schlamm wurde zu einem Pulver mittels einer Nassmühle (Handelsname: DAINO mill PILOT) reduziert, um die photokatalytisch verdünnte Flüssigkeit zu erhalten.
Ein Substrat aus Edelstahlplatte (SUS 301) mit einem Bereich von 280 × 204 mm und einer Dicke von 0,1 mm wurde vorbereitet und diese Platte wurde einer Alkali-Entfettungsbearbeitung unterzogen, so dass das Substrat 1 erhalten wurde.
Die wie oben beschrieben photokatalytisch verdünnte Flüssigkeit wurde mit einem Titanoxid-Beschichtungsagens TKC-301, hergestellt von der TAYCA Corporation, bei einem Gewichtsprozentverhältnis von 1:8 vermischt und die daraus resultierende Flüssigkeit wurde auf das oben erwähnte Substrat 1 durch Eintauchbeschichtung beschichtet. Dieses Substrat wurde auf eine Temperatur von 350°C erhitzt, um so eine photosensitive Schicht 3 zu erzeugen, die den Photokatalysator auf der Oberfläche der Basisplatte enthält. Die Dicke der photosensitiven Schicht 3 betrug etwa 0,1 μm. Der Wasserkontaktwinkel der Druckplattenoberfläche wurde unter Verwendung eines Kontaktwinkelmessers des Typs CA-W, hergestellt von Kyowa Kaimen Kagaku Co., Ltd., gemessen und ein Kontaktwinkel von 8° wurde ermittelt. Diese Messung bewies, dass eine ausreichende hydrophile Eigenschaft erreicht wurde.
<Herstellung der Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit>
Zwei Gramm einer organischen Mischung, Isopropoxytitan-Octylen-Glykol (hergestellt von Nippon Soda Co., Ltd.) wurde in 98 g eines paraffinartigen Lösungsmittels (Handelsname: Isoper L, ein Produkt von Exxon Mobile Co.) aufgelöst, um eine Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit X zu erhalten.
Die Druckplatte, die die Hydrophilisierung aufweist, wurde auf einer Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von Alpha Techno Company, abgelegt, die oben erwähnte Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit X wurde auf der Plattenoberfläche unter Verwendung eines Sprühers aufbeschichtet und die Platte wurde mittels eines Heißlufttrockners getrocknet. Diese Druckplatte wurde einmal von der Druckpresse entfernt und der Wasserkontaktwinkel der Oberfläche wurde durch den oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmesser gemessen. Die Messung ergab, dass der Kontaktwinkel 75° betrug. Diese Messung bewies, dass eine zufriedenstellende Eigenschaft erreicht wurde, und es wurde bestätigt, dass die oben bereits erwärmte Druckplatte bei der Plattenherstellung in ihren Ursprungszustand gebracht wurde.
<Bildbeschreibung>
Im Anschluss wurde eine Bildeinheit unter Verwendung eines Halbleiterlasers mit einer Wellenlänge von 405 nm, einer Ausgabeleistung von 5 mW/Kanal und einem Strahldurchmesser von 15 μm aktiviert für die Plattenoberfläche, um Halbtonbilder mit einer Druckelementrate, die von 10% bis 100% bei einem Schritt von 10% variiert, aufzuschreiben. Der Wasserkontaktwinkel der Druckplattenoberfläche nach dem Abschluss des Beschreibungsschritts wurde durch oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmesser gemessen. Es wurde bestätigt, dass der Kontaktwinkel an einem Abschnitt, an dem ein Bild durch dem Halbleiterlaser aufgeschrieben wurde, 8° betrug und dieser Abschnitt wurde ein hydrophiler Nichtbildbereich, während der Kontaktwinkel an einem Abschnitt, auf dem kein Bild beschrieben war, 75° betrug, und dieser Abschnitt wurde ein Bildbereich, der für seine hydrophobe Beschaffenheit beibehielt.
<Drucken>
Diese Druckplatte wurde auf die oben bereits erwähnte Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO" aufgesetzt, das Drucken wurde auf AIBESTO Papier mit einer Tinte HYECOOB Red MZ, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. ausgeführt, und ein Befeuchtungswasser, eine 1%-ige Lösung aus LITHOFELLOW, hergestellt von Mitsubishi Heavy Industries, Lt., wurde bei einer Druckgeschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde ausgeführt. Das Halbtonbild wurde erfolgreich vom ersten Papierbogen, der zum Beginn des Druckens zugeführt wurde, aufgedruckt.
Nachdem das Drucken abgeschlossen wurde, wurden die Tinte, das Befeuchtungswasser, der Papierstaub und dergleichen, die an der Plattenoberfläche anhafteten, sauber abgewischt. Dann wurde ein Infrarotlicht auf die gesamte Oberfläche der Platte unter Verwendung einer Halogenlampe aufgestrahlt, um so die Plattenoberfläche zu erhitzen. Zur gleichen Zeit wurde eine Niederdruck-Quecksilberlampe dazu verwendet, ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 254 nm und eine Belichtungs-Fluxdichte von 10 mW/cm² aufzustrahlen. Somit wurde der Bildbereich der Oberfläche der Druckplatte 5 zersetzt und die Oberfläche der Druckplatte 5 wurde hydrophilisiert, um das Bild zu löschen. Die Halogenlampe konnte unter Einstellung in der zugeführten Spannung mit einem Slidax platziert werden, um so die Temperatur der Plattenoberfläche einzustellen. Die Temperatur der Plattenoberfläche wurde mittels eines Thermistors gemessen, um so die Menge an Bestrahlungsenergie der oben erwähnten ultravioletten Strahlen zu bestimmen, die dafür erforderlich war, dass ein Bildbereich, der einen Kontaktwinkel von 75° aufwies, in eine hydrophile Oberfläche mit einem Kontaktwinkel von 10° oder weniger zu überführen.
9 zeigt die Beziehung zwischen der Hydrophilisierungsenergie (Bestrahlungsenergie des ultravioletten Lichts), die für die Hydrophilisierung der Plattenoberfläche erforderlich ist, und der Temperatur der Plattenoberfläche. Wenn die Temperatur der Plattenoberfläche auf 25°C eingestellt wurde (die Halogenlampe war nicht angeschaltet), war eine Bestrahlungsenergie des ultravioletten Lichts von 1,2 J/cm² für die Hydrophilisierung erforderlich. Wenn jedoch die Halogenlampe angeschaltet war, um die Plattenoberfläche zu erwärmen, wurde die erforderliche Bestrahlungsenergie mit dem Anstieg der Temperatur der Plattenoberfläche abgesenkt. wenn deren Temperatur 50° erreichte, wurde die Bestrahlungsenergie auf die halbe Menge von deren Energie abgesenkt. Wenn deren Temperatur 200°C erreichte, wurde die Bestrahlungsenergie auf 0,1 J/cm² abgesenkt. Diese Energie korrespondiert mit der in 10 Sekunden Bestrahlung einer Lampe mit einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm² bereitgestellten Energiemenge. Diese Tatsache lehrt uns, dass das oben erwähnte Bildlöschen 120 s ohne Wärmeaufbringungsbedingungen erforderte, während die gleiche Bildlöschung nur zehn Sekunden unter der Bedingung erforderte, dass die Plattenoberfläche auf bis zu 200°C erhitzt wurde. Das bedeutet, dass bestätigt wurde, dass die Platteregeneration schnell aufgrund der Wärmeaufbringung auf die Plattenoberfläche ausgeführt werden kann. Es wurde bestätigt, dass mit dem Hydrophilisierungsbearbeiten die Druckplatte den Status vor der Aufbringung der organischen Mischung zurückgewonnen hat und die Plattenregeneration somit erreicht wurde.
Wie bereits oben beschrieben, kann dann, wenn die Plattenoberflächentemperatur auf 50°C oder höher ansteigt, die Bestrahlungsenergie offensichtlich verringert werden. Im Gegensatz hierzu wird dann, wenn die Plattenoberflächentemperatur stark erhöht wird (auf etwa 200°C oder mehr), die Plattenoberfläche negativ in ihren physikalischen Eigenschaften beeinflusst. Dementsprechend wird bevorzugt, dass die Plattenoberfläche (Oberfläche der photosensitiven Schicht 3) auf eine Temperatur im Bereich von 50°C bis 200°C erwärmt wird.
[2] Zweite Ausführungsform
Die 10 und 11 sind Diagramme, die jeweils die Druckplatte (Schichtaufbau) gemäß einer zweiten Ausführungsform zeigen. 10 ist eine Querschnittsansicht, die einen Fall zeigt, in dem die Druckplattenoberfläche eine hydrophobe Eigenschaft aufweist, während 11 eine Querschnittsansicht eines Falls ist, in dem die Druckplattenoberfläche eine hydrophile Eigenschaft aufweist.
Wie in 10 gezeigt, ist eine Druckplatte 35 im Wesentlichen aus dem Substrat 1, der Zwischenschicht 2, der photosensitiven Schicht 3 sowie einer thermoplastischen Schicht 34 aus geschmolzenem Kunststoff, ausgebildet durch Erwärmen und Schmelzen von feinen Kunststoffpartikeln, zusammengesetzt. Die Druckplatte 35 wird manchmal der Einfachheit halber als Druckplatte bezeichnet. Ebenso kann, wenn die Druckplatte einen Bildbereich für das Drucken auf deren Oberfläche ausgebildet hat, diese Druckplatte als Platte bezeichnet werden.
Das Substrat 1, die Zwischenschicht 2 und die photosensitive Schicht 3 sind ähnlich denen, die in der Beschreibung der ersten Ausführungsform beschrieben wurden, und werden somit nicht weiter erläutert. Daher wird die nachfolgende Beschreibung sich auf die Unterschiede zur ersten Ausführungsform beschränken.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist die Mischung (Typ B), die in der Ausführungsform verwendet wurde, anders als die organische Mischung (Typ A), die zur Beschichtung der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gemäß der ersten Ausführungsform verwendet wurde.
Die thermoplastische Schicht 34 aus geschmolzenem Kunststoff wird auf eine solche Weise ausgebildet, dass die oben bereits erwähnte organische Mischung des Typs B auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 beschichtet wird und einer Wärmebehandlung unterzogen wird.
Die organische Mischung (Typ B) ist ein thermoplastischer Kunststoff. Ein Verfahren zur Beschichtung der organischen Mischung ist so, dass feine Partikel dieses Kunststoffs in einer Flüssigkeit wie etwa Wasser oder einem organischen Lösungsmittel verdünnt werden und diese verdünnte Flüssigkeit auf die Plattenoberfläche aufgeschichtet wird. Nach der Beschichtung der die thermoplastischen Kunststoffpartikel enthaltenden Flüssigkeit auf der Plattenoberfläche wird die Flüssigkeit mittels Luftventilation oder dergleichen abhängig von der entsprechenden Notwendigkeit getrocknet. Danach werden dann, wenn eine Wärme auf eine Region aufgebracht ist, die in einem hydrophoben Bildbereich überführt werden soll, die feinen Kunststoffpartikel durch Wärme aufgeschmolzen und in einem filmähnlichen Bogen ausgebildet. Somit wird der filmähnliche Bogen in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 auf deren Oberfläche gebracht, um hierauf fixiert zu werden, mit dem Ergebnis, dass der filmähnliche Bogen als hydrophober Bildbereich dient.
Als Verfahren zur Wärmeaufbringung kann ähnlich zum oben bereits erwähnten Fall jedes Verfahren in geeigneter Weise aus den nachfolgenden ausgewählt werden: Bestrahlung mit Inaktivierungslicht, thermischer Kopf und dergleichen. Es wird jedoch bevorzugt, den Weg der Wärmebehandlung durch Bestrahlung mit Inaktivierungslicht auszuwählen. Noch bevorzugter ist eine Bildbeschreibung mit einem Infrarotlicht wünschenswert. In einer derartigen Art Licht wird das Licht für die Bestrahlung ausgewählt, die organische Mischung wird ohne Zersetzung aufgeschmolzen. Darüber hinaus wird die organische Mischung in einem filmähnlichen Bogen ausgebildet und in Reaktion und/oder Interaktion mit der photosensitiven Schicht 3 gebracht, um auf der Schicht anzuhaften.
In der nachfolgend angegebenen beschrieben bedeuten die Begriffe "feine Partikel des thermoplastischen Kunststoffs feine Partikel aus thermoplastischem Kunststoff, die sowohl eine solche Eigenschaft aufweisen, dass die Partikel aufgrund der Wärmebehandlung in einem filmähnlichen Bogen ausgebildet sind, aufgeschmolzen und in Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gebracht werden oder auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 fixiert werden, wodurch die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert wird, und eine Eigenschaft, dass die Partikel in Reaktion auf Aktivierungslicht mit der Aktion des Photokatalysators zersetzt werden". Darüber hinaus können in der vorliegenden Erfindung die feinen thermoplastischen Kunststoffpartikel manchmal als "Bildelement" gekennzeichnet werden.
In diesem Fall wird der Begriff Reaktion und/oder Fixierungsmittel, dass der filmähnliche Bogen mit Wärme aufgebracht und so aufgeschmolzen wird, dass der Bogen im engen Kontakt mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit einer gewissen Festigkeit gebracht wird, die groß genug ist, den engen Kontakt mit der Oberfläche auch dann aufrecht zu erhalten, wenn die Oberfläche der Druckplatte 35 dem Druckprozess unterzogen wird. Darüber hinaus beinhaltet der Sinn des Begriffs Reaktion und/oder Fixierung sämtliche Fälle des engen Kontakts zwischen dem filmähnlichen Bogen und der photosensitiven Schicht unabhängig ob irgendeine chemische Reaktion zwischen diesen auftritt oder nicht und unabhängig davon, ob die Bindung eine physikalische Bindung oder eine chemische Bindung ist oder nicht.
Der Durchmesser der feinen Partikel des thermoplastischen Kunststoffs kann vorzugsweise 5 μm oder weniger als Primärpartikel und noch bevorzugter 1 μm oder weniger betragen. Wenn der Durchmesser des Partikels exzessiv groß ist, wird ein durch Wärmeaufbringung und Aufschmelzen ausgebildeter Film, d.h. der Bildbereich eine exzessive Dicke aufweisen, mit dem Ergebnis, dass es zu viel Zeit beansprucht, den Bildbereich im Regenerationsschritt zu zersetzen, wobei diese Tatsache die Regeneration unpraktikabel macht.
Darüber hinaus weisen die feinen thermoplastischen Kunststoffpartikel wünschenswerter Weise eine solche Eigenschaft auf, die im Wesentlichen die oben erwähnte Reaktion oder Fixierung unter Raumtemperatur unterbindet, zusätzlich zu einer Eigenschaft, dass die Partikel in einem filmähnlichen Bogen aufgrund der Wärmebehandlung ausgebildet werden, aufgeschmolzen und in chemischer Reaktion mit dem hydrophilen Bereich der Oberfläche der Druckplatte 35 gebracht oder stark auf der Oberfläche der Druckplatte 35 fixiert werden, wodurch die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert wird.
Verschiedene Arten von Kunststoffen sind als thermoplastischer Kunststoff bekannt. Als Hydrophobisierungs-Agens zur Verwendung in der Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird jedoch gewünscht, einen Kunststoff auszuwählen, der es möglich macht, Partikel mit dem oben erwähnten Durchmesser der feinen Partikel auszubilden. Bevorzugte Kunststoffe beinhalten ein Acrylharz wie etwa Acryl(Methacryl)-Säure und Acryl(Methacryl)-Ester, Styren-Harz, Styren-Acryl-Harz wie etwa Styrenacrylsäure und Styrenacrylester, Urethan-Harz, Phenolharz, Ethylen-Harz wie etwa Ethylen, Ethylen-Acrylsäure, Ethylen-Acrylester, Vinylethyl-Acetat, naturisiertes Vinyl-Ethylen-Acetat, Vinyl-Harz wie etwa Vinyl-Acetat, Vinyl-Propionat, Polyvinyl-Alkohol, Polyvinyl-Ether.
Es muss nicht erwähnt werden, dass einer dieser Kunststoffe allein verwendet werden kann oder eine Vielzahl dieser Kunststoffe miteinander abhängig von der Notwendigkeit und der daraus resultierenden Mischung verwendet werden können. Es wird angemerkt, dass diese Harze einen Vorteil dahingehend aufweisen, dass die keine schädliche Komponente wie etwa eine Chlormischung bei der Zersetzung erzeugen. Darüber hinaus ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass die Flüssigkeit, die die thermoplastischen Kunststoffpartikel enthält, eine sogenannte Emulsion oder Latex enthalten.
Im Anschluss wird eine Beschreibung in Bezug auf das Verfahren zur Herstellung der planographen Druckplatte und eines Verfahrens zur Regeneration der gleichen angegeben. Wie in 13 gezeigt, wird ein Strom der Herstellung der Platte und deren Regeneration gemäß der vorliegenden Ausführungsform aus einem Aufbringungsschritt für das Bildbereichsmaterial (Aufbringungsschritt für die organische Mischung) (S300), einem Bildaufschreibschritt (S310), einem Druckschritt (S320), einem Tintenentfernungsschritt (S330), einem Bildlöschschritt (S340) bestehen.
Zu Beginn wird das Verfahren zur Herstellung der Druckplatte beschrieben werden.
In der nachfolgend angegebenen Beschreibung bedeutet der Begriff "Herstellung einer Platte" eine Reihe von Schritten, bei denen eine feine Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit (organische Mischung) auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufbeschichtet wird und anschließend zumindest ein Teil der Oberfläche der Druckplatte 35 einer Wärmebehandlung basierend auf den digitalen Daten unterzogen wird, um einen hydrophoben Bildbereich auszubilden, eine Kunststoffpartikel auf der Oberfläche der Druckplatte, die keiner Wärmebehandlung ? unterzogen wurden, entfernt werden, um die hydrophile photosensitive Schicht 3 freizulegen, und dass ein latentes Bild dort ausgebildet wird, das aus dem hydrophoben Bildbereich und dem hydrophilen Nichtbildbereich auf der Oberfläche der Druckplatte 35 besteht.
Anfangs wird, wie dies in Schritt (a) in 12 gezeigt ist, die die organische Mischung (feine Kunststoffpartikel) enthaltende Flüssigkeit, die das Bildbereichsmaterial darstellen soll, auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgebracht, welche vollständig im vorhergehenden Schritt (Bildlöschungsschritt (Schritt S340)) hydrophilisiert wurde. Die beschichtete Oberfläche kann in einer Atmosphäre von etwa Raumtemperatur getrocknet werden, wenn erforderlich.
Darüber hinaus wird der Zustand der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 als "Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung" bezeichnet. Dieser "Anfangszustand der Druckplatten-Herstellung" kann als Zeitpunkt betrachtet werden, bei dem der Schritt des Bedruckens tatsächlich beginnt. Konkreter kann dieser Zustand als ein solcher betrachtet werden, bei dem die ein beliebiges Bild betreffenden digitalen Daten bereits vorbereitet sind und die Daten auf der Druckplatte 35 aufgeschrieben werden sollen.
Danach wird, wie dies im Schritt (b) aus 12 gezeigt wird, als Schritt der Bildbeschreibung (Schritt S310) ein Bild auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgeschrieben.
Diese Bildbeschreibung wird auf eine solche Weise ausgeführt, dass auf Basis der das Bild betreffenden digitalen Daten der Bildbereich auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 so aufgeschrieben wird, dass er mit deren Daten korrespondiert. Auf diese Weise wird die Bildbeschreibung ausgeführt. In diesem Fall ist, wie dies in 10 gezeigt ist, der Bildbereich ein hydrophober Bereich, auf dem der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder größer 50° ist, oder noch bevorzugter der Kontaktwinkel gleich oder größer 80° ist. Somit ist es für die hydrophobe Tinte für das Drucken leicht, daran anzuhaften, während es für das Befeuchtungswasser schwer ist, hierdurch aufgenommen zu werden.
Wie oben bereits beschrieben, ist ein Verfahren zur Herstellung des hydrophoben Bildbereichs basierend auf den Bilddaten ein solches, bei dem die Schritt aus feinen Kunststoffpartikeln so erwärmt wird, dass die feinen Kunststoffpartikel aufgeschmolzen werden und die feinen Kunststoffpartikel derart in einen filmähnlichen Bogen auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet werden, und zur gleichen Zeit der filmähnliche Bogen in Reaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gebracht wird oder auf der gleichen fixiert wird. Nachdem der Bildbereich erwärmt wurde, werden diejenigen feinen Kunststoffpartikel auf einem Abschnitt, der nicht mit Wärme beaufschlagt wurde, entfernt. Somit kann der Nichtbildbereich auf der Oberfläche infolgedessen erzeugt werden und die Platte kann hergestellt werden.
Das Verfahren für die oben beschriebene Wärmeaufbringung kann ähnlich zu dem oben beschriebenen Fall ein Inaktivierungslicht, beispielsweise ein Infrarotlicht, vorzugsweise für die Bestrahlung und die Wärmebehandlung ausgewählt werden.
In diesem Fall wird, wie dies beim Schritt (b) in 12 gezeigt wird, das Infrarotlicht unter Verwendung eines Infrarotstrahlen-Schreibkopfs so aufgestrahlt, dass zumindest ein Teil der feinen Kunststoffpartikelmasse erhitzt und aufgeschmolzen wird, um einen filmähnlichen Bogen auszubilden und in Reaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gebracht wird oder auf der gleichen fixiert wird. Somit kann der Bildbereich ausgebildet werden.
Nachdem der Bildbereich ausgebildet wurde, werden, wie dies beim Schritt (c) in 12 gezeigt ist, die feinen Kunststoffpartikel auf einem Abschnitt der Oberfläche der Plattenoberfläche 35, auf dem keine Bildbeschreibung ausgeführt wurde, in der Stufe direkt nach dem Start des Druckens von der Oberfläche durch Tintenanhaftung und/oder die Reinigungsaktion des Befeuchtungswassers entfernt. Somit erscheint der Nichtbildbereich. Auf diese Weise kann, wie dies beim Schritt (c) in 12 gezeigt wird, der Bildbereich und der Nichtbildbereich vollständig auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet werden und der Druckbetrieb kann ausgeführt werden.
Während in dem Beispiel eine Beschreibung über die Anordnung angegeben wurde, in der der Bildbereich durch Infrarotlicht beschrieben wurde, ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass eine andere Anordnung verwendet werden kann, wie etwa die direkte Wärmeaufbringung auf die Beschichtungsoberfläche der feinen Kunststoffpartikel mit beispielsweise einem Thermokopf.
Wenn die oben beschriebene Bearbeitung abgeschlossen wurde, wird im bei Schritt (c) in 12 gezeigten Druckschritt (Schritt S320), die Druckplatte 35 auf deren Oberfläche mit dem Befeuchtungswasser und einer sogenannte Emulsionstinte als Mischung der hydrophoben Tinte und des Befeuchtungswassers beschichtet. Somit wurde beispielsweise die in 14 gezeigte Druckplatte hergestellt.
14 zeigt einen Zustand der Druckplatte mit einem gepunktet unterlegten Abschnitt. Dieser gepunktet unterlegte Abschnitt kennzeichnet die thermoplastische Kunststoffschmelzschicht 34 oder den hydrophoben Bildbereich, der aus einer Reihe von Prozessen herrührt, in denen Wärme auf die feinen Kunststoffpartikel aufgebracht wird, um diese aufzuschmelzen, um so einen filmähnlichen Bogen auszubilden, wobei die Schicht in Reaktion mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die den Photokatalysator enthält, gebracht wird oder darauf fixiert wird, und die hydrophobe Tinte daran anhaftet. Der verbleibende weiße Abschnitt (Oberfläche der photosensitiven Schicht 3), d.h. der hydrophile Nichtbildbereich 3a wird in einen Zustand gebracht, in dem das Befeuchtungswasser daran mit Vorrang anhaftet und die hydrophobe Tinte abgewiesen und daran gehindert wird, daran anzuhaften. Auf diese Weise wird das Bild (Bildmuster) erzeugt und die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 bekommt ihre Funktion als Druckplatte 35 verliehen. Danach wird das Drucken ausgeführt und das Drucken wird abgeschlossen.
Ein Verfahren zur Regeneration der Druckplatte, das in den Schutzbereich der anhängenden Ansprüche fällt, wird im Anschluss beschrieben werden.
In der nachfolgend angegebenen Beschreibung bedeutet der Begriff "Regeneration einer Platte" eine Reihe von Prozessen inklusive eines Prozesses zur vollständigen und gleichmäßigen Hydrophilisierung einer Druckplatte, die zumindest teilweise eine Oberfläche aufweist, die eine hydrophobe Eigenschaft und eine hydrophile Eigenschaft am verbleibenden Bereich aufweist, danach die die feinen Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit als organische Mischung auf der hydrophilen Oberfläche der Druckplatte aufzubeschichten und die Oberfläche der Druckplatte in einer Atmosphäre von etwa Raumtemperatur abhängt von dem Erfordernis zu trocknen, um hierdurch den "Ursprungszustand der Druckplattenherstellung" wiederzugewinnen.
Im Prozess der "Plattenregeneration" wird im Tintenentfernungsschritt (Schritt S330), der beim Schritt (d) in 12 gezeigt ist, die Tinte, das Befeuchtungswasser, Papierstaub und dergleichen, die an der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 nach dem Durchführen des Druckprozesses anhafteten, entfernt.
Danach wird im Bildlöschschritt (Schritt S340), der bei Schritt (e) in 12 gezeigt wird, ein Aktivierungslicht mit einem Energieniveau höher als die Bandspaltenergie des Photokatalysators auf die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, von der zumindest ein Teil eine hydrophobe Eigenschaft aufweist, und zur gleichen Zeit wird die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 erhitzt. Da das Aktivierungslicht auf die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, sind die feinen Kunststoffpartikel aufgeschmolzen und der Bildbereich 34, der aus den feinen Kunststoffpartikeln zusammengesetzt ist, wird zersetzt und entfernt. Auf diese Weise wird es möglich, die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 zu hydrophilisieren, so dass die Oberfläche einen Kontaktwinkel des Wassers 6 von 10° oder weniger zeigt, d.h. dass die Oberfläche in den in 11 gezeigten Zustand überführt wird.
Im dargestellten Beispiel zersetzt ultraviolettes Licht, das von einer UV-Lampe emittiert wird, wie dies in 12(e) gezeigt wird, den Bildbereich, um den hydrophilen Abschnitt der photosensitiven Schicht 3 freizulegen.
Zu diesem Zeitpunkt ist eines der Merkmale der vorliegenden Erfindung, dass dann, wenn das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gleichzeitig erhitzt wird. In anderen Worten kann dann, wenn die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 unter Aktivierungslicht-Bestrahlung erhitzt wird, die Reaktion der Zersetzung der organischen Mischung auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 beschleunigt werden, was zum Ergebnis hat, dass das Bild auf der Platte über eine kurze Zeitdauer gelöscht werden kann.
In diesem Beispiel wird, wie dies im Schritt (e) aus 12 gezeigt wird, das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 unter Verwendung einer ultravioletten (UV) Lampe aufgestrahlt und zur gleichen Zeit wir ein Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt, um dieselbe zu erhitzen. Das Licht für die Wärmeaufbringung ist vorzugsweise ein Infrarotlicht vom Standpunkt der Aufheizungseffizienz, wie dies beim Schritt (e) aus 12 gezeigt ist.
Ein anderes Verfahren für die Wärmeaufbringung kann die Aufblasung heißer Luft sein, welche in der Lage ist, die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 zu erhitzen.
Nachdem der Bildlöschschritt (Schritt S340) ausgeführt wurde, wird die die feine Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit wiederum auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die vollständig ihre hydrophile Eigenschaft wiedergewonnen hat, aufgeschichtet und die Oberfläche der photosensitiven Schicht wird in einer Atmosphäre von etwa Raumtemperatur abhängig von den Erfordernissen getrocknet. Somit kann der Ursprungszustand der Plattenherstellung wiederhergestellt werden.
5 ist ein Graph, der insgesamt darstellt, was oben beschrieben wurde. In dem Graph aus 15 wird die Zeit (oer der Betrieb) an der Abszisse abgetragen, während der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der Druckplatte 35 an der Ordinate abgetragen ist. Daher illustriert dieser Graph, wie der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit dem Zeitablauf oder dem Betrieb in Bezug auf die Druckplatte 35 gemäß der vorliegenden Erfindung variiert. In 15 stellt die gepunktete Linie die Variation des Kontaktwinkels des Nichtbildbereichs dar, die unterbrochene Linie (gestrichelte Linie, die an den Startpunkten a und a' beginnt) die Variation des Kontaktwinkels auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gemeinsam mit Bildbereich und Nichtbildbereich, und die durchgezogene Linie die Variation des Kontaktwinkels des Bildbereichs.
Anfänglich wird das ultraviolette Licht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 vorab aufgestrahlt, so dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in einen hochgradig hydrophilen Zustand überführt wird, so dass der Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder kleiner 10° ist.
Anfangs wird, wie dies im Aufbringungsschritt für das Bildbereichsmaterial (Schritt S300) (Schritt S bei A in 15 gezeigt) der Fall ist, die photosensitive Schicht 3 auf deren Oberfläche mit der die feinen Kunststoffpartikel (organische Mischung) enthaltenen Flüssigkeit beschichtet (Zeitpunkt, gezeigt bei (a) in 15). Danach wird die photosensitive Schicht 3 in einer Atmosphäre von etwa Raumtemperatur falls notwendig getrocknet. 12 zeigt einen Fall, in dem dieser Trocknungsschritt nicht erforderlich ist. Wenn die photosensitive Schicht vollständig mit der die feinen Kunststoffpartikel enthaltenen Flüssigkeit beschichtet wurde, wird die Druckplatte in den "Ursprungszustand der Plattenherstellung" gebracht (Zeitpunkt, gezeigt bei (b) in 15).
Danach wird, wie im Bildbeschreibungsschritt (Schritt S310) (Bildbereichs-Beschreibungsschritt, d.h., der bei B in 15 gezeigte Schritt), eine Wärmebehandlung auf einem Bereich ausgeführt, der Bildbereich der Beschichtungsoberfläche mit feinen Kunststoffpartikeln auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 korrespondiert, so dass die Bildbereichsbeschreibung begonnen wird (Zeitpunkt, gezeigt bei (b) in 15). Mit dieser Behandlung werden die feinen Kunststoffpartikel aufgeheizt und aufgeschmolzen, um in einem filmähnlichen Bogen ausgebildet zu werden, Reagieren mit der photosensitiven Schicht 3 oder werden auf der gleichen fixiert, und der Bildbereich wird eine hochgradig hydrophobe Eigenschaft aufweisen. Auf der anderen Seite kann der Nichtbildbereich der Plattenoberfläche im Wesentlichen von der Reaktion und/oder dem Anhaften der feinen Kunststoffpartikel abgehalten werden und somit verbleibt dieser Bereich in einem Zustand, der mit dem übereinstimmt, bevor die Bildbeschreibung ausgeführt wurde.
Wenn die Bildbeschreibung abgeschlossen ist, wird, wie im Entfernungsschritt des Nichtbildbereichs (Schritt, gezeigt bei C in 15) in einem Zustand direkt nach dem Abschluss des Druckens der Entfernungsbetrieb zur Entfernung der feinen Kunststoffpartikel auf den Nichtbildbereich von der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgrund der Adhäsionskraft der Tinte und/oder des Reinigungseffekts des Feuchtigkeitswassers (Zeitpunkt, gezeigt bei (c) in 15) begonnen. Das bedeutet, dass ein Bereich der hydrophilen Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 als Nichtbildbereich frei liegt. Somit wird die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 zu einem hydrophoben Bildbereich, der durch Aufschmelzen der feinen Kunststoffpartikel ausgebildet wird, um einen filmähnlichen Kunststoff auszubilden und durch Reaktion oder Fixierung mit der Oberfläche und dem hydrophilen Nichtbildbereich, von dem die feinen Kunststoffpartikel entfernt wurden. Somit kann die Druckplatte als Platte agieren.
Nachdem die feinen Kunststoffpartikel vollständig von dem Nichtbildbereich entfernt wurden, wie im Druckschritt (Schritt S320) (Schritt S, gezeigte bei D in 15), wird das Drucken gestartet (Zeitpunkt, gezeigte bei (d) in 15).
Wenn das Drucken abgeschlossen wurde, wie im Tintenentfernungsschritt (Schritt S330) (Schritt bei E in 15 gezeigt), werden Tinte, Staub und dergleichen entfernt und eine Reinigung wird begonnen (Zeitpunkt, gezeigt bei (e) in 15).
Nachdem die Reinigung abgeschlossen wurde, d.h. die Tintenreinigung abgeschlossen wurde, wird wie in dem Bildlöschschritt (Schritt S340) (Schritt, bei F in 15 gezeigt) das Aktivierungslicht auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt und zur gleichen Zeit die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 erwärmt. Auf diese Weise kann der durch Aufschmelzen der feinen Kunststoffpartikel ausgebildete Bildbereich schnell zersetzt und entfernt werden und der Photokatalysator kann von hydrophob zu hydrophil umgewandelt werden. Somit nimmt die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 wieder ihre hydrophile Eigenschaft an. Aufgrund des Bildlöschschritts (Schritt S340) kann das Bild auf der Platte vollständig entfernt werden.
Danach können wie im nachfolgenden Aufbringungsschritt für das Bildbereichsmaterial (Schritt S300) (Schritt bei A in 15 gezeigt) die feine Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit aufgeschichtet werden (Zeitpunkt, gezeigte bei (a') in 15) und der "Ursprungszustand der Plattenherstellung" kann wiedererlangt werden. Somit kann die Druckplatte wieder verwendet werden.
Wenn das oben beschriebene Drucken und die Platten-Regeneration auf der Druckpresse ausgeführt wurden, wird bevorzugt, die in 8 gezeigte Druckpresse 10 zu verwenden, die in der Beschreibung der ersten Ausführungsform erläutert wurde. Die zweite Ausführungsform verwendet jedoch die feine thermoplastische Kunststoffpartikel enthaltende Flüssigkeit (organische Mischung Typ B), die sich von der organischen Mischung gemäß der ersten Ausführungsform unterscheidet. Daher soll die in 8 gezeigte Anbringungseinheit für die organische Mischung (Hydrophobisierungseinheit für die Plattenoberfläche) 14 anders als sie Aufbringungseinheit für die organische Mischung zum Aufbringen der organischen Mischung (Typ A) gemäß der ersten Ausführungsform angeordnet sein. Das bedeutet, dass es nicht notwendig ist zu erwähnen, dass die Einheit so angeordnet wird, dass sie die thermoplastischen Kunststoffpartikel zuführt, d.h. die die organische Mischung (Typ B) enthaltende Flüssigkeit. Darüber hinaus wird die Bildeinheit so angeordnet, dass sie ein Infrarotlicht auf die Oberfläche der Druckplatte 35 aufstrahlt.
Im Anschluss werden die Druckplatte und das Verfahren zur Herstellung der Druckplatte beschrieben werden. Zusätzlich wird das Verfahren zur Regeneration der Druckplatte gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben. Insbesondere wird diese Beschreibung auf die Abfolge und die Vorteile der Druckplatten-Herstellung und die Druckplatten-Regeneration durch Zitierung konkreter Beispiele, die von den Erfindern bestätigt wurden, fokussiert.
<Druckplatten-Herstellung>
Anfangs wurde ein Substrat, gefertigt aus einer Edelstahlplatte (SUS 304) mit einem Bereich von 280 × 204 mm und einer Dicke von 0,1 mm vorbereitet. Anschließend wurde dieses Substrat 1 einer anodischen Oxidationsbehandlung und einer Schwärzung unterzogen. Aufgrund dieser Behandlungen wurden Verbesserungen in dem Absorptionsverhältnis für Infrarotlicht von 830 nm von 30% vor der Ausführung der Behandlungen zu 90% nach der Schwärzungsbehandlung bestätigt. Dieses SUS-Substrat 1, das der Schwärzung unterzogen worden ist, wurde einer alkalischen Entfettungsbehandlung unterzogen und als Substrat 1 verwendet.
Anschließend wurde eine Feststoffkomponente von 5 Gew-% enthaltendem Siliziumdioxid-Sol auf dem Substrat 1 eintauchbeschichtet und anschließend wurde die Basisplatte einer Wärmebehandlung für 30 Minuten bei 500°C unterzogen. Somit wurde eine Zwischenschicht 2 mit einer Dicke von 0,07 μm ausgebildet.
Ein als Photokatalysator verwendetes Sol TKS-203 wurde mit einem Titanoxid-Beschichtungsagens TKC-301, hergestellt von TAYCA Corporation bei einem Gewichtsprozentverhältnis von 1:4 vermischt und die daraus resultierende Flüssigkeit wurde auf der Oberfläche der vorab erwähnten Zwischenschicht 2 durch Eintauchbeschichtung aufgeschichtet. Die daraus resultierende Platte wurde einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 500°C unterzogen, so dass die einen Anatas-Titandioxid- Photokatalysator enthaltende photosensitive Schicht 3 auf der Druckplattenoberfläche ausgebildet wurde. Die Dicke der photosensitiven Schicht 3 wurde auf etwa 0,1 μm eingestellt.
Dann wurde die Platte auf ihrer gesamten Oberfläche einer Bestrahlung mit ultraviolettem Licht mit einer Wellenlänge von 244 nm und einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm² unter Verwendung einer Niederdruck-Quecksilberlampe für zehn Sekunden unterzogen. Danach wurde eine Messung direkt auf dem mit ultravioletten Licht bestrahlten Abschnitt in Bezug auf den Wasserkontaktwinkel unter Verwendung eines CA-W-artigen Kontaktwinkelmessers ausgeführt. Die Messung ergab, dass der Abschnitt einen Kontaktwinkel von 7° aufwies. Diese Messung bewies, dass eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft im Nichtbildbereich erreicht wurde.
<Herstellung einer Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit>
Im Anschluss wurde ein Styrenalcryl-Harz (Handelsname: J-678), hergestellt von Johnson Polymer, als organische Mischung verwendet und diese Mischung wurde in Ethanol aufgelöst, um ein Kunststofflösungsmittel mit einer Konzentration von 1 Gew-% herzustellen. Als oberflächenaktiver Stoff wurde Ionet T-60-C (hergestellt von Sanyo Kasei) zu der Kunststofflösung bei einer Rate von 10 Gew-% in Bezug auf den Harz zugegeben. Danach wurde ein Ionenaustauschwasser (Kühlwasser) zu der Harzlösung bei einer Rate von 40 Gewichtseinheiten in Bezug auf 70 Gewichtseinheiten der Kunststofflösung zugegeben. Somit wurden die feinen Kunststoffpartikel separiert. Danach wurde ein Verdampfer zur Evakuierung von Ethanol bei einer Flüssigkeitstemperatur von 40°C verwendet und die wasserverdünnte Flüssigkeit der feinen thermoplastischen Kunststoffpartikel wurde vorbereitet. Diese mit Wasser verdünnte Flüssigkeit wurde als Hydrophobisierungs-Bearbeitungsflüssigkeit Y verwendet. Eine Beobachtung mit einem Elektrodenrastermikroskop der Kunststoffpartikel ergab, dass die Partikel eine Kugelform aufwiesen und deren Durchmesser im Bereich von 0,07 bis 0,1 μm lag.
<Bildbeschreibung>
Das oben bereits erwähnte Hydrophobisierungsagens wurde auf der gesamten Oberfläche der Druckplatte, die aufgrund der ultravioletten Licht-Bestrahlung eine hydrophile Eigenschaft aufwies, aufgebracht. Danach wurde die Druckplatte in einer belüfteten Atmosphäre bei einer Temperatur von 25°C für fünf Minuten getrocknet und anschließend wurde eine Bildeinheit 13 unter Verwendung eines Infrarotstrahlenlasers mit einer Wellenlänge von 830 nm, einer Ausgabeleistung von 100 mW und einem Strahldurchmesser von 15 μm für die Plattenoberfläche aktiviert, um Halbtonbilder mit einer Druckelementrate aufzuschreiben, die beim Schritt von 10% von 10% bis 100% variierte. Somit wurden die Kunststoffpartikel erhitzt und am bestrahlten Abschnitt aufgeschmolzen und der Kunststoff wurde auf der Plattenoberfläche fixiert, um eine geschmolzene Schicht 34 aus thermoplastischem Kunststoff auszubilden. Der Wasserkontaktwinkel an dem Abschnitt, auf dem die feinen Kunststoffpartikel fixiert waren, wurde mittels des oben bereits erwähnten CA-W-Kontaktwinkel-Messers gemessen. Diese Messung ergab, dass der Wasserkontaktwinkel an diesem Abschnitt 82° betrug und es wurde bestätigt, dass ein Bildbereich ausgebildet wurde.
<Drucken>
Diese Druckplatte wurde auf der oben erwähnten Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von Alpha Techno Company, abgesetzt, das Drucken wurde auf AIBESTO-Papier mit einer Tinte HYECOOB Red Mz, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. und Feuchtigkeitswasser, einer 1%-igen Lösung aus LITHOFELLOW, hergestellt von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., bei einer Druckgeschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde durchgeführt. Es wurde bestätigt, dass das Halbtonbild erfolgreich auf einem Papierbogen aufgedruckt waren.
<Regeneration der Druckplatte>
Nachdem das Drucken abgeschlossen wurde, wurden Tinte, Feuchtigkeitswasser, Papierstaub und dergleichen, die auf der Plattenoberfläche anhafteten, sauber abgewischt. Dann wurde ein Infrarotlicht auf die gesamte Oberfläche der Platte unter Verwendung einer Halogenlampe aufgestrahlt, um so die Plattenoberfläche zu erhitzen. Zu diesem Zeitpunkt wurde eine Niederdruck-Quecksilberlampe dazu verwendet, ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 254 nm und einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm² aufzustrahlen. Somit wurde der Bildbereich der Oberfläche der Druckplatte 5 zersetzt und die Oberfläche der Druckplatte 5 wurde hydrophilisiert, um das Bild zu löschen. Die Halogenlampe könnte unter Einstellung der angelegten Spannung mit einem Slidax so platziert werden, das die Temperatur der Plattenoberfläche eingestellt wird. Die Temperatur der Plattenoberfläche wurde mittels eines Thermistors so gemessen, dass die Menge an Bestrahlungsenergie des oben bereits erwähnten ultravioletten Lichts, was zur Erzeugung eines Kontaktwinkels von 82° im Bildbereich in einen hydrophilen Oberflächenbereich, der einen Kontaktwinkel von 10° oder weniger zeigt, zu bestimmen.
16 zeigt die Beziehung zwischen der Hydrophilisierungsenergie (Bestrahlungsenergie des ultravioletten Lichts), die für die Hydrophilisierung der Plattenoberfläche erforderlich ist, und der Temperatur der Plattenoberfläche. Wenn die Temperatur der Plattenoberfläche auf 25°C eingestellt wurde (die Halogenlampe war nicht angeschaltet), wurde die Bestrahlungsenergie des ultravioletten Lichts von 10,8 J/cm² für die Hydrophilisierung erforderlich. Wenn jedoch die Halogenlampe angeschaltet war, um die Plattenoberfläche zu erhitzen, wurde die erforderliche Bestrahlungsenergie mit Anstieg der Temperatur der Plattenoberfläche verringert. Wenn die Temperatur 50°C erreichte, wurde die Bestrahlungsenergie auf die halbe Menge der Energie abgesenkt. Wenn die Temperatur 200°C erreichte, wurde die Bestrahlungsenergie auf 1,2 J/cm² abgesenkt. Diese Energie korrespondiert mit der Energiemenge, die in 60 s Strahlung einer Lampe mit einer Lichtfluxdichte von 20 mW/cm² zur Verfügung gestellt wird. Diese Tatsache lehrt uns, dass das oben erwähnte Bildlöschen 540 s bei keiner Wärmeaufbringungsbedingung erfordert, während die Bildlöschung nur 60 s unter einer Wärmeaufbringungsbedingung erfordert, bei der die Plattenoberfläche auf 200°C aufgeheizt ist. Das bedeutet, dass bestätigt wurde, dass die Platten-Regeneration schnell aufgrund der Wärmeaufbringung auf die Plattenoberfläche ausgeführt werden kann. Es wurde bestätigt, dass beim Hydrophilisierungs-Bearbeiten die Druckplatte ihren Zustand vor der Aufbringung der organischen Mischung wiedergewonnen hatte und die Platten-Regeneration erreicht wurde.
Dementsprechend kann dann, wenn die Plattenoberflächen-Temperatur auf 50°C oder höher angehoben wird, die Bestrahlungsenergien offensichtlich abgesenkt werden. Im Gegensatz hierzu wird dann, wenn die Plattenoberflächentemperatur exzessiv erhöht wird (über 200°C oder höher) die Plattenoberfläche negativ in ihren physikalischen Eigenschaften beeinflusst. Dementsprechend wird bevorzugt, dass die Plattenoberfläche (Oberfläche der photosensitiven Schicht 3) auf einer Temperatur im Bereich von 50°C bis 200°C erhitzt wird.
Wie oben beschrieben wurde, kann gemäß dem Verfahren zur Regeneration der Druckplatte gemäß der ersten Ausführungsform und der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die Regenerationsvorrichtung und die Druckpresse zusätzlich zu dem Vorteil, dass die Druckplatte wiederverwendet werden kann, mit einem weiteren Vorteil betrieben werden, dass deren Zyklus schneller ausgeführt werden kann. Das bedeutet, dass nachdem das Drucken abgeschlossen wurde, die für die Löschung des Bildbereichs zum Löschen des Bilds der Druckplatte erforderliche Zeitdauer verkürzt werden kann, mit dem Ergebnis, dass es weniger Zeit erfordert, die Arbeit der Platten-Regeneration auszuführen. Dementsprechend wird es möglich, den gesamten Prozess des Druckens sehr schnell auszuführen.
Darüber hinaus kann, da die Regeneration und die Wiederverwendung der Druckplatte möglich wird, die Menge an nach der Verwendung weggeworfenen Druckplatten deutlich reduziert werden. Dementsprechend kann das Verfahren zur Regeneration und Wiederverwendung der Druckplatte im Hinblick auf den Umweltschutz gesehen werden und es wird möglich, die Kosten in Bezug auf die Druckplatte deutlich abzusenken.
Darüber hinaus kann, da die Bildbeschreibung auf die Bildplatte direkt von das Bild betreffenden digitalen Daten implementiert werden kann, dieses Verfahren auf die Digitalisierung im Druckprozess abgestimmt werden. Dementsprechend wird es möglich, die für das Drucken erforderliche Zeitdauer deutlich zu reduzieren oder die Kosten abzusenken.
Vorzugsweise wird im Bildlöschschritt die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht bestrahlt und mit Wärme beaufschlagt. Zu diesem Zeitpunkt kann der Bildbereich, der eine höhere Hydrophilisierungsenergie als der Nichtbildbereich erfordert, auf eine höhere Temperatur erhitzt werden. Auf diese Weise wird die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 gleichmäßig auf noch zuverlässigere Weise gleichmäßig hydrophilisiert. Dementsprechend kann in diesem Fall die Wärmeaufbringung auf die Region basierend auf den Bilddaten gesteuert werden.
[3] Dritte Ausführungsform
Wie bereits im Hinblick auf den oben beschriebenen Stand der Technik beschrieben wurde, haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung Studien in Bezug auf das Bildbeschreiben und die Bildlöschung der Druckplatte (Schichtaufbau) mit der photosensitiven Schicht ausgeführt und während dieser Studien bestätigten die Erfinder, dass die Bildbeschreibung mit Aktivierungslicht mit einer Lichtfluxdichte ausgeführt wird, die ein praktikables Niveau der Bildbeschreibungsrate zur Verfügung stellen könnte und dass hier eine Möglichkeit der Temperaturerhöhung der Plattenoberfläche vorliegen könnte.
Anschließend haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung ihre Studien auf eine Technologie konzentriert, die es möglich macht, das photokatalytische Verformen ? deutlich und gleichzeitig zu verbessern oder eine Performance zum Zersetzen der organischen Mischung auch unter Temperaturanstiegsbedingungen und einer Performance zur Hydrophilisierung des Photokatalysators selbst. Als Konsequenz hiervon haben die Erfinder schließlich einen unabdingbaren Faktor gefunden, der diese zwei Leistungsmerkmale auch unter Bedingungen einer erhöhten Temperatur der Druckplatte verbessern könnte.
Diese Technologie wird im Anschluss detailliert als dritte Ausführungsform unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben und ebenso auf diejenigen Zeichnungen, die in der ersten Ausführungsform verwendet wurden.
Der Schichtaufbau (es wird später beschrieben werden, dass dieser Aufbau als Druckplatte verwendet werden kann) 5 gemäß der dritten Ausführungsform ist grundsätzlich aus dem Substrat (oder dem Materialkörper) 1, der Zwischenschicht (im Anschluss als wasserabweisende Schicht oder Hydrophilisierungs-Unterstützungsschicht bezeichnet) 2, die eine Substanz enthält, die eine wasserabweisende Funktion aufweist, und der photosensitiven Schicht 3, die den Photokatalysator enthält, zusammengesetzt, wie dies in 1 gezeigt ist.
Das bedeutet, dass der Schichtaufbau 5 gemäß der vorliegenden Ausführungsform eine Anordnung aufweist, die sich von der der ersten Ausführungsform in der Zwischenschicht 2 unterscheidet.
Wie bereits in der Beschreibung der ersten Ausführungsform beschrieben wurde, ist das Substrat 1 aus einem Metall wie etwa Aluminium, Edelstahl und einem Polymerfilm oder dergleichen ausgebildet. Das Substrat 1 muss jedoch nicht notwendigerweise aus Metall wie etwa Aluminium, Edelstahl und einem Polymerfilm oder dergleichen bestehen, sondern andere Materialien können abhängig von den Eigenschaften wie etwa Flexibilität, Härte der Oberfläche, thermische Leitfähigkeit, elektrische Leitfähigkeit, Dauerhaftigkeit des Substrats, welche für den Einsatz der photosensitiven Schicht 3 in der Praxis als notwendig erachtet werden, ausgewählt werden. Darüber hinaus sind die bei der Auswahl des Materials in Betracht zu ziehenden Eigenschaften nicht auf die oben aufgelisteten Eigenschaften beschränkt.
Die wasserabweisende Schicht 2 als Zwischenschicht ist auf der Oberfläche des Substrats 1 ausgebildet. Während in den 1 und 2 die Zwischenschicht 2 so ausgebildet ist, dass sie die photosensitive Schicht 3 berührt, ist die Zwischenschicht nicht notwendigerweise in Kontakt mit der photosensitiven Schicht, es ist vielmehr für die Zwischenschicht ausreichend, dass sie zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 angebracht ist.
Als Substanz mit wasserabweisender Funktion, die in der wasserabweisenden Schicht 2 enthalten sein muss, wird besonders eine Siliziumdioxid-Mischung bevorzugt.
Beispielsweise beinhalten bevorzugte Mischungen einen Siliziumdioxidfilm, und einen Siliziumdioxidfilm-Formmaterial, das in der Lage ist, einen Siliziumdioxidfilm auszuformen, wie etwa eine organische Siliziummischung und Wasserglas, oder feine Siliziumdioxidpartikel und feine Siliziumdioxidpartikel-Formmaterialien, die in der Lage sind, feine Siliziumdioxidpartikel auszubilden. Wenn die Substanz mit der wasserabweisenden Funktion auf feinen Partikeln besteht, wird bevorzugt, dass diese feinen Partikel unter Verwendung eines hydrophilen Binders in einem Film ausgebildet werden.
Um einen engen Kontakt zwischen dem Substrat 1 und der wasserabweisenden Schicht 2 zu erreichen oder um den engen Kontakt zwischen dem Substrat 1 und der wasserabweisenden Schicht 2 zu verbessern, kann zwischen dem Substrat 1 und der wasserabweisenden Schicht 2 abhängig von den Erfordernissen eine Unterschicht-Schicht (nicht gezeigt) vorgesehen sein. Wenn eine derartige Unterschicht-Schicht vorgesehen ist, beinhaltet deren bevorzugtes Material eine Silizium-Mischung wie etwa Siliziumdioxid (SiO₂), Silikonharz oder beispielsweise Silikongummi. Insbesondere dann, wenn ein Silikonharz für das Material verwendet wird, werden Silikon-Alkyl, Silikon-Urethan, Silikon-Epoxid, Silikon-Acryl, Silikon-Polyester und dergleichen bevorzugt.
Wenn eine Wärmebehandlung, die später beschrieben wird, zur Ausbildung der photosensitiven Schicht 3 ausgeführt wird, neigt eine Diffusion von Verunreinigungen dazu, vom Substrat 1 in die photosensitive Schicht 3 aufgrund einer thermischen Diffusion aufzutreten und hierin vermischt zu werden, was zu einer Störung der Aktivität des Photokatalysators führt. Die wasserabweisende Schicht 2 übt jedoch einen Effekt zur Verhinderung einer derartigen thermischen Diffusion und der daraus resultierenden Störung aus. Darüber hinaus übt dann, wenn die wasserabweisende Schicht 2 aus einem Polymerfilm oder dergleichen ausgebildet ist, die wasserabweisende Schicht 2 einen Effekt des Schutzes des Substrats aus.
Währenddessen wurde bestätigt, dass auch dann, wenn die wasserabweisende Schicht 2 auf der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen ist oder alternativ hierzu die photosensitive Schicht 3 eine Substanz aufweist, die eine wasserabweisende Funktion besitzt, die photokatalytische Aktivität unter der erhitzten Atmosphäre höher als die photokatalytische Aktivität bei üblicher Temperatur ist.
Wenn die wasserabweisende Schicht 2 jedoch auf der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen ist oder die photosensitive Schicht 3 so angeordnet ist, dass sie eine Substanz aufweist, welche eine wasserabweisende Funktion ausübt, wird die Aufnahmerate des Photokatalysators auf deren Oberfläche verringert. Daher wird verglichen mit dem Fall der vorliegenden Ausführungsform, in dem die wasserabweisende Schicht 2 als Zwischenschicht zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen ist, die photokatalytische Aktivität verringert.
Dementsprechend wird dann, wenn der Schichtaufbau 5 so ausgebildet ist, dass er eine hohe photokatalytische Aktivität bei Raumtemperatur aufweist und eine weitere Zusammenwirkung auf der Substanz mit wasserabweisender Funktion mit dem Photokatalysator erbracht wird, welche eine noch bessere Verbesserung in der oben erwähnten photokatalytischen Aktivität unter erhitzter Atmosphäre erbringen soll, wie in der vorliegenden Ausführungsform, offenkundig für die photosensitive Schicht 3 von Vorteil, dass sie als oberste Schicht (die übergeordnete Schicht) vorgesehen ist und dass die wasserabweisende Schicht 2 zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen ist.
Auf diese Weise kann der Grund, warum die Verbesserung in der Aktivität des Photokatalysators unter einer erhitzten Umgebung aufgrund der zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 vorgesehenen wasserabweisenden Schicht 2 erreicht wird, wie folgt angenommen werden.
Dies bedeutet, dass bereits erwähnt wurde, dass dann, wenn Aktivierungslicht auf den Photokatalysator aufgestrahlt wird, der Photokatalysator Elektronen und positive Löcher erzeugt, wobei diese Tatsache eine Reaktion der positiven Löcher mit den wasserabsorbierenden Molekülen auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 bewirkt, was zu einer Erzeugung von OH-Radikalen (Hydroxyradikale) führt. Darüber hinaus ist bereits erwähnt worden, dass diese OH-Radikale die organische Mischung oxidieren und zersetzen.
Daher wird die Menge an absorbiertem Wasser üblicherweise unter einer erwärmten Atmosphäre verringert und ebenso wird die Menge an Wassermolekülen verringert. Aus diesem Grund wird eine Verringerung in der Menge von für die Erzeugung von OH-Radikalen notwendigen Wassermolekülen bewirkt. Als Ergebnis hiervon wird die Menge an erzeugten OH-Radikalen verringert und das Betriebsverhalten des Photokatalysators zur Zersetzung der organischen Substanz wird verringert.
Somit ist die Substanz mit der wasserabweisenden Funktion nahe dem Photokatalysator in einer zusammenwirkenden Weise vorgesehen, so dass eine ausreichende Zufuhr von Wassermolekülen von der Substanz mit der wasserabweisenden Funktion zu dem Photokatalysator unter der erhitzten Atmosphäre gewährleistet wird. Mit dieser Anordnung wird eine ausreichende Anzahl von OH-Radikalen erzeugt und die Oxidierung und Zersetzungsreaktion wird aufgrund der Wärmeaufbringung unterstützt. Als ein Ergebnis hiervon wird angenommen, dass das Ergebnis in Bezug auf die Zersetzung der organischen Mischung verbessert wird.
Wie bereits oben beschrieben, wird es, wenn die photokatalytische Aktion unter der erhitzten Atmosphäre verbessert wird und der Schichtaufbau 5, der die photosensitive Schicht 3 aufweist, als Druckplatte verwendet wird, möglich, die Bestrahlungsenergie (im Anschluss als Hydrophilisierungsenergie bezeichnet), die zur Umwandlung der hydrophoben Eigenschaft in eine hydrophile Eigenschaft aufgrund der Wärmeaufbringung auf den mit Aktivierungslicht bestrahlten Abschnitt erforderlich ist, wenn das Aktivierungslicht auf die Plattenoberfläche beim Bildbeschreiben aufgestrahlt wird, und ebenso aufgrund der Wärmeaufbringung auf die Plattenoberfläche mit der Energie, die von dem Aktivierungslicht selbst herrührt, zu verringern.
Mit dieser Konsequenz wird es möglich, die für das Beschreiben und die Herstellung der Platte erforderliche Zeitdauer zu verkürzen und die Ausgabeleistung der Bildeinheit abzusenken, um die Kosten der Schreibeinheit zu reduzieren. Ebenso kann dann, wenn das Bild auf der Plattenoberfläche gelöscht wird, der Temperaturanstieg der Plattenoberfläche sowie die Bestrahlung mit Aktivierungslicht gleichzeitig ausgeführt werden, um die Bestrahlungsenergie des Aktivierungslichts, das zum Löschen des Bilds erforderlich ist, abzusenken. Dementsprechend wird es möglich, die für das Löschen des Bilds erforderliche Zeitdauer zu verkürzen oder die Ausgabeleistung der Bildlöscheinheit zu verringern (d.h. die Kosten der Herstellung zu verringern).
Die photosensitive Schicht 3 ist auf der wasserabweisenden Schicht 2 vorgesehen. Wenn das Aktivierungslicht, das auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt wird, ein Energieniveau höher als die Bandspaltenergie des Photokatalysators aufweist, dann wird erwartet, dass die organische Mischung, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 angebracht ist, zersetzt wird und zur gleichen Zeit der Photokatalysator selbst eine hochgradig hydrophile Eigenschaft aufweist.
Zu der photosensitiven Schicht 3 können im Hinblick auf die Beibehaltung der hydrophilen Eigenschaft und die Verbesserung der Festigkeit der photosensitiven Schicht 3 sowie den engen Kontakt der photosensitiven Schicht 3 mit der wasserabweisenden Schicht 2 die folgenden Substanzen zugegeben werden. Derartige Substanzen beinhalten beispielsweise eine Siliziumdioxid-Mischung wie etwa Siliziumdioxid, Siliziumdioxid-Sol, Organosilan, Silikon-Harz, ein Metalloxid-Material wie etwa Zirkonium, Aluminium, Titan oder ein Fluor-Harz.
Darüber hinaus kann der Schichtaufbau eine modifizierte Anordnung aufweisen, so dass eine photosensitive Schicht 3, die auf Licht mit einer Wellenlänge von 380 nm oder weniger (nicht gezeigt) reagiert, zusätzlich als Schutzschicht vorgesehen ist, oder dass eine Siliziumdioxidschicht (nicht gezeigt) zur Erreichung einer leichteren Erhaltung der hydrophilen Eigenschaft vorgesehen ist. Die photosensitive Schicht 3 gemäß der vorliegenden Erfindung beinhaltet konzeptionell die oben angeordneten Schichten. Darüber hinaus kann die photosensitive Schicht 3 eine Schicht sein, die aus einer einzelnen Komponente eines Photokatalysators ausgebildet wurde.
Wie oben bereits beschrieben, kann der Schichtaufbau 5 mit der photosensitiven Schicht 3 grundsätzlich als Druckplatte verwendet werden. Wenn beispielsweise Aluminium als Substrat 1 verwendet wird, kann dessen Oberfläche einer sogenannten Graubehandlung unterzogen werden, an der die Oberfläche mittels einer anodischen Oxidationsbehandlung oder dergleichen je nach Erfordernis aufgeraut wird. Mit dieser Behandlung wird der Schichtaufbau eine noch bessere Funktion mit Eignung für das Drucken aufweisen. Konsequenterweise kann der Schichtaufbau 5 mit der oben erwähnten photosensitiven Schicht 3 direkt als Druckplatte verwendet werden, und der Schichtaufbau mit dem Substrat 1, der der oben erwähnten Graubehandlung unterzogen wurde, kann ebenso als Druckplatte verwendet werden.
Darüber hinaus zeigt der Schichtaufbau eine deutlich höhere photokatalytische Aktivität in erhitzter Atmosphäre als bei Raumtemperatur. Daher wird sich dann, wenn der oben erwähnte Schichtaufbau 5 für eine Oberflächenschicht der Struktur verwendet wird, welche unter erhitzter Atmosphäre wie etwa in einem Kamin verwendet wird, insbesondere der Photokatalysator die darin in Schmutzkomponenten enthaltenen organischen Verbindungen zersetzen. Darüber hinaus wird, da der Photokatalysator eine hochgradig hydrophile Eigenschaft aufweist, eine Schmutzkomponente einer organischen Mischung, die nicht in der Lage ist, durch den Photokatalysator zersetzt zu werden, von Regentropfen abgewaschen werden. Dementsprechend kann eine Verschmutzung der äußeren Wandoberfläche verhindert werden.
Darüber hinaus soll dann, wenn der Schichtaufbau 5 für die Druckplatte verwendet wird, die organische Mischung zur Hydrophobisierung der photosensitiven Schicht 3 eine organische Mischung sein.
Dies bedeutet, dass die organische Mischung auf die Druckplattenoberfläche (Plattenoberfläche) aufgebracht werden kann und ebenso wird gewünscht, dass die organische Mischung eine solche Eigenschaft aufweist, dass sie falls erforderlich nur auf Trocknung oder dass Trocknung mit Wärmeaufbringung reagiert, um so eine Reaktion oder starke Interaktion mit der Plattenoberfläche, d.h. der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 bewirkt, so dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 hydrophobisiert werden kann. Ebenso wird gewünscht, dass die organische Mischung eine solche Eigenschaft aufweist, dass sie aufgrund der Aktion des Photokatalysators zersetzt wird und von der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 (d.h. der organischen Mischung des Typs A, die in der Beschreibung der ersten Ausführungsform erläutert wurde, entfernt wird. Während eine Beschreibung diesbezüglich in der vorliegenden Ausführungsform nicht angegeben wird, wurde dies bereits in der zweiten Ausführungsform erläutert und es ist nicht erforderlich zu erwähnen, dass eine organische Mischung des Typs B für die Hydrophobisierung der photosensitiven Schicht 3 ebenso verwendet werden kann.
Das Verfahren zur Herstellung der Platte und das Verfahren zur Regeneration der Platte, wenn der Schichtaufbau auf die Druckplatte aufgebracht ist, sind ähnlich denen, die in der ersten Ausführungsform beschrieben worden sind. Daher wird keine weitere Erläuterung hierzu angegeben.
In der vorliegenden Ausführungsform müssen dann, wenn die Plattenoberfläche nur durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht erhitzt werden kann, welches beim Beschreiben eines Bilds verwendet wird, und es sichergestellt ist, die Temperatur der Plattenoberfläche auf eine solche anzuheben, die eine schnelle Ausführung der Bildbeschreibung ermöglicht, besondere Aufheizmittel nicht vorbereitet werden.
Darüber hinaus kann, wenn die photokatalytische Eigenschaft von hydrophil zu hydrophob für die Wiedergewinnung des "Ursprungszustands der Plattenherstellung" umgewandelt wurde, zusätzlich zur Aufbringung der organischen Mischung, die in der Lage ist, mit der Plattenoberfläche zu interagieren, auf die Oberfläche, ein anderer Betrieb ausgeführt werden. Beispielsweise kann ein Bündel von Energiestrahlen wie etwa Lichtstrahlen und elektrische Strahlen einzeln oder in Kombination auf die Plattenoberfläche aufgestrahlt werden oder jede mechanische Stimulierung wie etwa Reiben kann auf die Plattenoberfläche aufgebracht werden, um dieses zu hydrophobisieren. Nun wird im Anschluss eine Beschreibung noch konkreterer Beispiele und vom Vergleichsbeispiel in Bezug auf die Herstellung der Druckplatte 5, die Plattenerzeugung und die Plattenregeneration angegeben, welche von den Erfindern der vorliegenden Anmeldung bestätigt wurden.
[A] Ausführungsform
(1) Photokatalysator-Vorbereitung
Titansulfat als Rohmaterial (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) wurde vorbereitet und dieses Agens wurde mit Ammoniumwasser unter Rühren der Mischung hinzugegeben. Somit wurde eine Hydrolyse des Titansulfats erhalten. Diese Hydrolyse wurde unter Verwendung eines Saugtrichters gefiltert und mittels Ionenaustauschwasser gereinigt, bis die gefilterte Flüssigkeit eine elektrische Leitfähigkeit gleich oder kleiner 2 μS/cm aufwies. Nach dem Reinigen wurde die Hydrolyse bei Raumtemperatur getrocknet und anschließend für zwei Stunden bei 400°C in Atmosphäre gebrannt. Das gebrannte Material wurde zu einem groben Korn in einem Mörser reduziert, um ein Photokatalysator-Pulver zu erhalten.
(2) Bestätigung der Aktivität durch sichtbares Licht
Das oben beschriebene Photokatalysator-Pulver wurde in einer Menge von 0,2 g aufgenommen und gleichmäßig auf einen Boden eines zylindrischen Reaktionskessels (Volumen 500 ml) hergestellt aus Pyrex^®-Glas gesprüht. Dann wurde der Reaktionskessel evakuiert und die Innenluft wurde durch hochreine Luft ersetzt. Danach wurde Aceton in den Kessel eingegossen, so dass dessen Konzentration innerhalb des Reaktionskessels 500 ppm betrug. Anschließend wurde das Pulver bei einer Temperatur von 25°C in einem dunklen Ort für zehn Stunden aufbewahrt, bis die Adsorption des Pulvers ein Adsorptions-Gleichgewicht erreichte. Danach wurde Licht (Hauptwellenlänge von 470 nm) auf das Pulver unter Verwendung einer blauen LED, hergestellt von NICHIA Chemical Industry, aufgestrahlt. Dann wurde die Menge an Aceton und CO₂ mittels eines Gaschromatographen, hergestellt von Shimadzu Corp. gemessen. Diese Messung ergab, dass kein Aceton nach der Bestrahlung durch die blaue LED über 20 Stunden vorlag und anstelle dessen dieses Verschwinden des Acetons durch die Erzeugung von CO₂, dessen stöchiometrisches Verhältnis dem des Acetons entspricht, bestätigt wurde. Das bedeutet, dass ausreichend bestätigt wurde, dass das oben erwähnte Photokatalysator-Pulver die photokatalytische Eigenschaft mit einem Licht mit einer Wellenlänge von 470 nm aufweist.
(3) Herstellung der Druckplatte
(3-1) Herstellung der photokatalytischen Dispersionsflüssigkeit und der Basisplatte 1
Das oben beschriebenen Photokatalysator-Pulver wurde innerhalb eines Ionenaustauschwassers dispergiert, um einen Schlamm mit 20 Gewichtsprozent (Gew-%) Feststoffkörperkomponent herzustellen. Diesem Schlamm wurde Polycarboxyl-Säure mit 1 Gew-% in Bezug auf den Photokatalysator zugegeben. Danach wurde dieser Schlamm zu einem Pulver mittels einer Nassmühle (Handelsname: DAINO mill PILOT) reduziert, um die dispergierte photokatalytische Flüssigkeit zu erhalten.
Ein Substrat 1 aus einer Edelstahlplatte (SUS 301) mit einem Bereich von 280 × 204 mm und einer Dicke von 0,1 mm wurde hergestellt und diese Platte wurde einer alkalischen Entfettungsbearbeitung unterzogen, um das Substrat 1 zu erhalten.
(3-2) Bildung der wasserabweisenden Schicht
Ein Wasserlglas LSS-35, das Li₂O (Nissan Chemical Industries, Ltd.) enthält, wurde mit destilliertem Wasser verdünnt, so dass die Feststoffkomponente des SiO₂ 5 Gew-% wurde. Somit wurde die SiO₂-Beschichtungsflüssigkeit hergestellt. Diese SiO₂-Beschichtungsflüssigkeit wurde mittels Eintauchbeschichtung auf die oben beschriebene Basisplatte 1 aufgebracht und die Basisplatte wurde mittels Lufttrocknung getrocknet. Danach wurde die Basisplatte für eine Stunde bei einer Temperatur von 500°C gebacken, um die SiO₂-wasserabweisende Schicht 2 auszubilden. Die Dicke der SiO₂-wasserabweisenden Schicht 2 betrug etwa 0,12 μm.
(3-3) Bildung der photosensitiven Schicht 3
Die oben erwähnte photokatalytische Dispersionsflüssigkeit und der Titanoxid-Beschichtungsagens TKC-310, hergestellt von TAYCA Corporation, wurden mit einander bei einem Verhältnis von 6:4 wie das TiO₂ vermischt, und die daraus resultierende Flüssigkeit wurde mittels Tauchbeschichtung auf der Basisplatte 1 mit der oben bereits erwähnten SiO₂-wasserabweisenden Schicht 2 darauf beschichtet und die Basisplatte wurde mittels Lufttrocknung getrocknet. Danach wurde die Basisplatte für eine Stunde bei einer Temperatur von 350°C gebacken, um die photosensitive Schicht 3 auszubilden. Somit wurde die Druckplatte 5 vorbereitet. Diese Dicke der photosensitiven Schicht 3 betrug etwa 0,1 μm. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Plattenoberfläche wurde unter Verwendung eines Kontaktwinkelmessers ces CA-W-Typs, hergestellt von Kyowa Kaimen Kagaku Co., Ltd., gemessen und ein Kontaktwinkel von 8° wurde erhalten. Diese Messung bewies, dass eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft erreicht wurde.
(4) Hydrophobisierung der Plattenoberfläche
Im Anschluss wurde 1,2-Epoxy-Dodecan (Wako Pure Chemical Industries, LTd.) Isoparaffin (Handelsname: Isoper L, ein Produkt der Exxon Mobile Co.) aufgelöst, um eine 1 Gew-%-Lösung hiervon zu erhalten. Diese 1,2-Epoxy-Dodecan-Lösung wurde auf der Druckplattenoberfläche mittels Walzen aufgebracht und die Druckplatte wurde für zehn Minuten bei einer Temperatur von 60°C getrocknet. Danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 mittels des oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmessers gemessen und ein Kontaktwinkel von 83° wurde erhalten. Diese Messung bewies, dass die Platte eine zufriedenstellende hydrophobe Eigenschaft aufwies und es wurde bestätigt, dass die Oberfläche der Druckplatte 5 in ihren Ursprungszustand der Plattenherstellung zurückgebracht wurde.
(5) Messung der Hydrophilisierungsenergie-Variation mit Veränderung der Temperatur der Plattenoberfläche
Die Variation der Hydrophilisierungsenergie mit der Veränderung der Plattenoberflächentemperatur wurde in einem solchen Verfahren gemessen, bei dem die Oberflächentemperatur der oben bereits erwähnten hydrophobisierten Druckplatte 5 verändert wurde, ein Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge von 360 nm und einer Lichtfluxdichte von 10 mW/cm² auf die Druckplatte aufgestrahlt wurde und die Hydrophilisierungsenergie durch Berechnung eines Produkts der Lichtfluxdichte des Aktivierungslichts und einer Zeitdauer der Aktivierungslicht-Bestrahlung, die für die Veränderung des Zustands der Plattenoberfläche vom hydrophoben Zustand, wie oben bereits beschrieben, zu dem Zustand, in dem der Kontaktwinkel 10° oder weniger aufweist, erforderlich ist. 17 ist ein Graph, der das Ergebnis dieser Messung zeigt.
Wie in der durchgezogenen Linie gezeigt, betrug dann, wenn die wasserabweisende Schicht 2 (TiO₂-photosensitive Schicht 3/SiO₂Schicht 2/Edelstahl-Basisplatte 1) vorlag, die Hydrophilisierungsenergie bei der Plattenoberflächentemperatur von 25°C 0,1 J/cm². Wenn die Plattenoberflächentemperatur 100°C betrug, betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,04 J/cm² und wenn die Plattenoberflächentemperatur 200°C betrug, betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,02 J/cm². Wie aus diesem Ergebnis der Messung nachvollzogen werden kann, wurde je höher die Plattenoberflächentemperatur erhöht wurde, desto geringer wurde die Hydrophilisierungsenergie (Energie der Aktivierungslicht-Bestrahlung, die für die Hydrophilisierung erforderlich ist).
(6) Bildbeschreibung
Im Anschluss wurde ein UV-Setter 710, der von der basysPrint Corporation (Deutschland) vertrieben wird und ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 360 nm bis 450 nm erzeugt und in der Lage ist, ein Bild (Nichtbildbereich) zu beschreiben, für die Beschreibung eines Halbtonbildes mit einer Druckelementrate, die von 10% bis 100% bei einem Schritt von 10% Variation, verwendet. Wenn die Bildbeschreibung ausgeführt wurde, wurde eine Bestrahlung im Infrarotlicht auf die Plattenoberfläche 0,1 Sekunden vor der Bildbeschreibung mit dem Aktivierungslicht ausgeführt, wodurch die Temperatur der Plattenoberfläche sofort auf etwa 240°C erhöht wurde. Somit wurde die Temperatur der Plattenoberfläche beim Beschreiben eines Bilds mit dem Aktivierungslicht auf eine solche eingestellt, die leicht die Temperatur von 200°C überstieg. Unter dieser Bedingung wurde die Bildbeschreibung ausgeführt. Da eine Einstellung der Lichtfluxdichte auf 200 mW/cm² erfolgte, wenn der UV-Setter 710 das Licht mit der Wellenlänge von 350 nm auf der Plattenoberfläche aufstrahlt, wurde die Zeitdauer der Aktivierungslicht-Bestrahlung für einen Einheitsbereich bei 0,02 J/cm² als Bestrahlungsenergie eingestellt.
Da die Größe des Einheitsbereichs 17 mm × 13 mm beträgt, benötigte man 24 s zur Beschreibung des Bilds auf der Plattenoberfläche mit einer Größe von 280 mm × 204 mm (der Bildbereich hat eine Größe von 272 mm × 195 mm). Der Wasserkontaktwinkel der Druckplattenoberfläche nach dem Abschluss des Beschreibungsschritts wurde durch den oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmesser gemessen. Es wurde bestätigt, dass der Kontaktwinkel des Wassers 6 an dem Abschnitt, auf dem ein Bild aufgeschrieben worden war, 8° betrug und dass dieser Abschnitt ein hydrophiler Nichtbildbereich wurde, während der Kontaktwinkel an einem Abschnitt, auf den kein Bild aufgeschrieben wurde, 83° betrug und dieser Abschnitt ein Bildbereich wurde, der die hydrophobe Eigenschaft beibehielt.
(7) Drucken
Diese Druckplatte wurde auf eine Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von Alpha Techno Company, abgesetzt, das Drucken wurde auf ein AIBESTO-Papier mit einer Tinte HYECOOB Red MZ, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. und mit einem Befeuchtungswasser, einer 1%-igen Lösung aus LITHOFELLOW, hergestellt von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., bei einer Druckgeschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde ausgeführt. Das Halbtonbild wurde vom ersten Papierbogen an, der zum Beginn des Druckens zugeführt wurde, erfolgreich bedruckt.
(8) Regeneration
Eine Ausführungsform gemäß der Plattenregeneration wird im Anschluss beschrieben werden.
Nach dem Abschluss des Druckens wurde die Tinte, das Befeuchtungswasser, Papierstaub und dergleichen, die auf der Plattenoberfläche anhafteten, sauber abgewischt. Dann bestrahlt ein Infrarotlicht die gesamte Oberfläche der Platte so, dass die Plattenoberfläche sofort bis zu einer Temperatur von etwa 100°C erhitzt wurde. Unter dieser Bedingung wurde ein ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 360 nm und einer Lichtfluxdichte von 5 mW/cm² über acht Sekunden aufgestrahlt (0,04 J/cm² aufgestrahlte Energie). Danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 direkt unter Verwendung des oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmessers an einem Abschnitt gemessen, auf den das Halbtonbild aufgeschrieben wurde, und ein Kontaktwinkel von 80° wurde ermittelt. Diese Messung bewies, dass die Plattenoberfläche eine zufriedenstellende hydrophile Eigenschaft aufwies und dass somit bestätigt werden konnte, dass das Bild auf der Platte gelöscht werden konnte.
Im Anschluss wurde die oben bereits erwähnte 1,2-Epoxy-Dodecan-Lösung mittels Walzen auf die Plattenoberfläche aufgebracht und die Platte wurde für zehn Minuten bei einer Temperatur von 60°C getrocknet. Danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 mittels des oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmessers gemessen und ein Kontaktwinkel von 84° wurde ermittelt. Diese Messung bewies, dass die Platte eine ausreichend hydrophobe Eigenschaft aufwies und es wurde bestätigt, dass die Druckplatte 5 zu ihrem "Ursprungszustand der Plattenherstellung" zurückgebracht wurde und die Platten-Regeneration erreicht wurde.
[B] Vergleichsbeispiel
Die Druckplatte wurde auf eine ähnliche Weise wie im oben bereits erwähnten Ausführungsbeispiel erzeugt, außer dass die photosensitive Schicht 3 direkt auf dem Edelstahl-Substrat 1 bereitgestellt wurde. Das bedeutet, dass die Druckplatte ohne wasserabweisende Schicht 2 erzeugt wurde.
Die Variation der Hydrophilisierungsenergie mit der Veränderung der Plattenoberflächentemperatur wurde auf einer Druckplatte als Vergleichsbeispiel in einer ähnlichen Weise wie in der oben beschriebenen Ausführungsform gemessen. 17 ist ein Graph, der das Ergebnis dieser Messung zeigt.
Wie in der gepunkteten Linie in 17 gezeigt, betrug dann, wenn keine wasserabweisende Schicht 2 zur Verfügung steht (TiO₂-photosensitive Schicht 3/Edelstahl-Basisplatte 1), die Hydrophilisierungsenergie bei einer Plattenoberflächentemperatur von 25°C 0,15 J/cm². Wenn die Oberflächentemperatur 100°C betrug, betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,35 J/cm² und wenn die Plattenoberflächentemperatur 200°C betrug, betrug die Hydrophilisierungsenergie 0,9 J/cm². Wie hier aus den Ergebnissen der Messung leicht ersichtlich ist, wurde je höher die Plattenoberflächentemperatur anstieg, eine umso höherer Hydrophilisierungsenergie (Energie der Aktivierungslicht-Bestrahlung, die für die Hydrophilisierung erforderlich war) erforderlich.
Darüber hinaus wurde ähnlich zu der oben beschriebenen Ausführungsform der oben bereits erwähnte UV-Setter 710 dazu verwendet, eine Bildbeschreibung bei einer Lichtbestrahlungszeit von 0,1 Sekunden pro Bereichseinheit auszuführen (die vollständige Zeitdauer für die Beschreibung des Bilds betrug 24 s). Nachdem die Bildbeschreibung abgeschlossen war, wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Plattenoberfläche durch den oben bereits erwähnten Kontaktwinkelmesser gemessen. Die Messung ergab, dass der Kontaktwinkel des Abschnitts, auf dem das Bild aufgeschrieben war, 68° betrug und dass dieser Abschnitt immer noch eine hochgradig hydrophobe Eigenschaft beibehielt. Ähnlich zu der oben bereits erwähnten Ausführungsform wurde diese Platte auf einer Desktop-Offset-Druckpresse "NEW ACE PRO", hergestellt von Alpha Techno Company, abgesetzt, das Drucken wurde auf AIBESTO-Papier mit einer Tinte HYECOOB Red MZ, hergestellt von Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. und mit Befeuchtungswasser, einer 1%-igen Lösung aus LITHOFELLOW, hergestellt von Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., bei einer Druckgeschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde, ausgeführt. Die Untersuchung des daraus resultierenden bedruckten Papiers ergab, dass auch ein Abschnitt, der ein Nichtbildbereich sein sollte, die Tinte nicht abwies und nur ein Ergebnis beim sogenannten "durchgehenden" Drucken erreicht wurde, bei dem das Drucken über die gesamte Oberfläche der Platte erfolgte, welche mit roter Tinte befüllt wurde.
Das oben beschriebene Drucken und die Regeneration der Platte können unter Verwendung der Druckpresse 10 (siehe 8) ausgeführt werden, welche zusammen mit der ersten Ausführungsform beschrieben worden ist. Ebenso ist in diesem Fall die Hydrophobisierungseinheit 14 für die Plattenoberfläche als Einheit konstruiert, die jeden der Schritte durchführen kann, d.h. ein Bündel von Energiestrahlen wie etwa Lichtstrahlen und elektrische Strahlen alleine oder in Kombination auf die Plattenoberfläche aufzustrahlen, eine mechanische Stimulation wie etwa ein Reiben der Plattenoberfläche zu bewirken oder eine organische Mischung auf die Plattenoberfläche aufzubringen, die in der Lage ist, eine Interaktion mit der Plattenoberfläche zu bewirken.
Wie bereits oben beschrieben, ist der Schichtaufbau 5 gemäß der vorliegenden Ausführungsform die Zwischenschicht (wasserabweisende Schicht) 2, die eine Substanz enthält, die eine wasserabweisende Funktion aufweist, zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 vorgesehen. Daher kann die Aktivität des Photokatalysators unter erwärmter Atmosphäre deutlich verbessert werden und die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 kann schnell hydrophilisiert werden.
Daher können, wenn der oben beschriebene Schichtaufbau 5 auf der Druckplatte aufgebracht ist, die folgenden Vorteile zusätzlich zu dem Vorteil erzielt werden, dass die Druckplatte wiederverwendet werden kann. Dies sind, da die Bildbeschreibung mit dem Aktivierungslicht unter erwärmter Atmosphäre ausgeführt werden kann, die mögliche Verkürzung der Zeitdauer, die für die Bildbeschreibung erforderlich ist. Alternativ hierzu kann, da die bestrahlte Energie des Aktivierungslichts, die für die Hydrophilisierung erforderlich ist, verkleinert werden kann, auch eine Schreibeinheit verwendet werden, die in der Lage ist, nur eine kleine Ausgabeleistung zu erzeugen, und somit können die Kosten der Einheit verringert werden.
Darüber hinaus kann, da das Bild auf der Plattenoberfläche durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht unter erwärmter Atmosphäre gelöscht werden kann, die für die Bildlöschung erforderliche Zeitdauer verkürzt werden. Alternativ hierzu kann ähnlich zu dem oben bereits Erwähnten, da die aufgestrahlte Energie des Aktivierungslichts, die für die Hydrophilisierung erforderlich ist, verkleinert werden kann, auch eine Bildlöscheinheit verwendet werden, die in der Lage ist, nur eine kleine Ausgabeleistung zu erzeugen, und somit können die Kosten der Einheit verringert werden.
Wie bereits oben beschrieben, kann, da der Photokatalysator unter erwärmter Atmosphäre aktiviert werden kann, wenn die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 vom hydrophoben zum hydrophilen Zustand umgewandelt (umgeschaltet) werden kann, die Arbeitszeit auch im Schritt der Plattenherstellung und dem Schritt der Bildlöschung während des Platten-Regenerationsprozesses nach dem Drucken eingespart werden, was zum Ergebnis hat, dass der Zyklus der Plattenerzeugung und der Platten-Regeneration schnell ausgeführt werden kann.
Darüber hinaus kann ein Licht mit einer Wellenlänge von 600 nm oder weniger inklusive sichtbarem Licht als Aktivierungslicht verwendet werden. Daher kann sichtbares Licht für die Bildbeschreibung und die Bildlöschung verwendet werden, was es leichter macht, die Druckplatte zu handhaben.

Claims

Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte (5, 35) zur Ermöglichung der Wiederverwendung der Druckplatte (5, 35), die beinhaltet: ein Substrat (1), eine fotosensitive Schicht (3), die einen Fotokatalysator enthält, der es ermöglicht, eine Bildbeschreibung und eine Bildlöschung in Folge der Bestrahlung mit aktivierendem Licht, das ein Energieniveau höher als die Bandspaltenergie des Fotokatalysators aufweist, auszuführen, und eine die Hydrophilisierung unterstützende Schicht (2), die auf dem Substrat (1) bereitgestellt ist und unter der fotosensitiven Schicht (3) angebracht ist, welche eine Substanz enthält, die eine Wasserrückhalteeigenschaft aufweist, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: Entfernen von auf der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) verbleibender Tinte; Löschen eines Bilds auf der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) auf eine solche Weise, dass das aktivierende Licht auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3), von der die Tinte im Schritt des Entfernens von Tinte entfernt wurde, aufgestrahlt wird und die fotosensitive Schicht (3) derart erhitzt wird, dass die gesamte Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) hydrophil wird; und Aufbringen einer organischen Mischung auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3), von der im Schritt des Löschens dieses Bilds das Bild gelöscht wurde, wobei im Schritt des Aufbringens einer organischen Mischung die fotosensitive Schicht (3) auf ihrer Oberfläche mit einer organischen Mischung belegt wird, welche die Eigenschaft aufweist, dass die organische Mischung in Reaktion auf die Bestrahlung mit aktivierendem Licht aufgrund der Aktion des Fotokatalysators zersetzt wird, und die Eigenschaft, dass die organische Mischung durch die Hitzeaufbringung aufschmilzt, um in einer filmähnlichen Form ausgebildet zu werden und die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) aufgrund der Reaktion und/oder Interaktion mit der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) oder der Fixierung auf der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) hydrophob wird.
Verfahren zur Regeneration einer Druckplatte gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Substanz zum Wasserrückhalten, die die Wasserrückhalteeigenshaft aufweist, eine Siliziumoxid-Mischung ist.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Fotokatalysator ein Titandioxid-Fotokatalysator oder ein Titandioxid-Fotokatalysator ist, der auf sichtbares Licht reagiert.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass dann, wenn das aktivierende Licht aufgestrahlt wird, um eine Bildbeschreibung oder Bildlöschung zu bewirken, zumindest ein Teil der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) aus einem hydrophoben Zustand in einen hydrophilen Zustand überführt wird.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das aktivierende Licht ein solches ist, dass eine Wellenlänge von 600 nm oder niedriger aufweist.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) durch eine der folgenden Aktionen hydrophobisiert wird: dass ein Bündel von Lichtstrahlen oder elektrischen Energiestrahlen alleine oder in Kombination auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) aufgebracht wird, dass eine Reibung auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) aufgebracht wird, oder dass eine organische Mischung, die in der Lage ist, eine Interaktion mit der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) zu bewirken, auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) aufgetragen wird.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass im Schritt der Löschung des Bilds die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) in einen Temperaturbereich von zumindest 50°C und unter 200°C aufgeheizt wird.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt der Löschung des Bilds die Wärmeaufbringung durch Aufbringen von heißer Luft auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) bewirkt wird.
Verfahren zur Regenerierung einer Druckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass im Schritt der Löschung des Bilds die Wärmeaufbringung durch Bestrahlung mit Licht auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) bewirkt wird.