JP2001232963A - 再使用可能な基質を用いる平版印刷法 - Google Patents
再使用可能な基質を用いる平版印刷法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 印刷マスターのインキ−受容性領域を有効に
除去し、基質を次の印刷サイクルで再使用することがで
きる清浄化段階を含んでなり、印刷機及び清浄化装置の
ハードウェアに影響を与えない清浄化液を用いる平版印
刷法を提供すること。 【解決手段】 印刷マスターの平版基質のリサイクルを
可能にする平版印刷のダイレクト−ツウ−プレート法を
開示する。該方法は、 (a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び親水性結合剤を
含んでなりコーティング溶液を親水性基質上にコーティ
ングすることによりネガティブ−作用性画像形成材料を
作製し; (b)画像形成材料を画像通りに露出することによって
インキ−受容性領域を有する印刷マスターを作製し; (c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し; (d)少なくとも6個の炭素原子を含んでなる構造を有
する脂肪族もしくは芳香族化合物を供給することによっ
て印刷マスターからインキ−受容性領域を除去する 段階を含んでなる。上記の段階は好ましくはオン−プレ
スで行われる。
除去し、基質を次の印刷サイクルで再使用することがで
きる清浄化段階を含んでなり、印刷機及び清浄化装置の
ハードウェアに影響を与えない清浄化液を用いる平版印
刷法を提供すること。 【解決手段】 印刷マスターの平版基質のリサイクルを
可能にする平版印刷のダイレクト−ツウ−プレート法を
開示する。該方法は、 (a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び親水性結合剤を
含んでなりコーティング溶液を親水性基質上にコーティ
ングすることによりネガティブ−作用性画像形成材料を
作製し; (b)画像形成材料を画像通りに露出することによって
インキ−受容性領域を有する印刷マスターを作製し; (c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し; (d)少なくとも6個の炭素原子を含んでなる構造を有
する脂肪族もしくは芳香族化合物を供給することによっ
て印刷マスターからインキ−受容性領域を除去する 段階を含んでなる。上記の段階は好ましくはオン−プレ
スで行われる。
Description
【0001】
【発明の分野】本発明は印刷マスターの平版基質をリサ
イクルするための清浄化法に関する。
イクルするための清浄化法に関する。
【0002】
【発明の背景】通常の平版印刷においては、インキ及び
水性湿し液がインキ−受容性(親油性)及び水−受容性
(親水性)領域を含有する印刷マスターの表面に供給さ
れる。インキ供給された画像パターンを次いでマスター
の表面から圧縮可能な表面を有するゴム胴に転写する。
画像はゴム胴から紙の上に刷られる。マスターは典型的
にはアルミニウムシートのような寸法的に安定な基質上
に画像を保有する印刷版である。画像形成されたアルミ
ニウム版は機械的締め付け機構により印刷機の版胴に固
定され、機械的締め付け機構は版と胴の表面の間の位置
的見当合わせを定める。印刷機−運転の終了後、機械的
締め付けシステムを解放し、印刷画像を保有する印刷版
を取り出して捨て、別の印刷版を位置付け、適所に締め
付けることができる。次いで新しい印刷の仕事を開始す
ることができる。
水性湿し液がインキ−受容性(親油性)及び水−受容性
(親水性)領域を含有する印刷マスターの表面に供給さ
れる。インキ供給された画像パターンを次いでマスター
の表面から圧縮可能な表面を有するゴム胴に転写する。
画像はゴム胴から紙の上に刷られる。マスターは典型的
にはアルミニウムシートのような寸法的に安定な基質上
に画像を保有する印刷版である。画像形成されたアルミ
ニウム版は機械的締め付け機構により印刷機の版胴に固
定され、機械的締め付け機構は版と胴の表面の間の位置
的見当合わせを定める。印刷機−運転の終了後、機械的
締め付けシステムを解放し、印刷画像を保有する印刷版
を取り出して捨て、別の印刷版を位置付け、適所に締め
付けることができる。次いで新しい印刷の仕事を開始す
ることができる。
【0003】印刷マスターは、一般に、いわゆるコンピ
ューター−ツウ−フィルム法(computer−to
−film method)により得られ、その方法で
はそれぞれの色選択がイメージ−セッターを用いてグラ
フィックアートフィルムに転写される。処理の後にフィ
ルムを版前駆体と呼ばれる画像形成材料の露出のための
マスクとして用いることができ、版の処理の後に、マス
ターとして用いることができる印刷版が得られる。通常
これらの段階は専用の露出及び処理装置で行われ、次い
で印刷版は印刷機に輸送され、胴自身の中に組み込まれ
た締め付け機構を用いて印刷機オペレーターにより印刷
胴に取り付けられる。印刷胴の取り付けは一般に手動の
操作であるが、印刷版の位置付け及び固定のためにロボ
ット的手段が開発されている。
ューター−ツウ−フィルム法(computer−to
−film method)により得られ、その方法で
はそれぞれの色選択がイメージ−セッターを用いてグラ
フィックアートフィルムに転写される。処理の後にフィ
ルムを版前駆体と呼ばれる画像形成材料の露出のための
マスクとして用いることができ、版の処理の後に、マス
ターとして用いることができる印刷版が得られる。通常
これらの段階は専用の露出及び処理装置で行われ、次い
で印刷版は印刷機に輸送され、胴自身の中に組み込まれ
た締め付け機構を用いて印刷機オペレーターにより印刷
胴に取り付けられる。印刷胴の取り付けは一般に手動の
操作であるが、印刷版の位置付け及び固定のためにロボ
ット的手段が開発されている。
【0004】近年、いわゆるダイレクト刷版(comp
uter−to−plate)法が多くの興味を得てき
た。ダイレクト−ツウ−プレート(direct−to
−plate)法とも呼ばれるこの方法は、デジタルデ
ータがいわゆるプレート−セッターを用いて版前駆体に
直接転移されるので、フィルムの作製を迂回する。オン
−プレス画像形成は、版が印刷機の版胴上に搭載されて
いる間に版上で画像を露出するダイレクト−ツウ−プレ
ート法(ダイレクト−ツウ−プレス(direct−t
o−press)とも呼ばれる)である。後者の方法
の、オフ−プレス版−作製と比較した場合の主な利点
は、多色印刷機の印刷ステーションの間の見当合わせの
改良である。
uter−to−plate)法が多くの興味を得てき
た。ダイレクト−ツウ−プレート(direct−to
−plate)法とも呼ばれるこの方法は、デジタルデ
ータがいわゆるプレート−セッターを用いて版前駆体に
直接転移されるので、フィルムの作製を迂回する。オン
−プレス画像形成は、版が印刷機の版胴上に搭載されて
いる間に版上で画像を露出するダイレクト−ツウ−プレ
ート法(ダイレクト−ツウ−プレス(direct−t
o−press)とも呼ばれる)である。後者の方法
の、オフ−プレス版−作製と比較した場合の主な利点
は、多色印刷機の印刷ステーションの間の見当合わせの
改良である。
【0005】2つの型のそのようなオン−プレス画像形
成法は既知である。第1の型に従うと、印刷版前駆体が
印刷機上に搭載され、画像通りに露出され、場合により
現像され、次いで印刷マスターとして使用され、最後に
印刷機から取り出されて廃棄され、かくして各画像のた
めに新しい版材料が必要である。この技術の例は、He
idelberg Druckmaschinen A
G(Germany)により製造されている周知のHe
idelberg Model GTO−DIであり、
US 5,339,737に詳細に記載されている。こ
の方法の欠点は、それぞれの印刷機−運転のために新し
い版を使用することが必要であり、かくして印刷プロセ
スの経費を増加させることである。
成法は既知である。第1の型に従うと、印刷版前駆体が
印刷機上に搭載され、画像通りに露出され、場合により
現像され、次いで印刷マスターとして使用され、最後に
印刷機から取り出されて廃棄され、かくして各画像のた
めに新しい版材料が必要である。この技術の例は、He
idelberg Druckmaschinen A
G(Germany)により製造されている周知のHe
idelberg Model GTO−DIであり、
US 5,339,737に詳細に記載されている。こ
の方法の欠点は、それぞれの印刷機−運転のために新し
い版を使用することが必要であり、かくして印刷プロセ
スの経費を増加させることである。
【0006】第2の型のオン−プレス画像形成システム
の場合、複数の印刷機−運転(下記では印刷サイクルと
呼ぶ)において同じ平版基質が用いられる。各印刷サイ
クルにおいて、感熱もしくは感光層が平版基質上にコー
ティングされて印刷版前駆体が作製され、画像通りの露
出及び場合による現像の後、印刷マスターが得られる。
印刷機−運転の後、印刷マスターのインキ−受容性領域
は清浄化段階において平版基質から除去され、基質はリ
サイクルされ、胴上に新しい版を搭載する必要なくコー
ティング、露出及び印刷の次のサイクルでそれを用いる
ことができる。そのようなオン−プレスコーティング及
びオン−プレス画像形成システムの例は、例えば、US
5,188,033;US 5,713,287;E
P−A786 337及びEP−A 802 457に
記載されている。後者の特許出願は、印刷部材、均一な
コーティングを適用するための手段、該均一なコーティ
ングを画像パターンに従って走査通りに露出するための
手段及び該均一なコーティングを現像して該印刷部材上
に画像を残すための手段を含んでなる装置を記載してお
り、画像はインキ−反発性背景上のインキ−受容性領域
あるいはインキ−受容性背景上のインキ−反発性領域か
ら成る。好ましい態様に従うと、コーティングは親水性
結合剤中に疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含んでなる。
の場合、複数の印刷機−運転(下記では印刷サイクルと
呼ぶ)において同じ平版基質が用いられる。各印刷サイ
クルにおいて、感熱もしくは感光層が平版基質上にコー
ティングされて印刷版前駆体が作製され、画像通りの露
出及び場合による現像の後、印刷マスターが得られる。
印刷機−運転の後、印刷マスターのインキ−受容性領域
は清浄化段階において平版基質から除去され、基質はリ
サイクルされ、胴上に新しい版を搭載する必要なくコー
ティング、露出及び印刷の次のサイクルでそれを用いる
ことができる。そのようなオン−プレスコーティング及
びオン−プレス画像形成システムの例は、例えば、US
5,188,033;US 5,713,287;E
P−A786 337及びEP−A 802 457に
記載されている。後者の特許出願は、印刷部材、均一な
コーティングを適用するための手段、該均一なコーティ
ングを画像パターンに従って走査通りに露出するための
手段及び該均一なコーティングを現像して該印刷部材上
に画像を残すための手段を含んでなる装置を記載してお
り、画像はインキ−反発性背景上のインキ−受容性領域
あるいはインキ−受容性背景上のインキ−反発性領域か
ら成る。好ましい態様に従うと、コーティングは親水性
結合剤中に疎水性熱可塑性ポリマー粒子を含んでなる。
【0007】既知のオン−プレスコーティング法では、
多くの場合に平版基質の清浄化に失敗し、それは一方で
除去されるべきインキ−受容性領域に対する清浄化液の
化学的反応性及び他方で脆い平版表面に対して必要な該
清浄化液の不活性性の間の適した妥協を見いだすことが
できないからである。典型的な平版表面は機械的ならび
に化学的に非常に傷つき易い。平版表面は、一般に、イ
ンキ及び湿し液の拡散特性(spreading pr
operties)を分化させるために、微孔構造から
なる。陽極酸化されたアルミニウム版は、上で吸収現象
が起こり得る1種もしくはそれより多い金属酸化物を含
有する平版表面を含んでなる。これらの金属酸化物は、
もはや平版印刷的に活性でない形態への化学的変換を非
常に受け易い。
多くの場合に平版基質の清浄化に失敗し、それは一方で
除去されるべきインキ−受容性領域に対する清浄化液の
化学的反応性及び他方で脆い平版表面に対して必要な該
清浄化液の不活性性の間の適した妥協を見いだすことが
できないからである。典型的な平版表面は機械的ならび
に化学的に非常に傷つき易い。平版表面は、一般に、イ
ンキ及び湿し液の拡散特性(spreading pr
operties)を分化させるために、微孔構造から
なる。陽極酸化されたアルミニウム版は、上で吸収現象
が起こり得る1種もしくはそれより多い金属酸化物を含
有する平版表面を含んでなる。これらの金属酸化物は、
もはや平版印刷的に活性でない形態への化学的変換を非
常に受け易い。
【0008】上記の平版表面の微孔性は機械的損傷も非
常に受け易い。平版表面の有効な機械的清浄化のために
多くの場合に必要である清浄化液中における固体粒子の
存在は、該表面の微細−構造の撹乱を必然的に生ずる。
インキ及びコーティングされた画像形成層は微−孔構造
中に浸透するので、続く印刷サイクルにおいて前の画像
の不十分な除去の故である幽霊画像を避けるために、激
しい清浄化を行うことが必要である。
常に受け易い。平版表面の有効な機械的清浄化のために
多くの場合に必要である清浄化液中における固体粒子の
存在は、該表面の微細−構造の撹乱を必然的に生ずる。
インキ及びコーティングされた画像形成層は微−孔構造
中に浸透するので、続く印刷サイクルにおいて前の画像
の不十分な除去の故である幽霊画像を避けるために、激
しい清浄化を行うことが必要である。
【0009】さらに、既知の清浄化液は、典型的に、ホ
ース類、ポンプ類及びシーリング類に対して有害な溶剤
を含有し、ならびに/あるいはこれらの液は次の印刷サ
イクルにおけるコーティング段階と適合しないので、水
を用いて非常に徹底的に濯ぐ必要がある。
ース類、ポンプ類及びシーリング類に対して有害な溶剤
を含有し、ならびに/あるいはこれらの液は次の印刷サ
イクルにおけるコーティング段階と適合しないので、水
を用いて非常に徹底的に濯ぐ必要がある。
【0010】
【発明の概略】本発明の目的は、印刷マスターのインキ
−受容性領域を有効に除去して次の印刷サイクルで基質
を再使用することができる清浄化段階を含んでなる平版
印刷法を提供することである。さらに特定的には、基質
の平版表面を劣化させる危険の低いことを特徴とする清
浄化段階が必要である。印刷機のハードウェア又は清浄
化装置に影響しない清浄化液、特にゴムに対して不活性
であり、且つ清浄化の後に長い濯ぎ段階を必要としない
液を用いる印刷法を提供することも本発明の目的であ
る。
−受容性領域を有効に除去して次の印刷サイクルで基質
を再使用することができる清浄化段階を含んでなる平版
印刷法を提供することである。さらに特定的には、基質
の平版表面を劣化させる危険の低いことを特徴とする清
浄化段階が必要である。印刷機のハードウェア又は清浄
化装置に影響しない清浄化液、特にゴムに対して不活性
であり、且つ清浄化の後に長い濯ぎ段階を必要としない
液を用いる印刷法を提供することも本発明の目的であ
る。
【0011】上記の目的は請求項1の方法により達成さ
れる。請求項1に定義した清浄化液は、請求項1に定義
した印刷マスターのインキ−受容性領域を有効に除去す
る。コーティング、露出、印刷及び清浄化の数回の(>
10)印刷サイクルの後、幽霊画像は観察されない。ゴ
ムホース類及びシール類は清浄化液により影響を受け
ず、場合による濯ぎ段階では、少量の水で十分である。
れる。請求項1に定義した清浄化液は、請求項1に定義
した印刷マスターのインキ−受容性領域を有効に除去す
る。コーティング、露出、印刷及び清浄化の数回の(>
10)印刷サイクルの後、幽霊画像は観察されない。ゴ
ムホース類及びシール類は清浄化液により影響を受け
ず、場合による濯ぎ段階では、少量の水で十分である。
【0012】本発明のさらなる目的は、以下の記述から
明らかになるであろう。
明らかになるであろう。
【0013】本発明の方法の好ましい態様を従属クレイ
ムにおいて定義する。
ムにおいて定義する。
【0014】
【発明の詳細な記述】本発明の方法で用いられる清浄化
液は、少なくとも6個の炭素原子及び好ましくは少なく
とも1つの二重結合を含んでなる構造を有する脂肪族も
しくは芳香族化合物を含有する。そのような化合物の適
した例は:トルエン、キシレン、プロピルベンゼン、メ
チルヘキサン、3−メチル−6−イソプロピル−1,4
−シクロヘキサジエン、3−(1−メチルプロピリデ
ン)−シクロヘキセン、6−メチル−1−(1−メチル
エチル)−1,3−シクロヘキサジエン、4−メチル−
5−(1−メチルエテニル)−シクロヘキセン、o−メ
ンタ−4,6−ジエン、o−メンタ−2(8),3−ジ
エン、o−メンタ−1(7),4−ジエン、6−メチル
−1−(1−メチルエテニル)−シクロヘキセン、1−
メチル−5−(1−メチルエチル)−1,4−シクロヘ
キサジエン、イソシルベストレン、4−エチル−3−エ
チリデン−シクロヘキセン、1−エチル−6−エチリデ
ン−シクロヘキセン、o−メンタ−3,6−ジエン、o
−メンタ−2,5−ジエン、o−メンタ−1,4−ジエ
ン、3−メチル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキ
セン、3−メチル−5−イソプロペニル−1−シクロヘ
キセン、2−メチル−3−プロピル−1,3−シクロヘ
キサジエン、1−メチル−6−プロピリデン−シクロヘ
キセン、テトラナフタレン、イソホロン、リモネン及び
メシチレンである。リモネン(式I)及びそれらの誘導
体が非常に好ましい。
液は、少なくとも6個の炭素原子及び好ましくは少なく
とも1つの二重結合を含んでなる構造を有する脂肪族も
しくは芳香族化合物を含有する。そのような化合物の適
した例は:トルエン、キシレン、プロピルベンゼン、メ
チルヘキサン、3−メチル−6−イソプロピル−1,4
−シクロヘキサジエン、3−(1−メチルプロピリデ
ン)−シクロヘキセン、6−メチル−1−(1−メチル
エチル)−1,3−シクロヘキサジエン、4−メチル−
5−(1−メチルエテニル)−シクロヘキセン、o−メ
ンタ−4,6−ジエン、o−メンタ−2(8),3−ジ
エン、o−メンタ−1(7),4−ジエン、6−メチル
−1−(1−メチルエテニル)−シクロヘキセン、1−
メチル−5−(1−メチルエチル)−1,4−シクロヘ
キサジエン、イソシルベストレン、4−エチル−3−エ
チリデン−シクロヘキセン、1−エチル−6−エチリデ
ン−シクロヘキセン、o−メンタ−3,6−ジエン、o
−メンタ−2,5−ジエン、o−メンタ−1,4−ジエ
ン、3−メチル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキ
セン、3−メチル−5−イソプロペニル−1−シクロヘ
キセン、2−メチル−3−プロピル−1,3−シクロヘ
キサジエン、1−メチル−6−プロピリデン−シクロヘ
キセン、テトラナフタレン、イソホロン、リモネン及び
メシチレンである。リモネン(式I)及びそれらの誘導
体が非常に好ましい。
【0015】
【化1】
【0016】ガソリン蒸留物もまた有用な化合物、例え
ば −Cyclosol 150(Shell Chemi
cals,Rotterdamからの商標)、142〜
150℃の引火点及び182℃の初留点を有する蒸留
物;この蒸留物は少なくとも8個の炭素原子を有する化
合物を99.8%含んでなる、 −Cyclosol 100(やはりShell Ch
emicalsからの商標)、111℃の引火点及び1
60℃の初留点を有する蒸留物;この蒸留物は少なくと
も8個の炭素原子を有する化合物を99.4%含んでな
る、 −160〜230℃の沸点範囲内の水素処理された(hyd
rotreated)ガソリン蒸留物、例えばShell Sol
142T(範囲160〜188℃)、 −160〜188℃の蒸留範囲内のミネラルスピリッ
ト、 −60〜140℃の蒸留範囲を有するパラフィン類、シ
クロパラフィン類及び/又は芳香族化合物のブレンドを
与える。
ば −Cyclosol 150(Shell Chemi
cals,Rotterdamからの商標)、142〜
150℃の引火点及び182℃の初留点を有する蒸留
物;この蒸留物は少なくとも8個の炭素原子を有する化
合物を99.8%含んでなる、 −Cyclosol 100(やはりShell Ch
emicalsからの商標)、111℃の引火点及び1
60℃の初留点を有する蒸留物;この蒸留物は少なくと
も8個の炭素原子を有する化合物を99.4%含んでな
る、 −160〜230℃の沸点範囲内の水素処理された(hyd
rotreated)ガソリン蒸留物、例えばShell Sol
142T(範囲160〜188℃)、 −160〜188℃の蒸留範囲内のミネラルスピリッ
ト、 −60〜140℃の蒸留範囲を有するパラフィン類、シ
クロパラフィン類及び/又は芳香族化合物のブレンドを
与える。
【0017】上記の化合物をそのままで、又は水中のエ
マルションとして印刷マスターに供給することができ、
該エマルションは好ましくは5重量%〜80重量%の単
数もしくは複数の上記の化合物、より好ましくは10重
量%〜50重量%、そして最も好ましくは20重量%〜
35重量%の単数もしくは複数の上記の化合物を含んで
なる。エマルションは好ましくは乳化剤を用いて安定化
されるか、あるいはそうでなければ清浄化段階の直前に
新しく調製される。
マルションとして印刷マスターに供給することができ、
該エマルションは好ましくは5重量%〜80重量%の単
数もしくは複数の上記の化合物、より好ましくは10重
量%〜50重量%、そして最も好ましくは20重量%〜
35重量%の単数もしくは複数の上記の化合物を含んで
なる。エマルションは好ましくは乳化剤を用いて安定化
されるか、あるいはそうでなければ清浄化段階の直前に
新しく調製される。
【0018】清浄化液は好ましくはまた0.001重量
%〜5重量%の量で界面活性剤も含んでなる。
%〜5重量%の量で界面活性剤も含んでなる。
【0019】上記の清浄化液は、疎水性熱可塑性ポリマ
ー粒子及び親水性結合剤を含有するコーティング溶液を
親水性基質にコーティングすることにより得られる印刷
マスターからインキ−受容性領域を除去するのに非常に
適している。かくして得られる画像形成材料はネガティ
ブ−作用性であり、すなわち露出されると疎水性領域が
形成される。これらの領域はマスターの印刷領域を区画
する。適用される熱が疎水性ポリマー粒子の凝析を引き
起こし、それによって疎水性相を形成するが、非−加熱
領域では疎水性ポリマー粒子が変化しないままであると
思われる。凝析は熱可塑性ポリマー粒子の熱−誘導軟化
もしくは融解から生じ得る。
ー粒子及び親水性結合剤を含有するコーティング溶液を
親水性基質にコーティングすることにより得られる印刷
マスターからインキ−受容性領域を除去するのに非常に
適している。かくして得られる画像形成材料はネガティ
ブ−作用性であり、すなわち露出されると疎水性領域が
形成される。これらの領域はマスターの印刷領域を区画
する。適用される熱が疎水性ポリマー粒子の凝析を引き
起こし、それによって疎水性相を形成するが、非−加熱
領域では疎水性ポリマー粒子が変化しないままであると
思われる。凝析は熱可塑性ポリマー粒子の熱−誘導軟化
もしくは融解から生じ得る。
【0020】本発明の清浄化液は印刷領域上に残るイン
キならびに印刷領域のインキ−受容性を生ぜしめる疎水
性相自身を除去することができる。
キならびに印刷領域のインキ−受容性を生ぜしめる疎水
性相自身を除去することができる。
【0021】本発明で用いられる画像形成材料は、好ま
しくは40nm〜2000nm、そしてより好ましくは
40nm〜200nmの平均粒度を有する疎水性熱可塑
性ポリマー粒子を含有し、感度及び処理量を向上させ、
スカム形成を避ける。さらに、ポリマー粒子は好ましく
は50℃より高い、そしてより好ましくは70℃より高
い凝析温度を有する。ポリマー粒子の凝析温度に特定の
上限はないが、該温度はポリマー粒子の分解温度より十
分に低くなければならない。好ましくは凝析温度は、ポ
リマー粒子の分解が起こる温度より少なくとも10℃低
い。
しくは40nm〜2000nm、そしてより好ましくは
40nm〜200nmの平均粒度を有する疎水性熱可塑
性ポリマー粒子を含有し、感度及び処理量を向上させ、
スカム形成を避ける。さらに、ポリマー粒子は好ましく
は50℃より高い、そしてより好ましくは70℃より高
い凝析温度を有する。ポリマー粒子の凝析温度に特定の
上限はないが、該温度はポリマー粒子の分解温度より十
分に低くなければならない。好ましくは凝析温度は、ポ
リマー粒子の分解が起こる温度より少なくとも10℃低
い。
【0022】本発明で用いるための熱可塑性疎水性ポリ
マー粒子の好ましい例は、80℃より高いTgを有す
る。ポリマーの重量平均分子量は5,000〜5,00
0,000g/モルの範囲であることができる。好まし
くはポリマー粒子はポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリビニルカルバゾールなど、及びそれらのコポリ
マー又は混合物より成る群から選ばれる。最も好ましい
例はポリスチレン及びポリメチルメタクリレート又はそ
れらのコポリマーである。
マー粒子の好ましい例は、80℃より高いTgを有す
る。ポリマーの重量平均分子量は5,000〜5,00
0,000g/モルの範囲であることができる。好まし
くはポリマー粒子はポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリロニトリ
ル、ポリビニルカルバゾールなど、及びそれらのコポリ
マー又は混合物より成る群から選ばれる。最も好ましい
例はポリスチレン及びポリメチルメタクリレート又はそ
れらのコポリマーである。
【0023】ポリマー粒子はコーティング溶液中の分散
液として存在し、US 3,476,937に開示され
ている方法により調製され得る。熱可塑性ポリマー粒子
の水性分散液の調製のために特に適した他の方法は: −疎水性熱可塑性ポリマーを水と混合しない有機溶媒中
に溶解し、 −かくして得られる溶液を水又は水性媒体に分散させ、 −蒸発により有機溶媒を除去することを含んでなる。
液として存在し、US 3,476,937に開示され
ている方法により調製され得る。熱可塑性ポリマー粒子
の水性分散液の調製のために特に適した他の方法は: −疎水性熱可塑性ポリマーを水と混合しない有機溶媒中
に溶解し、 −かくして得られる溶液を水又は水性媒体に分散させ、 −蒸発により有機溶媒を除去することを含んでなる。
【0024】本発明で用いるための適した親水性結合剤
は、好ましくは、水溶性(コ)ポリマー、例えばポリビ
ニルアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メ
タ)アクリルアミド、ポリヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、ポリビニルメチルエーテルのような合成ホ
モ−もしくはコポリマー、あるいは天然結合剤、例えば
ゼラチン、多糖類、例えばデキストラン、プルラン、セ
ルロース、アラビアゴム、アルギン酸、イヌリンもしく
は化学的に改質されたイヌリンである。
は、好ましくは、水溶性(コ)ポリマー、例えばポリビ
ニルアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メ
タ)アクリルアミド、ポリヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、ポリビニルメチルエーテルのような合成ホ
モ−もしくはコポリマー、あるいは天然結合剤、例えば
ゼラチン、多糖類、例えばデキストラン、プルラン、セ
ルロース、アラビアゴム、アルギン酸、イヌリンもしく
は化学的に改質されたイヌリンである。
【0025】コーティング溶液は好ましくは界面活性剤
を含有し、それはアニオン性、カチオン性、非イオン性
もしくは両性であることができる。過フッ素化界面活性
剤が好ましい。特に好ましいのは非イオン性過フッ素化
界面活性剤である。該界面活性剤を単独で又は好ましく
は組み合わせて用いることができる。
を含有し、それはアニオン性、カチオン性、非イオン性
もしくは両性であることができる。過フッ素化界面活性
剤が好ましい。特に好ましいのは非イオン性過フッ素化
界面活性剤である。該界面活性剤を単独で又は好ましく
は組み合わせて用いることができる。
【0026】コーティングされた層の被覆率は好ましく
は0.3〜20g/m2、より好ましくは0.5〜5g
/m2の範囲である。コーティングされた層中に含有さ
れる疎水性熱可塑性ポリマー粒子の量は、好ましくは該
層の合計重量の2〜40重量%、そしてより好ましくは
10〜20重量%である。
は0.3〜20g/m2、より好ましくは0.5〜5g
/m2の範囲である。コーティングされた層中に含有さ
れる疎水性熱可塑性ポリマー粒子の量は、好ましくは該
層の合計重量の2〜40重量%、そしてより好ましくは
10〜20重量%である。
【0027】上記のコーティング溶液を基質上に噴霧又
は噴射することができるが、他の既知のコーティング法
も可能である。
は噴射することができるが、他の既知のコーティング法
も可能である。
【0028】本発明で用いられる基質はプラスチック支
持体もしくはセラミックであることができるが、好まし
くはアルミニウムのような金属である。基質は親水性表
面を有し、好ましくは少なくとも0.2μm、より好ま
しくは少なくとも0.3μmの粗さの値により特徴付け
られ、例えば電気化学的及び/又は機械的に研磨され、
且つ陽極酸化されたアルミニウムである。基質は版のよ
うなシート様材料であることができるが、代わりに、コ
ーティング溶液を回転印刷機の版胴に直接適用すること
ができ、それによって該胴は基質として働く。平版基質
はシームレススリーブ印刷版であることもでき、それは
例えばレーザーを用いて版を円筒形にはんだ付けするこ
とによって得られる。次いで、通常の印刷版を搭載する
代わりに、スリーブを版胴の回りで滑らせることができ
る。スリーブに関するさらなる詳細は、“Grafis
ch Nieuws”,15,1995,page 4
〜6に示されている。
持体もしくはセラミックであることができるが、好まし
くはアルミニウムのような金属である。基質は親水性表
面を有し、好ましくは少なくとも0.2μm、より好ま
しくは少なくとも0.3μmの粗さの値により特徴付け
られ、例えば電気化学的及び/又は機械的に研磨され、
且つ陽極酸化されたアルミニウムである。基質は版のよ
うなシート様材料であることができるが、代わりに、コ
ーティング溶液を回転印刷機の版胴に直接適用すること
ができ、それによって該胴は基質として働く。平版基質
はシームレススリーブ印刷版であることもでき、それは
例えばレーザーを用いて版を円筒形にはんだ付けするこ
とによって得られる。次いで、通常の印刷版を搭載する
代わりに、スリーブを版胴の回りで滑らせることができ
る。スリーブに関するさらなる詳細は、“Grafis
ch Nieuws”,15,1995,page 4
〜6に示されている。
【0029】平版基質上に上記のコーティング溶液をコ
ーティングすることにより得られる画像形成材料の露出
は、例えばサーマルヘッドを用いる直接熱記録により、
あるいは強力光を照射することにより行われ得る。後者
の態様における、感熱材料は好ましくは光を熱に変換で
きる化合物、好ましくは画像通りの露出にために用いら
れる光源の波長領域内で十分な吸収を有する化合物を含
んでなる。特に有用な化合物は、例えば、染料、そして
特にEP−A 908 307に開示されているような
赤外染料、ならびに顔料、そして特にカーボンブラッ
ク、金属炭化物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロ
ンズ−構造酸化物及び構造的にブロンズ群に関連するが
A成分がない酸化物、例えばWO2.9のような赤外顔料
である。導電性ポリマー分散液、例えばポリピロール又
はポリアニリンに基づく導電性ポリマー分散液を用いる
こともできる。得られる平版印刷性能、そして特に印刷
耐久性は中でも画像形成要素の感熱性に依存する。これ
に関し、カーボンブラックが非常に優れた好ましい結果
を与えることが見いだされた。
ーティングすることにより得られる画像形成材料の露出
は、例えばサーマルヘッドを用いる直接熱記録により、
あるいは強力光を照射することにより行われ得る。後者
の態様における、感熱材料は好ましくは光を熱に変換で
きる化合物、好ましくは画像通りの露出にために用いら
れる光源の波長領域内で十分な吸収を有する化合物を含
んでなる。特に有用な化合物は、例えば、染料、そして
特にEP−A 908 307に開示されているような
赤外染料、ならびに顔料、そして特にカーボンブラッ
ク、金属炭化物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロ
ンズ−構造酸化物及び構造的にブロンズ群に関連するが
A成分がない酸化物、例えばWO2.9のような赤外顔料
である。導電性ポリマー分散液、例えばポリピロール又
はポリアニリンに基づく導電性ポリマー分散液を用いる
こともできる。得られる平版印刷性能、そして特に印刷
耐久性は中でも画像形成要素の感熱性に依存する。これ
に関し、カーボンブラックが非常に優れた好ましい結果
を与えることが見いだされた。
【0030】本発明の方法における画像通りの露出は、
好ましくは、レーザーもしくはL.E.D.の使用を含
む画像通りの走査露出である。好適に用いられるのは赤
外もしくは近赤外、例えば700〜1500nmの波長
領域内で働くレーザーである。最も好ましいのは近赤外
で発光するレーザーダイオードである。
好ましくは、レーザーもしくはL.E.D.の使用を含
む画像通りの走査露出である。好適に用いられるのは赤
外もしくは近赤外、例えば700〜1500nmの波長
領域内で働くレーザーである。最も好ましいのは近赤外
で発光するレーザーダイオードである。
【0031】以下において、本発明の印刷サイクルを好
ましい態様に従ってさらに記述する。最初に、研磨され
且つ陽極酸化されたアルミニウム版を回転印刷機の版胴
上に搭載する。次いで、上記のコーティング溶液を版の
親水性平版表面上に噴霧し、連続画像形成層を形成す
る。噴霧パラメーターの好ましい値は、両方とも199
9年9月15日に出願されたEP−A no.9920
3064及びEP−Ano.99203065に定義さ
れている。次いで画像形成層を画像通りに露出し、それ
により露出領域は疎水性インキ−受容性領域に変換され
るが、非露出領域は親水性のままである。疎水性領域は
マスターの印刷領域を区画する。続いて印刷マスターに
インキ及び湿し液を適用することにより印刷を開始す
る。コーティングされた層の非−露出領域を有効に溶解
し、除去するために、印刷機の数回転(約10)の間は
好ましくは湿し液のみを版に供給し、次いでインキも供
給する。印刷機−運転の後、上記の清浄化液を用いる処
理により、平版基質をリサイクルする。最後に基質を濯
ぎ、乾燥することができ、次いでリサイクルされた基質
にコーティング溶液を噴霧することにより、新しい印刷
サイクルを開始することができる。
ましい態様に従ってさらに記述する。最初に、研磨され
且つ陽極酸化されたアルミニウム版を回転印刷機の版胴
上に搭載する。次いで、上記のコーティング溶液を版の
親水性平版表面上に噴霧し、連続画像形成層を形成す
る。噴霧パラメーターの好ましい値は、両方とも199
9年9月15日に出願されたEP−A no.9920
3064及びEP−Ano.99203065に定義さ
れている。次いで画像形成層を画像通りに露出し、それ
により露出領域は疎水性インキ−受容性領域に変換され
るが、非露出領域は親水性のままである。疎水性領域は
マスターの印刷領域を区画する。続いて印刷マスターに
インキ及び湿し液を適用することにより印刷を開始す
る。コーティングされた層の非−露出領域を有効に溶解
し、除去するために、印刷機の数回転(約10)の間は
好ましくは湿し液のみを版に供給し、次いでインキも供
給する。印刷機−運転の後、上記の清浄化液を用いる処
理により、平版基質をリサイクルする。最後に基質を濯
ぎ、乾燥することができ、次いでリサイクルされた基質
にコーティング溶液を噴霧することにより、新しい印刷
サイクルを開始することができる。
【0032】清浄化段階は、既知のブランケット清浄化
システム(blanket cleaning sys
tem)と類似の清浄化装置で実施され得る。その態様
に従うと、布を清浄化液で湿らせ、1〜50、より好ま
しくは2〜10回転の間、2〜50m/分の範囲内の回
転速度において0.1〜5Paの接触圧を用いて印刷版
と接触させる。後に印刷面と清浄化布の間の接触を解
き、布の乾燥且つ清浄な部分が得られるまで布の位置を
動かす(transport)。
システム(blanket cleaning sys
tem)と類似の清浄化装置で実施され得る。その態様
に従うと、布を清浄化液で湿らせ、1〜50、より好ま
しくは2〜10回転の間、2〜50m/分の範囲内の回
転速度において0.1〜5Paの接触圧を用いて印刷版
と接触させる。後に印刷面と清浄化布の間の接触を解
き、布の乾燥且つ清浄な部分が得られるまで布の位置を
動かす(transport)。
【0033】平版基質又は布の上に清浄化液はまた噴
霧、コーティングもしくは噴射することによってもクリ
ーナー(cleaner)を適用することができる。布
以外の吸収媒体を用いてインキ−受容性領域の除去を行
うこともできる。本発明の清浄化液を用いる処理を回転
ブラシのような、あるいは水又は空気、溶剤もしくはド
ライアイスペレットのような揮発性媒体を噴射すること
による機械的こすりの他の手段と組み合わせることによ
っても清浄化を行うことができる。清浄化処理の間に真
空抽出を用いることもできる。
霧、コーティングもしくは噴射することによってもクリ
ーナー(cleaner)を適用することができる。布
以外の吸収媒体を用いてインキ−受容性領域の除去を行
うこともできる。本発明の清浄化液を用いる処理を回転
ブラシのような、あるいは水又は空気、溶剤もしくはド
ライアイスペレットのような揮発性媒体を噴射すること
による機械的こすりの他の手段と組み合わせることによ
っても清浄化を行うことができる。清浄化処理の間に真
空抽出を用いることもできる。
【0034】清浄化段階に好ましくは濯ぎ段階が続き、
その段階では水が基質上に噴霧される。次いで版を、例
えば上記と同じブランケット清浄化システムを用いて布
で乾燥することができる。好ましくは濯ぎ段階は平版表
面をほんのわずかに湿らせることを含み、すなわち50
ml/m2以下の水を版に供給する。濯ぎ段階を数回、
好ましくは2〜5回繰り返すことができる。
その段階では水が基質上に噴霧される。次いで版を、例
えば上記と同じブランケット清浄化システムを用いて布
で乾燥することができる。好ましくは濯ぎ段階は平版表
面をほんのわずかに湿らせることを含み、すなわち50
ml/m2以下の水を版に供給する。濯ぎ段階を数回、
好ましくは2〜5回繰り返すことができる。
【0035】本発明の方法のすべての段階は好ましくは
オン−プレスで行われる。あるいはまた、平版基質を専
用のコーティング装置におけるドラム上に搭載すること
もでき(オフ−プレスコーティング)、続いて画像通り
の露出のためにプレートセッター上に搭載することがで
きる(オフ−プレス露出)。次いでかくして得られる印
刷マスターを印刷機の胴上に搭載することができ、イン
キ及び湿し液を供給することにより印刷を開始する。印
刷機−運転の後、オン−プレスで又は専用の清浄化装置
において上記の通りに版を清浄化することができ、次い
でリサイクルされた基質を再び次の印刷サイクルで用い
ることができる。
オン−プレスで行われる。あるいはまた、平版基質を専
用のコーティング装置におけるドラム上に搭載すること
もでき(オフ−プレスコーティング)、続いて画像通り
の露出のためにプレートセッター上に搭載することがで
きる(オフ−プレス露出)。次いでかくして得られる印
刷マスターを印刷機の胴上に搭載することができ、イン
キ及び湿し液を供給することにより印刷を開始する。印
刷機−運転の後、オン−プレスで又は専用の清浄化装置
において上記の通りに版を清浄化することができ、次い
でリサイクルされた基質を再び次の印刷サイクルで用い
ることができる。
【0036】
【実施例】以下の実施例は本発明をそれに制限すること
なく、本発明を例示するものである。すべての部及びパ
ーセンテージは、他にことわらない限り、重量による。 実施例1 平版基質の調製 0.30mmの厚さのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで3
5℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交
流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/
lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、0.5mμの平均中心線粗さRaを有
する表面トポロジーを形成した。
なく、本発明を例示するものである。すべての部及びパ
ーセンテージは、他にことわらない限り、重量による。 実施例1 平版基質の調製 0.30mmの厚さのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで3
5℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交
流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/
lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に研磨し、0.5mμの平均中心線粗さRaを有
する表面トポロジーを形成した。
【0037】脱イオン水で濯いだ後、300g/lの硫
酸を含有する水溶液を用い、60℃において180秒
間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃において3
0秒間、脱イオン水で濯いだ。
酸を含有する水溶液を用い、60℃において180秒
間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃において3
0秒間、脱イオン水で濯いだ。
【0038】続いて箔を200g/lの硫酸を含有する
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.0g/m2のAl2O3の陽極酸化フィルムを
形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホスホ
ン酸を含有する溶液、及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。 コーティング溶液の調製 ポリスチレンラテックス、色素I及び親水性結合剤を混
合することにより、水中の2.61%溶液を調製した。
噴霧及び乾燥の後、得られる層は75%のポリスチレン
ラテックス、10%の色素I及び15%のGlasco
l E 15TMを含有した。Glascol E 15
はN.V.Allied Colloids Belg
iumから市販されているポリアクリル酸である。
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.0g/m2のAl2O3の陽極酸化フィルムを
形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホスホ
ン酸を含有する溶液、及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。 コーティング溶液の調製 ポリスチレンラテックス、色素I及び親水性結合剤を混
合することにより、水中の2.61%溶液を調製した。
噴霧及び乾燥の後、得られる層は75%のポリスチレン
ラテックス、10%の色素I及び15%のGlasco
l E 15TMを含有した。Glascol E 15
はN.V.Allied Colloids Belg
iumから市販されているポリアクリル酸である。
【0039】色素Iの構造は以下のとおりである:
【0040】
【化2】
【0041】画像形成材料の作製 上記のアルミニウム基質を164m/分の線速度で回転
するドラム上に搭載した。Spraying Syst
ems Belgium(Brussels)から入手
可能な空気−補助スプレーノズル(air−assis
ted spray nozzle)、SUJ1型を用
い、上記の溶液を基質上にコーティングした。スプレー
ノズルを基質から80mmの距離に搭載し、スプレー溶
液の流量を7ml/分に設定した。噴霧の間、ノズルを
1.5m/分の速度で動かし、スプレーヘッド上で7.
58x105Paの空気圧を用いた。コーティングされ
た層を熱風(70℃)の適用により乾燥した。 印刷段階 Creo 3244TM 外部ドラムプレートセッター
で、2400dpi及び150rpmにおいて、15.
5ワットの出力設定を用いて画像形成材料を露出した。
画像形成された版をGTO 46印刷機上で、K+E
800 Skinnexインキ及び湿し液としてRot
amaticを用い、5000のランレングスまで印刷
した。印刷の質は優れていた。 平版基質のリサイクル 版を典型的ブランケット清浄化システムと同等の清浄化
装置のドラム上に搭載した。布を30%のCyclos
ol 150(Shell Chemicals,Ro
tterdamからの商標)の新しく調製された水性エ
マルションで湿らせた。ドラムの5回転の間、0.67
Paの圧力で布を印刷版と接触させることにより清浄化
を行った。布は版に対して20m/分の速度で回転して
いた。次いで30ml/m2の水を濯ぎ液として印刷版
上に噴霧し、続いて湿った版を布の乾燥且つ清浄な部分
と接触させた(清浄化段階の場合と同じ設定、1回
転)。濯ぎ段階をさらに1回繰り返した。 実施例2 清浄化液が30%のリモネンを含んでなる水性エマルシ
ョンであった以外は、実施例1の場合と同じ手順を繰り
返した。 実施例3 2つの清浄化段階を行い:第1段階で水素処理されたガ
ソリン蒸留物、Shell Sol 142Tを供給
し、第2段階で2−N−メチルピロリドンを用いた以外
は、実施例1の場合と同じ手順を繰り返した。続いて水
を用いて5回の濯ぎ段階を行った。 結果 噴霧、画像形成、印刷、清浄化、濯ぎ及び乾燥の上記の
順序を、上記で定義した3種の清浄化液のそれぞれに関
して10回繰り返した。各サイクルの後、版の清浄性、
コーティングの質及び印刷の質(汚染、幽霊画像の存
在)を視覚により評価した。上記の清浄化液のそれぞれ
はこれらの基準のすべてに関して優れた結果を与えた。
するドラム上に搭載した。Spraying Syst
ems Belgium(Brussels)から入手
可能な空気−補助スプレーノズル(air−assis
ted spray nozzle)、SUJ1型を用
い、上記の溶液を基質上にコーティングした。スプレー
ノズルを基質から80mmの距離に搭載し、スプレー溶
液の流量を7ml/分に設定した。噴霧の間、ノズルを
1.5m/分の速度で動かし、スプレーヘッド上で7.
58x105Paの空気圧を用いた。コーティングされ
た層を熱風(70℃)の適用により乾燥した。 印刷段階 Creo 3244TM 外部ドラムプレートセッター
で、2400dpi及び150rpmにおいて、15.
5ワットの出力設定を用いて画像形成材料を露出した。
画像形成された版をGTO 46印刷機上で、K+E
800 Skinnexインキ及び湿し液としてRot
amaticを用い、5000のランレングスまで印刷
した。印刷の質は優れていた。 平版基質のリサイクル 版を典型的ブランケット清浄化システムと同等の清浄化
装置のドラム上に搭載した。布を30%のCyclos
ol 150(Shell Chemicals,Ro
tterdamからの商標)の新しく調製された水性エ
マルションで湿らせた。ドラムの5回転の間、0.67
Paの圧力で布を印刷版と接触させることにより清浄化
を行った。布は版に対して20m/分の速度で回転して
いた。次いで30ml/m2の水を濯ぎ液として印刷版
上に噴霧し、続いて湿った版を布の乾燥且つ清浄な部分
と接触させた(清浄化段階の場合と同じ設定、1回
転)。濯ぎ段階をさらに1回繰り返した。 実施例2 清浄化液が30%のリモネンを含んでなる水性エマルシ
ョンであった以外は、実施例1の場合と同じ手順を繰り
返した。 実施例3 2つの清浄化段階を行い:第1段階で水素処理されたガ
ソリン蒸留物、Shell Sol 142Tを供給
し、第2段階で2−N−メチルピロリドンを用いた以外
は、実施例1の場合と同じ手順を繰り返した。続いて水
を用いて5回の濯ぎ段階を行った。 結果 噴霧、画像形成、印刷、清浄化、濯ぎ及び乾燥の上記の
順序を、上記で定義した3種の清浄化液のそれぞれに関
して10回繰り返した。各サイクルの後、版の清浄性、
コーティングの質及び印刷の質(汚染、幽霊画像の存
在)を視覚により評価した。上記の清浄化液のそれぞれ
はこれらの基準のすべてに関して優れた結果を与えた。
【0042】上記の清浄化液を、ブランケット清浄化シ
ステムで多くの場合に用いられるEPDM(エチレン、
プロピレン及び非共役ジエンのターポリマー)の型のゴ
ムに対する化学的反応性について調べた。ゴムを清浄化
液中に24時間浸けた後、ゴムの重量増加(膨潤の故
の)を測定した。実施例1、2及び3で用いた清浄化液
は最高で0.12%の重量増加を生じ、それは許容され
得るとみなされる。
ステムで多くの場合に用いられるEPDM(エチレン、
プロピレン及び非共役ジエンのターポリマー)の型のゴ
ムに対する化学的反応性について調べた。ゴムを清浄化
液中に24時間浸けた後、ゴムの重量増加(膨潤の故
の)を測定した。実施例1、2及び3で用いた清浄化液
は最高で0.12%の重量増加を生じ、それは許容され
得るとみなされる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペーター・ゲールツ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (10)
- 【請求項1】 (a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び
親水性結合剤を含んでなるコーティング溶液を親水性表
面上にコーティングすることによりネガティブ−作用性
画像形成材料を作製し; (b)画像形成材料を画像通りに露出することによって
インキ−受容性領域を有する印刷マスターを作製し; (c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し; (d)少なくとも6個の炭素原子を含んでなる構造を有
する脂肪族もしくは芳香族化合物を含んでなる清浄化液
を供給することによって印刷マスターからインキ−受容
性領域を除去する段階を含む、親水性表面を有する再使
用可能な基質を用いる平版印刷のダイレクト−ツウ−プ
レート法。 - 【請求項2】 脂肪族もしくは芳香族化合物が少なくと
も1つの二重結合を含んでなる構造を有する請求項1に
従う方法。 - 【請求項3】 清浄化液が少なくとも6個の炭素原子を
含んでなる構造を有する化合物及び水のエマルションで
ある請求項1又は2に従う方法。 - 【請求項4】 基質を水で濯ぐ段階(e)をさらに含ん
でなる請求項1〜3のいずれかに従う方法。 - 【請求項5】 段階(e)の間に、水を50ml/m2
以下の量で基質に供給する請求項4に従う方法。 - 【請求項6】 段階(d)の間に、印刷マスターを布、
回転ブラシのような機械的手段あるいは水又は揮発性媒
体の噴射によりこする請求項1〜5のいずれかに従う方
法。 - 【請求項7】 少なくとも6個の炭素原子を含んでなる
構造を有する化合物がリモネンである請求項1〜6のい
ずれかに従う方法。 - 【請求項8】 基質が回転印刷機の版胴あるいは回転印
刷機の版胴上に搭載された版又はスリーブである請求項
1〜7のいずれかに従う方法。 - 【請求項9】 コーティング溶液又は清浄化液を基質上
に噴霧又は噴射する請求項1〜8のいずれかに従う方
法。 - 【請求項10】 少なくとも6個の炭素原子及び好まし
くは少なくとも1つの二重結合を含んでなる構造を有す
る脂肪族もしくは芳香族化合物を含んでなる液体の平版
印刷版の清浄化のための使用。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP00200177A EP1118471B1 (en) | 2000-01-18 | 2000-01-18 | Method of lithographic printing with a reusable substrate |
EP00200177.4 | 2000-01-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001232963A true JP2001232963A (ja) | 2001-08-28 |
Family
ID=8170922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001006227A Pending JP2001232963A (ja) | 2000-01-18 | 2001-01-15 | 再使用可能な基質を用いる平版印刷法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1118471B1 (ja) |
JP (1) | JP2001232963A (ja) |
DE (1) | DE60016885T2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
TWI413155B (zh) * | 2005-11-22 | 2013-10-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光微影蝕刻用洗淨液及使用其之曝光裝置之洗淨方法 |
US9463643B2 (en) | 2006-02-21 | 2016-10-11 | R.R. Donnelley & Sons Company | Apparatus and methods for controlling application of a substance to a substrate |
US8881651B2 (en) | 2006-02-21 | 2014-11-11 | R.R. Donnelley & Sons Company | Printing system, production system and method, and production apparatus |
WO2007098179A2 (en) | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Cyman Theodore F Jr | Systems and methods for high speed variable printing |
US8967044B2 (en) | 2006-02-21 | 2015-03-03 | R.R. Donnelley & Sons, Inc. | Apparatus for applying gating agents to a substrate and image generation kit |
US8869698B2 (en) | 2007-02-21 | 2014-10-28 | R.R. Donnelley & Sons Company | Method and apparatus for transferring a principal substance |
US9701120B2 (en) | 2007-08-20 | 2017-07-11 | R.R. Donnelley & Sons Company | Compositions compatible with jet printing and methods therefor |
WO2009025821A1 (en) | 2007-08-20 | 2009-02-26 | Rr Donnelley | Apparatus and methods for controlling application of a substance to a substrate |
US9878531B2 (en) | 2013-12-19 | 2018-01-30 | Goss International Americas, Inc. | Reimageable and reusable printing sleeve for a variable cutoff printing press |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0081355B1 (en) * | 1981-12-07 | 1987-04-29 | Intercontinental Chemical Corporation | Method and use of a composition for cleaning and/or reclaiming printing screens |
US5449474A (en) * | 1992-02-21 | 1995-09-12 | Inland Technology, Inc. | Low toxicity solvent composition |
US5713287A (en) * | 1995-05-11 | 1998-02-03 | Creo Products Inc. | Direct-to-Press imaging method using surface modification of a single layer coating |
EP0770495B1 (en) * | 1995-10-24 | 2002-06-19 | Agfa-Gevaert | A method for making a lithographic printing plate involving on press development |
EP0802457A1 (en) * | 1996-04-16 | 1997-10-22 | Agfa-Gevaert N.V. | Appartus for making and imaging a lithographic printing plate |
-
2000
- 2000-01-18 EP EP00200177A patent/EP1118471B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-01-18 DE DE60016885T patent/DE60016885T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-01-15 JP JP2001006227A patent/JP2001232963A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1118471A1 (en) | 2001-07-25 |
DE60016885T2 (de) | 2005-12-15 |
DE60016885D1 (de) | 2005-01-27 |
EP1118471B1 (en) | 2004-12-22 |
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