JP2002001900A - 平版印刷方法、平版印刷版および平版印刷装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像を必要とせず、像様露光を原板に加える
とによって実質的に印刷面が形成される、しかも印刷時
の着肉性がよく印刷汚れが少なく、かつ耐刷性に優れ
た、さらに印刷用原板を反復使用することも可能な印刷
方法を提示すること。また、印刷版の作製を印刷機上で
行うことができる上記印刷方法用の印刷装置を提示する
こと。 【解決手段】 親水・親油材料を含有する層を有する印
刷用原板に疎水性物質の層を像様に付与して画像領域を
形成させたのち、親水性強化剤の処理を施して非画像領
域の親水性を強化して印刷版面を形成させて印刷を行
い、印刷の終了後、インキ洗浄除去と、熱印加又は光照
射による履歴消去を行って印刷用原板を再使用可能とす
る平版印刷方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷に関する。
具体的には、現像することなく製版することが可能な簡
易な平版印刷方法及び印刷版に関する。さらに印刷機上
で直接製版も可能な平版印刷方法及び装置に関する。さ
らに印刷原板を反復して使用できる印刷方法及び印刷装
置にも関する。

【０００２】

【従来の技術】活性光の照射によって極性変換が引き起
こされる光触媒性化合物を利用して親水性と疎水性の像
様分布を形成させて印刷インキの像様受容領域をもつ印
刷版を製作する製版方法が簡易で現像不要な製版方法と
して数多く提案されている。この製版方法では、原板上
に像様露光を行うだけで照射領域と非照射領域にインキ
受容性とインキ反発性に別れるに足る極性変化が生じる
のでそのまま印刷にかけることができて、極めて簡易な
印刷・製版方法といえる。したがって、この方法で高品
質あるいは高耐刷性の印刷を行えるように改良の試みが
なされてきている。

【０００３】例えば、特開平１１−１３８９１１号、同
１１−１３８９７０号公報などでは、光触媒性の金属化
合物薄層を表面に有する印刷用原板に活性光を像様に照
射して照射領域を親水性に変化させて親水性の像様分布
を形成させて印刷版とする製版・印刷方法が開示されて
いる。この方法は、活性光の像様照射だけで製版が可能
なのできわめて簡易ではあるが、非画像部を照射する
（いわゆるネガ書き込み）ので、細線がさらに細くなっ
て飛びやすいことなど画像形成能の不安定性に弱点を持
っている。

【０００４】これに対して特開平１１−１４３０５５
号、同１１−１０５２３４号公報などでは、光触媒性の
金属化合物薄層を表面に有する印刷用原板に活性光を一
様照射した親水性の表面に疎水性物質による描画を行
い、描画領域にインクを受容領域とする、上記と同様に
簡易な細線描写に不安のない方法が提案されている。こ
の製版・印刷方法は、細線描写に不安のないなど上記の
弱点は解決されているが、画像領域と非画像領域との識
別性は必ずしも十分ではなく、かつ親水性領域が経時的
に疎水性化する現象が起こりやすいという弱点もある。

【０００５】一方、特開平１１−７８２７１号公報で
は、同様に光触媒性の金属化合物薄層を表面に有する印
刷用原板に対して疎水性の画像形成物質をインクジェッ
ト型の噴霧方式で描画する方法が提案されている。以上
のように、この分野では光触媒性化合物を利用して簡易
性と印刷品質の両立を目指す提案が行われてきている
が、依然として市場の要請に十分に応えるレベルには到
達しておらず、さらなる改良が望まれている。

【０００６】一方、光触媒能を有する機能的な印刷原板
は、反復再使用できることが望ましく、この観点から、
特開平１１−１３８９７０号、同１１−１４３０５５号
などの公報には使用済み印刷版に活性光を全面照射して
原板として再使用する方法が開示されている。この再使
用可能の原板についても上記の状況から画像部と非画像
部との識別性の改善が望まれている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の背景にもとづくものであって、印刷・製版作業の簡易
性と優れた印刷品質とを併せ備え、かつ原板の再使用が
可能な印刷方法を提示することである。具体的には、現
像を必要とせず、印刷時の着肉性がよく印刷汚れが少な
く、かつ原板を反復して使用できる印刷方法とそれに用
いる印刷版を提示することである。本発明のさらなる課
題は、上記方法の印刷と使用原板の再生とを印刷機上で
行うことができる印刷装置を提示することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題に対して、本
発明者は印刷原板材料として、光触媒性化合物に限らず
光又は熱によって極性が変化しうる物質を広く探索した
結果、疎水性と親水性の両面の性質を内在していて、外
部からの作用に応じてそのいずれかを発現できる物質が
あり、この性質を利用するとその表面に疎水性領域と親
水性領域をそれぞれきわめて強固に形成できることを見
いだし、この特性の印刷・製版への利用を鋭意検討した
結果、本発明に到達した。すなわち本発明は下記の通り
である。

【０００９】１．親水・親油材料を含有する層を表面に
有する印刷用原板に（１）疎水性物質の層を像様に付与
して画像領域を形成させたのち、（２）該表面に親水性
強化剤の処理を施して非画像領域の親水性を強化し、
（３）該画像領域がインキを受容し、該非画像領域が湿
し水を受容した版面を形成させて印刷を行い、（４）該
印刷の終了後、インキの洗浄除去と、熱印加又は光照射
による履歴消去とを該版面に施すことによって、該印刷
用原板を再使用可能とすることを特徴とする平版印刷方
法。

【００１０】２．親水・親油材料を含有する層を表面に
有する印刷用原板に疎水性物質の層を像様に付与する方
法が、熱ヘッド又はレーザー光による疎水性物質の熱転
写及びインクジェット型噴射から選ばれる方法であるこ
とを特徴とする上記１に記載の平版印刷方法。

【００１１】３．親水性強化剤が、脂肪族多価アルコー
ル、ポリ（アルキレングリコール）、ポリエチレングリ
コールアルキルエーテル、アルキルスルホン酸、一価ア
ルコール、水及び界面活性剤から選択されることを特徴
とする上記１又は２に記載の平版印刷方法。

【００１２】４．親水性強化剤が、平版印刷用の湿し水
であることを特徴とする上記３に記載の平版印刷方法。

【００１３】５．親水・親油材料が、光触媒能を有する
金属化合物、光熱変換性物質、高温親水性発現物質から
選ばれた材料であることを特徴とする上記１〜４のいず
れか１項に記載の平版印刷方法。

【００１４】６．親水・親油材料が、ＴｉＯ₂ 、ＲＴｉ
Ｏ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ
_3-x Ｅ_x Ｏ₁₀（Ａは水素原子又はアルカリ金属原子、Ｂ
はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類原子、
Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅは同じ
く４Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任意の数
値を表す）、ＳｎＯ₂ 、Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ，ＦｅＯ_x
（ｘ＝１〜１．５）、ＭｎＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＶＯ_x （ｘ
＝１〜５）及びＣｕＯ並びにＡｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、
Ｃｏ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ及びＭｏから選ば
れる金属酸化物又は金属であることを特徴とする上記５
に記載の平版印刷方法。

【００１５】７．親水・親油材料を含有する層を表面に
有する印刷用原板に疎水性物質の層を像様に付与したの
ち、該印刷用原板を親水性強化剤によって処理したこと
を特徴とする平版印刷版。

【００１６】８．（１）親水・親油材料を含有する層を
表面に有する印刷用原板の装着部と（２）該原板に疎水
性物質の層を像様に付与して画像領域を形成させる疎水
性画像層付与部と、（３）画像領域を形成した該原板に
親水性強化剤を処理して非画像領域の親水性を強化させ
る親水性強化処理部と、（４）該画像領域にインキを供
給し、該非画像領域に湿し水を供給するインキ及び湿し
水供給部と、（５）該画像領域がインキを受容し、該非
画像領域が湿し水を受容してなる印刷面を被印刷面と接
触させて印刷を行う印刷部と、を有することを特徴とす
る平版印刷装置。

【００１７】９．印刷済みの版をインキ溶剤で洗浄する
インキ除去部と、熱印加又は一様の光照射による履歴消
去を行う初期化部とを有し、該印刷版を再使用可能の印
刷原板とすることを特徴とする上記８に記載の平版印刷
装置。

【００１８】本発明は、基本的には、第一に本明細書に
おいて親水・親油材料と呼んでいる前記の疎水性と親水
性の両面の性質を内在していて状況に応じてそのいずれ
の性質をも具現できる物質を利用したこと、第二に疎水
性（インキ受容性）画像部を形成させるポジ型描画方式
を採ったこと、第三に本明細書において親水性強化剤と
呼んでいる親水性化合物を親水・親油材料に適用したこ
と、第四に親水・親油材料の光触媒性、光熱変換性又は
高温親水性を使用済み刷版の履歴の消去に利用したこと
を特徴とした発明である。親水・親油材料は、疎水層も
親水層も担持させることができる。この材料は、後述す
るように光触媒能、光熱変換能又は高温親水性の少なく
とも一つを有している。

【００１９】すなわち、本発明の平版印刷方法は、親水
・親油材料を表面に有する印刷原板を用いており、まず
この印刷原板にたとえば転写などの後述する方法で疎水
性物質の層を像様に付与してインキ受容性の画像領域を
形成させ、つづいて非画像部に親水性強化処理を施して
印刷版とするという単純な方法であるが、第一に疎水性
描画材料の選択の自由度が大きく、インキ受容性に優れ
た高度に疎水性の像様領域を形成できること、第二に親
水性強化剤によって非画像部に高度かつ安定した親水性
を付与できること、第三に疎水性材料による描画である
ので、細線の細りや飛びなどがなく精度の高い印刷画像
が得られること及び第四に使用済みの刷版の履歴を親水
・親油材料の光触媒能、光熱変換能又は高温親水性を利
用して消去して、印刷原板を再生させることができるこ
とが特徴である。したがって、この方法によって、製版
工程そのものの簡易性と、優れた印刷品質と、原板の反
復使用可能にいずれをも満たした印刷版が作られる。

【００２０】本発明の印刷原板は、その表面の疎水性物
質の層を像様に付与された部分が疎水性領域となり、付
与されない部分は親水性領域となる必要から、表面には
親水・親油材料を有している。さらにこの表面は、使用
済み印刷版を反復再生するために、光触媒能を有する
金属化合物、光熱変換性物質、高温親水性発現物質
のいずれかであり、したがって親水・親油材料であっ
て、かつ〜のいずれかであることが必要である。親
水・親油材料の中には、〜のいずれか一つの性質を
有するものや、二つあるいは三つの性質を併せ有するも
のがあり、その性質に応じて画像記録手段が活性光の像
様照射あるいは熱の像様適用が選択される。

【００２１】本発明の製版過程は、印刷原板に像様に疎
水性物質の層を付与することから始まる。疎水性画像層
の付与は、描画によるか又は画像マスクを通して疎水性
物質を原板表面に担持させることによって行われる。描
画手段としては、疎水性物質を像様に設けることのでき
る公知の任意の方法を利用できるが、好ましい方法とし
ては溶融熱転写や昇華型熱転写方式と、インクジェット
方式の噴射塗布方式が好ましい。溶融熱転写と昇華型熱
転写方式では、レーザー光や赤外線光などのヒートモー
ドの光照射による描画でも、熱ヘッドを用いる接触描画
でもいずれであってもよい。

【００２２】疎水性画像層用の物質には、印刷原板に付
着性でかつ疎水性の物質を広く選択できるが、とくに適
している疎水性物質は有機化合物であって、原板面上
に付着し易い液体、溶液状又は分散液状の疎水性物質、
噴射されて付着しやすい粒子化した疎水性物質、原
板面上への凝縮し易い昇華性の疎水性固体や揮発性の疎
水性液体、原板表面に吸着気体状疎水性物質などか
ら、適用する画像層付与手段に合わせて適した物質が選
ばれる。

【００２３】本発明者は、親水・親油材料の表面は、通
常時間とともに疎水性の方向に変化してゆくことを発見
しており、これが像様に付与した疎水性領域と非画像部
の親水性領域との識別性を経時とともに弱めており、印
刷品質や耐刷性を低下させている。したがって、本発明
においては、像様疎水性領域が形成されると、比較的短
時間の間に原板表面に親水性強化剤を処理して親水性と
疎水性の識別性を高いレベルに保つ操作を施すことが特
徴である。親水性強化剤は、親水・親油材料の表面に親
水性皮膜層を形成して親水性を強化する物質であって、
その詳細は後に記す。また、平版印刷用の湿し水をこの
目的に用いることができる。

【００２４】本発明の印刷方法では、印刷を終了した
後、印刷版上の印刷インキを洗浄除去して印刷原板を再
使用することができる。インキを除去しても、インキ受
容領域であった部分と湿し水受容領域であった部分に
は、インキが洗浄除去されても微妙な履歴が残って十分
に均一な親水・親油性表面ではないことがあるので、表
面のこのような親水・親油性の局部的な履歴を無くす操
作（以下初期化という）を行って、印刷原板の全面にわ
たって、状況に応じて親水性にも親油性にもなりうる親
水・親油性を回復させ、その上で上記した製版・印刷工
程を繰り返す必要がある。初期化の方法としては、親水
・親油材料の種類によって適した方法が採られる。すな
わち親水・親油材料が光触媒能を有する金属化合物であ
る場合には活性光の全面照射によって、光熱変換性物質
である場合には赤外線などの熱線照射により履歴消去温
度への昇温によって、また高温親水性発現物質である場
合には直接の熱源との接触や熱風あるいは赤外線などの
熱線照射による高温親水性発現温度への加熱によって、
一様の親水・親油性表面を回復させることができる。

【００２５】熱によって履歴を消去する場合には、親水
・親油材料を含有する層の下から電熱加熱を行って版面
上の画像履歴を確実に消去する方法をとることもでき
る。

【００２６】上記した本発明の印刷方法は、印刷原板を
印刷機に装着して印刷機上で上記した製版・印刷工程、
さらに原板再生工程を施すことが可能である。この方法
では、原板を印刷機に装着したまま製版、印刷、原板の
反復使用ができて、本発明の簡易性という特徴を一層発
揮することができる。原板の再生には、原板の画像履歴
消去用の加熱装置を具備した印刷装置が適している。加
熱装置は、版胴の内部に電熱ヒーターを埋め込んだ加熱
部を設けておくと電熱によって簡単に履歴を消去でき、
余分な操作が不要であって好都合である。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態をさら
に詳細に以下の順序によって説明する。はじめに本発明
に用いる印刷用原板、すなわち原板を構成する親水・親
油材料及びそれを担持する支持体について、次いで本発
明の製版過程、すなわち、まず像様疎水性領域の付与方
法及び親水性強化剤とその塗設方法について、続いて印
刷工程と印刷終了後の印刷版の再生工程について、さら
に本発明による印刷装置について順次説明する。

【００２８】Ｉ 印刷用原板 〔親水・親油材料〕本発明に用いる親水・親油材料と
は、前記したように親水性及び親油性の両方の性質が内
在していて状況に応じていずれの性質をも具現できる材
料を指す。この材料に疎水性物質を適用すると、その物
質を受け入れて表面疎水性の皮膜が形成されて親水・親
油材料本来の疎水性を強化することができる。一方、親
水性物質を適用すると、同様にその物質を受け入れて表
面疎水性の皮膜が形成されて親水・親油材料本来の親水
性を強化することができる。この材料の水に対する接触
角は３０〜７０度で、多くは４０〜６０度である。すな
わち通常親水性として印刷に適しているとされる水に対
する接触角が４０度以下、多くは３０度以下と疎水性と
して印刷に適しているとされる６０度以上、多くは７０
度以上との中間の接触角を有している。本発明では、こ
の性質を巧みに利用して像様に分布させた疎水性と親水
性の両領域の疎水性と親水性を強化して識別性を高め、
印刷品質と耐刷性の向上に寄与させている。

【００２９】親水・親油材料の上記の特性を有する物質
は、（ａ）光触媒能を有する金属化合物、（ｂ）光熱変
換性物質、（ｃ）高温親水性発現物質に見いだされる
が、その中には、これらのいずれかの一つの性質を有す
るものや、二つあるいは三つの性質を併せ有するものが
ある。 （光触媒能を有する金属化合物）光触媒能を有する化合
物すなわち光触媒性化合物は、活性光の照射を受けると
疎水性から親水性に極性が変化する化合物であり、本発
明に用いられる光触媒性化合物は光触媒性金属酸化物で
ある。

【００３０】本発明に用いる光触媒性金属酸化物は、い
ろいろの形態の金属酸化物に見られ、単一の金属酸化
物、複合酸化物のいずれの場合もあり、また後者の場合
は、固溶体、混晶、多結晶体、非晶質固溶体、金属酸化
物微結晶の混合物のいずれからもこの特性を有するもの
が認められる。このような特性をもつ金属酸化物は、経
験的に周期律表の０と VIIＡ（ハロゲン元素）族を除く
第３〜６周期に属する金属元素の酸化物に見いだされ
る。なお、上記金属及び金属酸化物は、印刷版として使
用する際に湿し水に対して過度に溶解してはならないの
で、水に対する溶解度は、水１００ミリリットルについ
て１０ｍｇ以下、好ましくは５ｍｇ以下、より好ましく
は１ｍｇ以下である。

【００３１】好ましい光触媒性金属酸化物としては、ま
ず酸化チタンと酸化亜鉛を挙げられる。中でも酸化チタ
ンが感度（つまり表面性の光変化の敏感性）などの点で
好ましい。酸化チタンは、イルメナイトやチタンスラグ
の硫酸加熱焼成、あるいは加熱塩素化後酸素酸化など既
知の任意の方法で作られたものを使用できる。あるいは
後述するように金属チタンを用いて印刷版製作段階で真
空蒸着によって酸化物皮膜とする方法も用いることがで
きる。

【００３２】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、酸化チタン微結晶
又は酸化亜鉛微結晶の分散物（必要によって少量の分散
媒すなわちバインダーを含有）を印刷版の原板上に塗設
する方法、塗設したのち焼成してバインダーを減量或
いは除去する方法、印刷原板上に蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの方法で酸化チ
タン（又は酸化亜鉛）膜を設ける方法、例えばチタニ
ウムブトキシドのようなチタン有機化合物を原板上に塗
布したのち、焼成酸化を施して酸化チタン層とする方
法、上記金属塩の水溶液を塗設して加熱し、熱分解さ
せる方法など、既知の任意の方法を用いることができ
る。本発明においては、真空蒸着又はスパッタリングに
よる酸化チタン層が特に好ましい。

【００３３】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物と混和できるポリマーバインダー
に分散して塗布したのち、焼成して有機成分を除去する
方法などがある。酸化物微粒子のバインダ−には、酸化
チタン微粒子に対して分散性を有し、かつ比較的低温で
焼成除去が可能なポリマーを用いることができる。好ま
しいバインダーの例としては、ポリエチレンなどのポリ
アルキレン、ポリブタジエン、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリビニルアルコール、部分鹸化ポリ
ビニルアルコール、ポリスチレンなどの疎水性バインダ
ーが好ましく、それらの樹脂を混合して使用してもよ
い。

【００３４】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金属チタ
ンを置き、真空度１０^-3〜１０^-6Ｐａで全ガス圧１．０
〜１０ ^-3Ｐａ、酸素文圧比が３０〜９０％になるように
しながら、チタン金属を蒸発させると、蒸着面には酸化
チタンの蒸着薄膜が形成される。また、スパッタリング
による場合は、例えばスパッタ装置内にチタン金属ター
ゲットをセットしてＡｒ／Ｏ₂ 比が６０／４０（モル
比）となるようにガス圧を０．５Ｐａに調整したのち、
ＲＦパワー２００Ｗを投入してスパッタリングを行って
酸化チタン薄膜を基板上に形成させる。

【００３５】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は上記した〜など、既知の任意
の方法で作ることができる。とくに金属亜鉛板の表面を
電解酸化して酸化皮膜を形成させる方法と、真空蒸着、
スパッタリング、イオンプレーティング，ＣＶＤなどに
よって酸化亜鉛皮膜を形成させる方法が好ましい。酸化
亜鉛の蒸着膜は、上記の酸化チタンの蒸着と同様に金属
亜鉛を酸素ガス存在下で蒸着して酸化膜を形成させる方
法や、酸素のない状態で亜鉛金属膜を形成させたのち、
空気中で温度を約７００°Ｃにあげて酸化させる方法を
用いることができる。そのほか、修酸亜鉛の塗布層やセ
レン化亜鉛の薄層を酸化性気流中で加熱しても得られ
る。

【００３６】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も０．１〜１００００ｎｍがよく、好ま
しくは１〜１０００ｎｍである。さらに好ましくは３０
０ｎｍ以下として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、
光活性化作用を十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上
あることが好都合である。

【００３７】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が４０％以上、好ましくは６０％以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ３０〜１００ｖｏｌ％であり、好ましく
は５０ｖｏｌ％以上を酸化物が占めるのがよく、さらに
好ましくは酸化物の連続層つまり実質的に１００ｖｏｌ
％であるのがよい。しかしながら、表面の親水性／親油
性変化特性は、酸化亜鉛を電子写真感光層に用いるとき
のような著しい純度による影響はないので、１００ｖｏ
ｌｖｏｌ％に近い純度のもの（例えば９８ｖｏｌ％）を
さらに高純度化する必要はない。それは、本発明に利用
される物性は、導電性とは関係ない膜表面の親水性／親
油性の性質変化特性、すなわち界面物性の変化特性であ
ることからも理解できることである。

【００３８】しかしながら、後述する原板再生使用の際
に重要な、熱により表面親水性が変化する性質を増進さ
せるためにある種の金属をドーピングすることは有効な
場合があり、この目的にはイオン化傾向が小さい金属の
ドーピングが適しており、Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃ
ｕ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ又はＣｒをドーピングするのが好
ましい。また、これらの好ましい金属を複数ドーピング
してもよい。ドーピングを行った場合も、その注入量は
酸化亜鉛や酸化チタン中の金属成分に対して５モル％以
下である。

【００３９】一方、体積率が低いと層の表面の親水性／
親油性の熱応答挙動の敏感度が低下する。したがって、
層中の酸化物の体積率は、３０ｖｏｌ％以上であること
が望ましく、とくに実質的に１００ｖｏｌ％であること
が好ましい。

【００４０】次に、本発明に用いることができる別の光
触媒性金属化合物である一般式ＲＴｉＯ₃ で示したチタ
ン酸金属塩について記す。一般式ＲＴｉＯ₃ において、
Ｒはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリ
ウム、ベリリウムなどの周期律表のアルカリ土類元素に
属する金属原子であり、とくにストロンチウムとバリウ
ムが好ましい。また、２種以上のアルカリ土類金属原子
をその合計が上記の式に化学量論的に整合する限り共存
することができる。

【００４１】次に、一般式ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ₁₀
で表される化合物について説明する。この一般式におい
て、Ａは水素原子及びナトリウム、カリウム、ルビジウ
ム、セシウム、リチウムなどのアルカリ金属原子から選
ばれる１価原子で、その合計が上記の式に化学量論的に
整合する限りそれらの２種以上を共存してもよい。Ｂ
は、上記のＲと同義のアルカリ土類金属原子又は鉛原子
であり、同様に化学量論的に整合する限り２種以上の原
子が共存してもよい。Ｃは希土類原子であり、好ましく
は、スカンジウム及びイットリウム並びにランタン、セ
リウム、プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウム、ユ
ウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イ
ッテルビウム、ルテチウムなどのランタノイド系元素に
属する原子であり、また、その合計が上記の式に化学量
論的に整合する限りそれらの２種以上を共存してもよ
い。Ｄは周期律表の５Ａ族元素から選ばれた一種以上の
金属元素で、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられ
る。また、化学量論関係を満たす限り、２種以上の５Ａ
族の金属原子が共存してもよい。Ｅは同じくチタン、ジ
ルコニウム、ハフニウムなどの４Ａ族元素に属する金属
原子であり、また、２種以上の４Ａ族の金属原子が共存
してもよい。ｘは０〜２の任意の数値を表す。

【００４２】ＲＴｉＯ₃ 、一般式ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ
_x Ｏ₁₀で表される上記化合物、ＳｎＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，
ＦｅＯ_x （ｘ＝１〜１．５）で示される酸化鉄系の化合
物のいずれの薄膜形成にも、酸化チタン及び酸化亜鉛を
設ける前記の方法を用いることがでる。すなわち、上
記光触媒能を有する熱応答型金属酸化物の微粒子の分散
物を印刷版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼
成してバインダーを減量或いは除去する方法、印刷版
の原板上に上記酸化物を各種の真空薄膜法で膜形成する
方法、例えば金属元素のアルコレートのような有機化
合物を原板上に塗布したのち、加水分解させ、さらに焼
成酸化を施して適当な厚みの金属薄膜とする方法、上
記金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水溶液を加熱スプレ
ーする方法など、既知の任意の方法を用いることができ
る。

【００４３】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法によって、チタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。

【００４４】同様にして上記、の塗設方法によって
ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子を塗設することも可能
である。ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子は、その化学
量論に対応するＣｓ₂ ＣＯ₃,Ｌａ₂ Ｏ₃,ＮｂＯ₅,ＴｉＯ
₂ を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、１３０°C
で５時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミ
クロン以下の微粒子に粉砕する。このＣｓＬａ₂ ＮｂＴ
ｉ₂ Ｏ₁₀微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様にバイ
ンダーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方
法は、ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀型微粒子に限らず、Ｈ
Ｃａ_1.5 Ｌａ_{0. 5} Ｎｂ_2.5 Ｔｉ_0.5 Ｏ₁₀，ＨＬａ₂ Ｎｂ
Ｔｉ₂ Ｏ₁₀など前述のＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_{3- x} Ｅ_x Ｏ₁₀、
（０≦ｘ≦２）に適用される。

【００４５】上記の真空薄膜形成法を用いた光触媒性
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単一もしくは複合型の酸化
物ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムタ
ーゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を４５０°Ｃ
以上に保ち、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッ
タリングを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が
得られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニー
リングを３００〜９００°Ｃで行えばよい。本方法は前
述のＲＴｉＯ₃（Ｒはアルカリ土類金属原子）をはじめ
他の前記光触媒能を有する熱応答型金属酸化物にも、結
晶制御に最適な基板温度を調整すれば同様の考え方で薄
膜形成が可能である。例えば酸化錫薄膜を設ける場合に
は基板温度１２０°Ｃ、アルゴン／酸素比５０／５０の
混合雰囲気中でＲＦスパッタリングを行うことにより酸
化錫結晶の本目的に沿う薄膜が得られる。

【００４６】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にＳｉＯ₂ を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、２００°Ｃ以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式の方法も前述した他のＲＴｉＯ₃ （Ｒは
アルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ _x Ｏ₁₀
（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を表
す）、ＳｎＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ 及びＦｅＯ_x （ｘ＝１〜
１．５）で示される酸化鉄系の化合物の薄膜形成に適用
することができる。

【００４７】上記によって熱応答性機能を発現する金
属酸化物薄膜を形成させる方法も、バインダーを含まな
い系の薄膜の形成が可能である。ＳｎＯ₂ の薄膜を形成
するにはＳｎＣｌ₄ の塩酸水溶液を２００°Ｃ以上に加
熱した石英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生
成することができる。本方式も、ＳｎＯ₂ 薄膜のほか，
前述したＲＴｉＯ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）、Ａ
Ｂ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_xＯ₁₀（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれ
ぞれ前記の定義の内容を表す）、Ｂｉ₂ Ｏ₃ 及びＦｅＯ
_x （ｘ＝１〜１．５）で示される酸化鉄系の化合物のい
ずれの薄膜形成にも適用することができる。上記した光
触媒能を有する金属化合物は、特開平１１−１３８９７
０号、同１１−１３８９７１号、同１１−１４３０５５
号及び同１１−１７４６５５号公報に開示されている。

【００４８】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も１〜１００００ｎｍがよく、好ましくは１〜１０
００ｎｍである。さらに好ましくは３００ｎｍ以下とし
て光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を
十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上あることが好都
合である。

【００４９】バインダーを使用した場合の上記光触媒能
を有する熱応答型金属酸化物の薄層において、金属酸化
物の体積率は５０〜１００ｖｏｌ％であり、好ましくは
９０ｖｏｌ％以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好
ましくは酸化物の連続層つまり実質的に１００ｖｏｌ％
であるのがよい。その薄層の厚みは、０．０１〜１０μ
ｍがよく、好ましくは０．１〜５μｍがよい。

【００５０】（光熱変換性物質）光熱変換物質とは、光
を吸収して、吸収エネルギーを熱エネルギーに変換して
放出する物質を指しているが、いうまでもなく、多くの
物質は多少とも光を吸収し、光を吸収すればそれによっ
てその物質のエネルギー準位は励起し、その順位が基底
準位に戻るときに蛍燐光を発しないかぎり熱を放出する
ので、厳密には殆どの物質がたとえ僅かではあっても光
熱変換作用を持っているといえる。したがって、光熱変
換剤という場合には、光熱変換能が目的とする熱変化を
もたらすことができる大きさである場合に限るのが適切
であり、その観点からは、印刷用原板として実用できる
光熱変換剤は、吸光度が少なくとも０．３×１０³ c
m^-1、好ましくは１×１０³cm ^-1以上、より好ましくは
１×１０⁴cm ^-1以上であって、かつ吸収光は実質的に蛍
光や燐光に変換されない物質を指すものとすることが実
際的である。また、吸光度が高すぎると、光熱変換作用
が光熱変換剤含有層の上部に偏り、深部の光熱変換作用
が乏しくなって却って画像形成作用を損なうこともある
ので、適切な吸光度は、０．３×１０⁸ cm^-1以下、好ま
しくは１×１０⁷cm ^-1以下である。なお、吸光度は透過
濃度を厚みで除した値である。

【００５１】光熱変換性を示す親水・親油材料は、金属
及び金属化合物の中に見いだされる。金属は周期律表の
Ｉｂ族、IIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIa族及び
VIII族元素であり、金属化合物は、上記金属の酸化物と
遷移金属酸化物、周期律表のII〜VIII族の金属元素の硫
化物及び周期律表のIII 〜VIII族の金属元素の窒化物で
ある。これらの金属及び金属化合物は、微粒子分散物層
又は薄層の形態で用いられ、薄層の場合は表面が粗面化
されていることが好ましい。なお、上記金属及び金属酸
化物は、光触媒性金属化合物について述べたように印刷
版として使用する際に湿し水に対して過度に溶解しては
ならないので、水に対する溶解度は、水１００ミリリッ
トルについて１０ｍｇ以下、好ましくは５ｍｇ以下、よ
り好ましくは１ｍｇ以下である。

【００５２】光熱変換性物質は、光を吸収するとそのエ
ネルギーを熱エネルギーに変換して該物質あるいはその
周辺の温度を上昇させる。温度が履歴消去温度以上に達
すると刷版に残存していた履歴が消去される。好ましい
金属は、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、
Ｍｏ及びＷであり、好ましい金属酸化物は、Ａｇ₂ O 、
ＣｕＯ、ＣｕＯ₂ ，Ｃｒ₂O₃ 、ＴｉO₂、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｍ
ｎ₂O₃ 、ＭｏO₂、ＴｉO₂、Ｆｅ₂O₃ 、ＭｎO₂、ＰｂＯ、
ＶＯ_x（ｘ＝１〜５）、ＭｎＯ及びＷである。好ましい
遷移金属酸化物は、上記のほかＣｏ，Ｔｅ，Ｎｂ，Ｙ，
Ｚｒ及びＢｉの酸化物が含まれる。これらの中では、Ｆ
ｅＯ，Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，Ｆｅ₃ Ｏ₄ ，ＣｏＯ，Ｃｒ₂ Ｏ₃ ，
ＭｎＯ₂ ，ＺｒＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＣｕＯ，ＣｕＯ₂ ，
ＡｇＯ，ＰｂＯ，ＰｂＯ₂ 、ＶＯ_x （ｘ＝１〜５）がと
くに好ましい金属酸化物の例として挙げられる。ＶＯ_x
には、黒色のＶＯ、Ｖ₂ Ｏ₃ 、ＶＯ₂ 、や褐色のＶ₂ Ｏ
₅ がある。さらに、好ましい例には特開平１１−２５４
８４９号公報に開示された金属及び金属酸化物をあげる
ことができる。

【００５３】そのほかの好ましい無機金属酸化物として
は、ＴｉＯ_x （ｘ＝１．０〜２．０）、ＳｉＯ_x （ｘ＝
０．６〜２．０）、ＡｌＯ_x （ｘ＝１．０〜２．０）も
挙げることができる。ＴｉＯ_x （ｘ＝１．０〜２．０）
には、黒色のＴｉＯ、黒紫色のＴｉ₂ Ｏ₃ 、結晶形と狭
雑物によって無色から黒色までの種々の色を呈するＴｉ
Ｏ₂ 類がある。ＳｉＯ_x （ｘ＝０．６〜２．０）には、
ＳｉＯ、Ｓｉ₃ Ｏ₂ 、無色あるいは共存物質によって
紫、青、赤などの色を示すＳｉＯ₂ が挙げられる。ま
た、ＡｌＯ_x （ｘ＝１．５）には、無色あるいは共存物
質によって赤、青、緑などに呈色するコランダムなどが
挙げられる。

【００５４】好ましい金属炭酸塩は、Ａｇ₂ ＣＯ₃ 、Ｃ
ｕＣＯ₃ 、ＴｉＣＯ₃ 、ＦｅＣＯ₃、Ｍｎ（ＣＯ₃ ）
₂ 、Ｍｏ（ＣＯ₃ ）₂ 及びＭｎ（ＣＯ₃ ）₂ である。

【００５５】光熱変換性微粒子が金属硫化物からなる場
合、好ましい金属硫化物は、遷移金属などの重金属硫化
物である。中でも好ましい硫化物には鉄、コバルト、ク
ロム、マンガン、ニッケル、モリブデン、テルル、スト
ロンチウム、錫、銅、銀、鉛、カドミウムの硫化物が挙
げられ、とりわけ、硫化銀、硫化第一鉄及び硫化コバル
トが好ましい。

【００５６】光熱変換性微粒子が金属窒化物からなる場
合、好ましい金属窒化物は、金属のアジド化合物であ
る。とくに銅、銀及び錫のアジド化物が好ましい。これ
らのアジド化合物は、光分解によって発熱する自己発熱
性化合物でもある。そのほかの好ましい無機金属窒化物
には、ＴｉＮ_x （ｘ＝１．０〜２．０）、ＳｉＮ_x （ｘ
＝１．０〜２．０）、ＡｌＮ_x （ｘ＝１．０〜２．０）
などが挙げられる。ＴｉＮ_x （ｘ＝１．０〜２．０）と
しては、青銅色のＴｉＮや褐色のＴｉＮ_x （ｘ＝１．
３）が挙げられる。ＳｉＮ_x （ｘ＝１．０〜２．０）と
しては、Ｓｉ₂ Ｎ₃ ，ＳｉＮ，Ｓｉ₃ Ｎ₄ が挙げられ
る。また、ＡｌＮ_x （ｘ＝１．０〜２．０）にはＡｌＮ
などを挙げることができる。

【００５７】上記の各金属酸化物、硫化物及び窒化物
は、いずれも公知の製造方法によって得られる。また、
チタンブラック、鉄黒、モリブデン赤、エメラルドグリ
ーン、カドミウム赤、コバルト青、紺青、ウルトラマリ
ンなどの名称で市販されているものも多い。

【００５８】これら光熱変換性の金属化合物は、光触媒
性金属酸化物の項で述べた蒸着、スパッタリング、Ｃ
Ｖ，分散物として塗設、塗設後焼結などの公知の方法で
支持体上に薄膜として設けられる。塗設又は塗設後焼結
する場合は、バインダーの量は金属化合物粒子の３０％
以下、好ましくは２０％以下であり、用いなくても分散
するのであれば用いなくてもよい。金属化合物が粒子の
状態で塗設されたり、塗設後焼結されたりする場合は、
その粒子サイズは、粒子を構成する物質の屈折率や吸光
係数によって最適サイズがことなるが、一般に０．００
５〜５μｍであり、好ましくは０．０１〜３μｍであ
る。

【００５９】光熱変換性物質の薄膜の厚みは、上記のい
ずれの場合も０．１〜１００００ｎｍがよく、好ましく
は１．０〜１０００ｎｍである。さらに好ましくは３０
０ｎｍ以下として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、
光活性化作用を十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上
あることが好都合である。

【００６０】光熱変換性物質をバインダーに分散した塗
布層とした場合において、金属酸化物の体積率は５０〜
１００ｖｏｌ％であり、好ましくは９０ｖｏｌ％以上を
酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連
続層つまり実質的に１００ｖｏｌ％であるのがよい。そ
の薄層の厚みは、０．０１〜１０μｍがよく、好ましく
は０．１〜５μｍがよい。

【００６１】（高温親水性発現物質）本発明者達は、高
温に加熱すると極性が変化して親水性を示す化合物を見
いだして、この性質を有する物質を高温親水性発現物質
と呼び、高温親水性となる温度を高温親水性発現温度と
呼んでいる。高温親水性が現れる温度は、多くは２５０
°Ｃ以上であり、中には２００°Ｃ以上、さらには１７
０°Ｃにおいて高温親水性となる物質もある。また、高
温親水性発現物質の中には、５０〜１５０°Ｃの加熱温
度で疎水化し、さらに加熱して高温親水性発現温度に達
すると親水性となる温度挙動をとる物質もある。高温親
水性発現物質でかつ親水・親油性でもある材料は、金属
及び金属化合物に広くみられる。金属は周期律表のＩｂ
族、IIｂ族、III 族、IV族、VIａ族及びVIII族元素であ
り、金属化合物は、それらの金属の不溶性塩類である。

【００６２】これらの金属及び金属化合物は、微粒子分
散物層又は薄層の形態で用いられ、薄層の場合は表面が
粗面化されていることが好ましい。なお、上記金属及び
金属酸化物は、光触媒性金属化合物について述べたよう
に印刷版として使用する際に湿し水に対して過度に溶解
してはならないので、水に対する溶解度は、水１００ミ
リリットルについて１０ｍｇ以下、好ましくは５ｍｇ以
下、より好ましくは１ｍｇ以下である。好ましい金属
は、光熱変換性金属の項で述べたものも重複して記せ
ば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｖ、Ｎｉ、Ａｇ、
Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｍｏ及びＷである。好
ましい金属酸化物は、光熱変換性金属の項で述べたもの
も重複して記せば、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣｄＯ、ＺｎＯ、Ａｇ
₂ O 、ＣｕＯ、Ｃｒ₂O₃ 、ＴｉO₂、ＴｉO₂、Ｆｅ₂
Ｏ₃ 、ＭｏO₂、ＴｉO₂、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 及びＷである。好ま
しい金属炭酸塩は、Ａｇ₂ ＣＯ₃ 、ＣｕＣＯ₃ 、Ｃｒ
₂(ＣＯ₃)₂)₃ 、Ｐｂ(II)ＣＯ₃ 、Ｔl(I)ＣＯ₃ 、ＦｅＣ
Ｏ₃ 、ＭｏＣＯ₃ 、ＴｉO₂、Ｆｅ₂(ＣＯ₃)₂) ₂(Ｃ
Ｏ₃)₂ 、Ｍｎ（ＣＯ₃ ）₂ 及びＺｎＣＯ₃ である。好ま
しい金属硫化物は、ＡｇＳ、ＣｕＳ及びＦｅＳである。
高温親水性発現性の金属化合物の層を支持体上に設ける
方法は、上記の光熱変換性金属化合物の場合と同じであ
る。

【００６３】高温親水性発現物質の薄膜の厚み、高温親
水性発現物質をバインダーに分散した塗布層とした場合
の体積率、及びその塗布層の厚みの好ましい範囲は、前
記した光熱変換性物質の場合と同じである。

【００６４】〔支持体及び印刷用原板の形態〕次に支持
体について述べるが、本発明においては原板を印刷装置
上の版胴に装着して製版する場合もあるので、それらを
含めて説明する。本発明に係わる印刷原板は、いろいろ
の形態と材料を用いることができる。例えば、親水・親
油材料の薄層を印刷機の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あ
るいは塗布するなど上記した方法で直接設ける方法、支
持体に担持された親水・親油材料含有層や、あるいは支
持体を持たない親水・親油材料含有薄層を版胴の基体に
巻き付けて印刷版とする方法などを用いることができ
る。また、勿論版胴上で製版する上記形態以外に、一般
的に行われているように、製版を行った印刷版を輪転式
あるいは平台式印刷機に装着する形態を採ってもよい。

【００６５】親水・親油材料を支持体上に設ける場合、
使用される支持体は、寸法的にも安定な板状物であり、
アルミニウム板、ＳＵＳ鋼板、ニッケル板、銅板などの
金属板が好ましく、特に可撓性（フレキシブル）の金属
板を用いることが好ましい。また、ポリエステル類やセ
ルローズエステル類などのフレキシブルなプラスチック
支持体も用いることができる。また、防水加工紙、ポリ
エチレン積層紙、含浸紙などの支持体も使用することが
できる。

【００６６】具体的には、紙、プラスチックシート（例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等）、プラスチックフィ
ルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。

【００６７】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいＳＵＳ板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板と、製版工程
における加熱操作に対して安定性の高いポリイミドフィ
ルムは特に好ましい。

【００６８】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とｍ−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている（例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」）。

【００６９】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々１０質量％以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好ま
しくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２mm
〜０．３mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ０．１mm〜２．０mm程度、好まし
くは０．２mm〜１．０mmである。

【００７０】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶
液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表
面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例え
ば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解
粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの
公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な
粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または
直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。

【００７１】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量が１．０g/m²より少ないと、耐刷性が不十分であっ
たり、平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。

【００７２】II 製版過程 〔疎水性物質の画像層の付与〕次に、製版過程について
説明する。支持体上に親水・親油材料を含有する層を有
する上記した印刷用原板の製版過程は、疎水性物質の画
像層の付与から始まる。以下疎水性物質の画像層の付与
の方法について、つぎに疎水性の画像層を付与する物質
について説明する。

【００７３】（疎水性物質の画像層付与方法）疎水性物
質の画像層付与方法は、疎水性物質で原板表面に描画を
行うか、又は画像マスクを通して疎水性物質を原板表面
に付着させることによって行う。描画手段としては、疎
水性物質を像様に設けることのできる公知の任意の描画
手段を利用できるが、好ましい方法としてはペンによる
書き込み、熱転写方式及びインクジェット方式などの噴
射ノズル方式が好ましく、その中でも溶融熱転写及び昇
華型熱転写方式と、インクジェット方式が好ましい。溶
融熱転写と昇華型熱転写方式では、レーザー光や赤外線
光などのヒートモードの光照射による描画でも、熱ヘッ
ドを用いる接触描画でもいずれであても好ましい。一
方、画像マスクを通して疎水性物質の像形成層を親水・
親油材料を含む層の上に設けるには、塗り付け処理、ス
プレー処理、気化・凝縮法、気体接触法、浸漬処理など
公知のいずれの方法、方式をも用いることができる。

【００７４】＜描画方式の画像層付与方法＞ ａ．熱転写方式 熱転写方式は、熱により溶融する疎水性画像形成物質を
担持したドナーシートと原板表面を接触させた状態でド
ナーシートの画像部に熱を加えて疎水性画像形成物質を
像様に熱融解させ、ドナーシートから原板表面に転写す
る溶融熱転写方式と、昇華性の疎水性画像形成物質を担
持したドナーシートを原板表面の至近距離に配してドナ
ーシートの画像部に熱を加えて疎水性画像形成物質を像
様に昇華させて、ドナーシートから原板表面に転写する
昇華型熱転写方式がある。以下両方式をまとめて説明す
る。熱を加える方式には、レーザー光や赤外線の像様照
射による光加熱方式（ヒートモード光照射方式）と熱ヘ
ッドなどの像様接触による接触伝熱方式のいずれをも用
いることができる。

【００７５】光加熱方式の像様加熱は、好ましくは赤外
線レーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変
調して原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源
の例として、近赤外線、赤外線の成分の多い半導体レー
ザー、ガスレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、Ｙ
ＡＧレーザーを挙げることができる。レーザー出力が
０．１〜３００Ｗのレーザーで照射をすることができ
る。また、パルスレーザーを用いる場合には、ピーク出
力が１０００Ｗ、好ましくは２０００Ｗのレーザーを照
射するのが好ましい。

【００７６】接触加熱方式では、公知の任意の接触型熱
記録装置、例えば汎用の熱融解型及び昇華型感熱色素転
写プリンターに用いられる描画用発熱体を装備した熱ヘ
ッドが用いられ、プリンター用の感熱転写用インク（イ
ンクリボンに塗設）も疎水性であるので、転写される疎
水性画像付与物質として用いることもできる。それら
は、単一の熱記録素子を二次元に駆動させる方式、熱記
録素子を線状に配列したアレイを直角方向に走査して描
画する方式あるいは二次元配列した記録素子を用いる高
速描画方式など公知の熱記録素子を用いることができ
る。転写に適した温度に加熱ヘッドへの供給電力を制御
するなどの方法が取られる。

【００７７】具体例をしては、たとえばTa-SiO₂ 発熱抵
抗体上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた１５０μｍｘ
１５０μｍのサーマルヘッドを２５０μｍ間隔に並べた
感熱プリンターを用いて、酸化チタンなどの原板表面層
と接触させて画像転写を行うことができる。サーマルヘ
ッドは、２０ｍｓｅｃ通電によって４５０°Ｃに達する
程度の加熱能力をもつのが好ましい。その場合は、像形
成物質にもよるが、通常走査速度を４００ｍｓｅｃ／ｍ
程度にすることができる。

【００７８】ｂ．インクジェット方式 インクジェット記録方法としては、従来公知のインクジ
ェット記録方式のいずれでもよいが、インク液の代わり
に疎水性像形成物質を用いることから油性インクを用い
る方式の装置を転用するのが好ましく、とくに静電吐出
型インクジェット方式が好ましい方式として挙げられ
る。静電吐出型であるので、静電界の処理上、印刷原板
の支持体は、導電性を有するものであることが好まし
く、少なくともその画像受理層の直下の部分が１０¹⁰Ω
・cm以下の固有電気抵抗値を有するものであることが好
ましく、原板全体が１０¹⁰Ω・cm以下であることがより
好ましい。上記の固有電気抵抗値は、さらに好ましく
は、１０⁸Ω・cm以下であり、その値は実質的に零であ
ってもよい。

【００７９】＜画像マスク方式の画像層付与方法＞ ａ．塗り付け方式 塗り付け処理は、疎水性像形成物質を透過する領域と透
過しない領域を像様に分布させてある画像マスクを通し
て液体及び固体状の疎水性像形成物質に適用できる疎水
層の付与方法であり、疎水性像形成物質が液体の場合
は、直接塗り付けてもよく、また固体の場合、あるいは
液体であっても場合により、適当な溶剤に溶解あるいは
分散したりして液状として塗り付け処理を行う。塗り付
け処理の方法としては、グラビア塗布、リバース塗布、
ホッパー塗布、スリット塗布などの公知の方法が適用で
きる。また、疎水性像形成物質を担持した媒体を介して
原板上に塗り付け皮膜を形成させるシート処理が好まし
い方式の一つである。この方法には特登２６５５３３７
号に記載の方法を挙げることができる。疎水性像形成物
質を担持する媒体には、フェルト、織物、スリットや細
孔を有する金属などを用いることができる。この中でも
特開平８−２９００８８号、同８−２９００８７号、同
９−１３８４９３号公報に記載されているスポンジなど
による処理液塗り付けの方法を好ましく適用できる。

【００８０】塗り付け処理の好ましい塗り付け量は、疎
水性像形成物質の濃度などによって異なるが、通常１０
〜１００ｍｌ／ｍ² 、好ましくは１５〜５０ｍｌ／ｍ²
である。

【００８１】ｂ．スプレー方式 スプレー処理すなわち噴霧処理は、塗り付け処理に記し
たと同様に液状或いは分散液状にした疎水性像形成物質
又は疎水性像形成物質溶液を画像マスクを通して原板表
面に噴霧することによって疎水化を行う方法である。ま
た、噴霧液量を必要供給液量以上として適用表面を流下
する余分の疎水性像形成物質あるいは疎水性像形成物質
溶液を循環させて再利用してもよい。疎水性像形成物質
あるいは疎水性像形成物質溶液の噴霧方法、方式、ノズ
ルの数や形状を問わず、また単一の可動ノズルを移動さ
せながら噴霧しても、複数の固定ノズルを用いて噴霧し
てもよい。また、印刷原板を固定してノズルを移動させ
ながら噴霧しても、ノズルを固定して印刷原板を移動さ
せながら噴霧してもよい。このなかでも特開平８−１２
３００１号、同９−１６０２０８号、同９−１７９２７
２号公報に記載されている疎水性像形成物質あるいは疎
水性像形成物質溶液を噴射する複数のノズル孔が一定の
間隔で原板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に
並べられたノズルとこのノズルを搬送経路上の原板に向
かって変移させるアクチュエーターとを有する疎水性像
形成物質塗り付け装置によって疎水性像形成物質あるい
は疎水性像形成物質溶液を噴霧する方法がとくに好まし
い。

【００８２】ｃ．気化・凝縮法 気体接触法は、昇華性の固体疎水性像形成物質あるいは
揮発性の疎水性像形成物質や蒸発しやすい疎水性像形成
物質溶液を加熱して気化し、画像マスクを通して印刷原
板表面に接触させて疎水性像形成物質の皮膜を凝縮形成
させる方法である。この方法に好都合な効果をもつ好ま
しい有機化合物は、温度４００℃における蒸気圧が少な
くとも１３０Ｐａで、かつ蒸気圧が１３０Ｐａとなる温
度において安定な有機化合物である。つまり、この程度
の蒸気圧を有している有機化合物が加熱雰囲気中に存在
すると親水性と疎水性の識別性の向上が引き起こされ
る。より好ましくは、温度３００℃における蒸気圧が少
なくとも１３０Ｐａで、かつ蒸気圧が１３０Ｐａとなる
温度において安定な有機化合物である。さらに好ましく
は、沸点が３０〜４００℃にあって、かつ３０〜４００
℃の温度範囲で安定な有機化合物であり、中でも好まし
い沸点範囲は５０〜３５０°Ｃである。

【００８３】疎水性像形成物質の気化のための加熱を行
うには、原板表面に接するように設けられた加熱部の外
套内に疎水性像形成物質充填容器を置いて、加熱時間中
に疎水性像形成物質の蒸気を外套内に存在させるのがよ
い。また、有機化合物を含浸させた紙、布、ゼオライ
ト、珪草土などを外套内に挿入して加熱するのもよい。

【００８４】ｄ．気体接触法 疎水性像形成物質が気体の場合、とくに前記したフッ素
含有有機化合物の場合には、画像マスクで覆った印刷原
板をこの気体を含んだ雰囲気のなかに置くことによって
高度の疎水化を行うことができる。

【００８５】ｅ．浸漬法 通常行われているように浸漬槽を設けて画像マスクで覆
った印刷原板を浸漬する方法も用いることができる。

【００８６】（疎水性画像層付与物質）本発明におい
て、「疎水性」とは、親水・親油材料の清浄表面の水滴
接触角よりも大きい水滴接触角を指しており、水滴接触
角が６０度以上、好ましくは７０度以上であることを意
味する。疎水性像形成物質は、皮膜を形成できる材料で
あり、かつ適用する印刷原板表面を上記の意味の疎水性
にする、広い範囲で選択することができる。本発明の疎
水性像形成物質の目的に適合する化合物は、有機低分子
化合物、有機珪素化合物及び有機高分子化合物の中に見
いだされるが、上記した適用方法によって、それぞれ適
当した性質の疎水性像形成物質が選択される。すなわ
ち、描画用の疎水性物質は、印刷原板に付着性でかつ疎
水性の物質を広く選択できるが、とくに適している疎水
性物質は有機化合物であって、塗り付け塗布用や浸漬
塗布用：原板面上に付着し易い液体、溶液状又は分散液
状の疎水性物質、スプレー塗布用：噴射されて付着し
易く、且つ噴霧装置で粒子化される疎水性物質、気化
・凝縮法：原板面上への凝縮し易い昇華性の疎水性固体
や揮発性の疎水性液体、気化接触法：原板表面に吸着
し易い気体状疎水性物質などから、適用する描画手段に
併せて適した物質形態が選ばれる。これらの疎水性画像
付与物質の具体例は、以下にまとめて記すが、それらの
中からその適用方式にしたがって適切な材料が選択さ
れ、また単独で用いられたり、複数の材料が混合されて
用いられたりする。また、インクジェット方式の疎水性
画像付与に用いる疎水性像形成物質は、静電的な特性な
どの必要条件があるので、その点に関しては、他の方式
用の疎水性像形成物質の説明に続いて別に説明する。

【００８７】＜画像マスク方式用の疎水性画像付与物質
＞ １）有機低分子化合物 疎水性像形成物質として本発明に用いられる有機低分子
化合物は、２５℃における水１００ｇへの溶解度が２
ｇ以下であるか、有機概念図における有機性／無機性
の比が０．７以上であるかの少なくともいずれかに相当
する有機低分子化合物であり、その両方を用いることも
好ましい態様である。ここで、低分子化合物と呼んでい
るのは沸点又は融点を有する化合物という意味で用いて
おり、そのような化合物を通常分子量は２０００以下、
多くは１０００以下である。

【００８８】２５℃における水１００ｇへの溶解度が２
ｇ以下であることは、印刷版としての要件でもあるが、
疎水性であるための要件でもあることが経験的に判って
いる。

【００８９】有機概念図は、化合物の有機性及び無機性
の程度を示すのに実際的で簡便な実用尺度であり、その
詳細については、田中善生著「有機概念図」（三共出版
社、１９８３年初版刊行）の１〜３１頁に詳記されてい
る。有機概念図上の上記の範囲の有機化合物が疎水性化
を促進する作用を持つ理由は不明であるが、この範囲の
化合物は、有機性が比較的大きい化合物であり、複合粒
子近傍を疎水性にする。有機概念図における有機性が１
００以上でその上限についての制約はとくにないが、通
常１００〜１２００、好ましくは１００〜８００であ
り、その有機性／無機性の比が０．７〜無限大（すなわ
ち無機性が０）、好ましくは０．９〜１０の範囲に入る
有機化合物である。

【００９０】この水への溶解度あるいは有機概念図にお
ける有機性／無機性比を有する有機低分子化合物は、具
体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂肪族及び芳香族
カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコール、脂肪族及び
芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エーテル、有機アミ
ン類、有機珪素化合物、また、印刷用インキに添加でき
ることが知られている各種溶剤や可塑剤類の中に見られ
る。

【００９１】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数８〜３
０の、より好ましくは炭素数８〜２０の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数６〜４０
の、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数４〜３０
の、より好ましくは炭素数６〜１８の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数６〜３０
の、より好ましくは炭素数６〜１８の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数４〜２４
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数６〜
２０の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数４〜１２の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数６〜３０の、より好ましくは炭素数６〜
１８の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数２〜３０の、より好ましくは炭素数２〜１
８の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数８〜３０の、より好ましくは炭素数８〜１８
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数８〜３６の、より好ましくは炭素数８
〜１８の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数７〜３０の、より好ましくは炭素数７〜１
８の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数７〜３０
の、より好ましくは炭素数７〜１８の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。

【００９２】具体例としては、２，２，４−トリメチル
ペンタン（イソオクタン）、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、
ｎ−ヘキサデカン、オクタデカン、エイコサン、メチル
ヘプタン、２，２−ジメチルヘキサン、２−メチルオク
タンなどの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンな
どの芳香族炭化水素；ドデシルアルコール、オクチルア
ルコール、ｎ−オクタデシルアルコール、２−オクタノ
ール、ラウリルアルコール１価アルコール；ヘキシレン
グリコール、ジプロピレングリコールなどの多価アルコ
ール；ベンジルアルコール、４−ヒドロキシトルエン、
フェネチルアルコール、１−ナフトール、２−ナフトー
ル、カテコール、フェノールなどの芳香族アルコール；
酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン酸、カプリン
酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪族１価カルボ
ン酸；安息香酸、２−メチル安息香酸、４−メチル安息
香酸などの芳香族カルボン酸；酢酸エチル、酢酸イソブ
チル、酢酸−ｎ−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう
酸ジメチル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの
脂肪族エステル；安息香酸メチル、２−メチル安息香酸
メチルなどの芳香族カルボン酸エステル；イミダゾー
ル、２，２−ジメチルイミダゾール、４−メチルイミダ
ゾール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、シクロヘ
キシルアミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレ
ンテトラミン、オクチルアミン、フェネチルアミンなど
の有機アミン；メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ベンゾフェノンなどのケトン類、メトキシベン
ゼン、エトキシベンゼン、メトキシトルエン、ラウリル
メチルエーテル、ステアリルメチルエーテルなどのエー
テル及びステアリルアミド、ベンゾイルアミド、アセト
アミドなどのアミド類が挙げられる。そのほか、沸点が
前記の好ましい範囲にあるエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、シクロヘキサノン、ブチルセロソルブ、セ
ロソルブアセテートなどの有機溶剤も使用することがで
きる。

【００９３】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。

【００９４】また、長鎖脂肪酸と長鎖一価アルコールの
エステル、すなわちワックスも、疎水性で適当に低融点
であって、光熱変換性の微粒子の近傍で光照射によって
生じた熱によって融解してその領域を疎水性化する好ま
しい低分子有機化合物である。ワックスは、５０〜２０
０°Ｃで溶融するものが好ましく、その例としては、原
料などによってカルナバワックス、カスターワックス、
マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、
セラックろう、パームろう、蜜ろう等と呼ばれているい
ずれをも用いることができる。ワックス類のほかに、オ
レイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などの固体酸；
ベヘン酸銀、ステアリン酸カルシウム、パルミチン酸マ
グネシウムなどの長鎖脂肪酸の金属塩などの微粒子分散
物も用いることができる。

【００９５】有機低分子化合物の中でもペルフルオロ化
合物は、疎水化を効果的に行うので好都合である。好ま
しいペリフルオロ化合物としては、下記の化合物が挙げ
られる。ペルフルオロ酢酸、ペルフルオロ酪酸、ペルフ
ルオロバレリン酸、ペルフルオロカプリン酸、ペルフル
オロヘプタン酸、ペルフルオロカプロン酸、ペルフルオ
ロカプリル酸などのペルフルオロ脂肪族カルボン酸；ペ
ルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペルフル
オロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミ
ン、ペルフルオロヘキシルエーテル、ペルフルオロドデ
カンなどのペリフルオロ炭化水素；ペルフルオロブタノ
ール、ペルフルオロペンタノール、ペルフルオロヘキサ
ノール、ペルフルオロオクタノール、ペルフルオロドデ
シルアルコールなどのペリフルオロ脂肪族アルコール。

【００９６】２）有機珪素化合物 好ましい有機珪素化合物は、印刷原板の親水・親油材料
を含有する層の表面を効果的に疎水化する疎水性像形成
物質である。この目的に用いられる有機珪素化合物とし
ては、オルガノポリシロキサン、オルガノシラン及びフ
ッ素含有珪素化合物を挙げることができる。 ａ．オルガノポリシロキサン リ オルガノポリシロキサンは、ジメチルシリコーンオ
イル、メチルフェニルシリコーンオイルなどで代表され
る化合物であり、とくに重合度が１２以下のオルガノポ
リシロキサン類が好ましい。これらの好ましいオルガノ
ポリシロキサンはシロキサン結合単位当たり１〜２個の
有機基が結合しており、その有機基は、炭素数が１〜１
８のアルキル基及びアルコキシ基、炭素数が２〜１８の
アルケニル基及びアルキニル基、炭素数が６〜１８のア
リール基、炭素数が７〜１８のアラルキル基、炭素数が
５〜２０の脂環式基である。また、これらの有機置換基
には、さらにハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキ
シ基が置換してもよい。また、上記のアリール基、アラ
ルキル基、脂環式基には、上記の炭素数の範囲でメチル
基、エチル基又はプロピル基などの低級アルキル基がさ
らに置換していてもよい。

【００９７】本発明に使用できる好ましい有機珪素化合
物の具体例は、下記の化合物であるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。

【００９８】好ましいポリオルガノシロキサン類として
は、炭素数１〜５のアルキル基を有するジアルキルシ
ロキサン基、炭素数１〜５のアルコキシ基を有するジ
アルコキシシロキサン基、炭素数１〜５のアルコキシ
基とフェニル基を有するアルコキシフェニルシロキサン
基及びエトキシメトキシシロキサン基又はメトキシエ
トキシシロキサン基のうち、少なくとも一つを繰り返し
単位として含み、重合度が２〜１２、より好ましくは２
〜１０のポリオルガノシロキサンである。また、その端
末基は、炭素数１〜５のアルキル基、アミノ基、ヒドロ
キシ基、炭素数１〜５のヒドロキアルキル基又は炭素数
１〜５のアルコキシ基である。より好ましい端末基は、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基及びエト
キシ基である。その中でも好ましいシロキサン化合物
は、重合度が２〜１０のジメチルポリシロキサン、重合
度が２〜１０のジメチルシロキサン−メチルフェニルシ
ロキサン共重合物、重合度が２〜８のジメチルシロキサ
ン−ジフェニルシロキサン共重合物、重合度が２〜８の
ジメチルシロキサン−モノメチルシロキサン共重合物で
これらのポリシロキサン化合物の端末はトリメチルシラ
ン基である。そのほか、１，３−ビス（３−アミノプロ
ピル）テトラメチルジシロキサン、１，５−ビス（３−
アミノプロピル）ヘキサメチルトリシロキサン、１，３
−ジブチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン、１，５−ジブチル−１，１，３，３，５，５−ヘキ
サエチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘ
キサエチル−１，５−ジクロロトリシロキサン、３−
（３，３，３−トリフルオロプロピル）−１，１，３，
３，５，５，５−ヘプタメチル−トリシロキサン、デカ
メチルテトラシロキサンなどが挙げられる。

【００９９】特に好ましい汎用化合物として、いわゆる
シリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイル
（市販品では、例えばシリコーンＫＦ９６（信越化学工
業（株）製）、メチルフェニルシリコーンオイル（市販
品では、例えばシリコーンＫＦ５０（信越化学工業
（株）製）、メチルハイドロジェンシリコーンオイル
（市販品では、例えばシリコーンＫＦ９９（信越化学工
業（株）製）が挙げられる。

【０１００】ｂ．オルガノシラン 疎水性像形成物質として用いることができるオルガノシ
ラン化合物としては、ｎ−デシルトリメトキシシラン、
ｎ−デシルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ｎ−オクタデシ
ルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシ
シラン、ジメトキシジエトキシシランなどのシラン化合
物も挙げらることができる。

【０１０１】ｃ．フッ素含有有機珪素化合物 フッ素含有有機基を置換基として有するシラン、シラノ
ール及びシロキサン化合物も疎水性像形成物質として用
いることができる。好ましいフッ素含有有機珪素化合物
には、ポリフルオロアルキル基（３、３、３−トリフル
オロプロピル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロ
ブチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロペンチ
ル基、３、３、４、４、５、５、６、６、６−ノナフル
オロヘキシル基）、トリフルオロアシロキシ基（トリフ
ルオロアセトキシ基、２、２、２−トリフルオロエトキ
シ基）、トリフルオロアシル基（トリフルオロアセチル
基）、トリフルオロアルキルスルフォン基（トリフルオ
ロメタンスルフォン基、３、３、３−トリフルオロプロ
ピルスルフォン基）を有機置換基として有するシラン、
シラノール及びシロキサン化合物が挙げられる。

【０１０２】具体例としては、メチル−３、３、３−ト
リフルオロプロピルジクロロシラン、トリメチルシリル
トリフルオロメタンスルフォネート、トリフルオロアセ
トキシトリメチルシラン、３、３、４、４、５、５、
６、６、６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、
ジメトキシメチル−３、３、３−トリフルオロプロピル
シラン、３、３、３−トリフルオロプロピルシラン−ト
リメトキシシラン、３、３、４、４、５、５、６、６、
６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、３−
トリフルオロアセトキシトリメトキシシラン、１、３、
５−トリス（３、３、３−トリフルオロプロピル）−
１、３、５−トリメチルシクロトリシロキサン、１、
３、５、７−テトラキス（３、３、３−トリフルオロプ
ロピル）−１、３、５、７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン、１、１、３、５、５−ペンタ（３、３、３
−トリフルオロプロピル）−１、３、５−トリメチルト
リシロキサン、１、１、３、５、７、７−ヘキサ（３、
３、３−トリフルオロプロピル）−１、３、５、７−テ
トラメチルテトラシロキサン、メチル−３、３、３−ト
リフルオロプロピルシランジオール、３、３、４、４、
５、５、６、６、６−ノナフルオロヘキシルシラントリ
オール、３、３、４、４、５、５、６、６、６−ノナフ
ルオロヘキシルメチルシランジオール、ペンタフルオロ
エトキシシラントリオール、トリフルオロメチルシラン
トリオール、３、３、３−トリフルオロプロピルオトキ
シシラントリオール。好ましい化合物は、メチル−３、
３、３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、３、
３、４、４、５、５、６、６、６−ノナフルオロヘキシ
ルトリクロロシラン、３、３、３−トリフルオロプロピ
ルシラン−トリメトキシシラン、３、３、４、４、５、
５、６、６、６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロ
シラン、１、３、５−トリス（３、３、３−トリフルオ
ロプロピル）−１、３、５−トリメチルシクロトリシロ
キサン、メチル−３、３、３−トリフルオロプロピルシ
ランジオール、３、３、４、４、５、５、６、６、６−
ノナフルオロヘキシルシラントリオール、３、３、４、
４、５、５、６、６、６−ノナフルオロヘキシルメチル
シランジオール、ペンタフルオロエトキシシラントリオ
ール、トリフルオロメチルシラントリオール、３、３、
３−トリフルオロプロピルオトキシシラントリオール。
これらの有機珪素化合物は、市販されており、たとえば
信越化学工業（株）から入手できる。又は入手したクロ
ロシランを加水分解してシラノールとしたり、あるい
は、加水分解縮合によってポリオルガノシロキンを合成
できる。

【０１０３】３）有機高分子化合物 上記した溶解度又は吸水性の条件を満たす好ましい有機
高分子化合物は、共存する低分子有機化合物に溶解可能
又はそれ自体が熱可塑性の疎水性高分子化合物であり、
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリ
ビニルフェノール、ポリビニルハロゲン化フェノール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルブチラール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレ
ア、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フ
ェノール、ノボラック、又はレゾールフェノール類とア
ルデヒド又はケトンとの縮合樹脂、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、アクリル系共重合樹脂などが挙げら
れる。

【０１０４】好ましい化合物の一つは、必ずしも熱可塑
性ではないが、有機低分子化合物通うのフェノールノボ
ラック樹脂又はレゾール樹脂であり、フェノール、クレ
ゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合
クレゾール）、フェノール／クレゾール（ｍ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノ
ール変性キシレン、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、オク
チルフェノール、レゾルシノール、ピロガロール、カテ
コール、クロロフェノール（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブ
ロモフェノール（ｍ−Ｂｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、
フロログルシノールなどのホルムアルデヒドとの縮合の
ノボラック樹脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノー
ル類化合物とアセトンとの縮合樹脂などが挙げられる。

【０１０５】その他の好適な高分子化合物として以下
（Ａ）〜（Ｌ）に示すモノマーをその構成単位とする通
常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げることが
できる。 （Ａ）芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−
およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、（Ｂ）脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、（Ｃ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの（置
換）アクリル酸エステル、（Ｄ）メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒド
ロキシブチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなどの（置換）メタクリ
ル酸エステル、

【０１０６】（Ｅ）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよび
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、

【０１０７】（Ｆ）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、（Ｇ）ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、（Ｈ）スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（Ｉ）
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、（Ｊ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタ
ジエン、イソプレンなどのオレフィン類、

【０１０８】（Ｋ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど、（Ｌ）Ｎ−（ｏ−アミノ
スルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−
（３−アミノスルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、
Ｎ−（２−アミノスルホニルエチル）アクリルアミドな
どのアクリルアミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−
アミノスルホニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−
（２−アミノスルホニルエチル）メタクリルアミドなど
のメタクリルアミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルア
クリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレー
ト、１−（３−アミノスルホニルフェニルナフチル）ア
クリレートなどのアクリル酸エステル類などの不飽和ス
ルホンアミド、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、１
−（３−アミノスルホニルフェニルナフチル）メタクリ
レートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽和スル
ホンアミド。

【０１０９】これらの有機高分子化合物は、重量平均子
量が５００〜２００００、数平均分子量が２００〜６０
０００であることが好ましい。

【０１１０】疎水性像形成物質は、有機低分子化合物の
み、有機珪素化合物のみ、あるいは高分子有機化合物の
みで構成されていてもよいが、それらの二種あるいは三
種類を含んでいてもよく、さらに両者の親和性を高める
などの目的の第３成分を含んでいてもよい。

【０１１１】そのほか、疎水性像形成物質の層を設ける
際に、溶液や分散液とするためにエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、１，４
−ジオキサン、ジメチルホルムアミド、アクリロニトリ
ルなどの有機溶剤も使用することができる。 ＜描画方式用の疎水性画像付与物質＞ ａ．感熱転写方式用の疎水性画像付与物質 感熱転写方式用の疎水性画像付与物質は、上記した高分
子有機化合物と低分子有機化合物を熱転写に好都合な融
点あるいは揮発温度になるように調合して用いられる。
とくにカルナウバワックスなど熱により融解する材料が
溶融熱転写用として好ましい成分である。また、市販の
熱転写方式のプリンター用インクリボンも十分に疎水性
であって本発明の目的に使用することができる。

【０１１２】ｂ．インクジェット方式用の疎水性画像付
与物質 次に、静電吐出型インクジェット方式に用いる疎水性像
形成物質について述べる。疎水性像形成物質は、好まし
くは電気抵抗１０⁹Ω・cm以上かつ誘電率３．５以下の
非水溶媒を分散媒とし、少なくとも常温（１５℃〜３５
℃）で固体かつ疎水性の樹脂粒子が分散されたものであ
る。このような分散媒を用いることによって、分散液の
電気抵抗が適正に制御されて電界による分散液の吐出が
適正となり画質が向上する。また、上記のような樹脂を
用いることによって印刷原板表面との親和性が増し、耐
刷性が向上する。

【０１１３】本発明に用いる電気抵抗１０⁹Ω・cm以
上、かつ誘電率３．５以下の非水溶媒として好ましくは
直鎖状もしくは分岐状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化木
素、または芳香族炭化水素、およびこれらの炭化水素の
ハロゲン置換体がある。例えばオクタン、イソオクタ
ン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカ
ン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、
シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レン、アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、ア
イソパーＬ（アイソパー；エクソン社の商品名）、シェ
ルゾール７０、シェルゾール７１（シェルゾール；シェ
ルオイル社の商品名）、アムスコＯＭＳ、アムスコ４６
０溶剤（アムスコ；スピリッツ社の商品名）等を単独あ
るいは混合して用いる。なお、このような非水溶媒の電
気抵抗の上限値は１０¹⁶Ω・cm程度であり、誘電率の下
限値は１．８程度である。

【０１１４】用いる非水溶媒の電気抵抗を上記範囲とす
るのは、電気抵抗が低くなると、分散液の電気抵抗が適
正にならず、電界による分散液の吐出が悪くなるからで
あり、誘電率を上記範囲とするのは、誘電率が高くなる
と分散液中で電界が緩和されやすくなり、これにより分
散液の吐出が悪くなりやすくなるからである。

【０１１５】上記の非水溶媒中に、分散される樹脂粒子
としては、３５℃以下の温度で固体で非水溶媒との親和
性のよい疎水性の樹脂の粒子であればよいが、更にその
ガラス転移点が−５℃〜１１０℃もしくは軟化点３３℃
〜１４０℃の樹脂が好ましく、より好ましくはガラス転
移点１０℃〜１００℃もしくは軟化点３８℃〜１２０℃
であり、さらに好ましくはガラス転移点１５℃〜８０
℃、もしくは軟化点３８℃〜１００℃である。

【０１１６】このようなガラス転移点もしくは軟化点の
樹脂を用いることによって、印刷原版の画像受理層表面
と樹脂粒子との親和性が増し、また印刷原版上での樹脂
粒子同士の結合が強くなくなるので、画像部と画像受理
層との密着性が向上し、耐刷性が向上する。これに対
し、ガラス転移点もしくは軟化点が低くなっても高くな
っても画像受理層表面と樹脂粒子の親和性が低下した
り、樹脂粒子同士の結合が弱くなってしまう。樹脂の質
量平均分子量Ｍｗは、１×１０³〜１×１０⁵であり、好
ましくは５×１０³〜８×１０⁵、より好ましくは１×１
０⁴〜５×１０⁵である。

【０１１７】このような樹脂として具体的には、オレフ
ィン重合体および共重合体（例えばポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、エチレン−アクリレート共重合体、エチレン
−メタクリレート共重合体、エチレン−メタクリル酸共
重合体等）、塩化ビニル共重合体（例えば、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体）、塩化ビニリ
デン共重合体、アルカン酸ビニル重合体および共重合
体、アルカン酸アリル重合体および共重合体、スチレン
およびその誘導体の重合体ならびに共重合体（例えばブ
タジエン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレン共
重合体、スチレン−メタクリレート共重合体、スチレン
−アクリレート共重合体等）、アクリロニトリル共重合
体、メタクリロニトリル共重合体、アルキルビニルエー
テル共重合体、アクリル酸エステル重合体および共重合
体、メタクリル酸エステル重合体および共重合体、イタ
コン酸ジエステル重合体および共重合体、無水マレイン
酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミ
ド共重合体、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ケトン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコ
ン樹脂、アミド樹脂、水酸基およびカルボキシル基変性
ポリエスエテル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセ
タール樹脂、ウレタン樹脂、ロジン系樹脂、水素添加ロ
ジン樹脂、石油樹脂、水素添加石油樹脂、マレイン酸樹
脂、テルペン樹脂、水素添加テルペン樹脂、クロマン−
インデン樹脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル共重合
体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、窒素原子
を含有しない複素環を含有する共重合体（複素環として
例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオフエン
環、ジオキサン環、ジオキソフラン環、ラクトン環、ベ
ンゾフラン環、ベンソチオフェン環、１，３−ジオキセ
タン環等）、エポキシ樹脂等が挙げられる。

【０１１８】本発明の油性分散液における分散された樹
脂粒子の含有量は、分散液全体の０．５〜２０質量％と
することが好ましい。含有量が少なくなると分散液と印
刷原版の画像受理層との親和性が得られ難くなって良好
な画像が得られなくなったり、耐刷性が低下したりする
などの問題が生じやすくなり、一方、含有量が多くなる
と均一な分散液が得られ難くなったり，吐出へッドでの
分散液の目詰まりが生じやすく、安定な分散液吐出が得
られ難いなどの問題がある。

【０１１９】通常のインクジェット用のインクとは異な
り、本発明に供される油性分散液中には、着色成分とし
て色材を含有させることは、必ずしも必要ないが、通常
のインクジェット用インクを本発明に利用するなどによ
って色材が添加されていてもよい。色材としては、従来
から油性分散液組成物あるいは静電写真用液体現像剤に
用いられている顔料および染料であればどれでも使用可
能である。

【０１２０】本発明に用いられる非水系分散樹脂粒子
は、従来公知の機械的粉砕方法または重合造粒方法によ
って製造することができる。機械的粉砕方法としては必
要に応じて、樹脂粒子とする材料を混合し、溶融、混練
を経て従来公知の粉砕機で直接粉砕して、微粒子とし、
分散ポリマーを併用して、更に湿式分散機（例えばボー
ルミル、ペイントシェーカー、ケディミル、ダイノミル
等）で分散する方法、樹脂粒子成分となる材料と、分散
補助ポリマー（または被覆ポリマー）を予め混練して混
練物とした後粉砕し、次に分散ポリマーを共存させて分
散する方法等が挙げられる。具体的には、塗料または静
電写真用液体現像剤の製造方法を利用することができ、
これらについては、例えば、植木憲二監訳「塗料の流動
と顔料分散」共立出版（１９７１年）、「ソロモン、塗
料の科学」、「Paint and SurfaceCoating and Theory
and Practice」、原崎勇次「コーティング工学」朝倉書
店（１９７１年）、原崎勇次「コーティングの基礎科
学」槙書店（１９７７年）等の成書に記載されている。

【０１２１】〔親水性領域の親水性強化と安定化〕本発
明者は、疎水性の画像層が付与されない非画像領域は通
常時間とともに親水性度が低下してゆき、したがって親
水性領域と疎水性領域の識別性が経時とともに劣化し、
印刷品質や耐刷性を低下させていることを見いだした。
したがって、原板表面の疎水化された親水・親油材料含
有層に親水性像様領域が形成されると、短時間のうちに
親水性強化剤を処理して親水性と疎水性の識別性を高い
レベルに保つ操作が施される。親水性強化剤は、親水性
の像様領域の親水性を強化するとともにそれを安定に持
続させる作用を有している。画像記録から親水性強化処
理までの経過時間は、短いほどよく、通常１時間以内、
好ましくは１０分以内、より好ましくは２分以内である
ことがよい。

【０１２２】（親水性強化剤）親水性強化剤は、親水・
親油材料含有層の親水性領域の表面を覆う層を形成して
親水性を強化する物質であって、主として水からなる。
水には、濡れ性向上剤及び助剤、水溶性高分子化合物、
ｐＨ調整剤、湿潤剤、防腐剤、着色剤、消泡剤、等の種
々の添加剤を加えることができる。濡れ性向上剤として
は、エチレングリコール、ポリエチレングリコールアル
キルエーテル（アルキレン基の炭素数は２〜３）、ポリ
エチレングリコール、アルキルスルホン酸（アルキレン
基の炭素数は２〜３）、脂肪族アルコール（炭素数は１
〜３）、水、界面活性剤から選択される。また、平版印
刷用の湿し水をこの目的に用いることができる。

【０１２３】ポリエチレングリコールアルキルエーテル
は、下記一般式（Ｉ）で表される。 一般式（Ｉ） Ｒ¹−（ＯＣ₂Ｈ₄）_n−ＯＨ 一般式（Ｉ）において、Ｒ¹は炭素数１〜３のアルキル
基を表し、ｎは４〜９の整数を表す。一般式（Ｉ）で示
される化合物としては、下記のものが挙げられる。中で
も好ましい化合物は、（Ｉ−３）、（Ｉ−４）、（Ｉ−
５）、（Ｉ−９）及び（Ｉ−１１）である。

【０１２４】

【化１】

【０１２５】アルキルスルホン酸およびその塩を用いる
こともできる。好ましいアルキルスルホン酸は、下記一
般式（II）で表される。 一般式（II） Ｒ²−ＳＯ₃Ｍ 一般式（II）において、Ｒ²は炭素数４〜１０のアルキ
ル基を表し、Ｍはカチオン基を表す。アルキル基は直鎖
であっても分岐していてもよい。また、好ましいカチオ
ン基は、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び第３族金
属であり、とくに好ましいのはアルカリ金属であり、そ
のなかでもカリウム及びナトリウムである。

【０１２６】一般式（II）で示される化合物としては、
下記のものを例示することができる。中でも好ましい化
合物は、（II−３）、（II−４）、（II−５）、（II−
９）、（II−１０）及び（II−１１）である。

【０１２７】

【化２】

【０１２８】本発明に用いられるポリエチレングリコー
ルは、下記一般式（III)に示される。 一般式（III ） Ｈ（ＯＣ₂Ｈ₄）_m−ＯＨ 一般式（III ）において、ｍは約５００の整数を表す。
上記のポリエチレングリコールは、数平均分子量（以
後、単に平均分子量という）が２００００以下のポリエ
チレングリコールであるともいえる。

【０１２９】平均分子量２００００以下のポリエチレン
グリコールとしては、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール（平均分子
量：２００、３００、４００、６００、１０００、１５
４０、２０００、４０００）、好ましくはジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール（平均分子量：１０００〜２０００）などが挙げ
られる。平均分子量としては好ましくは１００〜２００
０である。また、市販のポリエチレングリコール類とし
て、プルロニックＬ−３１（旭電化（株）製商品名、ポ
リオキシプロピレン分子量９５０）、プルロニックＰＥ
３１００（ＤｕＰｏｎｔ社製商品名、ポリオキシプロピ
レン分子量８５０）、及び竹本油脂（株）製のポリオキ
シプロピレン分子量７５０、ポリオキシエチレン１０質
量％付加物のポリマーなどを使用することができる。

【０１３０】濡れ性向上剤の助剤として界面活性剤を添
加することができる。例えば、アニオン型界面活性剤と
しては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシア
ルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジア
ルキルスルホ琥珀酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、ア
ルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシ
ポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキ
シエチレンアルキルスルフェニルエーテル塩類、Ｎ−メ
チル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩類、Ｎ−アル
キルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油ス
ルホン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化牛脂油、脂肪酸
アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エ
ステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸
エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部
分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の
部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮
合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスル
ホ琥珀酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類及びアルキル
ナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。

【０１３１】非イオン型界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリス
チリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸
部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペ
ンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレン
グリコールモノ脂肪酸エステル類、蔗糖脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エ
ステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、
ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチ
レン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪
酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，
Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン類、トリエタノールアミン脂
肪酸エステル類、トリアルキルアミンオキシド類などが
挙げられる。その他、弗素系界面活性剤、シリコン系界
面活性剤も使用することができる。その中でもポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー類等が
好ましく用いられる。更に、シリコン誘導体又はフッ素
誘導体等の界面活性剤も挙げられる。これらの界面活性
剤の含有量は発泡の点を考慮すると、１．０質量％以
下、好ましくは０．００１〜０．５質量％が適当であ
る。また、２種以上併用することもできる。

【０１３２】水溶性高分子化合物としては、例えばアラ
ビアガム、澱粉誘導体（例えは、デキストリン、酵素分
解デキストリン、ヒドロキシプロピル化酵素分解デキス
トリン、カルボキシメチル化澱粉、リン酸澱粉、オクテ
ニルコハク化澱粉）、アルギン酸塩、繊維素誘導体（例
えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチル
セルロース、メチルセルロース）等の天然物及びその変
性体、ポリエチレングリコール及びその共重合体、ポリ
ビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリルアミド及びその共重合体、ポリアクリ
ル酸及びその共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マ
レイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合
体、ポリスチレンスルホン酸及びその共重合体の合成物
が挙げられる。水溶性高分子の含有量は、親水性強化剤
溶液に対して０．０００１〜０．１質量％が適してお
り、より好ましくは、０．０００５〜０．０５質量％て
ある。

【０１３３】ｐＨ調整剤としては、水溶性の有機酸及び
／又は無機酸又はそれらの塩が使用でき、これらの化合
物は親水性強化剤溶液のｐＨ調整あるいはｐＨ緩衝、平
版印刷版支持体の適度なエッチング又は防腐食に効果が
ある。好ましい有機酸としては、例えばクエン酸、アス
コルビン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸、酢酸、グルコン
酸、酢酸、ヒドロキシ酢酸、蓚酸、マロン酸、レプリン
酸、スルファニル酸、ｐ−トルエンスルホン酸、フィチ
ン酸、有機ホスホン酸等が挙げられる。無機酸としては
例えば蟻酸、リン酸、硝酸、硫酸、ポリリン酸が挙げら
れる。更にこれら有機酸及び／又は無機酸のアルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩あるいはアンモニウム塩、有
機アミン塩も好適に用いられ、これらの有機酸、無機酸
及び／又はこれらの塩は単独で使用しても、あるいは２
種以上の混合物として使用してもよい。これらｐＨ調整
剤の本発明の親水性強化剤溶液への添加量は０．００１
〜０．３質量％の範囲が好ましく、親水性強化剤溶液の
ｐＨ値が３〜７の範囲の酸性領域で用いることが好まし
いが、アルカリ金属水酸化物、リン酸、アルカリ金属
塩、炭酸アルカリ金属塩、ケイ酸塩などを含有したｐＨ
７〜１１のアルカリ性領域で用いることもできる。

【０１３４】湿潤剤の具体例としては、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチエングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキ
シレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグ
リセリン、トリメチロールプロパン等が好適に用いられ
る。これらの湿潤剤は単独でもよいが、２種以上併用し
てもよい。一般に上記湿潤剤は０．０１〜３質量％の範
囲で使用できる。

【０１３５】防腐剤としては、フェノール又はその誘導
体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナ
トリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベン
ズトリアゾール誘導体、アミジン又はグアニジンの誘導
体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン又はグ
アニジンの誘導体、ダイアジン又はトリアゾールの誘導
体、オキサゾール又はオキサジンの誘導体、ブロモニト
ロアルコール系のブロモニトロプロパノール、１，１−
ジブロモ−１−ニトロ−２−エタノール、３−ブロモ−
３−ニトロペンタン、２，４−ジオール等が挙げられ
る。好ましい添加量は細菌、カビ、酵母等に対して、安
定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種
類によっても異なるが、親水性強化剤溶液に対し、０．
００１〜１．０質量％の範囲が好ましく、また種々のカ
ビ、細菌、酵母に対して効力のあるような２種以上の防
腐剤を併用することが好ましい。

【０１３６】着色剤としては、食品用色素等が好ましく
使用できる。例えば、黄色色素としてはＣＩ Ｎｏ．１
９１４０、１５９８５、赤色色素としてはＣＩ Ｎｏ．
１６１８５、４５４３０、１６２５５、４５３８０、４
５１００、紫色色素としてはＣＩ Ｎｏ．４２６４０、
青色色素としてはＣＩ Ｎｏ．４２０９０、７３０１
５、緑色色素としてはＣＩ Ｎｏ．４２０９５、等が挙
げられる。防錆剤としては、例えばベンゾトリアゾー
ル、５−メチルベンゾトリアゾール、チオサリチル酸、
ベンゾイミダゾール及びその誘導体等が挙げられる。本
発明に使用できる消泡剤としてはシリコン消泡剤が好ま
しく。その中で乳化分散型及び可溶化型等いずれも使用
することができる。本発明の親水性強化剤溶液は、通常
商業ベースとするときは濃縮化し商品化するのが一般的
である。濃縮液を使用するときは、水道水、井戸水等で
３０〜５００倍に希釈して用いる方が経済的で好まし
い。

【０１３７】疎水化剤で処理され、画像記録された印刷
原板の親水・親油材料含有層に親水性強化剤を含む塗布
液の適用方法は、親水性強化剤が液体の場合は直接塗布
してもよく、また好ましくは親水性強化剤を水やメタノ
ールのような親水性の溶媒に溶解して溶液として塗布を
行うのがよい。塗布の方法としては公知の任意の方法を
用いることができるが、疎水化剤の適用方法として前記
した塗り付け塗布、噴霧塗布及び浸漬塗布も好ましい方
法である。その場合の塗布液中の親水性強化剤の含有量
は、均一溶液となる限り制約はないが、１質量％以上、
好ましくは１０ル、より好ましくは２０質量％以上であ
って親水性強化剤のみで構成されていてもよい。また、
親水性強化剤のみを単独で使用してもよく、二種以上を
併用してもよい。親水性化は、親水性強化剤と非画像領
域が接触すれば直ちに起こるので、処理時間は数秒程度
の短さでよく、したがって例えば毎分１分の速度で回転
する版胴が１回転する間に親水性強化処理部を通過する
時間で十分である。

【０１３８】〔印刷〕親水・親油材料含有層を有する印
刷原板に疎水性の像様領域を形成させたのち、その領域
の親水性強化処理を施すことによって現像処理すること
なく作成した印刷版は、そのまま平版印刷工程に送るこ
とができる。従って通常の公知の平版印刷法に比較して
簡易性を中心に多くの利点を有する。すなわち上記した
ようにアルカリ現像液による化学処理が不要であり、そ
れに伴うワイピング、ブラッシングの操作も不要であ
り、さらに現像廃液の排出による環境負荷も伴わない。
また、製版工程も上記したように簡易である。

【０１３９】印刷版の像様親水性領域（非画像部）は、
十分に親水性化しているが、所望により、水洗水、界面
活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導
体を含む不感脂化液で後処理してもよい。その方法とし
ては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、
平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中
に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによ
る塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ
ー、あるいは、スキージーローラーで、その塗布量を均
一にすることは、より好ましい結果を与える。整面液の
塗布量は一般に０．０３〜０．８g/m²（乾燥質量）が適
当である。この様な処理によって得られた平版印刷版
は、オフセット印刷機等にかけられ、あるいは印刷機上
で製版され、多数枚の印刷に用いられる。

【０１４０】〔印刷原板の再生〕次に印刷を終えた印刷
版の再生工程について記す。印刷終了後の印刷版は疎水
性の石油系溶剤を用いて付着しているインキを洗い落と
す。溶剤としては市販の印刷用インキ溶解液として芳香
族炭化水素、例えばケロシン、アイソパ−などがあり、
そのほかベンゾール、トルオール、キシロール、アセト
ン、メチルエチルケトン及びそれらの混合溶剤を用いて
もよい。画像物質が溶解しない場合には、布などを用い
て軽く拭き取る。また、トルエン／ダイクリーンの１／
１混合溶媒を用いるとよいこともある。また、さらに希
酸で版面を処理することも好ましい。希酸の濃度は、通
常０．００１〜０．１ｍｏｌ／Ｌ、好ましくは０．００
５〜０．０５ｍｏｌ／Ｌであり、酸としては硫酸、硝
酸、塩酸、次亜塩素酸などが用いられる。酸の溶液に
は、０．００１〜０．０１ｍｏｌ／Ｌの過酸化水素をさ
らに添加することもある。この処理によって有機溶剤で
は除去しきれない汚れや大半の履歴が除かれる。

【０１４１】インキを洗浄除去した印刷版は、印刷原板
として前記した製版工程に再使用することができる。そ
の場合、印刷版のインキが除去されていれば原板として
再使用してよいが、インキを除去した上にさらにことに
よって印刷版作成過程の履歴を除去して原板の全面の極
性を使用前の均一な状態に戻しておくことが反復使用の
際の印刷品質確保の上で望ましいことである。この履歴
を除去して原板の全面の極性を使用前の状態に戻し操作
を初期化と呼んでいる。初期化は、親水・親油材料が、
光触媒性金属化合物の場合は、活性光の照射によって行
うことができる。親水・親油材料が、光熱変換性物質や
高温親水性発現物質の場合は、履歴消滅温度への加熱に
よって行うことができ、その加熱はヒートモード光の照
射によっても、光熱変換によらない直接の熱エネルギー
による加熱であってもよい。また、光触媒性金属化合物
の場合もその化合物は同時に高温親水性発現物質でもあ
ることが多いので、その場合にはヒートモード光又は光
熱変換によらない熱エネルギーの利用によって高温親水
性発現温度へ到達させて初期化することもできる。直接
の熱エネルギーの適用加熱の方法としては、送風加熱、
赤外線照射加熱、電磁波（マイクロ波）加熱、電熱加熱
などの方法を選択できる。以下に各親水・親油材料ごと
の好ましい加熱方式について述べる。

【０１４２】ａ．親水・親油材料が光触媒性金属酸化物
の場合 親水・親油材料が光触媒性金属酸化物の場合は、初期化
用にその光触媒性金属酸化物の活性光を用いることがで
きる。その光源は、光触媒能を有する物質の感光域の波
長の光、すなわち光吸収域に相当する波長の光を発する
光源である。例えば光触媒能を有する物質が酸化チタン
の場合では、アナターゼ型が３８７ｎｍ以下，ルチル型
が４１３ｎｍ以下、酸化亜鉛は３８７ｎｍ以下に、その
他の多くの金属酸化物の場合も２５０〜３９０ｎｍの紫
外部に感光域を有しており、また、酸化亜鉛の場合は、
固有吸収波長域（紫外線領域）のほかに、既知の方法で
分光増感を行って適用できる活性光の波長領域を拡げる
こともでき、したがって使用される光源は、これらの波
長領域の光を発する光源であり、主として紫外線を発す
る光源といえる。活性光の照射を受けた領域は、光触媒
作用によって一様の親水・疎水性の初期状態となる。面
露光方式で活性光の照射を行うのに適した光源は、水銀
灯、タングステンハロゲンランプ、その他のメタルハラ
イドランプ、キセノン放電灯などである。その露光時間
は、上記の露光強度が得られるように露光照度を勘案し
て決定される。

【０１４３】好ましい照射光の強さは、光触媒型金属酸
化物の画像形成層の性質によって異なり、また活性光の
波長、分光分布及び光触媒能を有する熱応答型物質の光
吸収率によっても異なるが、通常は面露光強度が０．０
５〜１００Ｊ／ｃｍ² ，好ましくは０．０５〜１０Ｊ／
ｃｍ² ，より好ましくは０．０５〜５Ｊ／ｃｍ² であ
る。

【０１４４】走査式露光方式で活性光照射を行うのに適
したレーザー光源は、活性光のビームを発振する公知の
レーザーを用いることができ、描画の場合のようにビー
ム径を絞り込む必要はない。例えば、レーザー光源とし
て発振波長を３２５ｎｍに有するヘリウムカドミウムレ
ーザー、発振波長を３５１．１〜３６３．８ｎｍに有す
る水冷アルゴンレーザー、３３０〜４４０ｎｍに有する
硫化亜鉛／カドミウムレーザーなどを用いることができ
る。さらに、紫外線レーザー、近紫外線レーザー発振が
確認されている発振波長を３６０〜４４０ｎｍに有する
窒化ガリウム系のＩｎＧａＮ系量子井戸半導体レーザ
ー、及び発振波長を３６０〜４３０ｎｍに有する導波路
ＭｇＯ−ＬｉＮｂ０₃ 反転ドメイン波長変換型のレーザ
ーを使用することもできる。レーザー出力が０．１〜３
００Ｗのレーザーで照射をすることができる。また、パ
ルスレーザーを用いる場合には、ピーク出力が１０００
Ｗ、好ましくは２０００Ｗのレーザーを照射するのが好
ましい。

【０１４５】ｂ．親水・親油材料が光熱変換性物質の場
合 親水・親油材料が光熱変換性物質の場合は、初期化を光
照射によるヒートモード加熱によって行うことができる
が、その場合は赤外線を放射する固体レーザー、又は赤
外線域や可視域の光を放射する半導体レーザー、赤外線
灯、キセノン放電灯、大容量コンデンサーからの放電に
よってフラッシュ光を発する光・熱変換描画機構などの
いずれの光加熱方式を用いてもよい。光加熱方式も、面
露光方式、走査方式のいずれも適用できる。前者の場合
は、赤外線照射方式や、キセノン放電灯の高照度の短時
間光を原板上に照射して光・熱変換によって熱を発生さ
せる方式である。赤外線灯などの面露光光源を使用する
場合には、その照度によっても好ましい露光量は変化す
るが、通常は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
０．１〜１０Ｊ／ｃｍ² の範囲であることが好ましく、
０．３〜１Ｊ／ｃｍ ² の範囲であることがより好まし
い。その露光時間は、０．０１μｓｅｃ〜１０ｍｓｅ
ｃ、好ましくは０．１μｓｅｃ〜１ｍｓｅｃの照射で上
記の露光強度が得られるように露光照度を選択するのが
好ましい。照射時間が長い場合には、熱エネルギーの生
成速度と生成した熱エネルギーの拡散速度の競争関係か
ら露光強度を増加させる必要が生じる。

【０１４６】走査方式の場合には、赤外線レーザー光源
を使用する方式が行われる。レーザー光源の例として、
近赤外線、赤外線の成分の多い半導体レーザー、ガスレ
ーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー
を挙げることができる。レーザー出力が０．１〜３００
Ｗのレーザーで照射をすることができる。また、パルス
レーザーを用いる場合には、ピーク出力が１０００Ｗ、
好ましくは２０００Ｗのレーザーを照射するのが好まし
い。光熱変換物質が熱又は光熱変換性の輻射線によって
初期化される機構は不明であるが、微量に存在する履歴
原因物質が短時間でも強い熱の作用で使用済みの刷版面
から除去されるものと推定している。

【０１４７】ｃ．親水・親油材料が高温親水性発現物質
の場合は、加熱によって初期化を行う。加熱温度を高温
親水性発現温度の範囲に調節するには、加熱に用いる光
の強度を制御したり、あるいは熱記録用の加熱ヘッドへ
の供給電力を制御するなどの方法が取られる。接触加熱
方式では、公知の任意の接触型熱記録装置、例えば熱融
解型及び昇華型感熱色素転写法の熱記録ヘッドを用いて
もよい。それらは、単一の熱記録素子を二次元に駆動さ
せる方式、熱記録素子を線状に配列したアレイを直角方
向に走査して描画する方式あるいは二次元配列した記録
素子を用いる高速描画方式など公知の熱記録素子を用い
ることができる。

【０１４８】印刷原板を印刷機の版胴に装着して機上製
版する本発明の態様においては、版胴に埋め込みヒータ
ーを設けた電熱加熱方式が原板を装着したまま、反復再
使用を繰り返すことが可能であって、とくに好ましい初
期化手段である。この履歴除去操作は、印刷インキを洗
浄除去してから次の製版作業において活性光の像様照射
を行うまでの間の任意の時期に行ってもよいが、その原
板を次の製版工程に再使用する際に行うのが原板の保管
中の履歴の影響を排除できる点で好ましい。

【０１４９】本発明に係わる印刷原板の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも１５回以
上であり、おそらく反面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形（ひずみ）な
どによって制約されるものと思われる。

【０１５０】IV. 印刷装置 本発明における印刷原板の構成材料及び製版操作につい
て説明したので、次にこの原板を装着して印刷を行う方
法及び装置を図によって説明する。親水・親油材料含有
層を表面にもつ印刷用原板は、版胴に装着されたままで
製版される態様、版胴に装着されたままで製版され、さ
らに使用済みの印刷版が洗浄されて印刷原板として再使
用される態様、また製版されたのちに版胴に装着される
態様のいずれであってもよい。以下図１以降の説明で
は、本発明の簡易性の典型例である印刷原板が版胴に装
着されたまま製版され、印刷され、印刷後使用済みの版
が印刷原板として反復再使用される例について説明す
る。

【０１５１】図１は、本発明の上記の典型的実施形態に
よる平版印刷装置の構成を示す図である。図１に示す平
版印刷装置は、親水・親油材料として光触媒性の酸化チ
タンを含有する層を表面に有する原板を装着した版胴１
（装着した原板は版胴と接しているので図示してない）
と、版胴１上の原板に対して疎水性物質の層を像様に付
与する疎水性画像層付与部５と、疎水性物質が像様に付
与された原板表面に親水性強化剤を処理して疎水性像が
付与されない領域の親水性を強化する親水性強化処理部
３ａと、疎水性像領域と親水性が強化された非画像領域
とを有する原板にインキおよび湿し水を供給するインキ
・湿し水供給部３ｂと、印刷終了後に版胴１上の原板に
残存するインキを除去するインキ洗浄部４と、インキを
除去した原板上の残存画像などの履歴を除去する初期化
部２と、版胴１上の刷版に保持されたインキを用紙に転
写するための中間体としてのブランケット６と、ブラン
ケット６とともに給送された用紙を保持する圧胴７とを
備え、これらの部材が本体８内に収容されてなるもので
ある。

【０１５２】疎水性画像層付与部５は、描画方式や画像
マスク方式の種々の形態をとることができる。図２は、
疎水性物質の層の像様付与が熱転写方式で行われる場合
の熱転写方式の疎水性像付与部の概略を示す模式図であ
る。図２に示す接触加熱方式の疎水性画像層付与部５
は、版胴１の表面に密着して熱の印加による描画を行う
感熱ヘッド５１と、印刷原板（版胴）１と感熱ヘッド５
１との間にあって印刷原板に像様に転写される疎水性物
質を担持した疎水性物質担持シート５２と、印刷するべ
き画像の編集・レイアウトを行う編集・レイアウトワー
クステーション５４と、編集・レイアウトワークステー
ション５４によって印刷すべき画像から信号化されて記
録部に入力される画像信号Ｓに基づいて感熱ヘッド５１
を駆動して版胴１の表面に描画を行って疎水性物質の層
を付与する感熱ヘッド駆動部５３とからなる。感熱ヘッ
ド５１は複数の微細な発熱体が版胴１の回転軸方向にア
レイ状またはマトリクス状に延在しており、１ラインま
たは複数ラインごとに版胴１にヒートモードによる描画
を行うものである。そして、版胴１が回転することによ
り、版胴１の表面にヒートモードによる描画がなされ、
版胴１における描画がなされた部分が疎水性の画像領域
とされ、熱転写されなかった部分が親水性の非画像領域
となる。

【０１５３】疎水性画像層付与部５の別の構成例は、模
式図として示さないが、図２における感熱ヘッド５１を
ヒートモードのレーザー光源に置き換えた方式である。
上記の説明と同じく編集・レイアウトワークステーショ
ンとレーザー光源駆動部により、版胴１の表面が変調さ
れたレーザー光により露光され、版胴１におけるレーザ
ー光が照射されなかった部分が親水性の非画像領域とさ
れ、レーザー光が照射された部分に疎水性物質が熱転写
されて親油性の画像領域とされて、ヒートモードによる
描画がなされるものである。なお、レーザーは、光熱変
換性であれば、必ずしも赤外線レーザーでなくてもよ
い。

【０１５４】疎水性画像層付与部５のさらに別の構成例
は、図２における感熱ヘッド５１と疎水性物質担持シー
ト５２を疎水性物質又はその溶液あるいはその分散液を
液滴の形で原板上に像様に噴射するインクジェット型の
液滴噴射方式に置き換えた方式である。図３は、インク
ジェット型の液滴噴射によって疎水性画像層を付与する
疎水性画像層付与部の構成模式図である。図２で述べた
感熱転写方式と同様に編集・レイアウトワークステーシ
ョン５４と液滴噴射ノズル駆動部５７により、液滴噴射
ノズル５６から像様に液滴が版胴１の表面に噴射されて
疎水性画像が付与される。液滴の噴射を受けなかった部
分が親水性の非画像領域となる。

【０１５５】疎水性像付与部５のさらなる構成例は、マ
スク画像を通して疎水性物質を像様に原板表面に付与す
る方式である。図４は、この方式の一形態に用いる疎水
性物質付与部内の疎水性物質気化・暴露装置である。こ
の加熱手段は、電熱加熱方式が適しているが、電熱同様
の均一な面加熱方式でかつ温度調節も容易な赤外線灯に
よる熱線加熱を採用することもでき、またその他の前記
した加熱方式も採用することができる。この場合に用い
られる疎水性物質は、低分子有機化合物であり、加熱に
よって気化した蒸気がマスクされていない印刷用原板表
面に接触して凝縮し、疎水性の層を像様に形成する。

【０１５６】図４において、有機低分子化合物（疎水化
剤）蒸気供給手段２９では、空気取り入れ口２４より空
気が取り入れられて、内径約３０ｍｍの分液ろ斗タイプ
の硝子管を横向きに配置した蒸発室２６にコック２５を
経て導かれる。蒸発室には有機低分子化合物２７（斜線
で示す）が容積率が例えば５０％になるように満たされ
ていて、有機低分子化合物２７の内部及び表面を空気が
通過する間に必要量の有機低分子化合物の蒸発気体を取
り込んでから、版胴１上の原板上の印刷用原板表面に導
かれ、この空気・蒸発気体の混合雰囲気中で描画が行わ
れる構造となっている。

【０１５７】疎水性画像層付与部５の外套の内部の加熱
領域は、電熱ヒーター３１により、蒸発室２６は電熱ヒ
ーター３０によりそれぞれ加熱され、その加熱温度は加
熱領域及び蒸発室２６にそれぞれ配した温度センサー３
２、３３と温度制御部３４によって所定温度に制御され
る。また、有機低分子化合物２７の蒸気の取り込み量
は、温度制御部３４において印刷用原板の加熱温度を所
定の疎水性発現温度に設定したときに、その疎水性が強
化されるに足りる量であり、その量になるように蒸発室
２６の温度が設定される。蒸発室の温度は、例えば、揮
発し易い低沸点の有機低分子化合物（例えば、イソオク
タン、メチルエチルケトン）の場合は、蒸発室の下部に
有機低分子化合物２７を満たすだけで加熱する必要はな
いが、それでは不十分の沸点のやや高い化合物（例え
ば、パラフィン、ワックス、ヘキシレングリコール）の
場合には、空隙率の大きい硅草土、シリカ粒子、沸石粒
子などを有機低分子化合物２７とともに蒸発室内に入れ
て取り入れた空気と有機化合物との接触度を高める措置
が取られる。また、有機低分子化合物２７がナフタレン
のような固形物の場合は、蒸発室２６に適当な空隙率で
充填されるか、又は温度制御部３４、電熱ヒーター３０
及び温度センサー３３によって蒸発室２６内部の温度を
蒸発に適した温度に調節できる機構となっている。例え
ば、シリコーンオイルを使用する場合には、シリコーン
オイルを含浸させた珪草土が容積率が５０％となるよう
に硝子管の下半分に空気と接するように置かれ、空気の
温度は取り入れ口２４では室温で、この管を通過中に例
えば１９０℃に上昇するように電熱ヒーター３０によっ
て加熱される。パラフィンワックスを疎水化剤として用
いる場合も蒸発室の温度を溶融温度以上に設定して液体
とする。なお、図には示してないが、当然のことながら
蒸気を含んだ空気は、屋外排気される。また、必要があ
れば、排気の前に空気浄化も行われる。

【０１５８】疎水性物質の層が気化しにくい例えば高分
子皮膜であるような場合には、図４の態様ではなく、塗
り付け方式など別の態様が選ばれることはいうまでもな
い。

【０１５９】図１に戻って、疎水性層付与部５において
疎水性画像の付与が行われた原板には、非画像部の親水
性の強化が行われる。親水性強化処理部３ａで親水性強
化剤が塗布されて疎水性層が付与されていない領域の親
水性が強化される。親水性強化処理部３ａは、親水性強
化剤の貯留槽とその液面に下半分を浸漬した状態で配さ
れた中間ローラーと中間ローラーと印刷原板表面にそれ
ぞれ面接触を保つように配された塗り付けローラーから
なっており、各ローラーの表面には吸液性のフェルトが
巻かれて、貯留槽の親水性強化剤が中間ローラーに吸蔵
され、塗り付けローラーに転写され、原板に塗布される
構造となっている。

【０１６０】次いで、第１の実施形態の動作について説
明する。まず、例えば図２〜図４に示した各方式の疎水
性画像層付与部５が、回転しながら通過する版胴１上の
原板の表面部分に疎水性物質の層が像様に付与されて画
像層が形成される。次いで、親水性強化処理部３ａにお
いて親水性強化剤が塗布された非画像領域の親水性が強
化され、親水性が経時的に低下することが防止される。
このようにして版胴１上の印刷版表面の親水・親油材料
含有層は疎水性画像物質と親水性強化剤によってインキ
受容性とインキ反発性のいずれもが強化されて識別性、
したがって印刷品質が高められており、この版面にイン
キ・湿し水供給部３ｂよりインキおよび湿し水が供給さ
れる。これにより、版胴１上の印刷版の親油性の画像領
域にはインキが保持され、親水性の非画像領域にはイン
キで汚染されることなく湿し水が保持される。

【０１６１】その後、ブランケット６と圧胴７との間に
矢印Ａに示すように用紙を供給し、版胴１上の原板に保
持されたインキをブランケット５を介して用紙に転写す
ることにより平版印刷が行われる。

【０１６２】印刷終了後、インキ洗浄部４により版胴１
上の版面に残存するインキを除去する。その後、版胴１
上の原板を親水・親油材料（本態様では酸化チタン）の
疎水性発現温度すなわち履歴消去温度に設定された初期
化部２を通して原板の全面が初期状態の親水・親油性と
なることにより、版胴１上の原板の像様の親水性領域は
消去されて、製版操作を行う前の状態に戻る。初期化部
２においては、原板上の親水・親油材料のタイプに応じ
て、紫外域を主とする活性光の全面照射により（本実施
形態の場合の酸化チタンのように光触媒性化合物の場
合）、赤外域を主とするヒートモード光の全面照射によ
り（光熱変換物質の場合）、あるいは光以外の熱エネル
ギー、例えば電熱ヒーターや熱風による加熱により（高
温親水性発現物質の場合）初期化が行われる。

【０１６３】このように、本発明による平版印刷装置に
よれば、疎水性物質の層の像様付与と非画像領域の親水
性強化剤付与のみで版胴１上の原板に識別性の高い印刷
版面を形成することができ、これにより現像が不要でか
つ印刷面の鮮鋭性が保たれた平版印刷を行うことができ
る。また、版胴１上の版面を洗浄して再度全面加熱する
（又は活性光又はヒートモード光を一様照射する）こと
により元の状態に戻すことができるため、版胴１上の原
板を反復使用することができ、これにより印刷物を低コ
ストで提供することができることとなる。さらに、印刷
装置から版胴１上の原板を取り外す必要がないため、従
来のＰＳ版のように印刷装置に組み込む際にゴミなどが
付着することもなくなり、これにより、印刷品質を向上
させることができる。

【０１６４】また、印刷用原板として版胴１上の原板を
使用し、版胴１上の原板の周囲に疎水性画像層付与部
５、親水性強化部３ａ、インキ・湿し水供給部３ｂ、イ
ンキ洗浄部４及び初期化部２を配設することにより、単
に版胴１上の原板を回転させるのみで、原板の疎水性層
の付与、照射部の親水性強化およびインキと湿し水の供
給、さらには印刷終了後のインキ洗浄及び履歴除去のた
めの初期化を行うことができるため、装置をコンパクト
に構成することができ、これにより省スペース化を図る
ことができる。

【０１６５】従来提案された簡易な製版方式の中でも、
疎水性画像層を付与してから非画像部の親水性を強化す
る本発明が、工程がさらに簡単化されていること、
非画像領域の親水性が強化され、安定であること、履
歴に影響されず、再現性がよいこと、使用済み刷版を
光又は熱の作用で初期化して反復使用できることなどの
利点を有している。さらに、画像領域と非画像領域の識
別性の高い印刷版を再現性よく製作することができると
いう利点があり、印刷版の品質を高めることができる。

【０１６６】

【実施例】以下に本発明の具体的態様を実施例によって
示すが、本発明はこれらに限定されない。 〔実施例１〕本実施例１では、上記実施形態１による具
体例を示す。９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．
０１重量％、チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量
％、ケイ素を０．１重量％含有するＪＩＳＡ１０５０ア
ルミニウム材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシ
ュのパミストン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液
と、回転ナイロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用
いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。こ
れを１５重量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム
４．５重量％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が
５g/m²になるようにエッチングした後、流水で水洗し
た。更に、１重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝
酸水溶液（アルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極
時電圧１０．５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形
波交番波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５
７９６号公報実施例に記載されている電流波形）を用い
て１６０クローン／dm²の陽極時電気量で電解粗面化処
理を行った。水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m²
になるようにエッチングした後、水洗した。次に、５０
℃、３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットし
た後、水洗した。

【０１６７】さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液
（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度１３A/dm²で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量２．７g/m²とした。この支持体を水洗後、
７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計
で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均粗さは
０．５８μｍであった。

【０１６８】次いでこのアルミニウム支持体を真空蒸着
装置内に入れて、全圧２．０ｘ１０ ^-2Torrになるように
分圧７０％の酸素ガスの条件下でチタン金属片を電熱加
熱して、アルミニウム支持体上に蒸着して酸化チタン薄
膜を形成した。この薄膜の結晶成分はＸ線解析法によっ
て無定型／アナターゼ／ルチル結晶構造の比が１．５／
６．５／２であり、TiO₂薄膜の厚さは９０ｎｍであっ
た。これを版胴１上の原板の基体に巻き付けて機上印刷
用の原板とした。

【０１６９】図２に示した態様の溶融型熱転写装置を用
いて、印刷されるべき画像をワークステーション５４で
電気的画像信号に変換して感熱ヘッド駆動部５３を経て
感熱ヘッド５１によって疎水性物質担持シート５２上の
インクを原板表面に印画した。疎水性物質担持シート５
２は、市販の感熱プリンター用インクリボン（熱転写リ
ボンカセットＥＷ（黒）、富士通（株）製品）を使用し
た。印画用の感熱プリンターは、Ｔａ−ＳｉＯ₂ 発熱低
抗体上にサイアロン耐摩耗保護層を設けた１５０μｍ×
１５０μｍの感熱ヘッド（図２の５１）を２５０μｍ間
隔に並べた感熱プリンターで、感熱ヘッド５１は２０ｍ
ｓｅｃ通電によって４５０°Ｃに達する加熱能力を持っ
ており、走査速度を４００ｍｓｅｃ／ｍに設定した。疎
水性画像層付与部５を通過時間が１分となる回転速度で
版胴を回転させた。原板表面の疎水性画像部分の水に対
する接触角をContact Angle Meter CA-D（協和界面科学
（株）製）を用いて空中水滴法で表面の水に対する接触
角を測定したところ、いずれの部分も７８〜８３度の間
にあった。

【０１７０】次いで、版胴の同じ回転周期内に図１の親
水性強化部３ａにおいて親水性強化剤を原板表面に塗り
付け処理した。親水性強化剤として下記の組成の水溶液
を使用した。 組 成 量（ｇ） エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル ３００ プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル ２５０ ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロック共重合体 （プルロニックＬ−３１、旭電化（株）） ５ ヒドロキシプロピルセルロース ３ リン酸第一アンモン １５ クエン酸第二アンモン ５ Ｎ，Ｎ−ビスカルボキシメチル−β−アラニンの３ナトリウム塩 ３ プロノポール ３ ４−イソチアゾリン−３−オン誘導体 ３ 純水 全量を１０００ｍｌとした 処理後の原板表面の非画像領域の水に対する接触角をCo
ntact Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）を用
いて空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したと
ころ、いずれの照射領域も７〜９度の間にあった。

【０１７１】この版胴１上の原板をサクライ社製オリバ
ー５２片面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３
において湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業
社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚平
版印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が
得られ、版胴１上の原板の損傷も認められなかった。

【０１７２】次いで洗浄部４において、版胴１上の原板
の表面を印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；
大日本インキ化学工業社）とトルエンの１／１混合液を
ウエスにしみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去し
た。次いで初期化部２において１７０℃で加熱を行っ
た。前と同じ方法で接触角を測定した。版表面のどの部
分も４８〜５５度の間にあった。

【０１７３】このようにして、版胴上で１サイクルの製
版・印刷及び原板再生工程を終えた原板を版胴に装着し
たまま再び上記の製版過程を行って印刷版を製作した。
この版胴１上の刷版をサクライ社製オリバー５２片面印
刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３ｂにおいて湿
し水を純水、インキに大日本インキ化学工業社製Newcha
mpion Ｆグロス８５墨を供給して１０００枚平版印刷を
行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、
版胴１上の原板の損傷も認められなかった。

【０１７４】以上の繰り返しを５回実施したところ、疎
水性画像領域、非画像領域のそれぞれの水滴接触角の
値、印刷後のインク除去した版面の加熱による接触角の
回復スピード及び印刷面の画像の鮮明さの変化は認めら
れなかった。この結果から、酸化チタン層をアルミニウ
ム支持体上に設けた印刷原板を使用し、実施形態１の印
刷装置を用いて疎水性物質である感熱プリンター用イン
キの像様付与、親水性強化剤の適用による製版・印刷が
可能であり、しかもインキの洗浄除去と履歴除去用加熱
のみで印刷原板を反復再生使用できることが示された。

【０１７５】〔実施例２〕真空蒸着装置中に１００ミク
ロン厚みのＳＵＳ板をセットして全圧０．６５Ｐａの真
空下でセレン化亜鉛を１００ｎｍの厚みに蒸着した。こ
れを空気中６００°Ｃで２時間酸化処理してＳＵＳ板の
片面に酸化亜鉛の薄膜を形成させた。

【０１７６】この酸化亜鉛皮膜付き１００ミクロンＳＵ
Ｓ板を実施例１と同じく、実施形態１の印刷装置の版胴
１上の原板の基体に巻き付けて機上製版型の原板とし
た。

【０１７７】一方、厚さ１０μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に、疎水性画像物質としてカルナウ
バワックス、ヘキシレングリコール及びキシレンの１：
１：２混合液体をローラーコーターによって２０μｍの
厚みに塗り付け塗布した疎水性画像付与シートを作成し
た。以上の原板構成と疎水性画像付与シートを用い、実
施例１と同じ感熱ヘッドによって原板上に疎水性画像層
を付与した。原板表面の画像層領域の水に対する接触角
をContact Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）
を用いて空中水滴法で水に対する接触角を測定したとこ
ろ、７６〜８０度の間にあった。

【０１７８】次いで、実施例１と同じユニレックＵＲＭ
６００形式ＧＨ６０２０１Ｘを用いて同じ条件で、現像
済みフィルムを通して原板表面に活性光の像様照射を行
い、つづいてカルボキシメチルセルロース２質量％、イ
ソプロピルアルコール２質量％及びジエチレングリコー
ル５質量％の水溶液を含浸したフェルトによって像様照
射領域当たり５００ミリリットル／ｍ² の塗布量で塗り
付けた。親水性強化処理後の原板表面の光照射領域の水
に対する接触角をContact Angle Meter CA-Dを用いて空
中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したところ、
いずれの照射領域も１０〜１３度の間にあった。

【０１７９】この版胴１上の原板をサクライ社製オリバ
ー５２片面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３
において湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業
社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚平
版印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が
得られ、版胴１上の原板の損傷も認められなかった。

【０１８０】次いで洗浄部（図１の４）において、版胴
１上の原板の表面を印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ
（発売元；大日本インキ化学工業社）とトルエンの１／
１混合液をウエスにしみ込ませて丁寧に洗浄してインキ
を除去した。ついで５００Ｗ高圧水銀灯（活性光）を用
いて原板表面を１キロルックスの照度で十分間照射して
初期化（履歴除去）を行った。前と同様の方法で接触角
を測定したところ、版表面のどの部分も５０〜５７度の
間にあった。

【０１８１】このようにして、版胴上で１サイクルの製
版・印刷、原板再生工程を終えた原板を版胴に装着した
まま再び上記の製版過程を行って印刷版を製作した。こ
の版胴１上の刷版をサクライ社製オリバー５２片面印刷
機に使用して、インキ・湿し水供給部３において湿し水
を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newchampio
n Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚平版印刷を行っ
た。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版胴
１上の原板の損傷も認められなかった。

【０１８２】この結果から、酸化亜鉛層をＳＵＳ支持体
上に設けた印刷原板を使用し、態様１の印刷装置を用い
て疎水化剤による全面疎水化、活性光にとる全面照射と
親水性強化によって識別性の高い印刷が可能であり、し
かもインキの洗浄除去と活性光の一様照射による初期化
のみで印刷原板を反復再生使用できることが示された。

【０１８３】〔実施例３〕実施例１と同様にして陽極酸
化処理したアルミニウム支持体をＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂
Ｏ₁₀の化学量論比に相当するセシウムエトキシド、チタ
ンブトキシド、ランタンイソブトキシド、ニオブエトキ
シドを含む２０％のエタノール溶液に浸漬して表面を加
水分解したのち２８０°Ｃに加熱してアルミニウム支持
体表面にＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀の厚み１０００ｎｍ
の薄膜を形成させた。

【０１８４】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体を版胴の基体に巻き付けて原板としたことと、初
期化は図１の初期化部２の代わりに版胴内部に設けた埋
め込みヒーターによる加熱（原板表面で１６０°Ｃ）に
よって行った以外は、実施例１と同じ製版、印刷及びイ
ンキ洗浄除去、再印刷を行った。疎水性画像領域の水に
対する接触角は、１回目及び２回目とも７６〜７９度で
あり、また、非画像領域の親水性強化剤処理後の接触角
は、１０〜１４度であった。印刷面の品質も１回目及び
２回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別
性も十分であった。

【０１８５】〔実施例４〕厚み１００ミクロンのポリイ
ミド（無水ピロメリット酸・ｍ−フェニレンジアミン共
重合物）フィルム（商品名；カプトン、東レ・デュポン
社製）を支持体として使用し、その上に光熱変換性のコ
ロイド銀微粒子分散物の薄層をロッドコーターによって
塗布して印刷原板を作製した。

【０１８６】コロイド銀微粒子分散物はつぎのようにし
て調製した。すなわち、クエン酸ナトリウム水溶液（３
２質量％）５６０ｍｌを約１℃に冷却し、撹拌しなが
ら、硫酸第一鉄水溶液（３０質量％）１００ｍ１を添加
した。均一に混合した後、激しく撹拌しながら、硝酸銀
水溶液（１０質量％）１００ｍｌを３０秒以内に添加終
了するように添加した。約１０分後に撹拌を停止した。
出来上がったコロイド銀微粒子分散物中の不要な塩類を
除去するために、限外濾過装置で蒸留水を加えながら限
外濾過を施した。限外過装置は米国 Amicon 社製のＣＨ
２ＰＲＳ型を用い、フィルターはＳＩＹ３０（カットオ
フ分子量３０,０００）を用いた。水洗は、電導度が約
５０μＳ／ｃｍになるまで行った。水洗後、Ａｇ濃度が
６質量％になるように調整した。コロイド銀微粒子の平
均粒子サイズは８ｎｍであった。実施例１と同じ方法で
疎水性画像層の付与と非画像部の親水性強化処理を施し
た。それぞれの領域の水に対する接触角は、実施例１で
測定した値とそれぞれ実質的に同じであった。また印刷
終了後にインク除去を行い、赤外線レーザー光を一様に
照射したのちの水に対する接触角は、１回目及び２回目
とも４２〜４６度であった。印刷面の品質も１回目及び
２回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別
性も十分であった。

【０１８７】〔実施例５〕実施例４の光熱変換性コロイ
ド銀微粒子層の代わりにＳｎとＳｎＳを共蒸着させた厚
さ７０ｎｍの金属／金属化合物薄膜層を支持体上に塗設
した原板を用いた以外は、実施例４と同じ試験を行っ
た。薄膜層の支持体上への蒸着は、ポリイミド支持体を
蒸着装置内にセットし、全圧２．０×１０^-2Torrのアル
ゴン雰囲気の条件下でＳｎとＳｎＳを加熱して共蒸着薄
膜を形成することによって行った。疎水化処理した表面
の水に対する接触角は実施例１と実質的に同じであり、
また印刷終了後にインク除去を行い、赤外線レーザー光
を一様に照射したのちの水に対する接触角は、１回目及
び２回目とも４６〜５０度であった。印刷面の品質も１
回目及び２回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領
域の識別性も十分であった。

【０１８８】〔実施例６〕実施例１における感熱ヘッド
を用いる疎水性画像層の付与を、インクジェット型の像
様の液滴噴射による画像層の付与に変更した以外は実施
例１と同じ製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行
った。疎水性画像領域の水に対する接触角は、１回目及
び２回目とも８０〜８５度であり、また、非画像領域の
親水性強化剤処理後の接触角は、１４〜１８度であっ
た。印刷面の品質も１回目及び２回目とも地汚れはな
く、画像領域と非画像領域の識別性も十分であった。イ
ンクジェット装置には、市販のインクジェット方式のカ
ラープリンターの画像形成部を流用し、インクの代わり
に下記の方法で作製したポリマー分散液を使用した。

【０１８９】＜ポリマー分散液の調製＞スチレン６０
ｇ、ジビニルベンゼ１０ｇ、ヒドロキシエチルメタクリ
レート３０ｇ、水２００ｇ、界面活性剤ＸＬ−１０２Ｆ
（ライオン（株）製）（４．７％水溶液）１０ｇを三ッ
口フラスコに入れ、窒素を導入しながら、８０℃に昇温
した。その後約３０分攪拌後、Ｋ₂ Ｓ₂ Ｏ₈ を１ｇ添加
し乳化重合をおこない、粒径約０．２μｍの樹脂粒子を
得た。さらに、この樹脂粒子分散液中にメタノールを３
０容量％添加して噴射用の分散液とした。

【０１９０】〔実施例７〕実施例６におけるインクジェ
ット方式の分散液を下記のマイクロカプセル分散液にに
変更した以外は実施例６と同じ製版、印刷及びインキ洗
浄除去、再印刷を行った。疎水性画像領域の水に対する
接触角は、１回目及び２回目とも６５〜６９度であり、
また、非画像領域の親水性強化剤処理後の接触角は、１
４〜１８度であった。印刷面の品質も１回目及び２回目
とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別性も十
分であった。

【０１９１】＜マイクロカプセル粒子分散液の調製＞酢
酸エチル１９．０部（以下すべて質量部）、イソプロピ
ルビフェニルを５．９部、グリセロールラウレート５部
およびリン酸トリクレジル２．５部を加熱して均一に混
合した。カプセル壁材（同時の疎水性化前駆体でもあ
る）として、キシリレンジイソシアナート／トリメチロ
ールプロパン付加物（７５％酢酸エチル溶液 タケネー
トＤ１１０Ｎ：武田薬品社の商品名）７．６部をこの溶
液に更に添加し、均一に攪拌した。別途、１０質量％ド
デシルスルホン酸ナトリウム水溶液２．０部を加えた６
質量％ゼラチン（ＭＧＰ−９０６６：ニッピゼラチン工
業社の商品名）水溶液６４部を用意し、ホモジナイザー
にて乳化分散した。

【０１９２】得られた乳化液に水２０部を加え均一化し
た後、攪拌しながら４０℃に昇温し、３時間カプセル化
反応を行わせた。この後３５℃に液温を下げ、イオン交
換樹脂アンバーライトＩＲＡ６８（オルガノ社製）６．
５部、アンバーライトＩＲＣ５０（オルガノ社製）１３
部を加え更に一時間攪拌する。この後イオン交換樹脂を
ろ過して目的のカプセル液を得た。カプセルの平均粒径
は０．６４μｍであった。

【０１９３】〔実施例８〕図４に示した疎水性画像層付
与部５と同じ装置を使用して次の試験を行った。空気取
り入れ口に内径約３０ｍｍの硝子管（分液ろ斗を転用）
を横向きに配置し、疎水性画像層付与部内の空気がこの
硝子管内を通過して疎水性画像層付与部の内部に取り込
まれる構造とした。シリコーンオイル〔商品名シリコー
ンＫＦ９９（信越化学工業（株）製〕を含浸させた珪草
土を容積率が５０％となるように硝子管の下半分に流し
こんだ。空気取り入れ口の温度は、この管を通過中に室
温から１５０℃に上昇する。シリコーンＫＦ９９は、こ
の温度では少なくとも１００Ｐａ以上の蒸気圧を持つの
で、疎水性画像層付与部の内部に取り入れられた空気
は、シリコーンＫＦ９９の蒸気を含んでいる。空間部の
内容積が２リットルの蒸発室内の空気交換速度は、毎分
１０ｖｏｌ％であった。このオルガノポリシロキサン化
合物の蒸気の雰囲気に印刷原板を曝すことと原板表面に
ネガ画像を担持した孔版をマスクとして設けたこと以外
は、実施例１と同じ原板と同じ装置を使用して、同じ条
件で製版し、この印刷版によって、１００枚の平版印刷
を行った。実施例１と同様にスタートから終了まで鮮明
な印刷物が得られた。

【０１９４】〔実施例９〕実施例２において、印刷終了
後、インキ除去を行った印刷版に活性光の照射に代えて
赤外線レーザー光照射を用いて照射面の温度を酸化亜鉛
の高温親水性発現温度である１９０〜３００°Ｃとなる
ようにして露光を行った以外は実施例２と同じ操作によ
って試験を繰り返した。印刷面の地汚れのない良好な品
質の印刷を行うことができた。

【０１９５】〔実施例１０〕実施例１で使用したものと
同じ粗面化処理と陽極酸化処理を施したアルミニウム支
持体を使用してチタン酸バリウムを光触媒能を有する金
属酸化物とした原板を作製した。すなわち、上記アルミ
ニウム支持体をスパッタリング装置内にセットし、６．
５×１０^-5Ｐａまで真空排気する。支持体を２００°Ｃ
に加熱し、Ａｒ／Ｏ₂ が９０／１０（モル比）となるよ
うにガス圧を６．５×１０^-1Ｐａに設定し、ＳｉＯ₂ の
ターゲットにＲＦパワー２００Ｗを投入してＳｉＯ₂ の
１μｍの薄層を形成した。続いてＡｒのガス圧を６．５
×１０^-1Ｐａに設定し、ＳｉのターゲットにＲＦパワー
２００Ｗを投入してＳｉの１μｍの薄膜を形成した。続
いてＡｒのガス圧を６．５×１０^-1Ｐａに設定し、６イ
ンチφのチタン酸バリウムの焼結ターゲットにＲＦパワ
ー２００Ｗを投入して膜厚１００ｎｍのチタン酸バリウ
ム薄膜を形成した。Ｘ線解析法によれば、この薄膜は多
結晶体であった。

【０１９６】このチタン酸バリウム薄膜付きアルミニウ
ム支持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用した
ことと、赤外線レーザーを使用して高温親水性発現温度
に加熱して初期化を行った以外は、実施例１と同じ製
版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤外線
レーザー装置は、最大出力５００ｍＷの固体赤外線レー
ザー装置で、ビーム幅を１００ミクロンにして全面走査
露光によって原板表面の初期化を行った。この場合、照
射した赤外線光をＳｉが吸収するので、この薄層が光エ
ネルギーを熱エネルギーに変換する役目を果たす。すな
わち、赤外線を照射することで、Ｓｉ層が発熱するので
チタン酸バリウム層を加熱できる。加熱温度を疎水性発
現温度の範囲（１５５〜２５０℃）への調節は、レーザ
ー出力の制御によって行った。赤外線レーザー光照射後
の原板表面の水に対する接触角は、１回目及び２回目と
も４９〜５６度であった。また、印刷面の品質も１回目
及び２回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の
識別性も十分であった。

【０１９７】次いで、本発明の第２の実施形態について
説明する。 〔実施形態２〕図５は本発明の第２の実施形態による平
版印刷装置の構成を示す図である。図５に示す平版印刷
装置は、図１に示す平版印刷装置を印刷ユニット１１
Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂとして４台直列に本体１２
内に配置して構成されるものであり、それぞれ、Ｙ（イ
エロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラッ
ク）のインキを使用してカラー印刷を行うものである。

【０１９８】各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂの構成および動作は上述した図１に示す平版印刷
装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。第２の
実施形態においては、各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，
１１Ｃ，１１Ｂのインキ・湿し水供給部において供給さ
れるインキの色が、それぞれ、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マ
ゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラック）である点が異
なるものである。

【０１９９】次いで、第２の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂにおいて版胴１上の原板をゆっくり回転させなが
ら疎水性画像層付与部５の構造は図２〜４に説明したの
で省略する。版胴を疎水性画像付与に十分の時間で通過
する速度で回転し、画像領域を形成させた後に、図１の
親水性強化処理部３ａによる親水性強化剤の適用が行わ
れる。そして、各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１
Ｃ，１１Ｂのインキ・湿し水供給部からＹ，Ｍ，Ｃ，Ｂ
それぞれの色のインキを供給して、各印刷ユニット１１
Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂの版胴１上の原板にインキ
および湿し水を保持する。その後、図５の矢印Ｂに示す
ように用紙を供給して、各印刷ユニット１１Ｙ，１１
Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキを用紙に転写する。すなわ
ち、印刷ユニット１１ＹにおいてはＹのインキが転写さ
れ、印刷ユニット１１ＭにおいてはＭのインキが転写さ
れ、印刷ユニット１１ＣにおいてはＣのインキが転写さ
れ、印刷ユニット１１ＢにおいてはＢのインキが転写さ
れる。これにより、用紙にはカラー画像がネガ型の方式
で印刷されることとなる。

【０２００】印刷終了後、各印刷ユニット１１Ｙ，１１
Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキ洗浄部（図１の４）により
版胴に残存するインキを除去する。その後、版胴１上の
原板をゆっくり回転させながら初期化部２によって履歴
除去を行い、版胴１上の原板をもとの親水・親油性の状
態にして、版胴１上の原板は描画前の状態に戻る。

【０２０１】

【発明の効果】本発明の光触媒性、光熱変換性及び高温
親水性発現性のいずれかの性質を有する親水・親油材料
を含有する層を原板上に設けた印刷用原板に疎水性物質
の画像層を付与したのち、親水性強化剤処理を行って、
親水性と疎水性の像様分布を形成させて印刷版を作成し
て印刷を行い、印刷終了後、印刷版のインキを除去して
履歴を熱又は光によって除去して印刷原板を再生して反
復使用可能とする印刷方法は、現像処理を必要とせず、
原板の反復再使用もできて、かつ画像領域と非画像領域
の識別性が高い印刷画像が得られて、印刷品質と簡易性
の両方を満たす。また、原板を印刷機の版胴に装着し、
印刷機上で、疎水性画像の付与、親水性強化処理、イン
キ・湿し水供給のもとでの印刷及び印刷後の原板再生を
行う印刷装置を用いて簡易で安価な平版印刷を行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態による平版印刷装置の
構成を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施形態による平版印刷装置の
疎水性画像層付与部の一態様の模式図である。

【図３】本発明の第１の実施形態による平版印刷装置の
疎水性画像層付与部の別の態様の模式図である。

【図４】本発明の第１の実施形態による平版印刷装置の
疎水性画像層付与部のさらに別の態様の模式図である。

【図５】本発明の第２の実施形態による平版印刷装置の
構成を示す図である。

【符号の説明】

１ 版胴 ２ 初期化部 ３ａ 親水性強化処理部 ３ｂ インキ・湿し水供給部 ４ インキ洗浄部 ５ 疎水性画像層付与部 ６ ブランケット ７ 圧胴 ８ １２，１５ 本体 １１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂ 印刷ユニット １４Ｙ，１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂ 印刷ステーション ２４ 空気取り入れ口 ２５ コック ２６ 蒸発室 ２７ 有機化合物 ２９ 有機化合物供給手段 ３０ 電熱ヒーター ３１ 電熱ヒーター ３２ 温度センサー ３３ 温度センサー ３４ 温度制御部 ５１ 感熱ヘッド ５２ 疎水性物質担持シート ５３ 感熱ヘッド駆動部 ５４ ワークステーション ５５ 液滴 ５６ 液滴噴射ノズル ５７ 液滴噴射ノズル駆動部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０１ Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｆ (72)発明者 中村 隆 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 中山 隆雄 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2C062 RA01 2C250 FA03 FB01 2H084 AA13 AA14 AA16 AA36 AA38 AA40 BB13 BB16 CC05 2H097 CA17 FA06 LA03 2H114 AA04 AA21 AA22 BA01 BA06 BA10 DA01 DA05 DA08 DA10 DA11 DA25 DA27 DA28 DA29 DA32 DA38 DA45 DA47 DA50 DA52 DA53 DA56 DA57 DA59 DA60 DA62 EA01 EA03 EA05 EA08 GA01 GA22 GA29 GA38

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水・親油材料を含有する層を表面に有
   する印刷用原板に（１）疎水性物質の層を像様に付与し
   て画像領域を形成させたのち、（２）該表面に親水性強
   化剤の処理を施して非画像領域の親水性を強化し、
   （３）該画像領域がインキを受容し、該非画像領域が湿
   し水を受容した版面を形成させて印刷を行い、（４）該
   印刷の終了後、インキの洗浄除去と、熱印加又は光照射
   による履歴消去とを該版面に施すことによって、該印刷
   用原板を再使用可能とすることを特徴とする平版印刷方
   法。
2. 【請求項２】 親水・親油材料を含有する層を表面に有
   する印刷用原板に疎水性物質の層を像様に付与する方法
   が、熱ヘッド又はレーザー光による疎水性物質の熱転写
   及びインクジェット型噴射から選ばれる方法であること
   を特徴とする請求項１に記載の平版印刷方法。
3. 【請求項３】 親水性強化剤が、脂肪族多価アルコー
   ル、ポリ（アルキレングリコール）、ポリエチレングリ
   コールアルキルエーテル、アルキルスルホン酸、一価ア
   ルコール、水及び界面活性剤から選択されることを特徴
   とする請求項１又は２に記載の平版印刷方法。
4. 【請求項４】 親水性強化剤が、平版印刷用の湿し水で
   あることを特徴とする請求項３に記載の平版印刷方法。
5. 【請求項５】 親水・親油材料が、光触媒能を有する金
   属化合物、光熱変換性物質、高温親水性発現物質から選
   ばれた材料であることを特徴とする請求項１〜４のいず
   れか１項に記載の平版印刷方法。
6. 【請求項６】 親水・親油材料が、ＴｉＯ₂ 、ＲＴｉＯ
   ₃ （Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x
   Ｅ_x Ｏ₁₀（Ａは水素原子又はアルカリ金属原子、Ｂはア
   ルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類原子、Ｄは
   周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅは同じく４
   Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任意の数値を
   表す）、ＳｎＯ₂ 、Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ，ＦｅＯ_x （ｘ
   ＝１〜１．５）、ＭｎＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＶＯ_x （ｘ＝１
   〜５）及びＣｕＯ並びにＡｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｃ
   ｏ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ及びＭｏから選ばれ
   る金属酸化物又は金属であることを特徴とする請求項５
   に記載の平版印刷方法。
7. 【請求項７】 親水・親油材料を含有する層を表面に有
   する印刷用原板に疎水性物質の層を像様に付与したの
   ち、該印刷用原板を親水性強化剤によって処理したこと
   を特徴とする平版印刷版。
8. 【請求項８】 （１）親水・親油材料を含有する層を表
   面に有する印刷用原板の装着部と（２）該原板に疎水性
   物質の層を像様に付与して画像領域を形成させる疎水性
   画像層付与部と、（３）画像領域を形成した該原板に親
   水性強化剤を処理して非画像領域の親水性を強化させる
   親水性強化処理部と、（４）該画像領域にインキを供給
   し、該非画像領域に湿し水を供給するインキ及び湿し水
   供給部と、（５）該画像領域がインキを受容し、該非画
   像領域が湿し水を受容してなる印刷面を被印刷面と接触
   させて印刷を行う印刷部と、を有することを特徴とする
   平版印刷装置。
9. 【請求項９】 印刷済みの版をインキ溶剤で洗浄するイ
   ンキ除去部と、熱印加又は一様の光照射による履歴消去
   を行う初期化部とを有し、該印刷版を再使用可能の印刷
   原板とすることを特徴とする請求項８に記載の平版印刷
   装置。