JP2002046248A - インキジェットによるコンピュータツウプレート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平版印刷版の製造のための簡単で安価な方法
を提供すること。 【解決手段】 流体の小滴を平版受容体の表面にインキ
ジェット印刷により情報通りに分配することを含んで成
る平版印刷版の製造方法において、該流体が親油化剤を
含有し、該親油化剤はその化学構造において該平版受容
体の該表面と反応することができるリン含有基を有する
ことを特徴とする方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はインキジェット印刷
（ｉｎｋ ｊｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）による平版印刷
版（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐ
ｌａｔｅ）の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】印刷の伝統的技術は凸版印刷、グラビア
印刷及びオフセット平版印刷（ｏｆｆｓｅｔ ｌｉｔｈ
ｏｇｒａｐｈｙ）を包含する。これらの印刷方法のすべ
てが、像のパターンにおいてインキを転移させる（ｔｒ
ａｎｓｆｅｒ）ための、通常、効率のために輪転印刷機
（ｒｏｔａｒｙ ｐｒｅｓｓ）の版胴（ｐｌａｔｅ ｃ
ｙｌｉｎｄｅｒ）上に装着された版（ｐｌａｔｅ）を必
要とする。凸版印刷においては、像パターンはインキを
受容しそしてそれを刷り（ｉｍｐｒｅｓｓｉｏｎ）によ
り記録媒体上に転移させる盛り上がった区域（ｒａｉｓ
ｅｄ ａｒｅａｓ）の形態において版上に表される。グ
ラビア印刷シリンダは、対照的に、記録媒体上に付着さ
せるためのインキを受容する一連のウエル（ｗｅｌｌ
ｓ）又は凹み（ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎｓ）を含む。

【０００３】伝統的なオフセット平版印刷の場合には、
印刷されるべき像は撥インキ性（ｉｎｋ ｒｅｐｅｌｌ
ｅｎｔ）［疎油性（ｏｌｅｏｐｈｏｂｉｃ）又は親水
性］バックグラウンド上のインキ受容性（ｉｎｋ ａｃ
ｃｅｐｔｉｎｇ）（親油性）区域のパターンとして版上
に存在する。湿式システムでは、必要な撥インキ性はイ
ンキング（ｉｎｋｉｎｇ）の前に湿し水［ｄａｍｐｉｎ
ｇ（ｏｒ “ｆｏｕｎｔａｉｎ”）ｓｏｌｕｔｉｏｎ］
の最初の適用により与えられる。慣用のプリセンシタイ
ズ平版印刷版（ｐｒｅｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ ｌｉｔｈ
ｏｇｒａｐｈｉｃｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔｅ）はフ
ォトポリマー又はジアゾニウム化学に基づく紫外線感光
性コーティング（ＵＶ ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ ｃｏａｔ
ｉｎｇ）を有する。版は像を担持するマスクを通して紫
外線露光されなければならない。マスクはハロゲン化銀
の化学に基づきそしてカメラ又はイメージセッタ（ｉｍ
ａｇｅ−ｓｅｔｔｅｒ）による露光を伴い、更に湿式処
理を伴う写真技術により製造されるグラフイックアート
フイルムである。使用される版のタイプ（ネガティブ又
はポジティブ）に依存して、非像区域又は像区域は可溶
化され、それにより版を親油性区域及と親水性区域とに
区別する。この従来の方法の欠点は湿式処理を伴う写真
中間体フイルムの厄介な製造が必要なことである。更な
る欠点は印刷版自体の湿式処理である。

【０００４】印刷に導くグラフィックスデザインプロセ
スに革命を起こすことにおけるコンピュータの出現によ
り、写真中間体がもはや必要とされない便利な且つ安価
なコンピュータツウプレート（ｃｏｍｐｕｔｅｒ−ｔｏ
−ｐｌａｔｅ）システムを開発するために広範な努力が
なされてきた。近年において、これらのシステムのいく
らかは異なる化学システム及び露光方法に基づいて市場
に導入されている。例えば、ＳＥＴＰＲＴＩＮＴ材料
（アグファ・ゲバエルト社の商標）は、ハロゲン化銀Ｄ
ＴＲ化学に基づいておりそしてフォトモード露光及び処
理の後相補的（ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ）親油性区
域及び親水性区域を生成する写真コーティングを担持す
るポリエチレンテレフタレートベースから成る。フォト
モード露光に基づくが親水性アルミニウムベースを有す
る他のシステムは、ＬＩＴＨＯＳＴＡＲ（アグファ・ゲ
バエルト社の商標）である。強い赤外線レーザによる熱
モード露光に基づくシステムは、ＴＨＥＲＭＯＳＴＡＲ
（やはりアグファ・ゲバエルト社の商標）と呼ばれる。

【０００５】新しいコンピュータツウプレートシステム
の多くは大きくて、複雑で、高価である。それらは大き
な印刷会社の印刷操作のプリプレスプロセス（ｐｒｅｐ
ｒｅｓｓ ｐｒｏｃｅｓｓ）を簡素化しそして彼らの顧
客により提供されるグラフィックデザインのディジタル
情報に対する素早い交換及び応答を利用するための手段
として、大きな印刷会社による使用のためにデザインさ
れている。平版印刷を利用する多くの小さな印刷業者の
ための経済的で効率の良いコンピュータツウプレートシ
ステムに対する強い要求が依然としてある。

【０００６】これらの小さな印刷業者の要求を満足させ
るために、多数の電子工学的ノンインパクト印刷システ
ムが平版印刷版の製造に使用するために研究された。こ
れらの中でも第１番に重要なものは、例えば米国特許第
５，３０４，４４３号及びその文献に記載の如きレーザ
印刷システムであった。平版印刷用の経済的且つ便利な
コンピュータツウプレート製造のために注目された他の
ノンインパクト印刷システムは、例えば米国特許第４，
９５８，５６４号に記載の如き熱転写印刷である。

【０００７】近年において、コンピュータ用の最もポピ
ュラーなハードコピー出力プリンタとしてインキジェッ
トプリンタがレーザプリンタに取って代わった。インキ
ジェットプリンタの競合的利点のいくらかは低いコスト
及び信頼性である。インキジェット印刷システムは相対
的に早い像出力システムでありそして簡単な構造を有す
る。何故ならば、それはいかなる複雑な光学システムも
必要としないからである。最近では、平版印刷版を製造
するためにインキジェットプリンタを使用することを提
唱している文献での報告がいくつかあった。

【０００８】特開昭６２−２５０８１号には、親油性液
体又は流体インキが平版印刷版の親水性アルミニウム表
面にインキジェット印刷により印刷された。チタネート
又はシランカップリング剤がインキ中に存在していた。

【０００９】平版印刷版を製造するためのインキジェッ
ト印刷装置はＰＣＴ ＷＯ ９４／１１１９１に記載さ
れている。それは疎水性印刷版上に疎水性又は親水性物
質を付着させることを指向する。

【００１０】米国特許第５，５０１，１５０号において
は、インキジェット印刷により銀還元性像（ｓｉｌｖｅ
ｒ−ｒｅｄｕｃｉｂｌｅ ｉｍａｇｅ）を生成するため
の材料を含有する流体インキ及び親水性媒体セットを使
用して、銀像を十分に疎水性とするための湿式処理の
後、平版印刷版を与えると言われる金属銀像を生成す
る。

【００１１】オフセット版の表面に熱ワックスを付着さ
せるために、インキが液体又は流体型インキの代わりに
固体又は相変化型インキであるインキジェット印刷が米
国特許第４，８３３，４８６号に記載されている。ワッ
クスが冷却されると、それは固化し、それにより印刷版
を与える。固体インキジェット印刷は、ワックス又は樹
脂像がその熱可塑性、化学的性質及び接着性により限ら
れた耐久性を有しそして媒体上の固化したインキジェッ
ト小滴の量及び丸い形状が液体インキジェット印刷で見
いだされる固有の像解像力特性を持たないという点で平
版印刷版について重大な欠点を有する。

【００１２】例えば特開昭６３−１０９，０５２号にお
ける如く、感光性平版印刷版ブランクに不透明な像又は
マスクパターンを適用するためのインキジェット印刷の
使用における従来技術もある。次いでブランクはインキ
ジェット像形成されたマスクパターンを通して露光さ
れ、次いで慣用の手段により処理されて平版印刷版を与
える。この方法は、慣用の平版印刷版の材料及び処理を
保持しており、慣用の版を露光させるフォトマスクに替
わるものとしてインキジェット印刷を使用するだけであ
る。かくして、この方法は版製造プロセスの複雑性及び
費用を増加させ、そして版の疎水性像についてインキジ
ェットインキ像に依存しない。米国特許第５，４９５，
８０３号は、印刷版用のフォトマスクを形成するための
固体又は相変化型のインキジェット印刷を記載してい
る。

【００１３】インキジェット印刷システムを使用するこ
とにより印刷版を製造するための方法の更なる例とし
て、特開昭５６−１１３４５６号は、撥インキ性材料
（例えば、硬化可能なシリコーン類）をインキジェット
印刷により印刷版上に印刷する印刷版の製造方法を提唱
する。この方法により得られた印刷版は基材（ｓｕｂｓ
ｔｒａｔｅ）の表面に形成された撥インキ性材料が非像
部分としてはたらく凹版印刷版である（ｉｎｔａｇｌｉ
ｏ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔｅ）である。結果とし
て、シャドー区域（ｓｈａｄｏｗ ａｒｅａｓ）又はリ
バースドライン（ｒｅｖｅｒｓｅｄ ｌｉｎｅｓ）にお
ける印刷された像の解像力はそんなに良好ではない。更
に、この方法では、撥インキ性材料を印刷版の表面の大
部分を占める全体の非像部分に付着させなければならな
いため大量のインキが必要であり、それにより印刷プロ
セスを遅らせる。

【００１４】米国特許第５５１１４７７号は、場合によ
り約３０゜〜２６０℃の温度に予熱されたフォトポリマ
ーインキ組成物でインキジェット印刷することにより基
材上にポジティブ又はネガティブ像を形成し、得られる
印刷された基材を紫外線放射にさらし、それにより該イ
ンキ組成物を硬化させて該像を形成することを含んで成
るフォトポリマーレリーフ型印刷版の製造方法を開示し
ている。これは該インキのときにより高い蒸気圧及び毒
性のためいやな方法である。

【００１５】米国特許第５３１２６５４号は、インキ吸
収性層及び基材と吸収性層との間の親水化された層を有
する基材上に光重合可能なインキ組成物を使用してイン
キジェット印刷により像を形成し、それを該インキ組成
物が増感される（ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ）波長領域の活
性光に露光させて像を硬化させることを含んで成る平版
印刷版を製造する方法を開示している。該印刷版の印刷
耐久性は低い。

【００１６】特開平４−６９２４４号は、光硬化可能な
成分を含有する疎水性インキを使用してインキジェット
印刷により親水性処理に付された記録材料上に印刷され
た像を形成し、そして全体の表面を活性光に露光させる
段階を含んで成る印刷版を製造する方法を開示してい
る。しかしながら、平版印刷版に使用されるべき基材の
表面は通常機械的な研磨、陽極酸化又は親水性処理の如
き種々の処理に付されて良好な親水性及び水保持性を得
る。それ故、非常に高い表面張力を有するインキ組成物
の使用ですら、インキの広がり及び低い印刷耐久性のた
め基材の表面に劣った像を生じさせる。

【００１７】ＥＰ−Ａ−５３３１６８は、インキ印刷後
に除去されるインキ吸収性層で平版ベース（ｌｉｔｈｏ
ｇｒａｐｈｉｃ ｂａｓｅ）をコーティングすることに
より該インキの広がりを回避する方法を開示している。
これは非経済的且つ厄介な方法である。

【００１８】１９８８年５月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉ
ｓｃｌｏｓｕｒｅ２８９１１８は、インキが疎水性ポリ
マーラテックスであるインキジェットの使用により印刷
版を製造する方法を開示している。しかしながら、該印
刷版は悪いインキ受容性及び低い印刷耐久性を有する。

【００１９】ＥＰ−Ａ−００３７８９は親油性インキに
よるインキジェット法によってオフセット印刷版を製造
する方法を開示している。該インキがいかにして製造さ
れるかは示されていないが、実施例からそれは製造する
のが困難な人口的なラテックスに関するものであること
は明らかである。

【００２０】特開昭５７−０３８１４２号は、ブランク
印刷版上にインキ像を形成しそしてまたトナーをこの像
形成された区域に付着させることによってこの像を熱的
に固定することにより印刷版を製造する方法を開示して
いる。インキの組成は述べられておらず、トナーの組成
のみが開示されている。

【００２１】特開平７−１０８６６７号は、その表面層
が親水性にされている伝導性支持体上に親水性物質を含
有するインキ像を静電誘引型インキセットシステム（ｅ
ｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ ａｔｔｒａｃｔｉｏｎ ｔ
ｙｐｅ ｉｎｋ ｓｅｔ ｓｙｓｔｅｍ）によって形成
してインキ像を乾燥又は硬化させる製版法であって、イ
ンキジェット書き込み（ｉｎｋ ｊｅｔ ｗｒｉｔｉｎ
ｇ）の時に伝導性支持体にバイアス電圧を印加する製版
方法を開示している。これは厄介な方法である。

【００２２】米国特許第５，２１３，０４１号は、熱可
融性成分を含有する噴出可能な（ｅｊｅｃｔａｂｌｅ）
物質を使用してジェット印刷により版表面に像形成性付
着物（ｉｍａｇｉｎｇ ｄｅｐｏｓｉｔ）を投射する
（ｐｒｏｊｅｃｔｉｎｇ）印刷用の再使用可能な印刷版
を製造する方法を開示している。像は、可変周波数及び
可変パワー誘導ヒーターを使用して印刷版の表面に融着
される像形成性付着物を形成する。

【００２３】ＷＯ９７／４３１２２において、平版印刷
版は、遷移金属錯体及び有機カルボニル化合物よりなる
群から選ばれる反応性成分を含んで成るインキジェット
流体によって製造される。好ましい態様では、反応性化
合物は１種又はそれ以上の有機酸のクロム錯体を含んで
成る。

【００２４】本発明は、インキジェット印刷によって平
版受容体（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｒｅｃｅｉｖｅ
ｒ）上に親油化流体（ｏｌｅｏｐｈｉｌｉｚｉｎｇ ｆ
ｌｕｉｄ）を直接適用することによる平版印刷版の製造
に関する教示を与える。

【００２５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は平版印
刷版の製造のための簡単で安価な方法を提供することで
ある。

【００２６】本発明の更なる目的は、中間体グラフィッ
クフイルム（ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ ｇｒａｐｈｉ
ｃ ｆｉｌｍ）を必要としない平版印刷版の製造方法を
提供することである。

【００２７】本発明の更なる目的は、処理（ｐｒｏｃｅ
ｓｓｉｎｇ）を必要としない平版印刷版の製造方法を提
供することである。

【００２８】本発明の更なる目的は、廃棄物を殆ど又は
全然生成しない、従ってエコロジーの観点から有利な平
版印刷版の製造方法を提供することである。

【００２９】本発明の更なる目的は、製造段階を昼光中
で行うことができる平版印刷版の製造方法を提供するこ
とである。

【００３０】更なる目的は以後の説明から明らかになる
であろう。

【００３１】

【課題を解決するための手段】上記した目的は、平版受
容体（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｒｅｃｅｉｖｅｒ）
の表面に流体の小滴をインキジェット印刷により情報通
りに（ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ−ｗｉｓｅ）分配するこ
と（ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ）を含んで成る平版印刷版の
製造方法において、該流体が親油化剤（ｏｌｅｏｐｈｉ
ｌｉｚｉｎｇａｇｅｎｔ）を含有し、該親油化剤はその
化学構造において該平版受容体の該表面と反応すること
ができるリン含有基（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓ ｃｏｎ
ｔａｉｎｉｎｇ ｇｒｏｕｐ）を有することを特徴とす
る方法を提供することにより実現される。

【００３２】本発明の方法に従って使用される種々の成
分をここで詳細に説明する。

【００３３】Ｉ．インキジェット流体 本発明の本質は、インキジェット流体（ｉｎｋ ｊｅｔ
ｆｌｕｉｄ）中に平版受容体の表面と反応することが
できるリン含有基をその分子中に有する親油化化合物
（ｏｌｅｏｐｈｉｌｉｚｉｎｇ ｃｏｍｐｏｕｎｄ）が
存在することである。

【００３４】特に好ましい態様では、金属酸化物と相互
作用することができるリン含有官能基（ｐｈｏｓｐｈｏ
ｒｏｕｓ ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ ｆｕｎｃｔｉｏｎａ
ｌｇｒｏｕｐ）を含有する親油化剤は、リン酸又はその
塩のモノエステルもしくはジエステル、又はチオ類似体
（ｔｈｉｏ−ａｎａｌｏｇｕｅｓ）、ホスホン酸誘導
体、その塩又はチオ類似体、及びホスホリルヒドラジド
類又はチオ類似体から選ばれる。

【００３５】リン酸の該モノエステル又はジエステル
は、一般式（Ｉ）

【００３６】

【化５】

【００３７】式中、Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に、Ｘ
₂又はＸ₃の負の電荷を相殺するための水素又は対イオ
ン、置換もしくは未置換の飽和もしくは不飽和脂肪族
鎖、置換もしくは未置換のアリール又はヘテロアリール
基を表し；Ｒ１２及びＲ１３は環を形成することがで
き；Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃及びＸ₄は独立に酸素又は硫黄から選
ばれ；ＭはＸ₄の負の電荷を相殺するためのプロトン又
は対イオンである、により表される。

【００３８】最も好ましい態様では、Ｘ₁乃至Ｘ₄は酸素
である。

【００３９】一般式（Ｉ）に従う化合物の典型的な例を
以下に示す。

【００４０】

【表１】

【００４１】特に好ましい態様では、ホスフェート疎水
化剤（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｚｉ
ｎｇ ａｇｅｎｔ）は、一般式（ＩＩ）

【００４２】

【化６】

【００４３】式中、ｎは０とは異なる整数であり；Ｍ及
びＮは、独立に、ホスフェートの負の電荷を相殺するた
めのプロトン又は対イオンから選ばれ；Ｒは置換もしく
は未置換の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、置換もしくは
未置換のアリールもしくはヘテロアリール基を表す、に
より表されるホスフェート界面活性剤（ｐｈｏｓｐｈａ
ｔｅ ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ）である。

【００４４】典型的な例は以下に示される。

【００４５】

【表２】

【００４６】これらの市販の化合物はＲ及びｎがいくつ
かの異なる値を取ることができる物質の混合物である。

【００４７】更なる好ましい態様では、親油化化合物は
ホスホン酸類及びそれらのチオ類似体から選ばれる。

【００４８】ホスホン酸類及びそれらのチオ類似体は、
一般式（ＩＩＩ）

【００４９】

【化７】

【００５０】式中、Ｒ１４は置換もしくは未置換の飽和
もしくは不飽和脂肪族鎖、又は置換もしくは未置換のア
リールもしくはヘテロアリール基を表し；Ｒ１５はＸ₆
の負の電荷を相殺するための水素又は対イオン、置換も
しくは未置換の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、又は置換
もしくは未置換のアリールもしくはヘテロアリール基を
表し；Ｒ１４及びＲ１５は環を形成することができ；Ｘ
₅、Ｘ₆及びＸ₇は独立に酸素又は硫黄から選ばれ；Ｍは
Ｘ₇の負の電荷を相殺するためのプロトン又は対イオン
である、により表される。最も好ましい態様では、Ｘ₅
乃至Ｘ₇は酸素である。

【００５１】一般式（ＩＩＩ）に従うホスホン酸誘導体
の典型的な例は以下に示される。

【００５２】

【表３】

【００５３】本発明に従うなお更なる好ましい種類の親
油化化合物はホスホリルヒドラジド類及びヒドロキサム
酸類である。

【００５４】それらは一般式（ＩＶ）

【００５５】

【化８】

【００５６】式中、Ｒ１６及びＲ１７は、各々独立に、
置換もしくは未置換の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、置
換もしくは未置換のアリールもしくはヘテロアリール
基、ＯＲ²⁰、ＮＲ²¹Ｒ²²、ＳＲ²³又はＮ（ＹＲ１８）
（Ｍ）を表し； Ｒ²⁰乃至Ｒ²³は独立に負の電荷を相殺
するための水素又は対イオン、置換もしくは未置換の飽
和もしくは不飽和脂肪族鎖、又は置換もしくは未置換の
アリールもしくはヘテロアリール基を表し；すべてのＲ
基は環を形成することができ；Ｘは酸素又は硫黄を表
し；Ｙは酸素又はＮＲ１９を表し；Ｒ１８及びＲ１９
は、独立に、水素、置換もしくは未置換の飽和もしくは
不飽和脂肪族鎖、置換もしくは未置換のアリールもしく
はヘテロアリール基、又はアシル基から選ばれ；Ｒ１８
及びＲ１９は環を形成することができ；Ｍは負の電荷を
相殺するための水素又は対イオンである、により表され
る。アシルという用語はスルホニル、ホスホリル、カル
バモイル、オキサリル及び関連したタイプのアシル基を
包含する。

【００５７】典型的な例を以下に示す。

【００５８】

【表４】

【００５９】

【表５】

【００６０】親油化剤は０．０１〜６重量％、好ましく
は０．０２〜３重量％の量でインキ中に存在することが
できる。

【００６１】親油化剤は、プリンタヘッドのノズルを通
過することができるように、均一な溶液又は安定なコロ
イド状分散液の形態にあることが必要である。

【００６２】液体担体は、水もしくは有機溶媒又はその
組み合わせである。特定の液体担体の選択は、特定のイ
ンキジェットプリンタ及びインキジェット印刷のために
使用されるインキジェット印刷ヘッド及びカートリッジ
とのその適合性（ｃｏｍｐａｔｉｂｉｌｉｔｙ）に依存
する。使用されるインキジェット技術：ピエゾ、熱、バ
ブルジェット（登録商標）又は連続インキジェットに依
存して、水性ベースの流体及び溶媒ベースの流体を本発
明で使用することができる。

【００６３】水は水性インキのための好ましい媒体であ
るが、水性組成物は、１種又はそれ以上の水に混和性の
溶媒、例えば、多価アルコール、例えば、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル又はトリメチロールプロパンを含んで成ることができ
る。水性組成物中の水性担体媒体の量は３０〜９９．９
９５重量％、好ましくは５０〜９５重量％の範囲にある
ことができる。

【００６４】インキジェット流体のための担体媒体とし
て有機溶媒、例えばアルコール、ケトン又はアセテート
を使用することもできる。

【００６５】インキジェット技術で知られているとお
り、ジェット速度、小滴の分離長さ（ｓｅｐａｒａｔｉ
ｏｎ ｌｅｎｇｔｈ）、滴サイズ及び流れ安定性は水性
組成物の表面張力及び粘度により大きく影響される。イ
ンキジェット印刷システムとともに使用するのに適当な
インキジェット流体は２０〜６０ダイン／ｃｍ、好まし
くは３０〜５０ダイン／ｃｍの範囲の表面張力を有する
ことができる。水性インキジェット流体の表面張力の制
御は少量の界面活性剤の添加により達成することができ
る。使用されるべき界面活性剤のレベルは簡単な試行錯
誤実験により決定することができる。いくつかのアニオ
ン界面活性剤及び非イオン界面活性剤がインキジェット
技術分野で知られている。市販の界面活性剤は、ＳＵＲ
ＦＹＮＯＬＴＭシリーズ（Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓの
商標）、ＺＯＮＹＬ ＴＭシリーズ（ＤｕＰｏｎｔ の
商標）、ＦＬＵＯＲＡＤ ＴＭ シリーズ（３Ｍの商
標）及びＡＥＲＯＳＯＬ ＴＭシリーズ（Ｃｙａｎａｍ
ｉｄ の商標）を包含する。流体の粘度は好ましくは室
温で２０ｍＰａ．ｓ以下、例えば１〜１０、好ましくは
１〜５ｍＰａ．ｓである。

【００６６】インキジェット流体は更に他の成分を含ん
で成ることができる。インキが印刷ヘッドのオリフイス
において乾燥されるのを防止するのを助けるために共溶
媒（ｃｏｓｏｌｖｅｎｔ）を含ませることができる。殺
生物剤を添加して、時間の経過と共にインキにおいて起
こりうる望まない微生物の増殖を阻止することができ
る。インキ中に場合により存在させることができる追加
の添加剤は、濃稠化剤（ｔｈｉｃｋｎｅｒｓ）、ｐＨ調
節剤、緩衝剤、伝導度増進剤、乾燥剤及び脱泡剤を包含
する。

【００６７】平版受容体上に像をジェッティングした後
像のコントラストを高めるために、染料を加えることが
できる。多くの染料及び顔料がインキジェット技術のた
めに適していることが知られている。適当な染料は、更
に担体媒体（ｃａｒｒｉｅｒｍｅｄｉｕｍ）（即ち、水
性ベースの又は溶媒ベースの）中のそれらの相容性（ｃ
ｏｍｐａｔｉｂｉｌｉｔｙ）及び親油化剤との相容性、
即ち、それらが凝固（ｃｏａｇｕｌａｔｉｏｎ）を起こ
すべきではないこと、に基づいて選択される。水性イン
キに特に有利なのは酸ブラック（ａｃｉｄ ｂｌａｃ
ｋ）の如きアニオン性染料である。

【００６８】ＩＩ．平版受容体 支持体は印刷版に適当ないかなる支持体であってもよ
い。典型的な支持体は金属及びポリマーシート又はフォ
イルを包含する。好ましくは、金属表面を有する支持体
が使用される。好ましくは、金属表面は酸化される。本
発明の特に好ましい態様では、陽極酸化されたアルミニ
ウム表面を有する支持体が使用される。平版印刷版のた
めの支持体は、典型的には、例えば電気化学的研磨（ｇ
ｒａｉｎｉｎｇ）により研磨され、次いで例えば硫酸及
び／又はリン酸を使用する陽極酸化技術によって陽極酸
化された（ａｎｏｄｉｓｅｄ）アルミニウムから形成さ
れる。研磨及び陽極酸化の両方の方法とも当業界では周
知されており、ここではこれ以上説明する必要はない。
像を書いた後、印刷版に普通の方法で印刷インキでイン
キングする（ｉｎｋｅｄ）ことができ、そして版（ｐｌ
ａｔｅ）を印刷機械で使用することができる。印刷の分
野で周知されているとおり、インキングの前に、アラビ
アゴムの如き天然ゴム又はカルボキシメチルセルロース
の如き合成ゴムの水性溶液で版を処理することができ
る。

【００６９】本発明に関する他のモードに従えば、親水
性表面を有する平版ベース（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ
ｂａｓｅ）は架橋した親水性層を備えた例えば紙又は
プラスチックフイルムの如き柔軟性支持体を含んで成
る。特に適当な架橋した親水性層は、ホルムアルデヒ
ド、グリオキサル、ポリイソシアネート、メラミン型架
橋剤、炭酸アンモニウムジルコニル（ａｍｍｏｎｉｕｍ
ｚｉｒｃｏｎｙｌ ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、チタネー
ト架橋剤又は加水分解されたテトラアルキルオルトシリ
ケートの如き架橋剤で架橋された親水性結合剤から得る
ことができる。加水分解されたテトラアルキルオルトシ
リケートは特に好ましい。

【００７０】親水性結合剤として、例えば、ビニルアル
コール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、
メチロールメタクリルアミド、アクリレート酸、メタク
リレート酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー
又は無水マレイン酸／ビニルメチルエーテルコポリマー
の如き親水性（コ）ポリマーを使用することができる。
使用される（コ）ポリマー又は（コ）ポリマー混合物の
親水性は、少なくとも６０重量％、好ましくは８０重量
％の程度に加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水性と同
じであるか又はそれより高いことが好ましい。

【００７１】本発明の態様に従って使用される感熱性層
における架橋された親水性結合剤は、層の機械的強度及
び多孔度（ｐｏｒｏｓｉｔｙ）を増加させるコロイド状
無機顔料、例えば、二酸化チタン又は他の金属酸化物の
粒子である金属酸化物粒子も含有する。これらの粒子の
組込み（ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）は架橋された親
水性層の表面にバックグラウンド区域の水のための貯蔵
場所として働く顕微鏡的丘と谷から成る均一な粗い組織
（ｔｅｘｔｕｒｅ）を与えると考えられる。好ましく
は、これらの粒子はベリリウム、マグネシウム、アルミ
ニウム、ケイ素、ガドリニウム、ゲルマニウム、ヒ素、
インジウム、錫、アンチモン、テルル、鉛、ビスマス、
チタン又は遷移金属の酸化物又は水酸化物である。特に
好ましい無機粒子は、親水性層の最も多くても７５重量
％で使用されるアルミニウム、ケイ素、ジルコニウム又
はチタンの酸化物又は水酸化物である。無機顔料は０．
００５μｍ〜１０μｍの範囲の粒径（ｐａｒｔｉｃｌｅ
ｓｉｚｅ）を有することができる。

【００７２】この態様に従う平版ベースにおける架橋さ
れた親水性層の厚さは０．２〜２５μｍの範囲で変わる
ことができ、好ましくは１〜１０μｍである。

【００７３】本発明に従って使用するための適当な架橋
された親水性層の特定の例はＥＰ−Ａ６０１２４０、英
国特許第１４１９５１２号、フランス特許第２３００３
５４号、米国特許第３，９７１，６６０号、米国特許第
４，２８４，７０５号及びＥＰ−Ａ５１４４９０に開示
されている。

【００７４】本発明の態様に関連して平版ベースの柔軟
性支持体として、プラスチックフイルム、例えば、下塗
りされた（ｓｕｂｂｅｄ）ポリエチレンテレフタレート
フイルム、下塗りされたポリエチレンナフタレートフイ
ルム、酢酸セルロースフイルム、ポリスチレンフイル
ム、ポリカーボネートフイルム等を使用するのが特に好
ましい。プラスチックフイルム支持体は不透明であるか
又は透明であることができる。

【００７５】ＩＩＩ．インキジェット印刷プロセス インキジェット印刷において、インキ流体の小滴は印刷
装置と受容体との物理的接触なしにインキ受容体表面に
直接投射される（ｐｒｏｊｅｃｔｅｄ）。印刷装置は印
刷データを電子工学的に記憶しそして滴を像通りに（ｉ
ｍａｇｅ−ｗｉｓｅ）噴出させる（ｅｊｅｃｔｉｎｇ）
ための機構を制御する。印刷は紙を横切って印刷ヘッド
を動かすことにより達成されるか又はその逆も言える。
インキジェットプリンタに関する以前の特許は米国特許
第３，７３９，３９３号、米国特許第３，８０５，２７
３号及び米国特許第３，８９１，１２１号を含む。

【００７６】インキ小滴の噴射はいくつかの異なる方法
で行うことができる。第１のタイプの方法では、圧力を
波のパターンで加えることにより連続小滴流が生成され
る。このプロセスは、連続インキジェット印刷として知
られている。第１の態様では、小滴流は、静電的に帯電
され、偏向され（ｄｅｆｌｅｃｔｅｄ）そして再び集め
られる小滴と、帯電されず、その進路を偏向されずに連
続しそして像を形成する小滴とに分けられる。

【００７７】別法として、帯電され偏向された流れが像
を形成しそして帯電されず偏向されなかったジェットが
再び集められる連続インキジェット印刷のこの変法で
は、いくつかのジェットが異なる程度に偏向させられ、
かくして像を記録する［多重偏向システム（ｍｕｌｔｉ
ｄｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｓｙｓｔｅｍ］。

【００７８】第２の方法に従えば、「オンデマンド」で
生成させることができ（「ＤＯＤ」又は「ドロップオン
デマンド（ｄｒｏｐ ｏｎ ｄｅｍａｎｄ）」法）、そ
れにより印刷装置は、小滴が受容体上で像形成するのに
使用されるときにのみ小滴を噴出し（ｅｊｅｃｔｓ）、
それにより滴帯電、偏向ハードウエア及びインキ再収集
（ｒｅｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ）の複雑さを回避する。ド
ロップオンデマンドでは、インキ小滴は、圧電トランス
デューサの機械的運動により発生する圧力波によって
（いわゆる「ピエゾ法」）又は不連続の熱的プッシュ
（ｄｉｓｃｒｅｔｅｔｈｅｒｍａｌ ｐｕｓｈｅｓ）
［いわゆる「バブルジェット」法（“ｂｕｂｂｌｅ ｊ
ｅｔ” ｍｅｔｈｏｄ）又は熱ジェット法（“ｔｈｅｒ
ｍａｌ ｊｅｔ” ｍｅｔｈｏｄ）］によって形成させ
ることができる。

【００７９】本発明を下記の実施例によりここで説明す
るがそれらに限定されるものではない。

【００８０】

【実施例】実施例１ エムフォス（ＥＭＰＨＯＳ） ＰＳ８１０（ＷＩＴＣ
Ｏ）（化合物ＩＩ−６）１．０８ｇを水９０ｇとイソプ
ロパノール１０ｇの混合物に加えた。酸ブラック（Ａｃ
ｉｄ Ｂｌａｃｋ）（ＣＩ２０４７０）０．５ｇをこの
溶液に加えた。ろ過の後、溶液をヒューレット・パッカ
ード・デスクジェット（ＨｅｗｌｅｔｔＰａｃｋａｒｄ
ＤＥＳＫＪＥＴ）９７０Ｃｘｉインキジェットプリン
タの、予め空にされそして清浄化されているインキカー
トリッジに入れた（ｌｏａｄｅｄ）。

【００８１】テキスト像を含む試験パターンを、プリン
タに装入された（ｌｏａｄｅｄ）研磨されそして陽極酸
化されたアルミニウム印刷版材料上に書いた。版を取り
出しそしてオザゾル（ＯＺＡＳＯＬ）ＲＣ５１５でゴム
引きした（ｇｕｍｍｅｄ）。

【００８２】次いで、版を、インキとしてＫ＋Ｅ８００
を使用しそしてファウンテイン（ｆｏｕｎｔａｉｎ）と
してロタマテイック（Ｒｏｔａｍａｔｉｃ）を使用する
ハイデルベルグ（Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ）ＧＴＯ５２平
版印刷機に取り付けた。２０，０００枚までの優秀なコ
ピーが得られた。

【００８３】実施例２ 実施例１で記載のとおりのインキをエプソン・スチルス
・カラー（ＥｐｓｏｎＳＴＹＬＵＳ ＣＯＬＯＲ）９０
０インキジェットプリンタの、予め空にされそして清浄
化されているインキカートリッジに入れた。

【００８４】テキスト像を含む試験パターンを、プリン
タに装入されている研磨されそして陽極酸化されたアル
ミニウム印刷版材料に書き込んだ。版を取り出しそして
ＯＺＡＳＯＬ ＲＣ５１５でゴム引きした。

【００８５】次いで、版をインキとしてＫ＋Ｅ８００を
使用しそしてファウンティン（ｆｏｕｎｔａｉｎ）とし
てロタマテイック（Ｒｏｔａｍａｔｉｃ）を使用するハ
イデルベルグ（Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ）ＧＴＯ５２平版
印刷機に取り付けた。２０，０００枚までの優秀なコピ
ーが得られた。

【００８６】実施例３ 装入の前にインキを１Ｍ ＮａＯＨでｐＨ７に調節した
ことを除いて実施例１を繰り返した。やはり、像形成、
ゴム引き及び印刷の後、優秀なコピーが得られた。

【００８７】実施例４ 像形成の後版をゴム引きしなかったことを除いて、実施
例１を繰り返した。やはり優秀なコピーが得られた。

【００８８】実施例５〜１２ 下表１に記載の如きリン含有基を含んで成る他の親油化
剤をＥＭＰＨＯＳ ＰＳ８１０の代わりに使用したこと
を除いて、実施例１を繰り返した。すべての化合物は一
般式（ＩＩ）により表される。化合物の商標及びその供
給者を該表に加える。

【００８９】

【表６】

【００９０】比較実施例１３ インキ溶液中に親油化剤を使用しなかったことを除い
て、実施例１を繰り返した。像形成、ゴム引き及び印刷
の後、良好なコピーを得ることはできなかった。像はイ
ンキを受容する傾向を示さなかった。

【００９１】実施例１４〜２８ 前記の式表から取った他の代表的な親油化化合物を下記
の手順を使用して試験した。親油化剤を０．１〜２％ｗ
／ｗの濃度でイソプロパノールに溶解させた。次いでイ
ンキ流体の６μｌの小滴を上記の如き平版の電気化学的
に研磨及び陽極酸化されたアルミニウム受容体（ｌｉｔ
ｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ
ｌｙ ｇｒａｉｎｅｄ ａｎｄ ａｎｏｄｉｓｅｄ ａ
ｌｕｍｉｎｕｍ ｒｅｃｅｉｖｅｒ）上にジェッティン
グした。版をアブディック（ＡＢＤＩＣＫ）３６０プリ
ンタに取り付けそしてインキとしてファン・ソン・ラバ
ーベース（ＶＡＮ ＳＯＮ ＲＵＢＢＥＲＢＡＳＥ）
（ｖａｎ Ｓｏｎ Ｃｏ．の登録商標）及びファウンテ
ィンとして２％テイム（ＴＡＭＥ）（Ａｎｃｈｏｒ／Ｌ
ｉｔｈｏｃｈｅｍｋｏ Ｃｏ．の商標）を使用して局部
的親油性を試験した。小滴像のインキ吸収（ｉｎｋ ｕ
ｐｔａｋｅ）を評価した。

【００９２】結果を表２に要約する。

【００９３】

【表７】

【００９４】この実施例及び先の実施例は、本発明に従
って使用された化合物の優れた親油化性（ｏｌｅｏｐｈ
ｉｌｉｚｉｎｇ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ）を明らかに示
している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルク・バン・ダメ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 レオ・エルブラント ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ペーター・ヘンドリクス ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 Ｆターム(参考） 2C056 EA24 FB01 2H084 AA25 BB04 BB13 CC05 2H086 BA18 BA59 4J039 BA29 BC12 BC33 BC36 BC37 BC38 BC54 BC56 GA24

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 流体の小滴を平版受容体の表面にインキ
   ジェット印刷により情報通りに分配することを含んで成
   る平版印刷版の製造方法において、該流体が親油化剤を
   含有し、該親油化剤はその化学構造において該平版受容
   体の該表面と反応することができるリン含有基を有する
   ことを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 該親油化剤が、下記一般式（Ｉ） 【化１】 式中、Ｒ１２及びＲ１３は各々独立に置換もしくは未置
   換の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、置換もしくは未置換
   のアリール又はヘテロアリール基を表し；Ｒ１２及びＲ
   １３は環を形成することができ；Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃及びＸ₄
   は独立に酸素又は硫黄から選ばれ；ＭはＸ₄の負の電荷
   を相殺するためのプロトン又は対イオンである、により
   表される請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 該親油化剤が、一般式（ＩＩ） 【化２】 式中、ｎは０とは異なる整数であり；Ｍ及びＮは独立に
   ホスフェートの負の電荷を相殺するためのプロトン又は
   対イオンから選ばれ；Ｒは置換もしくは未置換の飽和も
   しくは不飽和脂肪族鎖、又は置換もしくは未置換のアリ
   ールもしくはヘテロアリール基を表す、により表される
   請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 該親油化剤が、一般式（ＩＩＩ） 【化３】 式中、Ｒ１４は置換もしくは未置換の飽和もしくは不飽
   和脂肪族鎖、又は置換もしくは未置換のアリールもしく
   はヘテロアリール基を表し；Ｒ１５はＸ₆の負の電荷を
   相殺するための水素又は対イオン、置換もしくは未置換
   の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、又は置換もしくは未置
   換のアリールもしくはヘテロアリール基を表し；Ｒ１４
   及びＲ１５は環を形成することができ；Ｘ₅、Ｘ₆及びＸ
   ₇は独立に酸素又は硫黄から選ばれ；ＭはＸ₇の負の電荷
   を相殺するためのプロトン又は対イオンである、により
   表される請求項１に記載の方法。
5. 【請求項５】 該親油化剤が、一般式（ＩＶ） 【化４】 式中、Ｒ１６及びＲ１７は各々独立に置換もしくは未置
   換の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、置換もしくは未置換
   のアリールもしくはヘテロアリール基、ＯＲ²⁰、ＮＲ²¹
   Ｒ²²、ＳＲ²³又はＮ（ＹＲ１８）（Ｍ）を表し；Ｒ²⁰乃
   至Ｒ²³は独立に負の電荷を相殺するための水素又は対イ
   オン、置換もしくは未置換の飽和もしくは不飽和脂肪族
   鎖、又は置換もしくは未置換のアリールもしくはヘテロ
   アリール基を表し；すべてのＲ基は環を形成することが
   でき；Ｘは酸素又は硫黄を表し；Ｙは酸素又はＮＲ１９
   を表し；Ｒ１８及びＲ１９は独立に水素、置換もしくは
   未置換の飽和もしくは不飽和脂肪族鎖、置換もしくは未
   置換のアリールもしくはヘテロアリール基、又はアシル
   基から選ばれ；Ｒ１８及びＲ１９は環を形成することが
   でき；Ｍは負の電荷を相殺するための水素又は対イオン
   である、により表される請求項１に記載の方法。