JP2002355942A - バルブジェットにより像記録層をコーティングする方法 - Google Patents
バルブジェットにより像記録層をコーティングする方法Info
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 十分に厚いコーティングを迅速に得ることを
可能としそして平版印刷の分野で知られている大抵の像
記録組成物と適合性である、基材上に像記録層を適用す
るための方法を提供すること。 【解決手段】 バルブジェット印刷ヘッドにより基材上
にコーティング溶液を適用し、それにより感熱性又は感
光性像記録層を得ることにより印刷版前駆体を製造す
る。上記方法により印刷版前駆体を製造し、像記録層を
熱又は光に像通りに露出させ、そして場合により像記録
層を処理し、それにより印刷マスターを得、インキ及び
／又は湿し水を印刷マスターに適用し、平版基材にクリ
ーニング液を供給することにより平版基材からインキ受
容区域を除去する段階を含んでなるダイレクト−ツー−
プレート平版印刷方法。
可能としそして平版印刷の分野で知られている大抵の像
記録組成物と適合性である、基材上に像記録層を適用す
るための方法を提供すること。 【解決手段】 バルブジェット印刷ヘッドにより基材上
にコーティング溶液を適用し、それにより感熱性又は感
光性像記録層を得ることにより印刷版前駆体を製造す
る。上記方法により印刷版前駆体を製造し、像記録層を
熱又は光に像通りに露出させ、そして場合により像記録
層を処理し、それにより印刷マスターを得、インキ及び
／又は湿し水を印刷マスターに適用し、平版基材にクリ
ーニング液を供給することにより平版基材からインキ受
容区域を除去する段階を含んでなるダイレクト−ツー−
プレート平版印刷方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バルブジェット印
刷ヘッドにより基材（Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）上に像記録
層を適用することにより印刷版前駆体を製造する方法に
関する。この方法は、好ましくは、オンプレスコーティ
ング（ｏｎ−ｐｒｅｓｓ ｃｏａｔｉｎｇ）のために、
即ち、基材が印刷機に取り付けられている間に使用され
る。
刷ヘッドにより基材（Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）上に像記録
層を適用することにより印刷版前駆体を製造する方法に
関する。この方法は、好ましくは、オンプレスコーティ
ング（ｏｎ−ｐｒｅｓｓ ｃｏａｔｉｎｇ）のために、
即ち、基材が印刷機に取り付けられている間に使用され
る。
【０００２】
【従来の技術】平版印刷は表面の或る区域が平版インキ
を受けと取ることができ、これに対して他の区域は水で
湿らされるとインキを受け取らない、特定的に調製され
た表面からの印刷方法である。インキを受け取る区域は
印刷像区域を形成し、そしてインキ反発性区域はバック
グラウンド区域を形成する。
を受けと取ることができ、これに対して他の区域は水で
湿らされるとインキを受け取らない、特定的に調製され
た表面からの印刷方法である。インキを受け取る区域は
印刷像区域を形成し、そしてインキ反発性区域はバック
グラウンド区域を形成する。
【０００３】フォトリソグラフィーの分野では、写真材
料は、親水性バックグラウンド上の露光された（ネガ作
用性）区域又は非露光区域（ポジ作用性）において像通
りに油性又は油脂性インキ受容性とされる。
料は、親水性バックグラウンド上の露光された（ネガ作
用性）区域又は非露光区域（ポジ作用性）において像通
りに油性又は油脂性インキ受容性とされる。
【０００４】表面平版（ｓｕｒｆａｃｅ ｌｉｔｈｏ
ｐｌａｔｅｓ）又は平版印刷版（ｐｌａｎｏｇｒａｐｈ
ｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔｅｓ）とも呼ばれる
普通の平版（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｌａｔｅ
ｓ）の製造においては、水に対する親和性を有するか又
は化学処理によりこのような親和性を得る支持体が感光
性組成物の薄い層でコーティングされる。その目的のコ
ーティングは、ジアゾ化合物、二クロム酸塩増感された
親水性コロイド及び多様な合成フォトポリマーを含有す
る感光性ポリマー層を包含する。特にジアゾ増感された
システムが広く使用される。感光性層の像通りの露出に
より、露出された像区域は不溶性となりそして露出され
なかった区域は可溶性のままである。次いで版を適当な
液体で現像して露出されなかった区域のジアゾニウム塩
又はジアゾ樹脂を除去する。
ｐｌａｔｅｓ）又は平版印刷版（ｐｌａｎｏｇｒａｐｈ
ｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔｅｓ）とも呼ばれる
普通の平版（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｌａｔｅ
ｓ）の製造においては、水に対する親和性を有するか又
は化学処理によりこのような親和性を得る支持体が感光
性組成物の薄い層でコーティングされる。その目的のコ
ーティングは、ジアゾ化合物、二クロム酸塩増感された
親水性コロイド及び多様な合成フォトポリマーを含有す
る感光性ポリマー層を包含する。特にジアゾ増感された
システムが広く使用される。感光性層の像通りの露出に
より、露出された像区域は不溶性となりそして露出され
なかった区域は可溶性のままである。次いで版を適当な
液体で現像して露出されなかった区域のジアゾニウム塩
又はジアゾ樹脂を除去する。
【０００５】いわゆるダイレクト−ツー−プレート（ｄ
ｉｒｅｃｔ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）法は、版前駆体の接触
露出のためにフイルムマスクが使用される慣用の製版方
法とは反対に、像データを有する印刷版前駆体の直接の
露出を伴う。このようなダイレクト−ツー−プレート法
において、感光性であるよりはむしろ感熱性である像形
成要素がしばしば使用される。水もしくはアルカリ可溶
性又は膨潤性樹脂中に分散した疎水性熱可塑性ポリマー
粒子及び光を熱に転換することができる化合物を含んで
なる像形成層を有する感熱性像形成要素は、例えば、Ｅ
Ｐ−Ａ−７７０４９４、ＥＰ−Ａ−７７０４９５、ＥＰ
−Ａ−７７０４９６、ＥＰ−Ａ−７７０４９７、ＥＰ−
Ａ−７７３１１２、ＥＰ−Ａ−７７３１１３、ＥＰ−Ａ
−７７４３６４、ＥＰ−Ａ−８００９２８、ＥＰ−Ａ−
９６２０２６８５、ＥＰ−Ａ−９６２０３００３、ＥＰ
−Ａ−９６２０３００４及びＥＰ−Ａ−９６２０３６３
３に開示されている。大抵の場合に、光を熱に転換する
ことができる化合物としてカーボンブラック又はＩＲ染
料が挙げられる。
ｉｒｅｃｔ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）法は、版前駆体の接触
露出のためにフイルムマスクが使用される慣用の製版方
法とは反対に、像データを有する印刷版前駆体の直接の
露出を伴う。このようなダイレクト−ツー−プレート法
において、感光性であるよりはむしろ感熱性である像形
成要素がしばしば使用される。水もしくはアルカリ可溶
性又は膨潤性樹脂中に分散した疎水性熱可塑性ポリマー
粒子及び光を熱に転換することができる化合物を含んで
なる像形成層を有する感熱性像形成要素は、例えば、Ｅ
Ｐ−Ａ−７７０４９４、ＥＰ−Ａ−７７０４９５、ＥＰ
−Ａ−７７０４９６、ＥＰ−Ａ−７７０４９７、ＥＰ−
Ａ−７７３１１２、ＥＰ−Ａ−７７３１１３、ＥＰ−Ａ
−７７４３６４、ＥＰ−Ａ−８００９２８、ＥＰ−Ａ−
９６２０２６８５、ＥＰ−Ａ−９６２０３００３、ＥＰ
−Ａ−９６２０３００４及びＥＰ−Ａ−９６２０３６３
３に開示されている。大抵の場合に、光を熱に転換する
ことができる化合物としてカーボンブラック又はＩＲ染
料が挙げられる。
【０００６】平版印刷版前駆体の製造のために使用され
るコーティングは通常工業的なコーティング技術、例え
ば、ディップコーティング、カスケードコーティング及
びカーテンコーティングにより適用される。他方、いわ
ゆるオンプレスコーティング技術が知られており、それ
によれば、１つ又はそれ以上のコーティングが、オンプ
レスで、即ち、例えば、ＧＢ１５４６５３２、ＥＰ−Ａ
−１０１２６６及びＵＳ５，７１３，２８７に記載の如
く平版基材が印刷機に取り付けられている間に、平版基
材上に適用される。このような方法は、普通は印刷機に
一体化されているイメージセッターによるオンプレス像
形成も伴う。オンプレスコーティングは、典型的には、
例えば、ＵＳ４，６２６，４８４、ＥＰ−Ａ−８１８７
１１及びＵＳ５，７１３，２８７に開示されているよう
に、噴霧装置によって達成される。
るコーティングは通常工業的なコーティング技術、例え
ば、ディップコーティング、カスケードコーティング及
びカーテンコーティングにより適用される。他方、いわ
ゆるオンプレスコーティング技術が知られており、それ
によれば、１つ又はそれ以上のコーティングが、オンプ
レスで、即ち、例えば、ＧＢ１５４６５３２、ＥＰ−Ａ
−１０１２６６及びＵＳ５，７１３，２８７に記載の如
く平版基材が印刷機に取り付けられている間に、平版基
材上に適用される。このような方法は、普通は印刷機に
一体化されているイメージセッターによるオンプレス像
形成も伴う。オンプレスコーティングは、典型的には、
例えば、ＵＳ４，６２６，４８４、ＥＰ−Ａ−８１８７
１１及びＵＳ５，７１３，２８７に開示されているよう
に、噴霧装置によって達成される。
【０００７】いくつかの噴霧技術が当該技術分野で知ら
れている。即ち、エアアシスト噴霧法（ａｉｒ−ａｓｓ
ｉｓｔｅｄ ｓｐｒａｙｉｎｇ ｍｅｔｈｏｄ）は推進
剤として圧縮された空気を使用することを含み、エアレ
ス噴霧法（液体圧噴霧法）はコーティング溶液に高圧を
加えることによりコーティング溶液を噴霧することを含
む。静電噴霧法はコーティング溶液を静電力により噴霧
することを含んでなる。これらの噴霧法はコーティング
された層における線又はモットルパターン（ｍｏｔｔｌ
ｅ ｐａｔｔｅｒｎ）の存在により特徴付けられる低品
質コーティングを生成する。噴霧法の他の欠点は、噴霧
されたコーティング溶液の５０％までが環境中に無駄に
費やされるので低い収率である。更に、インキローラ、
像形成ユニット、クリーニングユニットの如き印刷機ハ
ードウエア要素を汚染する危険が高い。
れている。即ち、エアアシスト噴霧法（ａｉｒ−ａｓｓ
ｉｓｔｅｄ ｓｐｒａｙｉｎｇ ｍｅｔｈｏｄ）は推進
剤として圧縮された空気を使用することを含み、エアレ
ス噴霧法（液体圧噴霧法）はコーティング溶液に高圧を
加えることによりコーティング溶液を噴霧することを含
む。静電噴霧法はコーティング溶液を静電力により噴霧
することを含んでなる。これらの噴霧法はコーティング
された層における線又はモットルパターン（ｍｏｔｔｌ
ｅ ｐａｔｔｅｒｎ）の存在により特徴付けられる低品
質コーティングを生成する。噴霧法の他の欠点は、噴霧
されたコーティング溶液の５０％までが環境中に無駄に
費やされるので低い収率である。更に、インキローラ、
像形成ユニット、クリーニングユニットの如き印刷機ハ
ードウエア要素を汚染する危険が高い。
【０００８】上記の欠点は、噴霧の代わりにジェット技
術を使用することにより解決されうる。オンプレスコー
ティングのための適当なジェット技術は、２０００年７
月３１日に出願されたヨーロッパ特許出願ｎｏ．００２
０２７００に記載されている。そこに記載されたジェッ
ト技術は平版基材上に均一なコーティングを適用するた
めに使用される連続インキジェット及びドロップオンデ
マンド（ｄｒｏｐ−ｏｎ−ｄｅｍａｎｄ）インキジェッ
トであり、即ち、コーティングは像通りに適用されな
い。上記したジェット及び噴霧技術の問題は、印刷ヘッ
ドの１回のパスにより適用されるコーティングの限定さ
れた厚さである。更に、上記したジェット技術はコーテ
ィング溶液の物理化学的性質、例えば、電気伝導度、粘
度及び表面張力の注意深い調節を必要とし、そしてこの
ような調節は、コントラスト、鮮鋭度及び印刷耐久性
（運転長さ）の如き高い平版品質を得るために必要な要
求に適合しないことがある。
術を使用することにより解決されうる。オンプレスコー
ティングのための適当なジェット技術は、２０００年７
月３１日に出願されたヨーロッパ特許出願ｎｏ．００２
０２７００に記載されている。そこに記載されたジェッ
ト技術は平版基材上に均一なコーティングを適用するた
めに使用される連続インキジェット及びドロップオンデ
マンド（ｄｒｏｐ−ｏｎ−ｄｅｍａｎｄ）インキジェッ
トであり、即ち、コーティングは像通りに適用されな
い。上記したジェット及び噴霧技術の問題は、印刷ヘッ
ドの１回のパスにより適用されるコーティングの限定さ
れた厚さである。更に、上記したジェット技術はコーテ
ィング溶液の物理化学的性質、例えば、電気伝導度、粘
度及び表面張力の注意深い調節を必要とし、そしてこの
ような調節は、コントラスト、鮮鋭度及び印刷耐久性
（運転長さ）の如き高い平版品質を得るために必要な要
求に適合しないことがある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
に厚いコーティングを迅速に得ることを可能としそして
平版印刷の分野で知られている大抵の像記録組成物と適
合性である、基材上に像記録層を適用するための方法を
提供することである。
に厚いコーティングを迅速に得ることを可能としそして
平版印刷の分野で知られている大抵の像記録組成物と適
合性である、基材上に像記録層を適用するための方法を
提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的は、特許請求の
範囲の請求項１に記載の方法により実現される。この方
法により得られる印刷版前駆体は、平版像を含んでなる
印刷マスターを得るように、露出されそして場合により
処理されうる。
範囲の請求項１に記載の方法により実現される。この方
法により得られる印刷版前駆体は、平版像を含んでなる
印刷マスターを得るように、露出されそして場合により
処理されうる。
【００１１】本発明の他の態様では、コーティングは、
印刷ジョブが終わった後行われるクリーニング段階で基
材から除去され、それにより、基材は、コーティング、
露出及びクリーニングの次のサイクルにおいてリサイク
ルされそして再使用されうる。コーティング、露出及び
クリーニングのすべての段階は、好ましくは、オンプレ
スで、即ち、基材が印刷機に取り付けられている間に行
われる。
印刷ジョブが終わった後行われるクリーニング段階で基
材から除去され、それにより、基材は、コーティング、
露出及びクリーニングの次のサイクルにおいてリサイク
ルされそして再使用されうる。コーティング、露出及び
クリーニングのすべての段階は、好ましくは、オンプレ
スで、即ち、基材が印刷機に取り付けられている間に行
われる。
【００１２】本発明の方法の好ましい態様は特許請求の
範囲の従属請求項に定義されている。本発明の更なる利
点及び好ましい態様は以下の説明から明らかとなるであ
ろう。
範囲の従属請求項に定義されている。本発明の更なる利
点及び好ましい態様は以下の説明から明らかとなるであ
ろう。
【００１３】
【発明の詳細な記述】本発明の方法に従えば、感熱性又
は感光性像記録層がバルブジェット印刷ヘッドにより平
版基材上に適用され、それにより印刷版前駆体を得る。
バルブジェッティングは、典型的にはバルブを開閉する
のにソレノイドを使用するタイプのドロップオンデマン
ドジェット技術である。バルブの後ろのコーティング溶
液は圧力下にありそしてバルブが開かれるにつれて溶液
の滴がバルブから発射され（ｓｈｏｔ）そして基材に移
動する。滴周波数は典型的には２〜４Ｋｈｚの範囲にあ
るが、この範囲に限定はされない。好ましい態様では、
バルブジェット印刷ヘッドからコーティング溶液を駆動
するための加圧されたガスが使用される。バルブジェッ
ト印刷ヘッドは当該技術分野で知られており、そして、
例えば、ＳｗｅｄｅｎのＭａｔｔｅｗｓ Ｓｗｅｄｏｔ
ＡＢから商業的に入手可能である。
は感光性像記録層がバルブジェット印刷ヘッドにより平
版基材上に適用され、それにより印刷版前駆体を得る。
バルブジェッティングは、典型的にはバルブを開閉する
のにソレノイドを使用するタイプのドロップオンデマン
ドジェット技術である。バルブの後ろのコーティング溶
液は圧力下にありそしてバルブが開かれるにつれて溶液
の滴がバルブから発射され（ｓｈｏｔ）そして基材に移
動する。滴周波数は典型的には２〜４Ｋｈｚの範囲にあ
るが、この範囲に限定はされない。好ましい態様では、
バルブジェット印刷ヘッドからコーティング溶液を駆動
するための加圧されたガスが使用される。バルブジェッ
ト印刷ヘッドは当該技術分野で知られており、そして、
例えば、ＳｗｅｄｅｎのＭａｔｔｅｗｓ Ｓｗｅｄｏｔ
ＡＢから商業的に入手可能である。
【００１４】コーティング溶液は、通常基材上に適用さ
れて連続層を形成する。基材は回転可能なドラムに取り
付けることができ、そして印刷ヘッドは、図１に示され
た如く、ドラムの軸線方向に沿って基材の近くを移動す
るシャットルに取り付けることができる。基材がシーム
レススリーブではない態様では、基材の縁は、既知の手
段、例えば、典型的には印刷版を印刷シリンダに固定す
るために使用されるクランプによってドラムに固定する
ことができる。このようなクランプは通常非印刷ギャッ
プ（ｎｏｎ−ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｇａｐ）を規定する。
該ギャップにおいては、基材は印刷ヘッドによりコーテ
ィングされるために利用できない。コーティング操作期
間中、バルブジェット印刷ヘッドはギャップが印刷ヘッ
ドを通過する度毎にスイッチオフにすることができ、そ
れによりコーティング溶液は基材上にのみ適用されそし
てギャップには適用されない。
れて連続層を形成する。基材は回転可能なドラムに取り
付けることができ、そして印刷ヘッドは、図１に示され
た如く、ドラムの軸線方向に沿って基材の近くを移動す
るシャットルに取り付けることができる。基材がシーム
レススリーブではない態様では、基材の縁は、既知の手
段、例えば、典型的には印刷版を印刷シリンダに固定す
るために使用されるクランプによってドラムに固定する
ことができる。このようなクランプは通常非印刷ギャッ
プ（ｎｏｎ−ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｇａｐ）を規定する。
該ギャップにおいては、基材は印刷ヘッドによりコーテ
ィングされるために利用できない。コーティング操作期
間中、バルブジェット印刷ヘッドはギャップが印刷ヘッ
ドを通過する度毎にスイッチオフにすることができ、そ
れによりコーティング溶液は基材上にのみ適用されそし
てギャップには適用されない。
【００１５】図１の態様を更に詳細にここで検討する。
プレスシリンダ（１００）はその外側表面に平版基材
（示されていない）を担持する。バー（１０２）及び支
持手段（１０３）を有するフレーム（１０１）に、バル
ブジェット印刷ヘッドを有するシャットルが、それが矢
印Ａの方向に前後に移動することができるように取り付
けられている。フレームの支持手段（１０３）はこの態
様では、フレームをシリンダ（１００）から一定の距離
（ｄ）に保つためのスペーサとしも役立つ。支持手段
（１０３）はシリンダの最外縁と接触させられそしてバ
ネコイル（１０５）のような弾性手段によってそこに保
たれる。
プレスシリンダ（１００）はその外側表面に平版基材
（示されていない）を担持する。バー（１０２）及び支
持手段（１０３）を有するフレーム（１０１）に、バル
ブジェット印刷ヘッドを有するシャットルが、それが矢
印Ａの方向に前後に移動することができるように取り付
けられている。フレームの支持手段（１０３）はこの態
様では、フレームをシリンダ（１００）から一定の距離
（ｄ）に保つためのスペーサとしも役立つ。支持手段
（１０３）はシリンダの最外縁と接触させられそしてバ
ネコイル（１０５）のような弾性手段によってそこに保
たれる。
【００１６】別のシステムが図２に示されている。複数
のバルブジェット印刷ヘッドがずらされた構成（ｓｔａ
ｇｇｅｒｅｄ ｃｏｎｆｉｇｕｒａｔｉｏｎ）で取り付
けられており、それにより各別々の印刷ヘッドの印刷幅
の和は平版基材の有効幅に等しい。この態様では、イン
キジェット印刷ヘッドは固定されておりそして平版基材
の幅にわたって前後に移動させる必要はない。図２で
は、すべての数は図１の場合と同じであるが、シャット
ル（１０４）は３つのずらされた印刷ヘッド（１０６
ａ、１０６ｂ、１０６ｃ）により置き換えられており、
これらの印刷ヘッドは各々複数のバルブジェットオリフ
ィス（図には４つのみが示されている）を含んでなる。
ずらされた印刷ヘッドの他の適当な構成は例えば、ＵＳ
−Ａ−４９２２２７１、ＵＳ−Ａ−９４０９９８及びＵ
Ｓ−Ａ−５４２８３７５ら開示されている。複数のずら
された印刷ヘッドを担持するシヤットルの組み合わせ
も、本発明の方法を実行するための配列のための可能な
実行である。
のバルブジェット印刷ヘッドがずらされた構成（ｓｔａ
ｇｇｅｒｅｄ ｃｏｎｆｉｇｕｒａｔｉｏｎ）で取り付
けられており、それにより各別々の印刷ヘッドの印刷幅
の和は平版基材の有効幅に等しい。この態様では、イン
キジェット印刷ヘッドは固定されておりそして平版基材
の幅にわたって前後に移動させる必要はない。図２で
は、すべての数は図１の場合と同じであるが、シャット
ル（１０４）は３つのずらされた印刷ヘッド（１０６
ａ、１０６ｂ、１０６ｃ）により置き換えられており、
これらの印刷ヘッドは各々複数のバルブジェットオリフ
ィス（図には４つのみが示されている）を含んでなる。
ずらされた印刷ヘッドの他の適当な構成は例えば、ＵＳ
−Ａ−４９２２２７１、ＵＳ−Ａ−９４０９９８及びＵ
Ｓ−Ａ−５４２８３７５ら開示されている。複数のずら
された印刷ヘッドを担持するシヤットルの組み合わせ
も、本発明の方法を実行するための配列のための可能な
実行である。
【００１７】基材 本発明の方法で使用される基材は、インキ及び／又はイ
ンキ付着阻止性（ｉｎｋ ａｂｈｅｓｉｖｅ）流体、例
えば、湿し水（ｆｏｕｎｔａｉｎ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）
（湿し液（ｄａｍｐｅｎｉｇ ｌｉｑｕｉｄ）とも呼ば
れる）に対するいずれの親和性も有することができる。
乾式平版印刷版前駆体は、インキ付着阻止性基材に、イ
ンキ受容性像記録層又は露出後にインキ受容性となる像
記録層を与えること及び場合により行う処理により得る
ことができる。別法として、インキ受容性基材にインキ
付着阻止性像記録層又は露出後インキ付着阻止性となる
像記録層を与えること及び場合により行う処理により乾
式平版印刷材料を得ることもできる。慣用の平版材料
は、親水性基材に疎水性像記録層又は露出後疎水性とな
る像記録層を与えること及び場合により行う処理により
得ることができる。別法として、慣用の（湿式オフセッ
ト）平版材料は、疎水性基材に親水性像記録層又は露出
後親水性となる像記録層を与えること及び場合により行
う処理により得ることもできる。
ンキ付着阻止性（ｉｎｋ ａｂｈｅｓｉｖｅ）流体、例
えば、湿し水（ｆｏｕｎｔａｉｎ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）
（湿し液（ｄａｍｐｅｎｉｇ ｌｉｑｕｉｄ）とも呼ば
れる）に対するいずれの親和性も有することができる。
乾式平版印刷版前駆体は、インキ付着阻止性基材に、イ
ンキ受容性像記録層又は露出後にインキ受容性となる像
記録層を与えること及び場合により行う処理により得る
ことができる。別法として、インキ受容性基材にインキ
付着阻止性像記録層又は露出後インキ付着阻止性となる
像記録層を与えること及び場合により行う処理により乾
式平版印刷材料を得ることもできる。慣用の平版材料
は、親水性基材に疎水性像記録層又は露出後疎水性とな
る像記録層を与えること及び場合により行う処理により
得ることができる。別法として、慣用の（湿式オフセッ
ト）平版材料は、疎水性基材に親水性像記録層又は露出
後親水性となる像記録層を与えること及び場合により行
う処理により得ることもできる。
【００１８】更に他の態様に従えば、インキ又はインキ
付着阻止性流体に対する基材の親和性は、更に特定的に
は基材がいわゆる切り替え可能な（ｓｗｉｔｃｈａｂｌ
ｅ）像記録層でコーティングされている場合には、重要
ではない。何故ならば、このような層は像通りに疎水性
状態から親水性状態に又はその逆に転換させることがで
き、かくしてインキ又は湿し水に対する反対の親和性を
得るために層を除去する必要なく露出の直後に平版像が
得られるからである。
付着阻止性流体に対する基材の親和性は、更に特定的に
は基材がいわゆる切り替え可能な（ｓｗｉｔｃｈａｂｌ
ｅ）像記録層でコーティングされている場合には、重要
ではない。何故ならば、このような層は像通りに疎水性
状態から親水性状態に又はその逆に転換させることがで
き、かくしてインキ又は湿し水に対する反対の親和性を
得るために層を除去する必要なく露出の直後に平版像が
得られるからである。
【００１９】本発明の方法で使用される基材は、プレー
トの如きシート状材料であることができ又は印刷機の印
刷シリンダ（ｐｒｉｎｔ ｃｙｌｉｎｄｅｒ）の回りを
滑ることができるスリーブの如き円筒形要素であること
ができる。あるいは、基材は印刷シリンダ自体であるこ
ともできる。平版基材は好ましくは親水性支持体又は親
水性層を備えた支持体である。好ましくは、支持体はア
ルミニウム又はステンレス鋼の如き金属支持体である。
トの如きシート状材料であることができ又は印刷機の印
刷シリンダ（ｐｒｉｎｔ ｃｙｌｉｎｄｅｒ）の回りを
滑ることができるスリーブの如き円筒形要素であること
ができる。あるいは、基材は印刷シリンダ自体であるこ
ともできる。平版基材は好ましくは親水性支持体又は親
水性層を備えた支持体である。好ましくは、支持体はア
ルミニウム又はステンレス鋼の如き金属支持体である。
【００２０】特に好ましい支持体は電気化学的に研磨さ
れそして陽極酸化されたアルミニウム支持体である。陽
極酸化されたアルミニウム支持体を処理してその表面の
親水性特性を改良することができる。例えば、アルミニ
ウム支持体はその表面を例えば９５℃の高められた温度
でケイ酸ナトリウム溶液で処理することによりケイ酸塩
化する（ｓｉｌｉｃａｔｅｄ）ことができる。あるい
は、更に無機フッ化物を含有していてもよいリン酸塩溶
液で酸化アルミニウム表面を処理することを伴うリン酸
塩処理を施すことができる。更に、酸化アルミニウム表
面をクエン酸又はクエン酸塩溶液ですすぐことができ
る。この処理は室温で行うことができ又は約３０〜５０
℃の僅かに高められた温度で行うことができる。更なる
興味ある処理は酸化アルミニウム表面を炭酸水素塩溶液
ですすぐことを含む。なお更に、酸化アルミニウム表面
をポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン
酸、ポリビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニ
ルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビ
ニルアルコールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族ア
ルデヒドとの反応により形成されたポリビニルアルコー
ルのアセタールで処理することができる。これらの後処
理の１つ又はそれ以上を単独で又は組み合わせて行うこ
とができることは更に明らかである。これらの処理の更
に詳細な説明は、ＧＢ−Ａ−１０８４０７０、ＤＥ−Ａ
−４４２３１４０、ＤＥ−Ａ−４４１７９０７、ＥＰ−
Ａ−６５９９０９、ＥＰ−Ａ−５３７６３３、ＤＥ−Ａ
−４００１４６６、ＥＰ−Ａ−２９２８０１、ＥＰ−Ａ
−２９１７６０及びＵＳ−Ｐ４４５８００５に示されて
いる。
れそして陽極酸化されたアルミニウム支持体である。陽
極酸化されたアルミニウム支持体を処理してその表面の
親水性特性を改良することができる。例えば、アルミニ
ウム支持体はその表面を例えば９５℃の高められた温度
でケイ酸ナトリウム溶液で処理することによりケイ酸塩
化する（ｓｉｌｉｃａｔｅｄ）ことができる。あるい
は、更に無機フッ化物を含有していてもよいリン酸塩溶
液で酸化アルミニウム表面を処理することを伴うリン酸
塩処理を施すことができる。更に、酸化アルミニウム表
面をクエン酸又はクエン酸塩溶液ですすぐことができ
る。この処理は室温で行うことができ又は約３０〜５０
℃の僅かに高められた温度で行うことができる。更なる
興味ある処理は酸化アルミニウム表面を炭酸水素塩溶液
ですすぐことを含む。なお更に、酸化アルミニウム表面
をポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン
酸、ポリビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニ
ルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビ
ニルアルコールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族ア
ルデヒドとの反応により形成されたポリビニルアルコー
ルのアセタールで処理することができる。これらの後処
理の１つ又はそれ以上を単独で又は組み合わせて行うこ
とができることは更に明らかである。これらの処理の更
に詳細な説明は、ＧＢ−Ａ−１０８４０７０、ＤＥ−Ａ
−４４２３１４０、ＤＥ−Ａ−４４１７９０７、ＥＰ−
Ａ−６５９９０９、ＥＰ−Ａ−５３７６３３、ＤＥ−Ａ
−４００１４６６、ＥＰ−Ａ−２９２８０１、ＥＰ−Ａ
−２９１７６０及びＵＳ−Ｐ４４５８００５に示されて
いる。
【００２１】他の態様に従えば、基材は、以後「ベース
層」と呼ばれる親水性層を備えた柔軟性支持体であるこ
ともできる。この柔軟性支持体は、例えば、紙、プラス
チックフイルム又は薄いアルミニウムである。プラスチ
ックフイルムの好ましい例は、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、ポリエチレンナフタレートフイルム、セ
ルロースアセテートフイルム、ポリスチレンフイルム、
ポリカーボネートフイルム、等である。プラスチックフ
イルム支持体は不透明であるか又は透明であることがで
きる。
層」と呼ばれる親水性層を備えた柔軟性支持体であるこ
ともできる。この柔軟性支持体は、例えば、紙、プラス
チックフイルム又は薄いアルミニウムである。プラスチ
ックフイルムの好ましい例は、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、ポリエチレンナフタレートフイルム、セ
ルロースアセテートフイルム、ポリスチレンフイルム、
ポリカーボネートフイルム、等である。プラスチックフ
イルム支持体は不透明であるか又は透明であることがで
きる。
【００２２】ベース層は、好ましくは、硬化剤、例えば
ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアネート
又は加水分解されたテトラアルキルオルトシリケートで
架橋された親水性結合剤から得られた架橋された親水性
層である。加水分解されたテトラアルキルオルトシリケ
ートが特に好ましい。親水性ベース層の厚さは０．２〜
２５μｍの範囲内で変えることができ、好ましくは１〜
１０μｍである。
ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアネート
又は加水分解されたテトラアルキルオルトシリケートで
架橋された親水性結合剤から得られた架橋された親水性
層である。加水分解されたテトラアルキルオルトシリケ
ートが特に好ましい。親水性ベース層の厚さは０．２〜
２５μｍの範囲内で変えることができ、好ましくは１〜
１０μｍである。
【００２３】ベース層に使用するための親水性結合剤
は、例えば、親水性（コ）ポリマー、例えば、ビニルア
ルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、アクリレート酸、メ
タクリレート酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒド
ロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリ
マー、又は無水マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポ
リマーである。使用される（コ）ポリマー又は（コ）ポ
リマー混合物の親水性は、少なくとも６０重量％、好ま
しくは８０重量％の程度に加水分解されたポリビニルア
セテートの親水性と同じであるか又はそれより高いこと
が好ましい。
は、例えば、親水性（コ）ポリマー、例えば、ビニルア
ルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、アクリレート酸、メ
タクリレート酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒド
ロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリ
マー、又は無水マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポ
リマーである。使用される（コ）ポリマー又は（コ）ポ
リマー混合物の親水性は、少なくとも６０重量％、好ま
しくは８０重量％の程度に加水分解されたポリビニルア
セテートの親水性と同じであるか又はそれより高いこと
が好ましい。
【００２４】硬化剤特にテトラアルキルオルトシリケー
トの量は、好ましくは親水性結合剤重量部当たり少なく
とも０．２重量部、更に好ましくは０．５〜５重量部、
最も好ましくは１〜３重量部である。
トの量は、好ましくは親水性結合剤重量部当たり少なく
とも０．２重量部、更に好ましくは０．５〜５重量部、
最も好ましくは１〜３重量部である。
【００２５】親水性ベース層は、該層の機械的強度及び
多孔度を増加させる物質を含有することもできる。この
目的で、コロイドシリカを使用することができる。使用
されるコロイドシリカは、例えば、４０ｎｍまで、例え
ば２０ｎｍの平均粒度を有するコロイドシリカのすべて
の商業的に入手可能な水分散液の形態にあることができ
る。更に、コロイドシリカより大きいサイズの不活性粒
子、例えば、Ｊ．Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄ Ｉｎｔｅｒ
ｆａｃｅ Ｓｃｉ．，Ｖｏｌ．２６，１９６８，ｐａｇ
ｅｓ ６２ ｔｏ ６９に記載の如きＳｔｏｅｂｅｒに
従って製造されるシリカ、又はアルミナ粒子、又は二酸
化チタンもしくは他の重金属酸化物の粒子である少なく
とも１００ｎｍの平均直径を有する粒子を加えることが
できる。これらの粒子を加えることにより、親水性ベー
ス層の表面は、バックグラウンド区域における水の貯蔵
場所として役立つ顕微鏡的な丘と谷からなる均一な粗い
組織（ｒｏｕｇｈ ｔｅｘｔｕｒｅ）を与えられる。
多孔度を増加させる物質を含有することもできる。この
目的で、コロイドシリカを使用することができる。使用
されるコロイドシリカは、例えば、４０ｎｍまで、例え
ば２０ｎｍの平均粒度を有するコロイドシリカのすべて
の商業的に入手可能な水分散液の形態にあることができ
る。更に、コロイドシリカより大きいサイズの不活性粒
子、例えば、Ｊ．Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄ Ｉｎｔｅｒ
ｆａｃｅ Ｓｃｉ．，Ｖｏｌ．２６，１９６８，ｐａｇ
ｅｓ ６２ ｔｏ ６９に記載の如きＳｔｏｅｂｅｒに
従って製造されるシリカ、又はアルミナ粒子、又は二酸
化チタンもしくは他の重金属酸化物の粒子である少なく
とも１００ｎｍの平均直径を有する粒子を加えることが
できる。これらの粒子を加えることにより、親水性ベー
ス層の表面は、バックグラウンド区域における水の貯蔵
場所として役立つ顕微鏡的な丘と谷からなる均一な粗い
組織（ｒｏｕｇｈ ｔｅｘｔｕｒｅ）を与えられる。
【００２６】本発明に従って使用するための適当な親水
性ベース層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１２４０、Ｇ
Ｂ−Ｐ−１４１９５１２、ＦＲ−Ｐ−２３００３５４、
ＵＳ−Ｐ−３９７１６６０及びＵＳ−Ｐ−４２８４７０
５に開示されている。
性ベース層の特定の例は、ＥＰ−Ａ−６０１２４０、Ｇ
Ｂ−Ｐ−１４１９５１２、ＦＲ−Ｐ−２３００３５４、
ＵＳ−Ｐ−３９７１６６０及びＵＳ−Ｐ−４２８４７０
５に開示されている。
【００２７】下塗り層（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｌａｙｅ
ｒ）とも呼ばれる接着改良層を設けたフイルム支持体を
使用するのが特に好ましい。本発明に従って使用するた
めの特に適当な接着改良層は、ＥＰ−Ａ−６１９５２
４、ＥＰ−Ａ−６２０５０２及びＥＰ−Ａ−６１９５２
５に開示された如き親水性結合剤及びコロイドシリカを
含んでなる。好ましくは、接着改良層中のシリカの量は
２００ｍｇ／ｍ2〜７５０ｍｇ／ｍ2である。更に、シリ
カ対親水性結合剤の割合は好ましくは１より大きく、そ
してコロイドシリカの表面積は好ましくは少なくとも３
００ｍ2／ｇ、更に好ましくは少なくとも５００ｍ2／ｇ
である。
ｒ）とも呼ばれる接着改良層を設けたフイルム支持体を
使用するのが特に好ましい。本発明に従って使用するた
めの特に適当な接着改良層は、ＥＰ−Ａ−６１９５２
４、ＥＰ−Ａ−６２０５０２及びＥＰ−Ａ−６１９５２
５に開示された如き親水性結合剤及びコロイドシリカを
含んでなる。好ましくは、接着改良層中のシリカの量は
２００ｍｇ／ｍ2〜７５０ｍｇ／ｍ2である。更に、シリ
カ対親水性結合剤の割合は好ましくは１より大きく、そ
してコロイドシリカの表面積は好ましくは少なくとも３
００ｍ2／ｇ、更に好ましくは少なくとも５００ｍ2／ｇ
である。
【００２８】像記録層 印刷版前駆体は平版基材上に設けられた少なくとも１つ
の像記録層を含んでなる像形成材料である。好ましく
は、単一層のみが基材上に設けられる。この材料は感光
性又は感熱性であることができ、後者は日光安定性のた
め好ましい。特にオフプレス（ｏｆｆ−ｐｒｅｓｓ）露
出装置を使用する態様では、一般にいかなる既知のダイ
レクト−ツー−プレート（ｄｉｒｅｃｔ−ｔｏ−ｐｌａ
ｔｅ）技術も適当である。知られている材料は、例え
ば、感光性版、例えばフォトポリマー版及び銀拡散転写
版、又は、例えば、ポリマー層の熱誘発可溶化もしくは
ポリマー層の架橋（不溶化）をトリガーする酸の熱誘発
放出に基づく感熱性（いわゆる感熱）版である。
の像記録層を含んでなる像形成材料である。好ましく
は、単一層のみが基材上に設けられる。この材料は感光
性又は感熱性であることができ、後者は日光安定性のた
め好ましい。特にオフプレス（ｏｆｆ−ｐｒｅｓｓ）露
出装置を使用する態様では、一般にいかなる既知のダイ
レクト−ツー−プレート（ｄｉｒｅｃｔ−ｔｏ−ｐｌａ
ｔｅ）技術も適当である。知られている材料は、例え
ば、感光性版、例えばフォトポリマー版及び銀拡散転写
版、又は、例えば、ポリマー層の熱誘発可溶化もしくは
ポリマー層の架橋（不溶化）をトリガーする酸の熱誘発
放出に基づく感熱性（いわゆる感熱）版である。
【００２９】本発明で使用するための高度に好ましい像
形成材料は、露出の直後に印刷マスターが得られるよう
に何らの処理も必要としない像記録層を有する。これ
は、オンプレス（ｏｎ−ｐｒｅｓｓ）露出を使用する態
様では特に有利である。処理なし材料（ｐｒｏｃｅｓｓ
ｌｅｓｓ ｍａｔｅｒｉａｌｓ）は種々の機構に基づく
ことができる。融除性版（ａｂｌａｔｉｖｅ ｐｌａｔ
ｅｓ）は、典型的には、高エネルギー赤外線レーザー露
出により除去されうる層、例えば、金属層、又はニトロ
セルロースの如き自己酸化性ポリマーを含有することが
できる熱的に不安定な層を使用する。典型的な融除性材
料は、ＥＰ６２８４０９、ＷＯ９８／５５３３０、ＵＳ
５，４０１，６１１、ＤＥ１９７４８７１１、ＵＳ５，
６０５，７８０、ＵＳ５，６９１，１１４、ＷＯ９７／
００７３５、ＵＳ４，０５４，０９４、及びＥＰ８８２
５８２に開示されている。非融除性処理なし版（ｎｏｎ
−ａｂｌａｔｉｖｅ ｐｒｏｃｅｓｓｌｅｓｓ ｐｌａ
ｔｅｓ））は、例えば、疎水性状態から親水性状態に
（ＷＯ９２／０９９３４、ＥＰ６５２４８３）又はその
逆に（ＵＳ４，０８１，５７２、ＥＰ２００４８８、Ｅ
Ｐ９２４０６５）像通りに転換され得る切り替え可能な
ポリマー（ｓｗｉｔｃｈａｂｌｅ ｐｏｌｙｍｅｒｓ）
（例えば、ＥＰ９２４１０２）を含んでなる。処理なし
版の他の例は、マイクロカプセルの熱誘発破裂及びその
後のマイクロカプセルに包まれた親油性物質（イソシア
ネート）と架橋した親水性結合剤における官能性（ヒド
ロキシル−）基との反応に基づいている（ＵＳ５，５６
９，５７３、ＥＰ６４６４７６、ＷＯ９４／２３９５、
ＷＯ９８／２９２５８）。
形成材料は、露出の直後に印刷マスターが得られるよう
に何らの処理も必要としない像記録層を有する。これ
は、オンプレス（ｏｎ−ｐｒｅｓｓ）露出を使用する態
様では特に有利である。処理なし材料（ｐｒｏｃｅｓｓ
ｌｅｓｓ ｍａｔｅｒｉａｌｓ）は種々の機構に基づく
ことができる。融除性版（ａｂｌａｔｉｖｅ ｐｌａｔ
ｅｓ）は、典型的には、高エネルギー赤外線レーザー露
出により除去されうる層、例えば、金属層、又はニトロ
セルロースの如き自己酸化性ポリマーを含有することが
できる熱的に不安定な層を使用する。典型的な融除性材
料は、ＥＰ６２８４０９、ＷＯ９８／５５３３０、ＵＳ
５，４０１，６１１、ＤＥ１９７４８７１１、ＵＳ５，
６０５，７８０、ＵＳ５，６９１，１１４、ＷＯ９７／
００７３５、ＵＳ４，０５４，０９４、及びＥＰ８８２
５８２に開示されている。非融除性処理なし版（ｎｏｎ
−ａｂｌａｔｉｖｅ ｐｒｏｃｅｓｓｌｅｓｓ ｐｌａ
ｔｅｓ））は、例えば、疎水性状態から親水性状態に
（ＷＯ９２／０９９３４、ＥＰ６５２４８３）又はその
逆に（ＵＳ４，０８１，５７２、ＥＰ２００４８８、Ｅ
Ｐ９２４０６５）像通りに転換され得る切り替え可能な
ポリマー（ｓｗｉｔｃｈａｂｌｅ ｐｏｌｙｍｅｒｓ）
（例えば、ＥＰ９２４１０２）を含んでなる。処理なし
版の他の例は、マイクロカプセルの熱誘発破裂及びその
後のマイクロカプセルに包まれた親油性物質（イソシア
ネート）と架橋した親水性結合剤における官能性（ヒド
ロキシル−）基との反応に基づいている（ＵＳ５，５６
９，５７３、ＥＰ６４６４７６、ＷＯ９４／２３９５、
ＷＯ９８／２９２５８）。
【００３０】他の高度に好ましい態様では、像形成材料
は、印刷期間中に使用される液体により、例えば、像記
録層にインキ及び／又は湿し水を供給することにより、
オンプレスで処理することができる（いわゆる「隠され
た処理」）。その態様では、像記録層はインキ及び／又
は湿し水により除去可能であるか、又は熱もしくは光に
露出されるとそれらにより除去可能にされることができ
る。インキ及び湿し水の代わりに、オンプレス処理及び
その後の印刷をいわゆる単一流体インキ（ｓｉｎｇｌｅ
−ｆｌｕｉｄ ｉｎｋ）で行うこともできる。本発明の
方法で使用するのに適当な単一流体インキはＵＳ４，０
４５，２３２及びＵＳ４，９８１，５１７に記載されて
いる。最も好ましい態様では、単一流体インキは、疎水
性もしくは親油性相とも呼ばれるインキ相及びＷＯ００
／３２７０５に開示された如きポリオール相を含んでな
る。
は、印刷期間中に使用される液体により、例えば、像記
録層にインキ及び／又は湿し水を供給することにより、
オンプレスで処理することができる（いわゆる「隠され
た処理」）。その態様では、像記録層はインキ及び／又
は湿し水により除去可能であるか、又は熱もしくは光に
露出されるとそれらにより除去可能にされることができ
る。インキ及び湿し水の代わりに、オンプレス処理及び
その後の印刷をいわゆる単一流体インキ（ｓｉｎｇｌｅ
−ｆｌｕｉｄ ｉｎｋ）で行うこともできる。本発明の
方法で使用するのに適当な単一流体インキはＵＳ４，０
４５，２３２及びＵＳ４，９８１，５１７に記載されて
いる。最も好ましい態様では、単一流体インキは、疎水
性もしくは親油性相とも呼ばれるインキ相及びＷＯ００
／３２７０５に開示された如きポリオール相を含んでな
る。
【００３１】好ましい「隠された処理」（“ｈｉｄｄｅ
ｎ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”）像形成材料は親水性基材
を含んでなる。それらはポジ作用性である（ｐｏｓｉｔ
ｉｖｅ−ｗｏｒｋｉｎｇ）ことができ、即ち、像記録層
の露出された区域は、インキ及び／又は湿し水で除去可
能にされ、それによりマスターの非印刷区域を規定する
平版基材の親水性表面を露出させ、これに対して非露出
区域はインキ及び／又は湿し水により除去可能ではな
く、そしてマスターの疎水性印刷区域を規定する。更に
好ましい態様では、材料はネガ作用性（ｎｅｇａｔｉｖ
ｅ−ｗｏｒｋｉｎｇ）であり、即ち、像記録層の露出さ
れなかった区域はインキ及び／又は湿し水により除去可
能であり、それによりマスターの非印刷区域を規定する
平版基材の親水性表面を露出させ、これに対して露出さ
れた区域はインキ及び／又は湿し水により除去可能では
なく、そしてマスターの疎水性印刷区域を規定する。除
去可能という用語は、像記録層が、インキ及び／又は湿
し水中への層の溶解により又はインキ及び／又は湿し水
中の分散液又は乳濁液の形成により除去されうることを
示す。
ｎ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”）像形成材料は親水性基材
を含んでなる。それらはポジ作用性である（ｐｏｓｉｔ
ｉｖｅ−ｗｏｒｋｉｎｇ）ことができ、即ち、像記録層
の露出された区域は、インキ及び／又は湿し水で除去可
能にされ、それによりマスターの非印刷区域を規定する
平版基材の親水性表面を露出させ、これに対して非露出
区域はインキ及び／又は湿し水により除去可能ではな
く、そしてマスターの疎水性印刷区域を規定する。更に
好ましい態様では、材料はネガ作用性（ｎｅｇａｔｉｖ
ｅ−ｗｏｒｋｉｎｇ）であり、即ち、像記録層の露出さ
れなかった区域はインキ及び／又は湿し水により除去可
能であり、それによりマスターの非印刷区域を規定する
平版基材の親水性表面を露出させ、これに対して露出さ
れた区域はインキ及び／又は湿し水により除去可能では
なく、そしてマスターの疎水性印刷区域を規定する。除
去可能という用語は、像記録層が、インキ及び／又は湿
し水中への層の溶解により又はインキ及び／又は湿し水
中の分散液又は乳濁液の形成により除去されうることを
示す。
【００３２】インキ及び／又は湿し水による「隠された
処理」のために適当なこのようなネガ作用性像記録層の
２つの高度に好ましい態様をここて検討する。
処理」のために適当なこのようなネガ作用性像記録層の
２つの高度に好ましい態様をここて検討する。
【００３３】第１の高度に好ましい態様では、像形成層
の作用機構は、例えばＥＰ７７０４９４、ＥＰ７７０４
９５、ＥＰ７７０４９７、ＥＰ７７３１１２、ＥＰ７７
４３６４及びＥＰ８４９０９０に記載の如き、好ましく
は親水性結合剤中に分散させた疎水性熱可塑性ポリマー
粒子の熱誘発合体（ｈｅａｔ−ｉｎｄｕｃｅｄ ｃｏａ
ｌｅｓｃｅｎｃｅ）に基づいている。合体したポリマー
粒子はインキ及び／又は湿し水により容易に除去可能で
はない疎水性印刷区域を規定し、これに対して露出され
なかった層はインキ及び／又は湿し水により容易に除去
可能な非印刷区域を規定する。熱的合体は、熱への直接
の露出、例えば、サーマルヘッドにより又は、光、更に
好ましくは赤外光を熱に転換することができる１種又は
それ以上の化合物の光吸収により誘発させることができ
る。特に有用な光−熱転換化合物は、例えば、染料、顔
料、カーボンブラック、金属炭化物、ホウ化物、窒化
物、炭窒化物（ｃａｒｂｏｎｉｔｒｉｄｅｓ）、青銅構
造酸化物（ｂｒｏｎｚｅ−ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ｏｘ
ｉｄｅｓ）及び伝導性ポリマー分散液、例えば、ポリピ
ロール、ポリアニリン又はポリチオフェンをベースとす
る伝導性ポリマー分散液である。赤外染料及びカーボン
ブラックが高度に好ましい。
の作用機構は、例えばＥＰ７７０４９４、ＥＰ７７０４
９５、ＥＰ７７０４９７、ＥＰ７７３１１２、ＥＰ７７
４３６４及びＥＰ８４９０９０に記載の如き、好ましく
は親水性結合剤中に分散させた疎水性熱可塑性ポリマー
粒子の熱誘発合体（ｈｅａｔ−ｉｎｄｕｃｅｄ ｃｏａ
ｌｅｓｃｅｎｃｅ）に基づいている。合体したポリマー
粒子はインキ及び／又は湿し水により容易に除去可能で
はない疎水性印刷区域を規定し、これに対して露出され
なかった層はインキ及び／又は湿し水により容易に除去
可能な非印刷区域を規定する。熱的合体は、熱への直接
の露出、例えば、サーマルヘッドにより又は、光、更に
好ましくは赤外光を熱に転換することができる１種又は
それ以上の化合物の光吸収により誘発させることができ
る。特に有用な光−熱転換化合物は、例えば、染料、顔
料、カーボンブラック、金属炭化物、ホウ化物、窒化
物、炭窒化物（ｃａｒｂｏｎｉｔｒｉｄｅｓ）、青銅構
造酸化物（ｂｒｏｎｚｅ−ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ｏｘ
ｉｄｅｓ）及び伝導性ポリマー分散液、例えば、ポリピ
ロール、ポリアニリン又はポリチオフェンをベースとす
る伝導性ポリマー分散液である。赤外染料及びカーボン
ブラックが高度に好ましい。
【００３４】疎水性熱可塑性ポリマー粒子は好ましくは
約３５℃以上、更に好ましくは約５０℃以上の凝結（ｃ
ｏａｇｕｌａｔｉｏｎ）温度を有する。凝結は熱の作用
下に熱可塑性ポリマー粒子の軟化又は溶融から生じ得
る。熱可塑性疎水性ポリマー粒子の凝結温度に対する特
定の上限はないが、しかしながら、該温度はポリマー粒
子の分解より十分に低くあるべきである。好ましくは凝
結温度はポリマー粒子の分解が起こる温度より少なくと
も１０℃低い。疎水性ポリマー粒子の特定の例は例え
ば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチル（メ
ト）アクリレート、ポリエチル（メト）アクリレート、
ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリビニ
ルカルバゾール、ポリスチレン又はそれらのコポリマー
である。最も好ましくはポリスチレンが使用される。ポ
リマーの重量平均分子量は５，０００〜１，０００，０
００ｇ／モルの範囲内にあることができる。疎水性粒子
は、０．０１μｍ〜５０μｍ、更に好ましくは０．０５
μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは０．０５μｍ〜２μｍ
の粒度を有することができる。像形成層に含まれる疎水
性熱可塑性ポリマー粒子の量は、好ましくは２０重量％
〜６５重量％、更に好ましくは２５重量％〜５５重量
％、最も好ましくは３０重量％〜４５重量％である。
約３５℃以上、更に好ましくは約５０℃以上の凝結（ｃ
ｏａｇｕｌａｔｉｏｎ）温度を有する。凝結は熱の作用
下に熱可塑性ポリマー粒子の軟化又は溶融から生じ得
る。熱可塑性疎水性ポリマー粒子の凝結温度に対する特
定の上限はないが、しかしながら、該温度はポリマー粒
子の分解より十分に低くあるべきである。好ましくは凝
結温度はポリマー粒子の分解が起こる温度より少なくと
も１０℃低い。疎水性ポリマー粒子の特定の例は例え
ば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチル（メ
ト）アクリレート、ポリエチル（メト）アクリレート、
ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリビニ
ルカルバゾール、ポリスチレン又はそれらのコポリマー
である。最も好ましくはポリスチレンが使用される。ポ
リマーの重量平均分子量は５，０００〜１，０００，０
００ｇ／モルの範囲内にあることができる。疎水性粒子
は、０．０１μｍ〜５０μｍ、更に好ましくは０．０５
μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは０．０５μｍ〜２μｍ
の粒度を有することができる。像形成層に含まれる疎水
性熱可塑性ポリマー粒子の量は、好ましくは２０重量％
〜６５重量％、更に好ましくは２５重量％〜５５重量
％、最も好ましくは３０重量％〜４５重量％である。
【００３５】適当な親水性結合剤は、例えば、合成ホモ
ポリマー又はコポリマー、例えば、ポリビニルアルコー
ル、ポリ（メト）アクリル酸、ポリ（メト）アクリルア
ミド、ポリヒドロキシエチル（メト）アクリレート、ポ
リビニルメチルエーテル、又は天然の結合剤、例えば、
ゼラチン、多糖、例えばデキストラン、プルラン、セル
ロース、アラビアゴム、アルギン酸である。
ポリマー又はコポリマー、例えば、ポリビニルアルコー
ル、ポリ（メト）アクリル酸、ポリ（メト）アクリルア
ミド、ポリヒドロキシエチル（メト）アクリレート、ポ
リビニルメチルエーテル、又は天然の結合剤、例えば、
ゼラチン、多糖、例えばデキストラン、プルラン、セル
ロース、アラビアゴム、アルギン酸である。
【００３６】第２の高度に好ましい態様では、像形成層
は、露出前には親水性であり且つインキ及び／又は湿し
水に可溶性であり、そしてこのような露出の後疎水性に
され且つ溶解性がより少なくされるアリールジアゾスル
ホネートホモポリマー又はコポリマーを含んでなる。露
出はポリマー粒子の熱的合体に関連して上記したのと同
じ手段により行うことができる。あるいは、アリールジ
アゾスルホネートポリマーは、紫外線への露出により、
例えば紫外線レーザー又は紫外線ランプにより転換する
こともできる。
は、露出前には親水性であり且つインキ及び／又は湿し
水に可溶性であり、そしてこのような露出の後疎水性に
され且つ溶解性がより少なくされるアリールジアゾスル
ホネートホモポリマー又はコポリマーを含んでなる。露
出はポリマー粒子の熱的合体に関連して上記したのと同
じ手段により行うことができる。あるいは、アリールジ
アゾスルホネートポリマーは、紫外線への露出により、
例えば紫外線レーザー又は紫外線ランプにより転換する
こともできる。
【００３７】このようなアリールジアゾスルホネートポ
リマーの好ましい例は、アリールジアゾスルホネートモ
ノマーの単独重合又は他のアリールジアゾスルホネート
モノマー及び／又はビニルモノマー、例えば（メト）ア
クリル酸もしくはそのエステル（メト）アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、α−メチルスチレン等との共重
合により製造することができる化合物である。本発明で
使用するための適当なアリールジアゾスルホネートポリ
マーは、下記式：
リマーの好ましい例は、アリールジアゾスルホネートモ
ノマーの単独重合又は他のアリールジアゾスルホネート
モノマー及び／又はビニルモノマー、例えば（メト）ア
クリル酸もしくはそのエステル（メト）アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、α−メチルスチレン等との共重
合により製造することができる化合物である。本発明で
使用するための適当なアリールジアゾスルホネートポリ
マーは、下記式：
【００３８】
【化１】
【００３９】式中、Ｒ0、Ｒ1、Ｒ2は各々独立に水素、
アルキル基、ニトリル又はハロゲン、例えばＣｌを表
し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０又は１を表し、Ａ
はアリール基を表しそしてＭはカチオンを表す、を有す
る。Ｌは好ましくは−Ｘt−ＣＯＮＲ3−、−Ｘt−ＣＯ
Ｏ−、−Ｘ−及び−Ｘt−ＣＯ−（ここで、ｔは０又は
１を表し、Ｒ3は水素、アルキル基又はアリール基を表
し、Ｘはアルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキ
シ基、アリーレンオキシ基、アルキレンチオ基、アリー
レンチオ基、アルキレンアミノ基、アリーレンアミノ
基、酸素、硫黄又はアミノ基を表す）よりなる群から選
ばれる二価の連結基を表す。Ａは好ましくは未置換のア
リール基、例えば、未置換のフェニル基、あるいは、１
個又はそれ以上のアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基又はアミノ基で置換されたアリー
ル基、例えばフェニルを表す。Ｍは好ましくはカチオ
ン、例えば、ＮＨ4 +又は金属イオン、例えば、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属のカ
チオンを表す。
アルキル基、ニトリル又はハロゲン、例えばＣｌを表
し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０又は１を表し、Ａ
はアリール基を表しそしてＭはカチオンを表す、を有す
る。Ｌは好ましくは−Ｘt−ＣＯＮＲ3−、−Ｘt−ＣＯ
Ｏ−、−Ｘ−及び−Ｘt−ＣＯ−（ここで、ｔは０又は
１を表し、Ｒ3は水素、アルキル基又はアリール基を表
し、Ｘはアルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキ
シ基、アリーレンオキシ基、アルキレンチオ基、アリー
レンチオ基、アルキレンアミノ基、アリーレンアミノ
基、酸素、硫黄又はアミノ基を表す）よりなる群から選
ばれる二価の連結基を表す。Ａは好ましくは未置換のア
リール基、例えば、未置換のフェニル基、あるいは、１
個又はそれ以上のアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基又はアミノ基で置換されたアリー
ル基、例えばフェニルを表す。Ｍは好ましくはカチオ
ン、例えば、ＮＨ4 +又は金属イオン、例えば、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属のカ
チオンを表す。
【００４０】上記ポリマーを製造するための適当なアリ
ールジアゾスルホネートモノマーは、ＥＰ−Ａ−３３９
３９３、ＥＰ−Ａ−５０７００８及びＥＰ−Ａ−７７１
６４５に開示されている。
ールジアゾスルホネートモノマーは、ＥＰ−Ａ−３３９
３９３、ＥＰ−Ａ−５０７００８及びＥＰ−Ａ−７７１
６４５に開示されている。
【００４１】露出段階 印刷版前駆体は、オフプレス露出装置により像通りに露
出させることができ、次いで印刷機の印刷シリンダーに
取り付けることができる。更に好ましくは、印刷版前駆
体を、印刷機シリンダに取り付けられている間に一体化
された露出装置によりオンプレスで露出させる。本発明
で使用される像形成材料は、例えば、サーマルヘッド、
ＬＥＤｓ又はレーザーヘッドによって、熱又は光に露出
させられる。好ましくは、Ｈｅ／Ｎｅ又はＡｒレーザー
の如き１種又はそれ以上のレーザーが使用される。最も
好ましくは、露出のために使用される光は、日光に安定
な材料を使用することができるように可視光ではなく、
例えば、ＵＶ（レーザー）光又は約７００〜約１５００
ｎｍの範囲内の波長を有する近赤外線を放出するレーザ
ー、例えば、半導体レーザーダイオード、Ｎｄ：ＹＡＧ
又はＮｄ：ＹＬＦレーザーが使用される。必要なレーザ
ーパワーは、像記録層の感度、スポット直径（最大強度
の１／ｅ2における現代のプレートセッターの典型的な
値：１０〜２５μｍ）により決定されるレーザービーム
の画素滞留時間（ｐｉｘｅｌ ｄｗｅｌｌ ｔｉｍ
ｅ）、走査速度及び露出装置の解像力（即ち、しばしば
ドット／インチ又はｄｐｉで表される線形距離の単位当
たりのアドレス可能な画素の数；典型的な値：１０００
〜４０００ｄｐｉ）に依存する。
出させることができ、次いで印刷機の印刷シリンダーに
取り付けることができる。更に好ましくは、印刷版前駆
体を、印刷機シリンダに取り付けられている間に一体化
された露出装置によりオンプレスで露出させる。本発明
で使用される像形成材料は、例えば、サーマルヘッド、
ＬＥＤｓ又はレーザーヘッドによって、熱又は光に露出
させられる。好ましくは、Ｈｅ／Ｎｅ又はＡｒレーザー
の如き１種又はそれ以上のレーザーが使用される。最も
好ましくは、露出のために使用される光は、日光に安定
な材料を使用することができるように可視光ではなく、
例えば、ＵＶ（レーザー）光又は約７００〜約１５００
ｎｍの範囲内の波長を有する近赤外線を放出するレーザ
ー、例えば、半導体レーザーダイオード、Ｎｄ：ＹＡＧ
又はＮｄ：ＹＬＦレーザーが使用される。必要なレーザ
ーパワーは、像記録層の感度、スポット直径（最大強度
の１／ｅ2における現代のプレートセッターの典型的な
値：１０〜２５μｍ）により決定されるレーザービーム
の画素滞留時間（ｐｉｘｅｌ ｄｗｅｌｌ ｔｉｍ
ｅ）、走査速度及び露出装置の解像力（即ち、しばしば
ドット／インチ又はｄｐｉで表される線形距離の単位当
たりのアドレス可能な画素の数；典型的な値：１０００
〜４０００ｄｐｉ）に依存する。
【００４２】場合により行われる処理段階 上記した如く、処理段階の必要は像形成材料の選択に依
存する。処理を必要とする材料は、処理装置に機械的に
カップリングさせることができるか又は処理装置を含ん
でなることができるオフプレス露出装置において使用さ
れるのが好ましい。
存する。処理を必要とする材料は、処理装置に機械的に
カップリングさせることができるか又は処理装置を含ん
でなることができるオフプレス露出装置において使用さ
れるのが好ましい。
【００４３】更に好ましくは、処理なし材料が使用され
るか又は像記録層にインキ及び／又は湿し水を供給する
ことによりオンプレスで処理することができる材料が使
用される。上記した、親水性結合剤中の疎水性熱可塑性
ポリマー粒子の熱誘発合体、又はアリールジアゾスルホ
ネートポリマーに基づく材料は、インキ及び／又は湿し
水によるこのような「隠されたオンプレス処理」を可能
とする像形成材料の好ましい例である。好ましい方法で
は、このような材料を印刷機に取り付け、次いで印刷シ
リンダーがその上に取り付けられた像形成要素と共に回
転する間に、湿し液を供給する湿しローラが像形成要素
上におろされ、次いで像形成要素にインキローラがおろ
される。
るか又は像記録層にインキ及び／又は湿し水を供給する
ことによりオンプレスで処理することができる材料が使
用される。上記した、親水性結合剤中の疎水性熱可塑性
ポリマー粒子の熱誘発合体、又はアリールジアゾスルホ
ネートポリマーに基づく材料は、インキ及び／又は湿し
水によるこのような「隠されたオンプレス処理」を可能
とする像形成材料の好ましい例である。好ましい方法で
は、このような材料を印刷機に取り付け、次いで印刷シ
リンダーがその上に取り付けられた像形成要素と共に回
転する間に、湿し液を供給する湿しローラが像形成要素
上におろされ、次いで像形成要素にインキローラがおろ
される。
【００４４】一般に、印刷シリンダの約１０回転の後、
最初の明瞭な且つ有用な印刷物が得られる。このような
材料を処理する別の方法に従えば、インキローラ及び湿
しローラを同時に滴下させることができるか、又は最初
にインキローラを滴下させることができる。このような
材料に関して使用することができる適当な湿し液は、一
般に酸性ｐＨを有しそしてイソプロパノールの如きアル
コールを含んでなる水性液体である。
最初の明瞭な且つ有用な印刷物が得られる。このような
材料を処理する別の方法に従えば、インキローラ及び湿
しローラを同時に滴下させることができるか、又は最初
にインキローラを滴下させることができる。このような
材料に関して使用することができる適当な湿し液は、一
般に酸性ｐＨを有しそしてイソプロパノールの如きアル
コールを含んでなる水性液体である。
【００４５】インキ及び湿し水の代わりに単一流体イン
キを使用することができる。単一流体インキによる像形
成材料の「隠された処理」の前に、実質的に像記録層を
除去することなく水又は水性液体の供給により像記録層
を最初に湿らせるか又は膨潤させる、場合により行う段
階を先行させることができる。
キを使用することができる。単一流体インキによる像形
成材料の「隠された処理」の前に、実質的に像記録層を
除去することなく水又は水性液体の供給により像記録層
を最初に湿らせるか又は膨潤させる、場合により行う段
階を先行させることができる。
【００４６】好ましくは、同じインキが処理段階及びそ
の後の印刷段階で使用される。その態様では、「隠され
た処理」及び印刷の段階は同じ操作の一部である、即
ち、露出の後、該材料にインキ及び／又は湿し水を供給
することにより印刷プロセスを開始し、印刷シリンダの
最初の少数の回転の後、像形成層は完全に処理され、次
いで印刷機運転全体にわたり高品質の印刷されたコピー
が得られる。
の後の印刷段階で使用される。その態様では、「隠され
た処理」及び印刷の段階は同じ操作の一部である、即
ち、露出の後、該材料にインキ及び／又は湿し水を供給
することにより印刷プロセスを開始し、印刷シリンダの
最初の少数の回転の後、像形成層は完全に処理され、次
いで印刷機運転全体にわたり高品質の印刷されたコピー
が得られる。
【００４７】平版像を得るのに必要なことがある場合に
より行う処理段階の外に、他の像形成後の処理（ｐｏｓ
ｔ−ｉｍａｇｉｎｇ ｔｒｅａｔｍｅｎｔｓ）、例え
ば、固定段階、ポストベーク段階（ｐｏｓｔ−ｂａｋ
ｅ）、ゴム引き段階、すすぎ段階等は有用でありうる。
より行う処理段階の外に、他の像形成後の処理（ｐｏｓ
ｔ−ｉｍａｇｉｎｇ ｔｒｅａｔｍｅｎｔｓ）、例え
ば、固定段階、ポストベーク段階（ｐｏｓｔ−ｂａｋ
ｅ）、ゴム引き段階、すすぎ段階等は有用でありうる。
【００４８】他の材料、例えば融除性像形成材料との組
み合わせにおいては、像形成材料を印刷機に取り付ける
前又は後に、又は印刷機が運転を開始する前に、水でソ
ーキングされた綿パッド又はスポンジで、像通りに露出
された像形成材料の像記録層を（融除砕片（ａｂｌａｔ
ｉｏｎ ｄｅｂｒｉｓ）を除去するために）拭くことが
有利でありうる。
み合わせにおいては、像形成材料を印刷機に取り付ける
前又は後に、又は印刷機が運転を開始する前に、水でソ
ーキングされた綿パッド又はスポンジで、像通りに露出
された像形成材料の像記録層を（融除砕片（ａｂｌａｔ
ｉｏｎ ｄｅｂｒｉｓ）を除去するために）拭くことが
有利でありうる。
【００４９】クリーニング段階 好ましい印刷方法では、使用される印刷マスターのイン
キ受容区域はクリーニング手段により基材から除去され
る。クリーニング段階は、好ましくは、基材の平版表面
を劣化させる危険の低いことにより、なお更に達成する
のが困難な問題解決でありうるインキ受容区域の有効な
除去によっても特徴付けられる。クリーニング手段は、
基材の表面を走査方式で処理するため手段、例えば融除
によりクリーニングするためのレーザーヘッド又は基材
上にクリーニング液を噴射又は噴霧するためのノズルを
含んでなるクリーニングヘッドであることができる。あ
るいは、クリーニングは、印刷マスターが浸漬されてい
るクリーニング液を保持する浸漬タンクで行うことがで
きる。クリーニングするための上記の手段は超音波処理
手段又は機械的クリーニング手段と組み合わせることが
できる。基材をクリーニングするための適当な機械的手
段は、例えば、基材を掻き取る手段、基材をこする手
段、、例えば、回転ブラシ、クリーニング液で湿らせる
ことができる布もしくは他の吸収媒体、水又は揮発性媒
体、例えば、空気、溶媒もしくはドライアイスペレット
を噴射又は噴霧するための手段である。
キ受容区域はクリーニング手段により基材から除去され
る。クリーニング段階は、好ましくは、基材の平版表面
を劣化させる危険の低いことにより、なお更に達成する
のが困難な問題解決でありうるインキ受容区域の有効な
除去によっても特徴付けられる。クリーニング手段は、
基材の表面を走査方式で処理するため手段、例えば融除
によりクリーニングするためのレーザーヘッド又は基材
上にクリーニング液を噴射又は噴霧するためのノズルを
含んでなるクリーニングヘッドであることができる。あ
るいは、クリーニングは、印刷マスターが浸漬されてい
るクリーニング液を保持する浸漬タンクで行うことがで
きる。クリーニングするための上記の手段は超音波処理
手段又は機械的クリーニング手段と組み合わせることが
できる。基材をクリーニングするための適当な機械的手
段は、例えば、基材を掻き取る手段、基材をこする手
段、、例えば、回転ブラシ、クリーニング液で湿らせる
ことができる布もしくは他の吸収媒体、水又は揮発性媒
体、例えば、空気、溶媒もしくはドライアイスペレット
を噴射又は噴霧するための手段である。
【００５０】好ましいクリーニング液は、十分に有効で
あるべきであり、例えば、コーティング、露出、印刷及
びクリーニングのいくらかのサイクル（好ましくは＞１
０、最も好ましくは＞２０）の後いかなるゴースト像の
出現も回避することができるべきである。クリーニング
液の他の好ましい特徴は環境汚染を回避するための低揮
発性有機分及び製版装置のハードウエアに対する不活性
であり、例えば、それは好ましくは、製版装置に使用さ
れるゴム、シール又は他の材料に影響を与えない液体で
ある。上記の要求に応じる適当なクリーニング液組成物
は、すべて２０００年１月１８日に出願されたＥＰ−Ａ
−００２００１７６、００２００１７７及び００２００
１７８に開示されている。
あるべきであり、例えば、コーティング、露出、印刷及
びクリーニングのいくらかのサイクル（好ましくは＞１
０、最も好ましくは＞２０）の後いかなるゴースト像の
出現も回避することができるべきである。クリーニング
液の他の好ましい特徴は環境汚染を回避するための低揮
発性有機分及び製版装置のハードウエアに対する不活性
であり、例えば、それは好ましくは、製版装置に使用さ
れるゴム、シール又は他の材料に影響を与えない液体で
ある。上記の要求に応じる適当なクリーニング液組成物
は、すべて２０００年１月１８日に出願されたＥＰ−Ａ
−００２００１７６、００２００１７７及び００２００
１７８に開示されている。
【００５１】クリーニング液はコーティング、噴霧又は
噴射により供給することができる。好ましくは、コーテ
ィング及びクリーニング段階のために同じ印刷ヘッドが
使用される。クリーニングの後、好ましくは、例えば、
水又は水性溶液を基材に噴霧又は噴射することによるす
すぎ段階が行われる。次いで版を、例えば、熱風、真空
抽出又は布の如き吸収性媒体により乾燥させることがで
きる。
噴射により供給することができる。好ましくは、コーテ
ィング及びクリーニング段階のために同じ印刷ヘッドが
使用される。クリーニングの後、好ましくは、例えば、
水又は水性溶液を基材に噴霧又は噴射することによるす
すぎ段階が行われる。次いで版を、例えば、熱風、真空
抽出又は布の如き吸収性媒体により乾燥させることがで
きる。
【００５２】
【実施例】コーティング溶液の製造 ポリスチレンラテックス、赤外染料ＩＲ−１（下記式）
及びＧｌａｓｃｏｌＥ１５（Ｎ．Ｖ．Ａｌｌｉｅｄ Ｃ
ｏｌｌｏｉｄｓ Ｂｅｌｇｉｕｍから商業的に入手可能
なポリアクリル酸）を７５：１０：１５の重量比で混合
することにより２．６１重量％水性溶液を製造する。更
に、界面活性剤を加えて溶液の表面張力を２７ｍＮ／ｍ
に減少させる。
及びＧｌａｓｃｏｌＥ１５（Ｎ．Ｖ．Ａｌｌｉｅｄ Ｃ
ｏｌｌｏｉｄｓ Ｂｅｌｇｉｕｍから商業的に入手可能
なポリアクリル酸）を７５：１０：１５の重量比で混合
することにより２．６１重量％水性溶液を製造する。更
に、界面活性剤を加えて溶液の表面張力を２７ｍＮ／ｍ
に減少させる。
【００５３】
【化２】
【００５４】平版基材の製造 ０．２０ｍｍ厚さのアルミニウムフォイルを水酸化ナト
リウム５ｇ／ｌを含有する水性溶液中に５０℃で浸漬す
ることによりこのフォイルを脱脂し、そして脱イオン水
ですすいだ。次いでフォイルを、塩酸４ｇ／ｌ、ヒドロ
ホウ酸（ｈｙｄｒｏｂｏｒｉｃ ａｃｉｄ）４ｇ／ｌ及
びアルミニウムイオン５ｇ／ｌを含有する水性溶液中で
３５℃の温度及び１２００Ａ／ｍ2の電流密度で交流電
流を使用して電気化学的に研磨して、０．５μｍの平均
中心線粗さＲａを有する表面トポグラフィーを形成し
た。
リウム５ｇ／ｌを含有する水性溶液中に５０℃で浸漬す
ることによりこのフォイルを脱脂し、そして脱イオン水
ですすいだ。次いでフォイルを、塩酸４ｇ／ｌ、ヒドロ
ホウ酸（ｈｙｄｒｏｂｏｒｉｃ ａｃｉｄ）４ｇ／ｌ及
びアルミニウムイオン５ｇ／ｌを含有する水性溶液中で
３５℃の温度及び１２００Ａ／ｍ2の電流密度で交流電
流を使用して電気化学的に研磨して、０．５μｍの平均
中心線粗さＲａを有する表面トポグラフィーを形成し
た。
【００５５】脱イオン水ですすいだ後、アルミニウムフ
ォイルを硫酸３００ｇ／ｌを含有する水性溶液で６０℃
で１８０秒間エッチングしそして脱イオン水で２５℃で
３０秒間すすいだ。
ォイルを硫酸３００ｇ／ｌを含有する水性溶液で６０℃
で１８０秒間エッチングしそして脱イオン水で２５℃で
３０秒間すすいだ。
【００５６】次いでフォイルを硫酸２００ｇ／ｌを含有
する水性溶液中で４５℃の温度、約１０Ｖの電圧及び１
５０Ａ／ｍ2の電流密度で約３００秒間陽極酸化に付し
て、Ａｌ2Ｏ3３．００ｇ／ｍ2の陽極酸化フイルムを形
成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホスホン
酸を含有する溶液で、次いで三塩化アルミニウムを含有
する溶液で後処理し、脱イオン水で２０℃で１２０秒間
すすぎそして乾燥した。
する水性溶液中で４５℃の温度、約１０Ｖの電圧及び１
５０Ａ／ｍ2の電流密度で約３００秒間陽極酸化に付し
て、Ａｌ2Ｏ3３．００ｇ／ｍ2の陽極酸化フイルムを形
成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホスホン
酸を含有する溶液で、次いで三塩化アルミニウムを含有
する溶液で後処理し、脱イオン水で２０℃で１２０秒間
すすぎそして乾燥した。
【００５７】コーティング段階 上記平版基材をシリンダに取り付けた。比較実施例１に
おいて、上記したコーティング溶液を、Ｓｐｒａｙｉｎ
ｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｂｅｌｇｉｕｍ，Ｂｒｕｓｓｅｌ
ｓで商業的に入手可能なタイプＳＵＶ７６のエアアシス
ト噴霧ノズル（ａｉｒ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｓｐｒａｙ
ｎｏｚｚｌｅ）により基材に噴霧した。噴霧ノズル
を、ノズルと基材との間の距離が４０ｍｍの所に取り付
けた。噴霧段階期間中シリンダを１６４ｍ／分の線速度
で回転しておりそして噴霧ノズルは１．５ｍｌ／分の速
度でシリンダの軸線方向移動していた。噴霧溶液の流速
は７ｍｌ／分に調節された。噴霧プロセス期間中、９０
ｐｓｉの空気圧を噴霧ヘッドに使用した。コーティング
を７０℃の空気温度で乾燥した。０．８３μｍ（反射率
デンシトメトリーにより測定された）の乾燥厚さを有す
る像記録層が噴霧ノズルの６回のパスの後得られた。
おいて、上記したコーティング溶液を、Ｓｐｒａｙｉｎ
ｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｂｅｌｇｉｕｍ，Ｂｒｕｓｓｅｌ
ｓで商業的に入手可能なタイプＳＵＶ７６のエアアシス
ト噴霧ノズル（ａｉｒ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｓｐｒａｙ
ｎｏｚｚｌｅ）により基材に噴霧した。噴霧ノズル
を、ノズルと基材との間の距離が４０ｍｍの所に取り付
けた。噴霧段階期間中シリンダを１６４ｍ／分の線速度
で回転しておりそして噴霧ノズルは１．５ｍｌ／分の速
度でシリンダの軸線方向移動していた。噴霧溶液の流速
は７ｍｌ／分に調節された。噴霧プロセス期間中、９０
ｐｓｉの空気圧を噴霧ヘッドに使用した。コーティング
を７０℃の空気温度で乾燥した。０．８３μｍ（反射率
デンシトメトリーにより測定された）の乾燥厚さを有す
る像記録層が噴霧ノズルの６回のパスの後得られた。
【００５８】実施例２では、噴霧ノズルを、Ｍａｔｔｈ
ｅｗｓ Ｓｗｅｄｏｔ ｉｎ Ｇｏｅｔｅｂｕｒｇ．Ｓ
ｗｅｄｅｎから商業的に入手可能なタイプＪＥＴ−Ａ−
ＭＡＲＫ ５０００のバルブジェット印刷ヘッドにより
置き換えるという条件下に、上記したのと同じ装置を使
用して同じコーティング溶液を基材に適用した。バルブ
ジェット印刷ヘッドの単一のパスにおいて実施例１にお
ける如き匹敵し得るコーティング厚さを得るように設定
を調節した。
ｅｗｓ Ｓｗｅｄｏｔ ｉｎ Ｇｏｅｔｅｂｕｒｇ．Ｓ
ｗｅｄｅｎから商業的に入手可能なタイプＪＥＴ−Ａ−
ＭＡＲＫ ５０００のバルブジェット印刷ヘッドにより
置き換えるという条件下に、上記したのと同じ装置を使
用して同じコーティング溶液を基材に適用した。バルブ
ジェット印刷ヘッドの単一のパスにおいて実施例１にお
ける如き匹敵し得るコーティング厚さを得るように設定
を調節した。
【００５９】両実施例１及び２において、コーティング
を、約５０×４０ｃｍの寸法を有する基材の長方形区域
に適用した。コーティングヘッド（それぞれ噴霧ノズル
及びバルブジェット印刷ヘッド）を、該長方形の内側に
均一なコーティングを得るように且つ該長方形の外側に
コーティングを得ないように駆動させた。コーティング
収率をコーティングヘッドに供給されたコーティング溶
液の乾燥重量に対する長方形層の重量の割合として計算
した。かくして得られた実施例１及び２のコーティング
収率はそれぞれ７０％及び１００％であった。
を、約５０×４０ｃｍの寸法を有する基材の長方形区域
に適用した。コーティングヘッド（それぞれ噴霧ノズル
及びバルブジェット印刷ヘッド）を、該長方形の内側に
均一なコーティングを得るように且つ該長方形の外側に
コーティングを得ないように駆動させた。コーティング
収率をコーティングヘッドに供給されたコーティング溶
液の乾燥重量に対する長方形層の重量の割合として計算
した。かくして得られた実施例１及び２のコーティング
収率はそれぞれ７０％及び１００％であった。
【００６０】第２の試験として、紙ストリップを長方形
区域の真上及び真下に平版基材に取り付け、そして、コ
ーティングの後、これらの紙ストリップの色を評価し
た。実施例２で使用された紙ストリップは着色しなかっ
たが、これに対して実施例１の紙ストリップは実質的な
色を示した。これらの結果は、実施例２で使用したバル
ブジェット技術は優れたコーティング収率を与えそして
廃棄品（ｗａｓｔｅ）を与えなかったことを示す。
区域の真上及び真下に平版基材に取り付け、そして、コ
ーティングの後、これらの紙ストリップの色を評価し
た。実施例２で使用された紙ストリップは着色しなかっ
たが、これに対して実施例１の紙ストリップは実質的な
色を示した。これらの結果は、実施例２で使用したバル
ブジェット技術は優れたコーティング収率を与えそして
廃棄品（ｗａｓｔｅ）を与えなかったことを示す。
【図１】プレスシリンダの付近にバルブジェット印刷ヘ
ッドを具備する、本発明の方法において使用するための
好ましいシステムの略図である。
ッドを具備する、本発明の方法において使用するための
好ましいシステムの略図である。
【図２】プレスシリンダの付近にバルブジェット印刷ヘ
ッドを具備する、本発明の方法において使用するための
他の好ましいシステムの略図である。
ッドを具備する、本発明の方法において使用するための
他の好ましいシステムの略図である。
１００ プレスシリンダ １０１ フレーム １０２ バー １０３ 支持手段 １０４ シャットル １０５ バネコイル １０６ａ 印刷ヘッド １０６ｂ 印刷ヘッド １０６ｃ 印刷ヘッド
フロントページの続き (72)発明者 エリク・バーシユエレン ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 Ｆターム(参考） 2C056 EA30 FA03 FD13 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CB54 CC11 EA03 EA04 2H084 AA40 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA20 CA11 CA20 EA04
Claims (10)
- 【請求項１】 バルブジェット印刷ヘッドにより基材上
にコーティング溶液を適用し、それにより感熱性又は感
光性像記録層を得ることを特徴とする印刷版前駆体の製
造方法。 - 【請求項２】 バルブジェット印刷ヘッドからコーティ
ング溶液を駆動させるために、加圧されたガスを使用す
る請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 バルブジェット印刷ヘッドが基材の上で
移動可能なシャットル上に取り付けられている請求項１
〜２のいずれかに記載の方法。 - 【請求項４】 像記録層を複数のバルブジェット印刷ヘ
ッドによって基材上に適用する請求項１〜３のいずれか
に記載の方法。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の方法に
より印刷版前駆体を製造し、 像記録層を熱又は光に像通りに露出させ、そして場合に
より像記録層を処理し、それにより印刷マスターを得、 インキ及び／又は湿し水を印刷マスターに適用し、 平版基材にクリーニング液を供給することにより平版基
材からインキ受容区域を除去する、段階を含んでなるダ
イレクト−ツー−プレート平版印刷方法。 - 【請求項６】 平版基材が印刷機に取り付けられている
間にすべての段階を行う請求項５に記載の方法。 - 【請求項７】 基材が印刷機の版胴又は版又は印刷機の
版胴上に取り付けられたスリーブである請求項６に記載
の方法。 - 【請求項８】 像記録層がインキ及び／又は湿し水によ
り除去可能であるか又は熱もしくは光への露出によりイ
ンキ及び／又は湿し水で除去可能とされる請求項５〜７
のいずれかに記載の方法。 - 【請求項９】 インキが単一流体インキである請求項８
に記載の方法。 - 【請求項１０】 像記録層が疎水性熱可塑性ポリマー粒
子及び放射−熱転換性化合物を含んでなる請求項１〜９
のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP20010000065 EP1243411B1 (en) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | Method of coating an image-recording layer by ink-jet |
| EP01000065.1 | 2001-03-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002355942A true JP2002355942A (ja) | 2002-12-10 |
Family
ID=8176022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002078075A Pending JP2002355942A (ja) | 2001-03-22 | 2002-03-20 | バルブジェットにより像記録層をコーティングする方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1243411B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002355942A (ja) |
| CA (1) | CA2377420A1 (ja) |
| DE (1) | DE60101663T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10217172A1 (de) * | 2002-04-18 | 2003-10-30 | Koenig & Bauer Ag | Verfahren zum Behandeln von erneut bebilderbaren Druckformen oder Druckformzylindern in Druckmaschinen |
| NL1024430C2 (nl) * | 2003-10-02 | 2005-04-05 | Drent Graphic Machines | Werkwijze voor het vervaardigen van naadloze offsetdrukcilinderhuls, verwisselbare naadloze offsetdrukcilinderhuls, gebruik van en samenstel met een dergelijke offsetdrukcilinderhuls. |
| DE102007034880A1 (de) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Entwicklung von Druckplatten in Offsetdruckmaschinen |
| US9421751B2 (en) | 2009-11-23 | 2016-08-23 | Vim-Technologies Ltd | Direct inkjet imaging lithographic plates, methods for imaging and pre-press treatment |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3911934C2 (de) * | 1989-04-12 | 1995-08-24 | Krause Biagosch Gmbh | Offsetdruckform und Verfahren zur Herstellung dieser Druckform |
| WO1994011191A1 (en) * | 1992-11-17 | 1994-05-26 | Sun Chemical Corporation | Apparatus for fabrication of printing plates |
| GB2272866A (en) * | 1992-11-20 | 1994-06-01 | Gerber Scient Products Inc | Non-photographic production of planographic printing plates. |
| US5713287A (en) * | 1995-05-11 | 1998-02-03 | Creo Products Inc. | Direct-to-Press imaging method using surface modification of a single layer coating |
| US5871879A (en) * | 1996-10-24 | 1999-02-16 | Agfa-Gevaert, N.V. | Material comprising a layer on a glass support |
| US20020008751A1 (en) * | 1998-03-25 | 2002-01-24 | Stephen L. Spurgeon | Decorating system for edible items |
| US6051365A (en) * | 1998-05-21 | 2000-04-18 | New England Science & Specialty Products, Inc. | Waterless lithographic printing plates |
-
2001
- 2001-03-22 EP EP20010000065 patent/EP1243411B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-22 DE DE2001601663 patent/DE60101663T2/de not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-03-19 CA CA 2377420 patent/CA2377420A1/en not_active Abandoned
- 2002-03-20 JP JP2002078075A patent/JP2002355942A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE60101663T2 (de) | 2004-12-23 |
| EP1243411B1 (en) | 2004-01-02 |
| EP1243411A1 (en) | 2002-09-25 |
| DE60101663D1 (de) | 2004-02-05 |
| CA2377420A1 (en) | 2002-09-22 |
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