JP2002331635A

JP2002331635A - レーザー融除により印刷基材をリサイクルするためのクリーニング化方法

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Publication number: JP2002331635A
Application number: JP2002035135A
Authority: JP
Inventors: Eric Verschueren; エリク・ベルシユエレン; Damme Marc Van; マルク・バン・ダメ
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa Gevaert NV
Priority date: 2001-02-14
Filing date: 2002-02-13
Publication date: 2002-11-19
Also published as: DE60119278D1; DE60119278T2; EP1232877A1; EP1232877B1

Abstract

(57)【要約】【課題】印刷マスターの基材の品質に影響を与えるこ
となく印刷マスターの基材を有効にクリーニングし、そ
れにより基材をゴースト像が出現することなく次の印刷
サイクルにおいて再使用することができるようにした方
法を提供すること。【解決手段】レーザー融除により印刷マスターからイ
ンキ受容区域を除去する方法であって、印刷マスターは
支持体とベース層を具備する基材を含んでなり、該ベー
ス層は架橋された親水性結合剤及び金属酸化物を含有す
ることを特徴とする方法を提供する。また、（ａ）支持
体と架橋された親水性結合剤及び金属酸化物を含有する
ベース層とを具備する基材を用意し、（ｂ）ベース層上
に１つ又はそれ以上の層を適用し、それにより像形成材
料を得、（ｃ）像形成材料を熱又は光に像通りに露出し
そして場合により像形成材料を処理することによりイン
キ受容区域を有する印刷マスターを製造し、（ｄ）印刷
し、（ｅ）レーザー融除により印刷マスターからインキ
受容区域を除去し、（ｆ）段階（ａ）〜（ｄ）を繰り返
すことにより再使用可能な基材で平版印刷する方法も提
供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷マスターのイ
ンキ受容区域を除去し、それによりその基材（ｓｕｂｓ
ｔｒａｔｅ）をリサイクルさせそしてそれにコーティン
グを施すために再び使用することができるようにする方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷機械は印刷機械のシリンダーに取り
付けられる印刷版の如きいわゆる印刷マスターを使用す
る。印刷マスターはその表面にインキ受容区域からなる
像を担持し、そしてインキを該像に適用し、次いでイン
キをマスターから典型的には紙である受容体材料に転写
することによりプリントが得られる。慣用の平版印刷に
おいては、インキ及び水性湿し水（ａｑｕｅｏｕｓｆ
ｏｕｎｔａｉｎｓｏｌｕｔｉｏｎ）［湿し液（ｄａｍ
ｐｅｎｉｎｇｌｉｑｕｉｄ）とも呼ばれる］が、親油
性（又は疎水性、即ち、インキ受容性、水反撥性）区域
及び親水性（又は疎油性、即ち水受容性、インキ反撥
性）区域からなる平版像に供給される。いわゆる乾式平
版印刷（ｄｒｉｏｇｒａｐｈｉｃｐｒｉｎｔｉｎｇ）
においては、平版像はインキ受容区域とインキ付着阻止
（ｉｎｋａｂｈｅｓｉｖｅ）（インキ反撥）区域から
なり、そして乾式平版印刷期間中インキのみがマスター
に供給される。

【０００３】印刷マスターは、一般に、種々のプリプレ
ス段階、例えば、活字書体の選択、走査、色分解、スク
リーニング、トラッピング、レイアウト及び組付け（ｉ
ｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）がデジタルに達成されそして各色
選択がイメージセッターを使用して製版用フイルム（ｇ
ｒａｐｈｉｃａｒｔｓｆｉｌｍ）に転写される、い
わゆるコンピュータ−ツー−フイルム法（ｃｏｍｐｕｔ
ｅｒ−ｔｏ−ｆｉｌｍｍｅｔｈｏｄ）によって得られ
る。処理の後、該フイルムは版前駆体と呼ばれる像形成
材料の露出（ｅｘｐｏｓｕｒｅ）のためのマスクとして
使用することができ、そして版処理の後、マスターとし
て使用することができる印刷版が得られる。

【０００４】近年において、いわゆるコンピュータ−ツ
ー−プレート（ＣＴＰ）法が脚光を浴びている。ダイレ
クト−ツー−プレート法（ｄｉｒｅｃｔ−ｔｏ−ｐｌａ
ｔｅｍｅｔｈｏｄ）とも呼ばれるこの方法はフイルムの
作成を回避する。何故ならばデジタルドキュメントがい
わゆるプレートセッター（ｐｌａｔｅ−ｓｅｔｔｅｒ）
によって版前駆体に直接転写されるからである。特定の
タイプのＣＴＰ法は、印刷機において一体化されている
イメージセッターによって、版前駆体を印刷機の版胴に
取り付けられている間に露出させることを伴う。この方
法は「コンピュータ−ツー−プレス」（ｃｏｍｐｕｔｅ
ｒ−ｔｏ−ｐｒｅｓｓ）と呼ばれることがあり、そして
一体化されたプレートセッターを有する印刷機はデジタ
ルプレスと呼ばれることがある。デジタルプレスの概観
は、ＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓｏｆｔｈｅＩｍａｇｉ
ｎｇＳｃｉｅｎｃｅ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ′ｓ
１９９７ＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＣｏｎｆｅ
ｒｅｎｃｅｏｎＤｉｇｉｔａｌＰｒｉｎｔｉｎｇ
Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（Ｎｏｎ−Ｉｍｐａｃｔ
Ｐｒｉｎｔｉｎｇ１３）に記載されている。コンピュ
ータ−ツー−プレス法は、例えば、ＥＰ−Ａ−６４０４
７８、ＥＰ−Ａ−７７０４９５、ＥＰ−Ａ−７７０４９
６、ＷＯ９４／１２８０、ＥＰ−Ａ−５８０３９４及び
ＥＰ−Ａ−７７４３６４に記載されている。

【０００５】２つのタイプのこのようなオンプレス（ｏ
ｎ−ｐｒｅｓｓ）像形成方法が知られている。第１のタ
イプに従えば、印刷版前駆体を印刷機に取り付け、像通
りに露出し、場合により現像し、次いで印刷マスターと
して使用し、そして最後に印刷機から除去し、そして廃
棄し、かくして各像のための新しい版材料を必要とす
る。この技術の例はＱｕｉｃｋｍａｓｔｅｒＤＩ４
６−４（ＨｅｉｄｅｒｂｅｒｇｅｒＤｒｕｃｋｍａｓ
ｃｈｉｎｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ、の商標名）である。こ
の方法の欠点は各印刷機運転について新しい版を使用す
る必要があることであり、かくして印刷方法のコストを
増加させることである。

【０００６】第２のタイプのオンプレス像形成システム
では、同じ平版基材が複数の印刷機運転（以後印刷サイ
クルと呼ぶ）で使用される。各印刷サイクルにおいて、
１つ又はそれ以上の感熱性又は感光性層を平版基材上に
コーティングして印刷版前駆体を製造し、そして像通り
の露出及び場合により行う現像の後、印刷マスターを得
る。印刷機運転の後、印刷マスターのインキ受容区域を
クリーニング段階で平版基材から除去し、それにより基
材をリサイクルさせ、そして版胴に新しい版を取り付け
る必要なしにコーティング、露出及び印刷の次のサイク
ルにおいて使用することができる。このようなオンプレ
スコーティング及びオンプレス像形成システムの例は、
例えば、米国特許第４，７１８，３４０号、米国特許第
５，１８８，０３３号、米国特許第５，７１３，２８７
号、ＥＰ−Ａ−７８６３３７及びＥＰ−Ａ−８０２４５
７に記載されている。基材はある数の印刷サイクルの間
使用することができ、これはクリーニング段階の有効性
と基材の平版品質の保存の微妙なバランスに依存する。
強い（ａｇｇｒｅｓｓｉｖｅ）クリーニング段階は平版
コーティングのすべての痕跡を有効に除去するが、基材
の平版表面を攻撃することがあり、他方、温和なクリー
ニング段階は基材の平版品質に影響を与える危険を減少
させるが、平版コーティングの不完全な除去は典型的に
はゴースト像を出現させる（先の印刷ジョブの像が次の
印刷ジョブで見られる）。実際には、同じ基材を無限に
使用することはできず、ある数の印刷サイクルの後取り
替える必要がある。

【０００７】米国特許第４，７１８，３４０号は、平版
コーティングをレーザー融除（ｌａｓｅｒａｂｌａｔ
ｉｏｎ）により基材から除去する方法を開示している。
しかしながら、融除される平版コーティングにおいて発
生する非常に高い温度は研磨され（ｇｒａｉｎｅｄ）そ
して陽極酸化されたアルミニウムの如き典型的な基材の
平版表面を損傷する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、基材
の品質に影響を与えることなく印刷マスターの基材を有
効にクリーニングし、それにより基材をゴースト像が出
現することなく次の印刷サイクルにおいて再使用するこ
とができるようにする方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この目的は請求項１の方
法により実現される。この方法は、凸版印刷の如き他の
印刷技術に適用可能であるけれども、平版印刷マスター
をクリーニングするのに特に適している。好ましい態様
では、請求項１のクリーニング方法は、請求項２に記載
のオンプレスコーティング及びオンプレス露出法におい
て基材をリサイクルさせるために使用される。この方法
は基材の平版品質に影響を及ぼすことなく印刷マスター
の基材からインキ受容区域を有効に除去する（その後の
印刷サイクルにおいてゴースト像がない）ことを可能と
し、それによりコーティング、露出、印刷及びクリーニ
ングの多数の印刷サイクルにおいて同じ基材を使用する
ことを可能とし、該数は好ましくは５より大きく、更に
好ましくは１０より大きく、最も好ましくは３０より大
きい。

【００１０】本発明の他の好ましい態様は従属請求項に
記載されている。本発明の更なる利点及び態様は下記の
説明から明らかとなるであろう。

【００１１】基材本発明の方法で使用される基材（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）
は支持体（ｓｕｐｐｏｒｔ）及びその上に設けたベース
層（ｂａｓｅｌａｙｅｒ）を含んでなる。

【００１２】支持体は、プレートの如きシート状材料で
あることができ又は印刷機の版胴の回りを滑ることがで
きるスリーブの如き円筒形要素であることができる。あ
るいは、支持体は版胴自体であることもできる。それは
スプールに巻き付けることができるように十分に柔軟性
のウエブであることもできる。支持体はプラスチック、
金属、例えばアルミニウム、又はそれらの複合体もしく
はラミネート、例えばプラスチックと金属のラミネート
からなることができる。プラスチックの好ましい例はポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルム、ポリエ
チレンナフタレートフイルム、セルロースアセテートフ
イルム、ポリスチレンフイルム、ポリカーボネートフイ
ルム等である。プラスチック支持体は不透明又は透明で
あることができる。

【００１３】特に好ましい支持体は電気化学的に研磨さ
れそして陽極酸化されたアルミニウム支持体である。下
記するベース層はレーザ融除段階の間研磨された酸化ア
ルミニウム表面を有効に保護する。陽極酸化されたアル
ミニウム支持体を処理してその表面の親水性特性を改良
することができる。例えば、アルミニウム支持体はその
表面を例えば９５℃の高められた温度でケイ酸ナトリウ
ム溶液で処理することによりケイ酸塩化する（ｓｉｌｉ
ｃａｔｅｄ）ことができる。あるいは、更に無機フッ化
物を含有していてもよいリン酸塩溶液で酸化アルミニウ
ム表面を処理することを伴うリン酸塩処理を施すことが
できる。更に、酸化アルミニウム表面をクエン酸又はク
エン酸塩溶液でクリーニングすることができる。この処
理は室温で行うことができ又は約３０〜５０℃の僅かに
高められた温度で行うことができる。更なる興味ある処
理は酸化アルミニウム表面を炭酸水素塩溶液でクリーニ
ングすることを含む。なお更に、酸化アルミニウム表面
をポリビニルホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン
酸、ポリビニルアルコールのリン酸エステル、ポリビニ
ルスルホン酸、ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビ
ニルアルコールの硫酸エステル及びスルホン化脂肪族ア
ルデヒドとの反応により形成されたポリビニルアルコー
ルのアセタールで処理することができる。これらの後処
理の１つ又はそれ以上を単独で又は組み合わせて行うこ
とができることは更に明らかである。これらの処理の更
に詳細な説明は、ＧＢ−Ａ−１０８４０７０、ＤＥ−Ａ
−４４２３１４０、ＤＥ−Ａ−４４１７９０７、ＥＰ−
Ａ−６５９９０９、ＥＰ−Ａ−５３７６３３、ＤＥ−Ａ
−４００１４６６、ＥＰ−Ａ−２９２８０１、ＥＰ−Ａ
−２９１７６０及びＵＳ−Ｐ−４４５８００５に与えら
れる。

【００１４】支持体がプラスチックフイルムである場合
には、支持体とベース層との間に下塗り層とも呼ばれる
接着改良層を設けるのが有利である。本発明に従う使用
のための特に適当な接着改良層は、ＥＰ−Ａ−６１９５
２４、ＥＰ−Ａ−６２０５０２及びＥＰ−Ａ−６１９５
２５に開示されている如き親水性結合剤及びコロイドシ
リカを含んでなる。好ましくは、接着改良層中のシリカ
の量は２００ｍｇ／ｍ ²〜７５０ｍｇ／ｍ²である。更
に、シリカ対親水性結合剤の割合は好ましくは１より大
きく、コロイドシリカの表面積は好ましくは少なくとも
３００ｍ²／ｇ、更に好ましくは少なくとも５００ｍ²／
ｇである。下塗り層は更に他の接着促進剤、例えば、有
機スルホン酸、チタネート、シラン及びジルコニウム化
合物、例えば、アンモニウムジルコニルカーボネート、
酸化ジルコニウム、プロピオン酸ジルコニウム、並びに
“ＴｈｅＵｓｅｏｆＺｉｒｃｏｎｉｕｍｉｎ
ＳｕｒｆａｃｅＣｏａｔｉｎｇｓ”，Ａｐｐｌｉｃａ
ｔｉｏｎＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ，Ｓｈｅｅｔ１１
７（Ｐｒｏｖｉｓｉｏｎａｌ），ｂｙＰ．Ｊ．Ｍｏｌ
ｅｓ，ＭａｇｎｅｓｉｕｍＥｌｅｋｔｒｏｎ，Ｉｎ
ｃ．，Ｆｌｅｍｉｎｇｔｏｎ，ＮＪ，ＵＳＡ．に記載の
他のジルコニウムをベースとする化合物を含んでなるこ
とができる。

【００１５】ベース層は、ＥＰ−Ａ−６０１２４０、Ｇ
Ｂ１４１９５１２、ＦＲ２３００３５４、ＵＳ３，９７
１，６６０及びＵＳ４，２８４，７０５に開示されてい
る、ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアネ
ート、又は加水分解されたテトラアルキルオルトシリケ
ートの如き架橋剤で架橋された親水性結合剤を含んでな
る。他の好ましい架橋剤は炭酸塩、例えば炭酸亜鉛、も
しくはジルコニウム化合物、例えばアンモニウムジルコ
ニルカーボネート、酸化ジルコニウム、プロピオン酸ジ
ルコニウム、並びに“ＴｈｅＵｓｅｏｆＺｉｒｃ
ｏｎｉｕｍｉｎＳｕｒｆａｃｅＣｏａｔｉｎｇ
ｓ”，ＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎＩｎｆｏｒｍａｔｉｏ
ｎ，Ｓｈｅｅｔ１１７（Ｐｒｏｖｉｓｉｏｎａｌ），
ｂｙＰ．Ｊ．Ｍｏｌｅｓ，ＭａｇｎｅｓｉｕｍＥｌ
ｅｋｔｒｏｎ，Ｉｎｃ．，Ｆｌｅｍｉｎｇｔｏｎ，Ｎ
Ｊ，ＵＳＡ．に記載の他のジルコニウムをベースとする
化合物である。架橋剤、特にテトラアルキルオルトシリ
ケートの量は好ましくは親水性結合剤１重量部当たり好
ましくは少なくとも０．２重量部、更に好ましくは、
０．５〜５重量部、最も好ましくは１〜３重量部であ
る。親水性ベース層の厚さは、好ましくは０．１〜２０
μｍ、更に好ましくは１〜１０μｍの範囲にある。

【００１６】ベース層に使用するための親水性結合剤
は、例えば、親水性（コ）ポリマー、例えば、ビニルア
ルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、アクリレート酸、メ
タクリレート酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒド
ロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリ
マー、又は無水マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポ
リマーである。使用される（コ）ポリマー又は（コ）ポ
リマー混合物の親水性は、少なくとも６０重量％、好ま
しくは８０重量％の程度に加水分解されたポリビニルア
セテートの親水性と同じであるか又はそれより高いこと
が好ましい。ポリ（ビニルアルコール）（ＰＶＯＨ）は
高度に好ましい。

【００１７】ベース層は金属酸化物、好ましくは、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、もしくはその混合物の酸化物の粒子も
含有する。ＴｉＯ₂は高度に好ましく、さらに特定的に
は０．１〜１μｍの粒度を有するＴｉＯ₂が好ましい。
金属の水酸化物も存在することができる。ベース層中の
金属酸化物の量は、層の全重量に対して、好ましくは６
０〜９０％、更に好ましくは７０〜８５％である。好ま
しくはベース層はいかなる吸収されなかった像形成放射
も像記録層（１つ又は複数）に反射して戻すことができ
る。

【００１８】像形成材料本発明の方法に従えば、像通りの露出及び場合により行
われる処理によりインキ受容区域を形成することができ
るコーティングを上記した基材上に設ける。コーティン
グは１つ又はそれ以上の像形成層からなることができ
る。好ましくは、単一層のみが基材上に設けられる。か
くして得られた像形成材料は感光性又は感熱性であるこ
とができ、後者は日光安定性のため好ましい。材料の像
記録層は「非融除性である」（“ｎｏｎ−ａｂｌａｔｉ
ｖｅ”）。「非融除性」という用語は、像記録層が露出
段階中に実質的に除去されないことを意味するものと理
解されるべきである。像形成材料は好ましくは処理なし
である（ｐｒｏｃｅｓｓｌｅｓｓ）、即ち、平版像は湿
式処理なしで露出の直後に得られるか又はそれは湿し液
（ｄａｍｐｅｎｉｎｇｌｉｑｕｉｄ）及び／又はイン
キの供給により、即ち、単に印刷運転の開始により処理
されうる。

【００１９】この材料はポジ作用性（ｐｏｓｉｔｉｖｅ
−ｗｏｒｋｉｎｇ）であることができ、即ち、コーティ
ングの露出された区域はマスターの非印刷区域を規定
し、又はネガ作用性（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｗｏｒｋｉｎ
ｇ）であることができる、即ち、コーティングの露出さ
れた区域はマスターの印刷区域を規定することができ
る。単一像記録層を有する高度に好ましいネガ作用性の
２つの態様を今から説明する。

【００２０】第１の高度に好ましい態様では、像形成層
の作用機構は、例えばＥＰ７７０４９４、ＥＰ７７０４
９５、ＥＰ７７０４９７、ＥＰ７７３１１２、ＥＰ７７
４３６４及びＥＰ８４９０９０に記載の如き、好ましく
は親水性結合剤中に分散させた疎水性熱可塑性ポリマー
粒子の熱誘発合体（ｈｅａｔ−ｉｎｄｕｃｅｄｃｏａ
ｌｅｓｃｅｎｃｅ）に基づいている。合体したポリマー
粒子は湿し液及び／又はインキにより容易に除去可能で
はない疎水性印刷区域を規定し、これに対して露出され
なかった層は湿し液及び／又はインキにより容易に除去
可能な非印刷区域を規定する。熱的合体は、例えばサー
マルヘッドによる熱への直接の露出によって、あるい
は、光、更に好ましくは、例えば固体レーザーによって
放出された赤外光を熱に転換することができる１種又は
それ以上の化合物の光吸収により誘発させることができ
る。特に有用な光−熱転換化合物は例えば、染料、顔
料、カーボンブラック、金属炭化物、ホウ化物、窒化
物、炭窒化物、青銅構造酸化物（ｂｒｏｎｚｅ−ｓｔｒ
ｕｃｔｕｒｅｄｏｘｉｄｅｓ）及び伝導性ポリマー分
散液、例えば、ポリピロール、ポリアニリン又はポリチ
オフェンをベースとする伝導性ポリマー分散液である。
赤外染料及びカーボンブラックが高度に好ましい。

【００２１】疎水性熱可塑性ポリマー粒子は好ましくは
３５℃以上、更に好ましくは５０℃以上の凝結（ｃｏａ
ｇｕｌａｔｉｏｎ）温度を有する。凝結は熱の作用下
に熱可塑性ポリマー粒子の軟化又は溶融から生じ得る。
熱可塑性疎水性ポリマー粒子の凝結温度に対する特定の
上限はないが、しかしながら、温度はポリマー粒子の分
解より十分に低くあるべきである。好ましくは凝結温度
はポリマー粒子の分解が起こる温度より少なくとも１０
℃低い。疎水性ポリマー粒子の特定の例は例えば、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチル（メト）アクリ
レート、ポリエチル（メト）アクリレート、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリビニルカルバゾ
ール、ポリスチレン又はそれらのコポリマーである。最
も好ましくはポリスチレンが使用される。ポリマーの重
量平均分子量は５，０００〜１，０００，０００ｇ／モ
ルの範囲にあることができる。疎水性粒子は０．０１μ
ｍ〜５０μｍ、更に好ましくは０．０５μｍ〜１０μ
ｍ、最も好ましくは０．０５μｍ〜２μｍの粒度を有す
ることができる。像形成層に含まれる疎水性熱可塑性ポ
リマー粒子の量は、好ましくは２０重量％〜６５重量
％、更に好ましくは２５重量％〜５５重量％、最も好ま
しくは３０重量％〜４５重量％である。

【００２２】適当な親水性結合剤は例えば合成ホモポリ
マー又はコポリマー、例えば、ポリビニルアルコール、
ポリ（メト）アクリル酸、ポリ（メト）アクリルアミ
ド、ポリヒドロキシエチル（メト）アクリレート、ポリ
ビニルメチルエーテル、又は天然の結合剤、例えば、ゼ
ラチン、多糖、例えばデキストラン、プルラン、セルロ
ース、アラビアゴム、アルギン酸である。

【００２３】第２の高度に好ましい態様では、像形成層
は、露出前には親水性であり且つ湿し液及び／又はイン
キ中に除去可能であり、そしてこのような露出の後疎水
性にされ且つ除去できにくくされるアリールジアゾスル
ホネートホモポリマー又はコポリマーを含んでなる。露
出はポリマー粒子の熱的合体に関連して上記したのと同
じ手段により行うことができる。あるいは、アリールジ
アゾスルホネートポリマーは、紫外線への露出により、
例えばＵＶレーザー又はＵＶランプにより切り替えられ
る（ｓｗｉｔｃｈｅｄ）こともできる。

【００２４】このようなアリールジアゾスルホネートポ
リマーの好ましい例は、アリールジアゾスルホネートモ
ノマーの単独重合又は他のアリールジアゾスルホネート
モノマー及び／又はビニルモノマー、例えば（メト）ア
クリル酸もしくはそのエステル（メト）アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、α−メチルスチレン等との共重
合により製造することができる化合物である。本発明で
使用するための適当なアリールジアゾスルホネートポリ
マーは、下記式：

【００２５】

【化１】

【００２６】式中、Ｒ⁰、Ｒ¹、Ｒ²は各々独立に水素、
アルキル基、ニトリル又はハロゲン、例えばＣｌを表
し、Ｌは二価の連結基を表し、ｎは０又は１を表し、Ａ
はアリール基を表しそしてＭはカチオンを表す、を有す
る。Ｌは好ましくは−Ｘ_t−ＣＯＮＲ³−、−Ｘ_t−ＣＯ
Ｏ−、−Ｘ−及び−Ｘ_t−ＣＯ−（ここで、ｔは０又は
１を表し、Ｒ³は水素、アルキル基又はアリール基を表
し、Ｘはアルキレン基、アリーレン基、アルキレンオキ
シ基、アリーレンオキシ基、アルキレンチオ基、アリー
レンチオ基、アルキレンアミノ基、アリーレンアミノ
基、酸素、硫黄、又はアミノ基を表す）よりなる群から
選ばれる二価の連結基を表す。Ａは好ましくは未置換の
アリール基、例えば、未置換のフェニル基、あるいは、
１個又はそれ以上のアルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基又はアミノ基で置換されたアリ
ール基、例えばフェニルを表す。Ｍは好ましくはカチオ
ン、例えば、ＮＨ₄ ⁺又は金属イオン、例えば、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、アルカリ土類金属もしくはアルカリ金属のカ
チオンを表す。

【００２７】上記ポリマーを製造するための適当なアリ
ールジアゾスルホネートモノマーは、ＥＰ−Ａ−３３９
３９３、ＥＰ−Ａ−５０７００８及びＥＰ−Ａ−７７１
６４５に開示されている。

【００２８】上記したように、像形成材料は像記録層
（１つ又は複数）の外に平版基材上に設けられた１つ又
はそれ以上の補助層を含んでなることもできる。疎水性
熱可塑性ポリマー粒子及びアリールジアゾスルホネート
ポリマーの如き上記した他の成分を含有する層の近くの
別の層に光吸収性化合物を存在させることができる。又
は、像形成材料は、処理液、湿し液及び／又はインキに
より除去可能でありそして取り扱い又は機械的損傷に対
する保護を与える保護上部層を含んでなることができ
る。適当な保護上部層はポリビニルアルコールを含んで
なる。

【００２９】コーティング段階像記録層及び補助層（１つ又は複数）は、ＥＰ１０４８
４５８に記載の如きドナー材料から熱もしくは摩擦誘発
転写により、又は例えばＥＰ−Ａ−９７４４５５及び０
３．１１．９９に出願されたＥＰ−Ａ−ｎｏ．９９２０
３６８２に記載の如き粉末コーティングにより、又は任
意の既知のコーティング方法、例えばスピンコーティン
グ、ディップコーティング、ロッドコーティング、ブレ
ードコーティング、エアナイフコーティング、グラビア
コーティング、リバーサルロールコーティング、押出コ
ーティング、スライドコーティング及びカーテンコーテ
ィングに従って液体溶液をコーティングすることによ
り、基材上に適用されうる。これらのコーティング技術
の概観は、書籍“ＭｏｄｅｒｎＣｏａｔｉｎｇａｎ
ｄＤｒｙｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｅｄｗａ
ｒｄＣｏｈｅｎａｎｄＥｄｇａｒＢ．Ｇｕｔｏ
ｆｆＥｄｉｔｏｒｓ，ＶＣＨｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｉｎｃ，ＮｅｗＹｏｒｋ，ＮＹ，１９９２に見い
だされうる。印刷技術、例えば、インキジェット印刷、
グラビア印刷、フレキソ印刷、又はオフセット印刷によ
りコーティング溶液を基材上に適用することも可能であ
る。３１．０７．００に出願されたＥＰ−Ａ−ｎｏ．０
０２０２７００に記載の如きジェッティングは高度に好
ましい。

【００３０】別の高度に好ましい態様に従えば、コーテ
ィング溶液は噴霧ノズルを具備するヘッドによってオン
プレスで噴霧される。噴霧パラメーターの好ましい値
は、両方とも１９９９年９月１５日に出願されたＥＰ−
Ａ−ｎｏ．９９２０３０６４及びＥＰ−Ａ−ｎｏ．９９
２０３０６５において定義されている。好ましい構成で
は、プレスシリンダーが角度方向に回転している間に、
噴霧ヘッドはプレスシリンダーの軸線方向に平版ベース
に沿って並進する。該プレスシリンダーは、好ましく
は、印刷期間中印刷マスターを保持する版胴である。

【００３１】噴霧又はジェッティングによるコーティン
グは、上記の如き熱可塑性ポリマー粒子又はアリールジ
アゾスルホネートポリマーを含んでなる像記録層を適用
するための好ましい方法である。

【００３２】露出段階本発明で使用される像形成材料は熱又は光に露出させる
ことができる。露出は、好ましくはオンプレスで、即
ち、材料がプレスシリンダー、好ましくは印刷期間中印
刷マスターを保持する版胴上に取り付けられている間に
行われる。露出は、例えば、サーマルヘッド、ディジタ
ル的にモジュレーションされたランプ、ＬＥＤｓ又はレ
ーザーヘッドにより行うことができる。好ましくは、Ｈ
ｅ／Ｎｅレーザー、Ａｒレーザー又はバイオレットレー
ザーダイオードの如き１種又はそれ以上のレーザーが使
用される。最も好ましくは、露出のために使用される光
は、日光に安定な材料を使用することができるように可
視光ではなく、例えばＵＶランプもしくはＵＶ（レーザ
ー）光又は約７００〜約１５００ｎｍの範囲の波長を有
する近赤外線を放出するレーザー、例えば、半導体レー
ザーダイオード、Ｎｄ：ＹＡＧ又はＮｄ：ＹＬＦレーザ
ーが使用される。必要なレーザーパワーは、像記録層の
感度、スポット直径（最大強度の１／ｅ²における現代
のプレートセッターの典型的な値：１０〜２５μｍ）に
より決定されるレーザービームの画素滞留時間、走査速
度及び露出装置の解像力（即ち、しばしばドット／イン
チ又はｄｐｉで表される線形距離の単位当たりのアドレ
ス可能な画素の数；典型的な値：１０００〜４０００ｄ
ｐｉ）に依存する。オンプレス露出装置の更に技術的な
詳細は例えばＵＳ５，１７４，２０５及びＵＳ５，１６
３，３６８に記載されている。

【００３３】場合により行われる処理段階像形成材料は別々の処理段階を必要としない、即ち、印
刷は露出の後直ちに開始することができることが好まし
い。あるいは、像形成材料は、例えばインキ及び／又は
湿し水（ｆｏｕｎｔａｉｎ）を供給することにより処理
することができる。その態様では、処理及び印刷する段
階は同じ操作の一部である、即ち、露出の後、該材料に
インキ及び／又は湿し水を供給することにより印刷プロ
セスを開始し、印刷シリンダの最初の少数の（典型的に
は２０回未満、更に好ましくは１０回未満）回転の後、
像形成層は完全に処理され、次いで印刷機運転全体にわ
たり高品質の印刷されたコピーが得られる。上記した、
即ち、熱可塑性ポリマー粒子の熱合体に基づく又はアリ
ールジアゾスルホネートポリマーに基づく像形成材料の
好ましい態様の両方とも、このような「隠れた」オンプ
レス処理法に特に適している。像記録層の非露出区域は
印刷機の最初の運転期間中にインキ及び／又は湿し水に
溶解される。好ましくは、除去された成分は印刷紙に転
写される。

【００３４】像形成材料のオンプレス処理の前に、像記
録層を最初に水又は水性液の供給により湿らせるか又は
膨潤させる、場合により行う段階を先行させることがで
きる。

【００３５】クリーニング段階本発明の方法に従えば、印刷マスターのインキ受容区域
はレーザー融除により除去される。クリーニング段階期
間中、レーザー光は基材上に存在する層（の１つ）によ
り吸収され、吸収された光は熱に転換され、それにより
層（１つ又は複数）の温度は、例えば層（１つ又は複
数）の化学的分解又は蒸発により融除を引き起こすのに
十分に高く上昇する。融除段階において発生したすべて
の砕片（ｄｅｂｒｉｓ）もしくは煙（ｆｕｍｅｓ）を除
去するための真空装置を使用することが必要な場合があ
る。このような装置は例えば、ＵＳ５，９３４，１９
７、ＵＳ５，５７４，４９３及びＥＰ−Ａ−９８８９６
９に記載されている。

【００３６】融除段階で使用されるレーザーの放射波長
（ｅｍｉｓｓｉｏｎｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ）における
高い吸収を有する染料又は顔料を像記録層及び／又は補
助層（１つもしくは複数）に加えることが好ましい。好
ましくは、レーザーは赤外レーザー、例えば、ＣＯ₂レ
ーザー、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー、又は１種もしくはそれ
以上の高パワーレーザーダイオードである。基材の過剰
な加熱を避けるために、例えば、１〜１０Ｈｚｋのパル
ス速度で操作するパルスレーザーを使用するのが好まし
い。好ましい態様に従えば、像形成材料を像通りに露出
するため及び印刷ジョブが終わった後の印刷マスターの
クリーニングのために、同じレーザー装置が使用され
る。その態様では、露出段階における低い値から融除段
階における高い値にレーザーの光強度を調節するために
種々のパワー調整装置（ｐｏｗｅｒｓｅｔｔｉｎｇ
ｓ）、フィルター、モジュレーター又はすべての他の既
知の手段を使用するのが好ましい。

【００３７】クリーニング段階は、好ましくはオンプレ
スで、即ち、材料がプレスシリンダー、好ましくは印刷
期間中印刷マスターを保持する版胴に取り付けられてい
る間に行われる。

【００３８】レーザー融除段階の後、クリーニングされ
た基材はコーティング、露出及び印刷の次のサイクルに
おいて再使用することができる。上記したとおり、同じ
基材を使用する引き続くサイクルの数は限定される。効
果のないクリーニングによりゴースト像が現れるか、又
は親水性層の摩耗により基材の平版品質が低下すると、
基材は新しい材料により取り替えることができる。基材
が柔軟性である態様では、新しい基材はこの材料をロー
ルから巻き出すことにより提供されうる。このようなロ
ールは、例えばＥＰ−Ａ−６４０４７８に記載の如き版
胴内に供給スプール及び取り上げスプール（ｕｐ−ｔａ
ｋｅｓｐｏｏｌ）を具備する供給カセットを使用する
ことによって、印刷機中に、印刷シリンダーにすら配置
することができる。あるいは、新たな基材のプレカット
シートを含む供給カセットから自動的版装填（ｐｌａｔ
ｅ−ｌｏａｄｉｎｇ）を達成することもできる。もちろ
ん、新たな基材の手動装填も本発明の範囲内にある。

【００３９】

【実施例】実施例１（比較実施例）平版基材の製造０．３０ｍｍ厚さのアルミニウムフォイルを水酸化ナト
リウム５ｇ／ｌを含有する水性溶液中に５０℃で浸漬す
ることによりこのフォイルを脱脂し、そして脱イオン水
で洗浄した。次いでフォイルを、塩酸４ｇ／ｌ、ヒドロ
ホウ酸（ｈｙｄｒｏｂｏｒｉｃａｃｉｄ）４ｇ／ｌ及
びアルミニウムイオン５ｇ／ｌを含有する水性溶液中で
３５℃の温度及び１２００Ａ／ｍ²の電流密度で交流電
流を使用して電気化学的に研磨して、０．５μｍの平均
中心線粗さＲａを有する表面トポグラフィーを形成し
た。

【００４０】脱イオン水で洗浄した後、アルミニウムフ
ォイルを硫酸３００ｇ／ｌを含有する水性溶液で６０℃
で１８０秒間エッチングしそして脱イオン水で２５℃で
３０秒間洗浄した。次いでフォイルを硫酸２００ｇ／ｌ
を含有する水性溶液中で４５℃の温度、約１０Ｖの電圧
及び１５０Ａ／ｍ²の電流密度で約３００秒間陽極酸化
に付して、Ａｌ₂Ｏ₃３ｇ／ｍ²の陽極酸化フイルムを形
成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホスホン
酸を含有する溶液で、次いで三塩化アルミニウムを含有
する溶液で後処理し、脱イオン水で２０℃で１２０秒間
洗浄しそして乾燥した。

【００４１】像形成材料の製造ポリスチレンラテックス、熱吸収性化合物及び親水性結
合剤を混合することにより２．６１重量％水溶液を調製
した。この溶液を上記した基材上にコーティングした。
乾燥の後、像記録層は０．８３μｍの厚さを有してお
り、そしてポリスチレンラテックス７５重量％、赤外染
料ＩＲ−１（下記式）１０重量％及び親水性結合剤とし
てポリアクリル酸（Ｎ．Ｖ．ＡｌｌｉｅｄＣｏｌｌｏ
ｉｄｓＢｅｌｇｉｕｍにて商業的に入手可能なＧｌａ
ｓｃｏｌＥ１５）１５重量％を含有していた。

【００４２】

【化２】

【００４３】上記溶液を平版ベース上に噴霧し、これを
１６４ｍ／分のライン速度で回転しているシリンダーに
取り付けた。像形成要素を、１．５ｍ／分の速度でシリ
ンダーの軸線方向に移動する噴霧ノズルによりコーティ
ングした。噴霧ノズルを、ノズルと基材との間の距離が
４０ｍｍの所に取り付けた。噴霧溶液の流速を７ｍｌ／
分に調節した。噴霧プロセス期間中、９０ｐｓｉの空気
圧を噴霧ヘッドに使用した。コーティングを噴霧プロセ
ス期間中及び更にその後の３０秒間７０℃の空気温度で
乾燥した。

【００４４】使用された噴霧ノズルは、Ｓｐｒａｙｉｎ
ｇＳｙｓｔｅｍｓＢｅｌｇｉｕｍ，Ｂｒｕｓｓｅｌ
ｓで商業的に入手可能なエアアシスト噴霧ノズル（ａｉ
ｒａｓｓｉｓｔｅｄｓｐｒａｙｎｏｚｚｌｅ）であ
るＳＵＶ７６型であった。

【００４５】像形成材料の露出上記した像形成要素を、商標名Ｃｒｅｏ３２４４の外部
ドラムプレートセッターにおいて１５．５ワットのパワ
ー設定で、１５０ｒｐｍで２４００ｄｐｉで熱モードで
露出した。像形成された版は、ＧＴＯ４６印刷機でＫ＋
Ｅ８００Ｓｋｉｎｎｅｘインキ、湿し水Ｒｏｔａｍ
ａｔｉｃを用いて５０００の運転長さまで印刷された。
印刷物の品質を評価した。

【００４６】クリーニング段階印刷の後、版を、１０６４ｎｍで放射しそして４Ｗのパ
ワー設定、２Ｈｚのパルス周波数、１ｃｍ／秒のライン
速度及び版とレザーヘッドとの間の距離１５ｃｍで操作
するＮｄ：ＹＡＧレーザーによるレーザー融除によりク
リーニングした。インキをクリーニング段階の前に除去
した。次いで、同じ基材を、上記の如き次のコーティン
グ、露出及び印刷段階のために再使用した。

【００４７】実施例２研磨及陽極酸化されたアルミニウムを本発明に従う平版
基材により取り替えて、実施例１に記載したのと同じ段
階を繰り返した。

【００４８】平版基材の製造加水分解されたテトラメトキシシラン２２重量％の水性
分散液２１８ｇを、０．３〜０．５μｍの平均粒度を有
するＴｉＯ₂２５重量％及びポリビニルアルコール（商
標名ＰＯＬＹＶＩＯＬＷＸの下でＷａｃｋｅｒＣｈ
ｅｍｉｅＧｍｂＨ，Ｆ．Ｒ．Ｇｅｒｍａｎｙにより供
給された、加水分解されたポリ酢酸ビニル）２．５重量
％を含んでなる水性分散液４４６ｇに加えた。この混合
物に、商標名ＡＫＹＰＯＯＰ８０の４．１重量％溶液
１０ｇを加えた。ＡｋｙｐｏＯＰ８０は、Ｃｈｅｍｙ
から商業的に入手可能な界面活性剤である。フルオロ界
面活性剤、Ｎ−ポリオキシエチレン−エチル−パーフル
オロオクタン酸アミドの５重量％溶液２ｇも加えた。次
いで容積を蒸留水で１０００ｍｌに調節し、最後にｐＨ
をＮａＯＨで４．０に調節した。

【００４９】上記コーティング溶液を１７５μｍの厚さ
を有するヒートセットされた二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフイルムに適用し、それによりコーティング
の６．８３ｇ／ｍ²の全乾燥厚さが得られた。コーティ
ングを５０μｍの湿潤厚さで適用しそしてフイルムを５
０℃及び４ｇ／ｍ³の水分含有率の空気で乾燥した。

【００５０】実施例３この実施例では、実施例２のベース層を実施例１の平版
基材上にコーティングした。そのようにして、研磨され
そして陽極酸化されたアルミニウム支持体はＴｉＯ₂／
ＰＶＯＨ層を与えられた。

【００５１】実施例４実施例３に記載したのと同じ方法を使用したが、ベース
層のコーティングを２ｇ／ｍ²の全乾燥厚さで適用し
た。

【００５２】実施例５実施例２に記載したのと同じ方法を使用したが、熱モー
ド像形成要素の製造を下記のように変えた：像形成材料の製造加水分解されたテトラメトキシシラン２２重量％の水性
分散液１５２ｇを、０．３〜０．５μｍの平均粒度を有
するＴｉＯ₂２５重量％及びポリビニルアルコール（商
標名ＰＯＬＹＶＩＯＬＷＸの下でＷａｃｋｅｒＣｈ
ｅｍｉｅＧｍｂＨ，Ｆ．Ｒ．Ｇｅｒｍａｎｙにより供
給された、加水分解されたポリ酢酸ビニル）２．５重量
％を含んでなる水性分散液３１２ｇに加えた。この混合
物に、商標名ＡＫＹＰＯＯＰ８０の４．１重量％溶液
１０ｇを加えた。ＡｋｙｐｏＯＰ８０は、Ｃｈｅｍｙ
から商業的に入手可能な界面活性剤である。次いで、ポ
リスチレン１２．０５重量％を含有する乳濁液３３０．
６ｇを加えた。この乳濁液を非イオン的に安定化させ
た。エタノール１８ｇ中の赤外染料ＩＲ−２（下記式）
２ｇの溶液も加えた。最後に、容積を蒸留水で１０００
ｍｌに調節しそしてｐＨをＮａＯＨで４．０に調節し
た。

【００５３】この溶液を実施例２に記載の平版基材に適
用し、それにより０．５ｇ／ｍ²の全体の厚さを得た。
この層を噴霧プロセスの間及び更に１０分間７０℃の空
気温度で乾燥した。使用した噴霧ノズルはＳｐｒａｙｉ
ｎｇＳｙｓｔｅｍｓＢｅｌｇｉｕｍ，Ｂｒｕｓｓｅ
ｌｓで商業的に入手可能なエアアシスト噴霧ノズルであ
るＳＵＶ７６型であった。

【００５４】

【化３】

【００５５】結果前記した如きコーティング、露出及び印刷の第２サイク
ルの後、クリーニング品質、コーティング品質及び印刷
品質を視覚による検査により評価した。この評価では、
評価（ｑｕｏｔａｔｉｏｎ）は０〜５で与えられ、ここ
で、０の値は極めて良好な品質を表し、そして５の値は
極めた悪い品質を表す。クリーニングの品質は、第１サ
イクル後に得られた基材の清浄さを検査することにより
評価された。コーティングの品質は第２サイクルでコー
ティングされた層の滑らかさを検査することにより決定
された。そして印刷の品質は、第２サイクルにおける汚
れ挙動（ｓｔａｉｎｉｎｇｂｅｈａｖｉｏｒ）及びゴ
ースト像の存在を見ることにより決定された。

【００５６】

【表１】

【００５７】上記の結果はクリーニング及び印刷品質の
実質的な改良が、ＴｉＯ₂の如き金属酸化物を含有する
架橋された親水性層を有する支持体を提供することによ
り達成されうることを示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ２３Ｆ 4/02 Ｃ２３Ｆ 4/02 // Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/42 7/42 (72)発明者エリク・ベルシユエレンベルギー・ビー2640モルトセル・セプテストラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者マルク・バン・ダメベルギー・ビー2640モルトセル・セプテストラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ内Ｆターム(参考） 2H084 AA14 AA36 AE05 BB02 BB04 CC05 2H096 AA07 AA20 BA16 BA20 EA04 JA04 LA06 2H114 AA04 AA23 BA02 DA04 DA08 DA34 DA52 DA73 GA29 4K044 AA06 AB02 AB10 BA12 BA21 BB10 BB11 BB16 BC00 CA44 CA62 CA64 4K057 DA01 DA20 DB11 DD06 DN03 DN10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザー融除により印刷マスターからイ
ンキ受容区域を除去する方法であって、印刷マスターは
支持体とベース層を具備する基材を含んでなり、該ベー
ス層は架橋された親水性結合剤及び金属酸化物を含有す
ることを特徴とする方法。
【請求項２】（ａ）支持体と、架橋された親水性結合
剤及び金属酸化物を含有するベース層とを具備する基材
を用意し、（ｂ）ベース層上に１つ又はそれ以上の層を適用し、そ
れにより像形成材料を得、（ｃ）像形成材料を熱又は光に像通りに露出しそして場
合により像形成材料を処理することによりインキ受容区
域を有する印刷マスターを作製し、（ｄ）印刷し、（ｅ）レーザー融除により印刷マスターからインキ受容
区域を除去し、（ｆ）段階（ａ）〜（ｄ）を繰り返す、ことにより再使
用可能な基材で平版印刷する方法。
【請求項３】像形成材料が、疎水性熱可塑性ポリマー
粒子又はアリールジアゾスルホネートポリマーを含んで
なる像記録層を含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】段階（ｅ）の期間中、融除砕片及び／又
は煙を真空装置により除去する請求項２又は３に記載の
方法。
【請求項５】レーザーが赤外レーザーである請求項１
〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】レーザーがパルスレーザーである請求項
１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】金属がＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ又はそれらの混
合物である請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】ベース層が金属の水酸化物を更に含んで
なる請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】支持体がプラスチック支持体、アルミニ
ウム支持体又はプラスチック及びアルミニウム支持体の
ラミネートである請求項１〜８のいずれかに記載の方
法。
【請求項１０】アルミニウム支持体が研磨されそして
陽極酸化されたアルミニウム支持体である請求項９に記
載の方法。