DE60314994T2

DE60314994T2 - Drucker, druckplattenherstellungsverfahren, und druckplattenrecyclingverfahren

Info

Publication number: DE60314994T2
Application number: DE60314994T
Authority: DE
Inventors: Yasuharu Mihara-shi Suda; Toyoshi Mihara-shi OHTO
Original assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Current assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date: 2002-02-27
Filing date: 2003-02-18
Publication date: 2008-04-03
Anticipated expiration: 2023-02-19
Also published as: DE60314994D1; JP2003246156A; US20040168597A1; EP1479527A4; EP1479527A1; WO2003072368A1; EP1479527B1

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Druckpresse mit einer wiederverwendbaren Druckplatte sowie deren Herstellungs- und Regenerierungs-Verfahren.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
In den letzten Jahren wurde im Stand der Technik die Digitalisierung der Druckprozesse vorangetrieben. Diese Technologie beinhaltet die Erzeugung von Bildern und Manuskripten in digitalisierter Form auf einem PC oder das Auslesen von Bildern mit einem Scanner und stellt direkt eine für das Drucken bereite Druckplatte basierend auf den so erhaltenen digitalen Daten zur Verfügung. Dies ermöglicht es, Arbeitszeit im gesamten Druckprozess einzusparen und ebenso leicht ein Drucken mit hoher Genauigkeit auszuführen.
Sogenannte PS-Platten (vorsensitivierte Platten) wurden bisher üblicherweise als Druckplatten verwendet. Eine PS-Platte beinhaltet einen hydrophilen Nichtbildbereich, der aus einem anodisierten Aluminium hergestellt ist, sowie einen oder mehrere hydrophobe Bildbereiche, die durch Aushärten eines photosensitiven Kunststoffs auf der Oberfläche des anodisierten Aluminium ausgebildet werden. Das Bereitstellen einer Druckplatte für das Drucken mit einer derartigen PS-Platte erfordert eine Anzahl von Schritten und ist somit zeitaufwändig und kostenintensiv. Es ist daher schwierig, die Zeit und die Kosten, die für einen Druckprozess erforderlich sind, zu reduzieren. Insbesondere beim Drucken mit kurzen Läufen ("short-run printing"), bewirkt das Erfordernis für eine Vielzahl derartiger Schritte erhöhte Druckkosten. Zusätzlich entstehen, da die Verwendung einer PS-Platte einen Entwicklungsschritt unter Verwendung eines Entwicklers erfordert, ernste Probleme nicht nur in Bezug auf die Notwendigkeit für ausreichende Mengen von Arbeit, sondern ebenso in Bezug auf durch die Behandlung von Entwicklerabfällen bewirkte Umweltverschmutzung im Hinblick auf die Verhinderung einer derartigen Umweltverschmutzung.
Darüber hinaus ist es übliche Praxis, eine PS-Platte zu verwenden, deren Oberfläche in Kontakt mit einem Film steht, durch den ein gewünschtes Bild zum Licht hin perforiert wird. Dies bewirkt Probleme bei der Herstellung der Druckplatte, die zum Drucken bereit ist, direkt aus digitalen Daten und bei der Unterstützung des digitalisierten Druckprozesses. Darüber hinaus wurde es nach der Vervollständigung des Druckens eines Musters notwendig, die Druckplatte durch eine andere zu ersetzen, um das Drucken des nächsten Musters auszuführen, und gebrauchte Druckplatten wurden weggeworfen.
Um die oben beschriebenen Probleme mit PS-Platten zu lösen, wurden Verfahren vorgeschlagen, die der Digitalisierung des Printprozesses begegnen, während es möglich wird, den Entwicklungsschritt zu vermeiden, und einige dieser Verfahren wurden bereits kommerziell angewendet. Beispielsweise offenbart die japanische, offengelegte Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungsnummer SHO 63-102936 ein Verfahren zur Herstellung einer Platte, die für das Drucken bereitsteht, welches die folgenden Schritte umfasst: Aufbringen von einen photosensitiven Kunststoff enthaltender Tinte, die als Tinte für einen Tintenstrahl-Drucker verwendet wird, die Oberfläche einer Druckplatte; sowie Härten eines Bildbereichs durch Bestrahlung mit Licht. Die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungs-Nr. HEI 11-254633 offenbart auf der anderen Seite ein Verfahren zur Herstellung einer Farbverschiebungs-Druckplatte, die für das Drucken bereitsteht, mittels eines Tintenstrahl-Kopfs, durch den eine feste Tinte gesprüht wird.
Ebenso sind in den bekannten Verfahren Prozesse zur Herstellung einer Druckplatte, die zum Drucken bereitsteht, bekannt, welche den Schritt des Beschreibens mit einem Laserstrahl eines Bilds auf einer Druckplatte umfassen, welche aus PET (Polyethylenterepththalat)-Film gefertigt ist, auf der eine laserabsorbierende Schicht wie etwa schwarze Kohle, abgedeckt mit einer Silikonkunststoffschicht ausgebildet ist, um zu bewirken, dass die laserabsorbierende Schicht Hitze entwickelt, welche die Silikonkunststoffschicht abträgt; und andere Prozesse zur Herstellung einer zum Drucken bereitstehenden Druckplatte, die den Schritt der Beschichtung einer lipophilen, laserabsorbierenden Schicht auf einer Aluminiumplatte, die Beschichtung einer hydrophilen Schicht auf der laserabsorbierenden Schicht und ein anschließendes Abtragen der hydrophilen Schicht mit einem Laserstrahl wie in den oben beschriebenen Prozessen umfasst.
Ein anderes vorgeschlagenes Verfahren offenbart eine aus einem hydrophilen Polymer erzeugte Druckplatte, die durch Lipophilieren eines bestrahlten Abschnitts, der einem Bild ausgesetzt ist, hergestellt ist.
Darüber hinaus wird ein Verfahren, in dem ein Bild direkt aus digitalen Daten mittels eines Laserstrahls auf einer PS-Platte beschrieben wird, offenbart, sowie ein sogenanntes CTP (Computer to Plate)-Verfahren, das eine Bildvorrichtung ist, die einen blauen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 405 nm verwendet, oder eine Bildvorrichtung, die einen Mikrospiegel und eine UV-Lampe beinhalten, die auf dem Markt erhältlich sind.
Obwohl diese Verfahren eine zum Drucken bereitstehende Druckplatte direkt aus digitalen Daten herstellen können, ist das Ersetzen einer Druckplatte nach dem Drucken eines Musters durch eine neue Druckplatte für den nächsten Druckprozess erforderlich. Daher verbessern diese Verfahren nicht den Gesichtspunkt, dass eine für einen Druckprozess verwendete Druckplatte weggeschmissen werden muss.
Im Hinblick auf das oben angegebene Problem werden einige Techniken vorgeschlagen, die die Regeneration einer Druckplatte beinhalten. Beispielsweise betrifft die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungs-Nr. HEI 10-250027 eine Kopie mit einem verborgenen Bildblock, welche einen Titandioxid-Photokatalysator, ein Herstellungsverfahren für den verborgenen Bildblock sowie eine Druckpresse mit zumindest einem verborgenen Bildblock verwendet. Die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAO) mit der Veröffentlichungs-Nr. HEI 11-147360 offenbart ebenso einen versetzten Druckprozess einer Druckplatte, die einen Photokatalysator verwendet. Jede dieser Offenbarungen bildet unter Verwendung eines Lichts, d.h. ultraviolettes Licht, ein Bild insbesondere zur Aktivierung des Photokatalysators und zur Regenerierung der Druckplatte durch eine Hydrophobisierung dies Photokatalysators, die durch eine Wärmebehandlung bewirkt wird. Darüber hinaus offenbart die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungs-Nr. HEI 11-105234 ein Verfahren zur Herstellung einer zum Drucken bereitstehenden Druckplatte, das den Schritt der Hydrophilisierung eines Photokatalysators mit aktivierendem Licht, d.h. ultraviolettem Licht, sowie ein anschließendes Ausbilden eines Bildbereichs mittels einer Wärmemodus-Aufnahme umfasst.
Wie in dem Papier (Seiten 124–125) mit dem Titel "Study of Photo-Induced Hydrophilic Conversion an the TiO2 Surface Involved by Structural Conformation" (von Minabe u.A.), verteilt beim fünften Symposium "Recent Developments of Photocatalytic Reactions" der Photo Functionalized Materials Society im Jahr 1998 offenbart, haben Prof. Fujishima, Prof. Hashimoto und Andere des Research Center for Advanced Science and Technology der Universität von Tokyo bestätigt, dass ein Titandioxid-Photokatalysator mittels Wärmebehandlung hydrophilisiert wird. Gemäß der Beschreibung in dem oben angegebenen Papier kann in den Prozessen, die in den Prozessen, die in den oben angegebenen, offengelegten Patentanmeldungen offenbart sind, in denen eine Wärmebehandlung einen Photokatalysator zur Regenerierung einer Druckplatte hydrophobisiert wird, nicht realisiert werden. Als Ergebnis hiervon kann eine Druckplatte nicht mittels dieser Prozesse regeneriert und zum Drucken bereitgestellt werden.
Unter Beachtung der oben angegebenen Umstände haben die Erfinder eine Druckplatte entwickelt, auf der ein Bild durch eine Bildeinheit, die ein Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer der des sichtbaren Lichts verwendet, ausgebildet werden kann, und eine Druckplatte, die nach dem Drucken für eine Wiederverwendung schnell regeneriert werden kann, sowie Verfahren zur Herstellung und Regenerierung einer derartigen Druckplatte. Einer der wichtigen Punkte dieser Entwicklungsforschung ist die schnelle Hydrophilisierung der Plattenoberfläche, die dann ausgeführt wird, wenn ein Bild auf der Plattenoberfläche ausgebildet ist und ein ausgebildeter Bildbereich für eine Regenerierung gelöscht wird.
In Bezug auf die Hydrophilisierungs-Technik offenbart das Papier (Seiten 44–45) mit dem Titel "Effects of TiO2/WO3 Thin Films an Hydrophilization properties" (von Irie und Anderen, verteilt beim 8. Symposium über "Recent Developments of Photocatalytic Reactions" der Photo Functionalized Materials Society im Jahr 2001 eine Technik der Sensibilisierung einer photokatalytischen Aktivität und insbesondere der photoinduzierten Hydrophilisierung durch Ausbilden eines dünnen Films aus TiO₂ (Titandioxid) auf einem dünnen Film, der aus WO₃ (Wolframtrioxid) hergestellt ist. Die Offenbarung von Irie und Anderen bezieht sich jedoch nicht auf den Einfluss einen dünnen Films aus TiO₂/WO₃ auf die Zersetzung einer organischen Verbindung oder auf die Anbringung eines dünnen Films aus TiO₂/WO₃ auf eine Druckplatte.
Die EP 1 084 863 A1 beschreibt ein Druckplattenmaterial sowie Regenerationsverfahren hierfür. Die Oberfläche der Druckplatte, auf der eine Beschichtungsschicht ausgebildet ist, wird auf einen Zustand eingestellt, bei dem die Oberfläche der Beschichtungsschicht hydrophobisch ist. Diese Oberfläche wird mit ultravioletter Strahlung bestrahlt, um einen Teil der Oberfläche in den hydrophilen Zustand zu überführen. Der hydrophobe Abschnitt wird dann als Druckbildbereich verwendet. Nach dem Bedrucken wird die Verbindung wiederum aufgebracht, um deren ursprünglichen Zustand wie bereitgestellt wieder zu erhalten.
Masahiro Myanchi und Andere beschreiben in einem veröffentlichten Vortrag, gehalten bei der Photo Functionalized Materials Society beim 7 Kai Symposium die Zusammensetzung eines Photokatalysators, der jedoch nicht dazu vorgesehen ist, durch natürliches ultraviolettes Licht zur Anregung des Photokatalysators bestrahlt zu werden.
Die JP 2002-002137 A beschreibt ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte sowie ein Verfahren und eine Vorrichtung für das lithographische Drucken. Die Druckplatte weist eine hydrophobe Zusammensetzung auf, die gleichmäßig auf die Oberfläche einer Schicht aufgebracht wird, die eine hydrophile/oleophile Zusammensetzung enthält und in der ein hydrophiler/oleophiler Bildbereich durch Entfernung der hydrophoben Zusammensetzung durch die Aktion von Wärme oder Licht ausgebildet wird.
Die EP-A-1 473 141 , die ein Dokument zum Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPÜ darstellt, beschreibt ein Plattenmaterial für das Drucken sowie eine Druckmaschine. Die Druckplatte weist eine Oberfläche auf, auf der ein Bild durch die Bestrahlung der Oberfläche mit Licht ausgebildet werden kann, wobei eine photosensitive Schicht inklusive eines Photokatalysators auf einem bandförmigen, aufwickelbaren Substrat ausgebildet ist.
Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Druckpresse zur Verfügung zu stellen, die eine Druckplatte beinhaltet, die für eine Wiederverwendung regenerierbar ist, auf der ein Bild schnell in einem Bildprozess ausgebildet werden kann und die schnell regeneriert werden kann, ein Herstellungsverfahren hierfür sowie ein Regenerationsverfahren für die Druckplatte, die in dieser Druckpresse verwendet wurde.
OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
Um die oben angegebenen Probleme zu lösen, verfolgt die vorliegende Erfindung die nachfolgend angegebenen Maßnahmen.
Als erstes gattungsgemäße Merkmal stellt die vorliegende Ausführungsform eine Druckplatte zur Verfügung, auf der ein Bild mittels Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als der sichtbaren Lichts ausgebildet wird und die in der Lage ist, ohne einen nassen Entwicklungsprozess für das Drucken bereitgemacht zu werden und für eine Wiederverwendung regeneriert zu werden, welche umfasst: ein Substrat, eine photosensitive Schicht, die auf einer Oberfläche des Substrats ausgebildet ist und einen Photokatalysator beinhaltet, der auf Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht reagiert; sowie eine Zwischenschicht, die zwischen dem Substrat und der photosensitiven Schicht eingesetzt ist und einen Halbleiter oder einen elektrischen Leiter beinhaltet.
Ein Abschnitt der Oberfläche der Druckplatte wird dadurch hydrophilisiert, dass er mit Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer sichtbarem Licht bestrahlt wird, aufgrund einer Aktion, die durch die Hydrophilisierung des Photokatalysators bewirkt wird. Der Abschnitt, der in seinen hydrophilen Zustand überführt wurde, dient als Nichtbildbereich, auf dem vorzugsweise ein Feuchtmittel anhaftet, jedoch hydrophobe Tinte kaum abgelagert wird.
Auf der anderen Seite ist ein solcher Abschnitt, der nicht mit Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer sichtbaren Lichts bestrahlt worden ist, hydrophob und dient als Bildbereich, auf dem hydrophobe Tinte vorzugsweise anhaftet, ein Feuchtmittel jedoch kaum abgelagert wird.
Das oben erwähnte Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer sichtbaren Lichts und mit einer Energie, die dazu ausreicht, die photokatalytische Aktivität des Photokatalysators auszuführen und in der vorliegenden Ausführungsform verwendet wird, wird Aktivierungslicht genannt.
Es ist daher möglicht, ein Bild durch Bestrahlung einer Oberfläche der photosensitiven Schicht mit Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge von oder kürzer als sichtbaren Lichts auszubilden, wobei die Bestrahlung eine Reaktion der photosensitiven Schicht bewirkt.
Zusätzlich kann nach dem Abschluss des Druckprozesses die gesamte Oberfläche der Druckplatte dadurch hydrophilisiert werden, dass sie mit Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als der des sichtbaren Lichts bestrahlt wird.
Wenn eine organische Zusammensetzung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht wurde, ist es möglich, die organische Zusammensetzung oxidativ zu zersetzen.
Insbesondere da die Zwischenschicht, die zwischen dem Substrat und der photosensitiven Schicht eingesetzt ist, einen Halbleiter oder einen elektrischen Leiter beinhaltet, kann ein Bild schnell durch das Aktivierungslicht aufgrund einer Eigenschaft des Halbleiters oder des elektrischen Leiters ausgebildet werden, so dass eine Druckplattenherstellung in kurzer Zeit realisiert werden kann und die für die Lichtausbildung erforderliche Lichtenergie reduziert werden kann.
Wenn die Druckplatte regeneriert werden muss, ist es möglich, die Bestrahlungsenergie des Aktivierungslichts, das auf die Plattenoberfläche aufgestrahlt werden muss, um einen Bildbereich zu löschen, abzusenken.
Wie oben beschrieben, kann die für die Bildausbildung und die Plattenregeneration erforderliche Zeit reduziert werden, so dass die Zeit zur Druckvorbereitung ebenso reduziert werden kann.
Die Wiederverwendung einer Druckplatte kann die Menge an Plattenabfällen, die nach den Druckverfahren weggeschmissen werden müssen, deutlich reduzieren, wodurch die Kosten für die Druckplatten reduziert werden.
Die Druckplatte wird direkt aus digitalen Daten für das Drucken bereitgestellt, so dass der Druckprozess digitalisiert werden kann und in einer kürzeren Zeit ausgeführt werden kann.
Die Druckplatte kann zum Drucken bereitgestellt und regeneriert werden, während die Druckplatte auf einer Druckpresse befestigt bleiben kann, wodurch die Betreibbarkeit aufgrund der Tatsache, dass die Platten nicht ersetzt werden müssen, verbessert werden kann.
Als bevorzugtes Merkmal kann das Substrat eine gewisse Flexibilität aufweisen. Das Substrat kann um die gekrümmte Oberfläche eines Plattenzylinders gewickelt werden, um dann als Druckplatte geeignet zu fungieren. Als ein anderes bevorzugtes Merkmal kann dann, wenn ein Bild auf der Druckplatte auszubilden ist, eine Eigenschaft der Oberfläche der photosensitiven Schicht von hydrophob auf hydrophil durch die Bestrahlung mit Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht umgewandelt werden. Die Umwandlung der Eigenschaft der Oberfläche der photosensitiven Schicht von hydrophob auf hydrophil, die durch die Bestrahlung der Oberfläche der photosensitiven Schicht mit einem Licht mit einer Wellenlänge von oder kürzer als sichtbaren Lichts bewirkt wird, bildet ein Bild aus, so dass das Bild schnell unter Verwendung einer Eigenschaft des Halbleiters oder elektrischen Leiters, die Hydrophilisierung zu erhöhen, ausgebildet werden kann.
Als ein weiteres bevorzugtes Merkmal kann dann, wenn die Druckplatte regeneriert werden soll, eine Eigenschaft der Oberfläche der photosensitiven Schicht von hydrophil auf hydrophob durch Bestrahlung der Oberfläche der Druckplatte mit einem Energiestrom wie etwa Licht, Elektrizität und/oder Wärme oder durch Aufbringen einer mechanischen Stimulierung wie etwa Reibung auf die Oberfläche von hydrophil auf hydrophob umgewandelt werden. Als Ergebnis ist es möglich, die Plattenoberfläche, die einem Druckprozess unterworfen war, zu hydrophobisieren und die Druckplatte kann in den Ursprungszustand dadurch zurückgesetzt werden, dass die Druckplatte für das Drucken wieder bereitgestellt wird.
Als noch weiteres bevorzugtes Merkmal kann dann, wenn eine organische Zusammensetzung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht aufgebracht wurde, um die Druckplatte zu regenerieren, die organische Zusammensetzung mit der photosensitiven Schicht Wechselwirken, so dass eine Eigenschaft der Oberfläche der photosensitiven Schicht von hydrophil auf hydrophob umgewandelt wird. Da die Aufbringung der organischen Zusammensetzung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht eine Wechselwirkung zwischen der organischen Zusammensetzung und der Oberfläche der photosensitiven Schicht bewirkt wird, so dass die Eigenschaft der photosensitiven Schicht von hydrophil auf hydrophob umgewandelt wird, wenn die Druckplatte regeneriert wird, ist es möglich, die einem Druckprozess ausgesetzte Oberfläche zu hydrophobisieren, um die Druckplatte in ihre Ursprungszustand zurückzusetzen, wodurch die Druckplatte wieder für das Drucken bereitgestellt wird.
Als ein noch weiteres bevorzugtes Merkmal kann der Photokatalysator ein Titanoxid-Photokatalysator oder ein modifizierter Titanoxid-Photokatalysator sein. Hier wird der modifizierte Titanoxid-Photokatalysator durch Dotierung erhalten werden oder ein Metall oder Nichtmetallatom enthalten, das sich von dem in der Natur im Titanoxid-Photokatalysator enthaltenen unterscheidet, oder durch Veränderung des stöchiometrischen Verhältnisses des Titandioxid-Photokatalysators, in dem das Verhältnis von Titan (Titan-Atome) und O (Sauerstoff-Atome) in einem Bereich von 1:2 liegt. Mit einem derartigen Photokatalysator kann die Umwandlung zwischen hydrophob und hydrophil sicher realisiert werden.
Als ein noch weiteres bevorzugtes Merkmal kann das Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer dem sichtbaren Licht einer Wellenlänge gleich oder kürzer 600 nm aufweisen. Hier hat das bevorzugte sichtbare Licht eine Wellenlänge von 400–600 nm, noch bevorzugter eine Wellenlänge von 400–500 nm. Dementsprechend weist das Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer der des sichtbaren Lichts vorzugsweise eine Wellenlänge bis zu 600 nm, noch bevorzugter eine Wellenlänge von bis zu 500 nm auf. Es ist daher möglich, eine große Vielzahl von Bildeinheiten zu verwenden.
Als ein zweites gattungsgemäßes Merkmal stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung der Druckplatte, die in einer Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7 enthalten ist, zur Verfügung, welches die folgenden Schritte umfasst:
Ausbilden einer Zwischenschicht inklusive eines Halbleiters oder eines elektrischen Leiters auf einer Oberfläche eines Substrats; Fixierung der Zwischenschicht auf der Oberfläche des Substrats; Ausbilden einer photosensitiven Schicht inklusive eine Photokatalysators, der auf Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer von sichtbarem Licht reagiert, auf einer Oberflächenschicht; sowie Fixierung der photosensitiven Schicht auf der Oberfläche der Zwischenschicht, so dass eine Druckplatte hergestellt werden kann.
Als drittes gattungsgemäßes Merkmal stellt die vorliegende Erfindung ebenso ein Verfahren zur Herstellung der Druckplatte, die in einer Presse gemäß einem der Ansprüche 1–7 beinhaltet ist, zur Verfügung, welche die folgenden Schritte umfasst:
Ausbilden einer Zwischenschicht inklusive eines Halbleiters oder eines elektrischen Leiters auf einer Oberfläche eines Substrats; Ausbilden einer photosensitiven Schicht inklusive eines Photokatalysators, der auf Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer sichtbaren Lichts reagiert, auf einer Oberfläche der Zwischenschicht; und Fixierung der photosensitiven Schicht sowie der Zwischenschicht auf der Oberfläche des Substrats.
Jeder Schichtausbildeschritt wird beispielsweise mittels eines Sol-Beschichtungsprozesses oder eines Sputter-Prozesses realisiert und jeder Fixierungsschritt wird beispielsweise durch Trocknung oder Einbrennen realisiert, um eine Schicht zu fixieren, so dass eine Druckplatte hergestellt werden kann.
Als viertes gattungsgemäßes Merkmal umfasst ein Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung zur Regenerierung einer wie oben beschriebenen Druckplatte: nach dem Abschluss des Druckbetriebs die Entfernung von Tinte von einer Oberfläche der Druckplatte; und die Hydrophobisierung der Oberfläche der photosensitiven Schicht, wodurch hierdurch die Druckplatte regeneriert werden kann.
Als bevorzugtes Merkmal kann das Verfahren weiterhin den folgenden Schritt umfassen: zwischen dem Schritt des Tintenentfernens und dem Schritt des Hydrophobisierung eine Bestrahlung der Oberfläche der photosensitiven Schicht mit einem Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht, so dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophilisiert wird, um die Druckplatte zu regenerieren.
Als ein anderes bevorzugtes Merkmal kann der Schritt der Hydrophobisierung einen Schritt der Bestrahlung der Oberfläche der photosensitiven Schicht mit einem Energiestrom wie etwa Licht, Elektrizität und/oder Wärme, die Aufbringung eines mechanischen Stimulus wie etwa Reibung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht sowie das Aufbringen einer organischen Zusammensetzung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht beinhalten, so dass die organische Zusammensetzung mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht zusammenwirkt. Mit diesem Schritt wird die Druckplatte hydrophobisiert. Als ein fünftes gattungsgemäßes Merkmal umfasst eine Druckpresse: einen Plattenzylinder mit einer gekrümmten Oberfläche zum Abstützen einer oben beschriebenen Druckplatte; eine Bildausbildeeinheit zum Bestrahlen einer Oberfläche der photosensitiven Schicht mit einem Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht; sowie eine Hydrophobisiereinheit zum Hydrophobisieren der Oberfläche der photosensitiven Schicht. Mit diesem Aufbau kann, da es möglich ist, eine Druckplatte, die zum Drucken bereitsteht, herzustellen und eine Druckplatte zu regenerieren, die Druckplatte auf der Druckpresse befestigt bleiben, wodurch die Druckprozesse ohne Unterbrechung durch ein Plattenersetzen weiter durchgeführt werden können.
Als ein bevorzugtes Merkmal kann die Hydrophobisierungseinheit die Oberfläche der photosensitiven Schicht durch entweder Bestrahlung der Oberfläche der photosensitiven Schicht mit einem Energiestrom wie etwa Licht, Elektrizität und/oder Wärme oder durch Aufbringen eines mechanischen Stimulus wie etwa Reibung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht oder durch Aufbringung einer organischen Zusammensetzung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht hydrophobisieren, so dass die organische Zusammensetzung mit der Oberfläche der photosensitiven Schicht in Wechselwirkung tritt. Die Druckplatte kann auf verschiedene Arten hydrophobisiert und in ihren Ursprungszustand zurückgesetzt werden.
Als ein anderes bevorzugtes Merkmal kann die Druckpresse eine Bildbereichs-Löscheinheit zur Bestrahlung der gesamten Oberfläche der Druckplatte mit Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht umfassen, um einen Bildbereich zu löschen. Mit der Bildbereich-Löscheinheit kann ein auf der Plattenoberfläche ausgebildeter Bildbereich gelöscht werden, so dass die Druckplatte durch eine Sicherstellung der Hydrophobisierung der Plattenoberfläche regeneriert werden kann.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
1 ist ein Diagramm, das eine Querschnittsansicht einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform illustriert, deren Oberfläche in einem hydrophoben Zustand vorliegt;
2 ist ein Diagramm, das eine Querschnittsansicht einer Druckplatte einer Ausführungsform illustriert, deren Oberfläche in einem hydrophilen Zustand vorliegt;
3 ist ein Diagramm, das einen Zyklus von der Bildausbildung bis zur Regeneration einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform zeigt;
4 ist ein schematisches Diagramm, das eine perspektivische Ansicht einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform illustriert;
5 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen der Zeit (Verfahrensschritte) sowie den Kontaktwinkeln des Wassers auf einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform zeigt;
6 ist ein schematisches Diagramm, das eine Druckpresse zeigt, die das Drucken und die Regeneration einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ausführt;
7 ist ein Flussdiagramm, das eine Folge von Prozessschritten zur Herstellung einer Druckplatte, die zum Drucken bereitsteht, sowie zur Regeneration einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform zeigt; und
8 ist ein Flussdiagramm, das eine Folge von Prozessschritten zur Herstellung einer Druckplatte gemäß einer Ausführungsform zeigt.
BESTE WEGE ZUR AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNG
Im Anschluss wird nunmehr eine Ausführungsform unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben.
Die 1 und 2 illustrieren jeweils eine Druckplatte gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung: 1 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Plattenoberfläche, die hydrophob ist; und 2 zeigt eine schematisch Schnittansicht einer Plattenoberfläche, die hydrophil ist.
Wie in 1 gezeigt, umfasst die Druckplatte 5 im Wesentlichen ein Substrat 1, eine Zwischenschicht 2 sowie eine photosensitive Schicht 3. Eine zum Drucken bereitstehende Druckplatte stellt eine Druckplatte 5 dar, auf der ein zu bedruckender Bildbereich ausgebildet ist.
Das Substrat 1 ist aus Metall wie etwa Aluminium oder Edelstahl oder einem Polymerfilm gefertigt. Das Material des Substrats 1 sollte jedoch auf keinen Fall auf Metall aus Aluminium oder Edelstahl oder einen Polymerfilm beschränkt sein.
Eine Schicht inklusive eines Halbleiters oder eines elektrischen Leiters dient als Zwischenschicht 2, die auf dem Substrat 1 ausgebildet ist.
Wenn ein Halbleiter verwendet wird, ist ein Oxid-Halbleiter wie etwa ein Zinkoxid ZnO, Zinnoxid SnO oder Wolframoxid WO₃ bevorzugt. Eine Zwischenschicht 2 wird vorzugsweise aus einem derartigen Halbleiter selbst erzeugt. Alternativ kann eine Binde-Zusammensetzung feine Partikel eines Halbleiters in einen Film hinein wachsen lassen, der als Zwischenschicht 2 zu verwenden ist.
Wenn ein elektrischer Leiter verwendet wird, kann ein Oxid wie etwa ITO (ein Oxid aus Indium und Zinn), ein Metall wie etwa Aluminium oder Silber oder Kupfer, schwarzer Kohlenstoff oder ein leitfähiges Polymer verwendet werden. Eine Zwischenschicht 2 ist aus einem derartigen elektrischen Halbleiter selbst gefertigt oder alternativ kann eine Eindungs-Zusammensetzung feine Partikel eines elektrischen Leiters in einen Film hineinwachsen lassen, der als Zwischenschicht 2 dienen soll.
Eine Zwischenschicht 2, die einen Halbleiter oder einen elektrischen Leiter beinhaltet, beschleunigt die Bildbildung mittels Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer dem sichtbaren Licht, so dass es möglich ist, die zur Herstellung einer Druckplatte, die zum Drucken bereitsteht, erforderliche Zeit abzukürzen und die für die Lichtbildung erforderliche Lichtenergie zu reduzieren. Darüber hinaus kann eine derartige Zwischenschicht 2 die Menge an Lichtenergie für das Aktivierungslicht, mit dem die Druckplatte bestrahlt wird, reduzieren, um einen Bildbereich dann zu löschen, wenn die Regeneration der Druckplatte erfolgt, da angenommen wird, dass der Halbleiter oder der elektrische Leiter, die in der Zwischenschicht 2 beinhaltet sind, die Funktion eines in der photosensitiven Schicht beinhalteten Photokatalysators, der später beschrieben werden wird, verbessert.
Ein Substrat 1 sowie eine Zwischenschicht 2 können mit einer Zwischen-Verstärkungsschicht (nicht gezeigt) versehen sein, die aus einer Silikonzusammensetzung wie etwa Silika, SiO₂, Silikonkunststoff oder Silikongummi hergestellt ist. Deine derartige Verstärkungsschicht gewährleistet und verbessert eine starre Anhaftung zwischen dem Substrat 1 und der Zwischenschicht 2. Insbesondere wird für den Silikonkunststoff Silikonalkyd, Silikonurethan, Silikonepoxid, Silikonacryl und Silikonpolyester benannt. Wenn eine adäquate adhäsive Festigkeit zwischen dem Substrat 1 und der Zwischenschicht 2 gewährleistet ist, ist die Wiederverstärkungsschicht eine Notwendigkeit.
Eine photosensitive Schicht 3 inklusive eines Titanoxid-Photokatalysators, der als Photokatalysator dient, ist auf der Zwischenschicht 2 ausgebildet. Die photosensitive Schicht 3 weist nämlich eine hohe katalytische Aktivität durch Bestrahlung mit Aktivierungslicht mit einer Energie höher als die Wandspaltenergie des Photokatalysators auf.
Als eines der Merkmale der Druckplatte 5 gemäß der dargestellten Ausführungsform ist eine photosensitive Schicht durch einen Photokatalysator ausgebildet, der auf Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als 600 nm bei einer Wellenlänge im Bereich sichtbaren Lichts, reagiert (d.h. auf zumindest ein sichtbares Licht mit einer Wellenlänge von 400–600 nm sowie ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer 400 nm reagiert). Die Anwesenheit eines derartigen Photokatalysators bewirkt, dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 eine hohe hydrophile Eigenschaft zeigt, wenn die photosensitive Schicht 3 mit Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer 600 nm bestrahlt wird. Darüber hinaus zersetzt dann, wenn eine organische Zusammensetzung auf die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgebracht wird, die Bestrahlung mit derartigem Aktivierungslicht aufgebrachte organische Zusammensetzung aufgrund des Photokatalysators oxidativ. Die organische Zusammensetzung wird später detailliert beschrieben werden.
Ein Photokatalysator wird nicht aktiviert, bis er mit Licht mit einer Energie höher als deren Bandspaltenergie bestrahlt wird. Beispielsweise reagiert, da ein Titandioxid-Photokatalysator ursprüngliche eine Bandspaltenergie von 3 Elektronenvolt aufweist, der Photokatalysator nur auf ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge bis zu 380 nm.
Die vorliegende Ausführungsform verwendet einen Photokatalysator, der auf Aktivierungslicht gleich oder kürzer 600 nm reagiert, wobei dieses Licht sichtbares Licht mit einer längeren Wellenlänge als ultraviolettes Licht beinhaltet, da ein neues Niveau im Bandspalt des Photokatalysators eingestellt ist. Obwohl Aktivierungslicht mit einer Wellenlänge von bis zu 600 nm selbstverständlich ultraviolettes Licht beinhaltet, reagiert der Photokatalysator auf Aktivierungslicht inklusive nur sichtbaren Lichts mit einer Wellenlänge von 400–600 nm, jedoch nicht auf sichtbares Licht inklusive ultraviolettes Licht, sowie auf ultraviolettes Licht.
Das Ausführen der Verfahren, die schon bekannt sind, erzeugt einen Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert. Beispielsweise offenbart die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungs-Nr. 2001-207082 einen Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert, welcher durch Dotierung von Stickstoffatomen erhalten wird; die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungs-Nr. 2001-205104 offenbart einen Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert, welcher durch Dotierung mit Chrom- und Stickstoffatomen erhalten wurde; und des Weiteren offenbart die offengelegte japanische Patentanmeldung (KOKAI) mit der Veröffentlichungs-Nr. HEI 11-197512 einen Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert, welcher durch Ionen-Implantation unter Verwendung von Metallionen wie etwa Chromionen erhalten wurde. Ein Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert, wird durch ein anderes offenbartes Verfahren erzeugt, in dem ein cryogenes Plasma verwendet wird, und ein Photokatalysator, der auf sichtbares Licht reagiert und Platin enthält, wird ebenso offenbart. Der Photokatalysator des sogenannten Typs, der auf sichtbares Licht reagiert, welcher durch die Ausführung eines oder mehrerer der oben genannten Verfahren erhalten wird, wird zur Erzeugung einer Druckplatte 5 gemäß der vorliegenden Ausführungsform verwendet.
Um die oben genannten Eigenschaften sowie die hydrophile Eigenschaft beizubehalten und die Adhäsion zwischen dem Substrat 1 und der photosensitiven Schicht 3 für die Festigkeit der photosensitiven Schicht 3 zu verbessern, kann die nachfolgend angegebene Substanz zur photosensitiven Schicht 3 inklusive eines auf sichtbares Licht reagierenden Photokatalysators zugegeben werden (hier wird die photosensitive Schicht manchmal als Photokatalysator-Schicht bezeichnet, da der Photokatalysator in der Schicht beinhaltet ist). Die Substanz wird beispielsweise durch eine Silika-Zusammensetzung wie etwa Silika, Silika-Sol, Organosilan oder einen Silikonkunststoff, ein Metalloxid oder ein Metallhydrid wie ein Hydrid des Zirkonium, Aluminium, Titan oder einen Fluorin-Kunststoff dargestellt.
Die Kristallstruktur eines auf Titandioxid basierenden Photokatalysators ist in Rutil, Anatas und Brucit erhältlich. Diese Strukturen sind sämtlich in dieser Ausführungsform verwendbar und können auch in Kombination verwendet werden. im Hinblick auf die Aktivität des Photokatalysators wird die Anatas-Struktur bevorzugt.
Wie im Folgenden beschrieben werden wird, wird bei einem Titanoxid-Photokatalysator ein kleiner Partikeldurchmesser bevorzugt, um die hohe photokatalytische Aktivität zur Zersetzung eines Bildbereichs unter Strahlung mit Aktivierungslicht aufrecht zu erhalten. Insbesondere ist der Partikeldurchmesser des Titandioxid-Photokatalysators 0,1 μm oder kleiner, noch bevorzugter bis zu 0,05 μm. Ein bevorzugter Photokatalysator ist ein Titanoxid-Photokatalysator, wobei dieser jedoch nicht auf diesen beschränkt ist.
Die Dicke der photosensitiven Schicht 3 liegt vorzugsweise im Bereich von 0,005 bis 1 μm, da eine besonders kleine Dicke es erschwert, die oben beschriebenen Eigenschaften vollständig anzuwenden, während eine exzessiv große Dicke die photosensitive Schicht anfällig für Risse macht und eine Reduktion der Druck-Haltbarkeit bewirkt. Da diese Rissbildung insbesondere dann beobachtet wird, wenn die Dicke 10 μm übersteigt, ist es notwendig, diese 10 μm als obere Grenze auch dann anzusehen, wenn versucht wird, diesen Bereich der Dicke zu vergrößern. In der Praxis kann die Dicke vorzugsweise im Bereich von 0,03 bis 0,5 μm oder ähnlich eingestellt werden.
Die photosensitive Schicht 3 wird durch einen aus den nachfolgend angegebenen Prozessen ausgewählten Prozess ausgebildet, nämlich einen Sol-Beschichtungsprozess, einen organischen Titanatprozess, einen Sputter-Prozess, das CVD-Verfahren, das PVD-Verfahren oder andere Prozesse. Wenn das Sol-Beschichtungsverfahren beispielsweise angewendet wird, kann eine Sol-Beschichtungsformulierung, die zur Verwendung im Sol-Beschichtungsprozess verwendet wird, ein Lösungsmittel, ein Vernetzungs-Agens, ein oberflächenaktives Mittel und/oder dergleichen zusätzlich zum Titan-Photokatalysator sowie die oben beschriebenen Substanzen zur Verbesserung der Festigkeit der photosensitiven Schicht 3 und von deren Anhaftung auf dem Substrat 1 enthalten.
Die Beschichtungsformulierung kann entweder ein bei Raumtemperatur trocknender Typ oder ein bei Wärme trocknender Typ sein, wobei der letztere mehr bevorzugt wird, da es zur Bereitstellung der daraus resultierenden Druckplatte mit einer verbesserten Druckdauerhaftigkeit vorteilhaft ist, die Festigkeit der photosensitiven Schicht 3 mittels Erhitzung zu unterstützen. Es ist ebenso möglich, die photosensitive Schicht 3 mit hoher Festigkeit zu bilden, beispielsweise mittels Anwachsen einer amorphen Titandioxid-Schicht auf einem Metallsubstrat durch Sputtern in Vakuum und anschließendes Kristallisieren des amorphen Titandioxid mittels Wärmebehandlung oder mittels eines anderen Verfahrens.
Eine bevorzugte organische Zusammensetzung, die die photosensitive Schicht 3 hydrophobisiert, reagiert chemisch mit oder haftet physikalisch an zumindest einem hydrophilen Abschnitt auf der Oberfläche (Plattenoberfläche) der Druckplatte 5 an, um eine Oberfläche in einem hydrophilen Zustand abzudecken, wodurch die Hydrophobisierung der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 bewirkt wird und zur gleichen Zeit es leicht ist, diese unter Bestrahlung mit dem Aktivierungslicht durch die oxidative Zersetzungsaktivität des Photokatalysators zu zersetzen. Ein bevorzugtes Beispiel einer organischen Zusammensetzung ist eine organische Titan-Zusammensetzung, eine organische Silan-Zusammensetzung, eine Isocyanat-Zusammensetzung oder eine Epoxid-Zusammensetzung. Diese Zusammensetzungen reagieren jeweils mit einer Hydroxidgruppe, die an der Oberfläche eines Photokatalysators in hydrophilem Zustand vorliegt, der an der Oberfläche zu fixieren ist, so dass eine monomolekulare Schicht einer organischen Zusammensetzung auf der Oberfläche des Photokatalysators prinzipiell ausgebildet wird. Die Hydrophobisierung der Oberfläche eines Photokatalysators mittels einer derartigen monomolekularen Schicht zersetzt die organische Zusammensetzung leicht bei Bestrahlung mit dem Aktivierungslicht.
Die organische Titan-Zusammensetzung wird exemplarisch durch (1) ein Alkoxy-Titan wie etwa Tetra-i-propoxy-Titan, ein Tetra-n-butoxy-Titan, ein Tetra-i-butoxy-Titan oder ein Tetrastearoxy-Titan, (2) ein Titanacylat wie etwa ein Tri-n-butoxy-Titanstearat oder ein Isoproxy-Titantristearat, oder (3) ein Titanchelat wie etwa ein Diisopropoxa-Titan-Bisacetylacetonat, ein Dihydroxy-Bislactatotitan oder ein Titan-i-propoxyoctylen-Glykol angegeben.
Die organische Silan-Zusammensetzung ist (1) ein durch Trimethylmethoxylan exemplarisch angegebenes Aloxylsilan, ein Trimeethylethosysilan, ein Dimethyldiethoxysilan, ein Methyltrimethoxysilan, ein Tetramethoxysilan, ein Methyltriethoxysilan, ein Tetraethosysilan, ein Methyldimothoxysilan, ein Octadecyltrimethoxysilan oder ein Octadecyltriethoxysilan, (2) ein Chlorosilan, wie etwa Trimethylchlorosilan, ein Dimethyldichlorosilan, ein Methyltrichlorosilan, ein Methyldichlorosilan oder ein Dimethylchlorosilan, (3) ein Silankuppler wie etwa Vinyl-Trichlorosilan, ein Vinyl-Triethoxysilan, ein γ-Chloropropyltrimethoxysilan, ein γ-Chloropropylmethyldichlorosilan, ein γ-Chloropropylmethyldimethoxysilan, ein γ-Chloropropylmethyldiethoxysilan oder γ-Aminopropyltriethoxysilan, oder (4) ein durch Perpholoroalkyltrimethoxysilan dargestelltes Holoroalkylsilan.
Die Isocyanat-Zusammensetzung ist ein isocyanisches Dodecyl, ein isocyanisches Octadecyl oder dergleichen.
Die Epoxid-Zusammensetzung wird exemplarisch durch 1,2-Epoxydecan, ein 1,2-Epoxyhexadecan, ein 1,2-Epoxyoctadecan oder dergleichen angegeben.
Die organische Titan-Zusammensetzung, die organische Silan-Zusammensetzung, die Isocyanat-Zusammensetzung sowie die Epoxid-Zusammensetzung sollten in keinem Fall als die oben angegebenen Beispiele beschränkend begriffen werden.
Wenn die organische Zusammensetzung bei Raumtemperatur flüssig ist, wird die organische Zusammensetzung durch Klingenbeschichtung, Walzbeschichtung oder Eintauchbeschichtung auf die photosensitive Schicht aufgebracht, oder die organische Zusammensetzung wird in Mikrotröpfchen mittels eines Sprays, das auf die photosensitive Schicht 3 aufgebracht werden soll ausgebildet. Alternativ kann die Photokatalysator-Schicht 3 mit der organischen Zusammensetzung in der Form eines Gases beschichtet werden, das durch Erhitzung der Zusammensetzung auf eine Temperatur unterhalb der Zersetzungstemperatur erhalten wird, oder in der Form eine Dampfs, der durch einen Vernebler unter Verwendung von Ultraschall ausgebildet wird. Dabei ist es nicht notwendig zu erwähnen, dass die Zusammensetzung in einer anderen Lösung aufgelöst werden kann, um deren Konzentration und Viskosität einzustellen.
Im Anschluss werden Arten zur Herstellung einer zum Drucken bereitstehenden Druckplatte sowie zur Regeneration der Druckplatte beschrieben werden.
Wie in 7 gezeigt, beinhaltet eine Abfolge von Prozessschritten zur Herstellung einer zum Drucken bereitstehenden Druckplatte sowie zur Regeneration der Druckplatte einen Hydrophobisierungsschritt (S200), einen Bildausbildeschritt (S210), eine Druckschritt (S220), einen Tintenentfernungsschritt (S230) sowie einen Hydrophilisierungsschritt (eine Bildbereich-Löschschritt S240).
Zuerst wird eine Beschreibung in Bezug auf die Herstellung einer zum Drucken bereitstehenden Druckplatte angegeben.
Im Anschluss bedeutet der Begriff "Herstellung einer zum Drucken bereitstehenden Druckplatte" das Beschreiben eines hydrophilen Nichtbildbereichs mittels Bestrahlung zumindest eines Teils der Oberfläche der Druckplatte 5 (d.h. der photosensitiven Schicht 3), deren Oberfläche vorab hydrophobisiert wurde (im ursprünglichen Zustand) mit Licht (Aktivierungslicht) mit einer Wellenlänge von bis zu sichtbarem Licht in Übereinstimmung mit den digitalen Daten, so dass zusammen mit den einen oder mehreren hydrophoben Abschnitten auf der Oberfläche der Druckplatte, die nicht vorab mit dem Aktivierungslicht bestrahlt wurden, ein verborgenes Bild inklusive eines hydrophoben Bildbereichs sowie ein hydrophiler Nichtbildbereich auf der Oberfläche der Druckplatte ausgebildet werden.
In einem Hydrophobisierungsschritt (S200) werden die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3, die gesamte Oberfläche, die im vorangehenden Schritt hydrophilisiert wurde (ein Hydrophilisierungsschritt (S240)) hydrophobisiert. Der Schritt (a) in 3 illustriert die Druckplatte 5 in ihrem Ursprungszustand, in dem die gesamte Oberfläche der Druckplatte 5 hydrophobisiert ist. Hier bildet die hydrophobe Oberfläche der Druckplatte 5 einen Kontaktwinkel mit dem darauf liegenden Wasser von bis zu 50°, vorzugsweise bis zu 80°, aus, was in diesem Zustand bedeutet, dass die hydrophobe Drucktinte leicht gehalten werden kann, eine wässrige Lösung jedoch kaum abgelagert werden kann.
Dieser Zustand der photosensitiven Schicht 3 wird "Ursprungszustand" beim Herstellen einer für das Drucken bereitstehenden Druckplatte genannt. Der "Ursprungszustand" beim Herstellen der für das Drucken bereitstehenden Druckplatte kann als Start des tatsächlichen Druckprozesses (S220) betrachtet werden. Insbesondere bedeutet der Ursprungszustand einen Zustand, bei dem ein beliebiges Bild, dessen digitalen Daten bereits vorab bereitgestellt worden sind, auf der Druckplatte 5 ausgebildet wird.
Im nachfolgenden Schritt (S210) der Bildausbildung wird ein Nichtbildbereich auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 im hydrophoben Zustand beschrieben, wie dies in 3(b) gezeigt ist.
Das Beschreiben des Nichtbildbereichs wird in Übereinstimmung mit den digitalen Bilddaten so ausgeführt, dass es mit den Daten übereinstimmt. Dieser Nichtbildbereich ist ein hydrophiler Zustand, wie er in 2 gezeigt ist, mit einem Kontaktwinkel des darauf angeordneten Wassers von gleich oder kleiner als 10°, wobei in einem derartigen Zustand die wässrige Lösung leicht erhalten werden kann, die Drucktinte jedoch kaum abgelagert werden kann.
Für die Erscheinung eines hydrophilen Nichtbildbereichs in Übereinstimmung mit den Bilddaten wird Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer als 600 nm, d.h. das Aktivierungslicht, auf einen Abschnitt der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 aufgestrahlt und die Aktion des Photokatalysators hydrophilisiert den bestrahlten Bereich. Auf der anderen Seite werden, da ein Plattenoberflächenabschnitt, der nicht mit dem aktivierten Licht bestrahlt wurde, in seinem hydrophoben Zustand verbleibt, ein hydrophober Bereich sowie ein hydrophiler Bereich auf den Plattenoberfläche ausgebildet, woraufhin die Druckplatte für das Drucken bereit gemacht werden kann.
In dem dargestellten Beispiel beschreibt, wie dies beim Schritt (b) in 3 gezeigt ist, ein Bildkopf, der sichtbares Licht wie etwa ein Violettlaser mit einer Wellenlänge von 400 nm verwendet, einen Nichtbildbereich, so dass der Nichtbildbereich auf der hydrophilen Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet ist.
Um einen hydrophilen Nichtbildbereich in Übereinstimmung mit den Bilddaten zu entwickeln, wird der oben erwähnte Bildkopf, der einen Violettlaser mit einer Wellenlänge von 400 nm verwendet, durch eine andere Bildvorrichtung ersetzt, die das Aktivierungslicht verwendet, wobei eine derartige Vorrichtung exemplarisch von einem Bildkopf mit einer Lichtquelle zum Emittieren von Licht mit einer Wellenlänge von 360–450 nm und mit einem Mikrospiegel, beinhaltet, wobei der Kopf in einem UV-setter^TM 710, hergestellt von basysPrint GmbH (Deutschland) eingebaut ist, angegeben werden kann.
Beim Ausbilden des Bildausbildeschritts (S210) wurden Bild- und Nichtbildbereiche auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 ausgebildet, wie dies beim Schritt (c) in 3 gezeigt ist, und die Druckplatte ist dafür bereit, zum Drucken im nächsten Druckschritt (S220) zu dienen.
Im Druckschritt (S220) wird eine sogenannte Emulsionstinte einer Mischung einer hydrophoben Drucktinte und einem Feuchtmittel auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufgebracht.
Wenn ein in 4 gezeigtes Bild ausgebildet wird, haften die auf dem schraffierten Bereich (d.h. dem hydrophoben Bildbereich) 3b abgelagerte hydrophobe Tinte sowie das Feuchtmittel vorzugsweise auf dem verbleibenden Abschnitt mit weißem Hintergrund (d.h. dem hydrophilen Nichtbildbereich) 3a an, auf dem die hydrophobe Tinte abgewiesen wird, um somit kaum abgelagert werden zu können. Die Entstehung eines Bilds (eines Musters) ermöglicht es der photosensitiven Schicht 3, als Druckplatte zu agieren, die zum Drucken bereitsteht. Danach tritt ein normaler Druckprozess ein und wird abgeschlossen.
Im Anschluss wird eine Art zur Regenerierung zur Druckplatte beschrieben werden.
Im Anschluss stellt der Begriff "Regenerierung der Druckplatte" eine Umwandlung einer Eigenschaft des Photokatalysators von hydrophil auf hydrophob dar, um die Druckplatte in ihren ursprünglichen Zustand zurückzusetzen und eine Druckplatte herzustellen, die zum Drucken bereitsteht, durch gleichmäßige Hydrophilisierung der gesamten Oberfläche der Druckplatte, zumindest eines Teils, der hydrophob ist, während der verbleibende Teil hydrophile Eigenschaften aufweist, und anschließendes Bestrahlen der Oberfläche der Druckplatte 5 mit einem Energiestrom mit einem oder einer beliebigen Kombination von Licht, Elektrizität, Wärme und dergleichen, durch Aufbringen eines mechanischen Stimulus wie etwa Reibung auf die Oberfläche der Druckplatte 5, oder durch Aufbringen einer organischen Zusammensetzung auf die Oberfläche der Druckplatte 5, so dass die organische Zusammensetzung und die photosensitive Schicht 3 miteinander in Wechselwirkung treten. Der Schritt der gleichmäßigen Hydrophilisierung der gesamten Oberfläche der Druckplatte 5 vor dem Hydrophobisierungs-Schritt wird ausgeführt, um den auf der Druckplatte ausgebildeten Bildbereich vollständig zu löschen und sollte auf keinen Fall zur gleichen Zeit ausgeführt werden. Die Druckplatte kann in der Praxis ohne Ausführung des Hydrophilisierungs-Schritts regeneriert werden.
Zu Beginn wird ein Tintenentfernungsschritt (S230) ausgeführt, so dass Tinte, Feuchtmittel, Papierstaub und dergleichen, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 nach dem Drucken verblieben sind, entfernt werden. Die Tintenentfernung wird durch einen der nachfolgenden Verfahrensschritte ausgeführt: Bewegung von Tinte zum Papier, während eine Druckpresse betrieben wird, ohne die Druckplatte mit Tinte zu versorgen; Abwischen von Tinte mit einem aufgespulten Reinigungsgewebeband; Abwischen der Tinte mit einem Mechanismus einer Rolle, um die das Gewebe geschlungen ist; und Aufsprühen eines Lösungsmittels mit dem Effekt des Abwaschens von Tinte auf die Oberfläche der Druckplatte zum Abwaschen von Tinte.
Danach wird, wie dies in Schritt (e) gezeigt ist, die gesamt ersten Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht beim Hydrophilisierungs-Schritt (S240) bestrahlt, so dass der Bildbereich 3b ebenso hydrophil wird. Dies bewirkt, dass die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in einen hydrophilen Zustand überführt wird, welcher darauf einen Kontaktwinkel für Wasser 6 von 10° aufweist, d.h. in einen Zustand, wie er in 2 gezeigt ist, und der Bildbereich kann vollständig gelöscht werden.
Die Eigenschaft, dass ein hydrophober Bildbereich auf der photosensitiven Schicht 3 in eine Oberfläche mit hohem hydrophilen Zustand durch Bestrahlung mit dem Aktivierungslicht überführt wird, kann beispielsweise durch die Verwendung eines Titanoxid-Photokatalysators bewirkt werden. Im dargestellten Beispiel wird ein hydrophober Bildbereich in einen hydrophilen Zustand mit einer Ultraviolett-Lampe überführt, wie dies in Schritt (e) aus 3 gezeigt ist, woraufhin die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in einem hydrophilen Zustand gelangt und der Bildbereich vollständig gelöscht wird.
Im nachfolgenden Hydrophilisierungs-Schritt (S200) wird die Oberfläche der Druckplatte 5 mit einem Energiestrom gemäß einem oder einer beliebigen Kombination der folgenden Maßnahmen bestrahlt: Licht, Elektrizität, Wärme und dergleichen, ein aufgebrachter mechanischer Stimulus wie etwa Reibung auf die Oberfläche der Druckplatte 5, oder Aufbringung einer organischen Zusammensetzung auf die Oberfläche der Druckplatte 5, so dass die organische Zusammensetzung mit der photosensitiven Schicht 3 in Wechselwirkung tritt. Hierdurch wird eine Eigenschaft des Photokatalysators von hydrophil zu hydrophob umgewandelt, wodurch der ursprüngliche Zustand beim Herstellen der für das Drucken bereitstehenden Druckplatte wieder eingesetzt wird. Der Hydrophilisierungs-Schritt (S240) ist in den Prozessschritten beinhaltet, um einen Bildbereich vollständig zu löschen. Wenn der Tintenentfernungsschritt (S230) jedoch die auf der Plattenoberfläche haftende Tinte in einem Maße entfernt wird, dass die verbleibende Tinte einen nachfolgenden Druckprozess nicht beeinflusst, wobei die Prozessschritte den Hydrophilisierungs-Schritt (S240) auslassen können und der Tintenentfernungsschritt (S230) direkt von dem Hydrophobisierungs-Schritt (S200) gefolgt werden kann.
Die oben angegebene Beschreibung wird im Graph in 5 zusammengefasst. Die angaben auf der Abszisse stellen die Zeit (oder die Prozessschritte) dar; und die Angaben auf der Ordinate stellen den Kontaktwinkel des Wassers auf der Oberfläche der Druckplatte 5 dar. Der Graph zeigt eine Veränderung des Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der Druckplatte 5 dieser Ausführungsform in Übereinstimmung mit dem Verlauf der Zeit und dem Ablauf der Prozessschritte. Die gepunktete Linie in dem Graph stellt den Kontaktwinkel des Wassers auf dem Nichtbildbereich 3a der photosensitiven Schicht 3 dar und die durchgezogene Linie stellt den Bildbereich 3b dar.
Zuerst wird die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht bestrahlt, so dass die Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in einem hoch hydrophilen Zustand mit einem Kontaktwinkel des Wassers 6 darauf von bis zu 10° vorliegt.
Im Hydrophobisierungs-Schritt (S200) (Schritt A in 5) wird eine Eigenschaft des Photokatalysators von hydrophil auf hydrophob durch Bestrahlung der photosensitiven Schicht 3 mit einem Energiestrom einer der nachfolgend angegebenen Arten oder einer beliebigen Kombination hiervon überführt: Licht, Elektrizität, Wärme und dergleichen, Aufbringung eines mechanischen Stimulus wie etwa Reibung auf die Oberfläche der Druckplatte 5, oder Aufbringung einer organischen Zusammensetzung auf die Oberfläche der Druckplatte 5, so dass die organische Zusammensetzung mit der photosensitiven Schicht 3 in Wechselwirkung tritt. Zu diesem Zeitpunkt ist ein bevorzugter Kontaktwinkel des Wassers 6 gleich oder größer als 50°, noch bevorzugter gleich oder größer als 80°. Bei Anschluss der Hydrophobisierung (Zeitpunkt (b) in 5), liegt die Druckplatte 5 in ihrem "Ursprungszustand" beim Herstellen der für das Drucken bereitstehenden Druckplatte vor.
Der nachfolgende Bildausbildeschritt (210) (Schritt B in 5) beginnt mit dem Beschreiben eines Nichtbildbereichs auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in einem hydrophoben Zustand unter Verwendung des Aktivierungslichts (Zeitpunkt (b) in 5). Der Abschnitt der photosensitiven Schicht 3, der mit dem Aktivierungslicht bestrahlt wurde, wird von hydrophob zu hydrophil durch die Aktion des Photokatalysators überführt. Der bestrahlte Abschnitt weist nämlich einen Kontaktwinkel des Wassers 6 von 10° hierauf auf. Im Gegensatz hierzu verbleibt der Abschnitt der photosensitiven Schicht 3, der nicht mit dem Aktivierungslicht bestrahlt wurde, im hydrophoben Zustand, woraufhin der nicht mit dem Aktivierungslicht bestrahlte Abschnitt der photosensitiven Schicht 3 ein Bildbereich in einem hydrophoben Zustand wird und der mit dem Aktivierungslicht bestrahlte Bereich ein Nichtbildbereich in einem hydrophilen Zustand wird. Hierdurch agiert die photosensitive Schicht 3 als für das Drucken bereitstehende Druckplatte.
Nach dem Anschluss der Beschreibung des Nichtbildbereichs wird der Druckbetrieb gestartet (Zeitpunkt (C) in 5), um den Druckschritt (S220) (Schritt C in 5) auszuführen.
Nach dem Anschluss des Druckbetriebs entfernt der Tintenentfernungsschritt (S230) (Schritt D in 5) Tinte, Staub oder dergleichen, die auf der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 verblieben sind (Zeitpunkt (d) in 5).
Im nächsten Hydrophilisierungs-Schritt (Schritt 240) (Schritt E in 5), der nach der Tintenentfernung ausgeführt wird, wird die Bestrahlung der Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 mit dem Aktivierungslicht begonnen (Zeitpunkt (e) in 5). Die Bestrahlung überführt einen hydrophoben Bildbereich in einem hydrophilen Nichtbildbereich aufgrund der Aktion des Photokatalysators. Infolgedessen kehrt die gesamte Oberfläche der photosensitiven Schicht 3 in ihren hydrophilen Zustand zurück.
Danach wird die Druckplatte wieder in ihren "Ursprungszustand" dadurch zurückgesetzt, dass die Druckplatte durch Ausführen des sukzessiven Hydrophobisierungs-Schritts (S200) (Schritt A' in 5), bei dem ein Energiestrom aus einer oder einer beliebigen Kombination der nachfolgenden Maßnahme ausgeführt wird, zum Drucken bereitstehenden Druckplatte ausgeführt wird: Licht, Elektrizität, Wärme und dergleichen werden auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufgestrahlt, ein mechanischer Stimulus wie etwa Reibung wird auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufgebracht oder eine organische Zusammensetzung wird auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufgebracht, so dass die organische Zusammensetzung mit der photosensitiven Schicht 3 in Wechselwirkung tritt (Zeitpunkt a' in 5). Die in Rede stehende Druckplatte steht dazu bereit, wiederverwendet zu werden.
Das oben beschriebene Drucken und Regenerieren einer Druckplatte wird vorzugsweise in einem Drucksystem (Druckpresse) 10 ausgeführt, wie sie in 6 gezeigt ist. Die Druckpresse 10 umfasst einen Plattenzylinder 11, der in deren Zentrum angeordnet ist, und beinhaltet zusätzlich eine Plattenreinigungseinheit 12, eine Bildeinheit 13, einen Zuführer 14 für die organische Zusammensetzung, der als Hydrophobisierungseinheit dient, eine Oberflächenerhitzungsvorrichtung 15, eine Bestrahlungseinheit 16 für das Hydrophilisierungs-Aktivierungslicht, die als Bildbereichs-Löscheinheit agiert, Tintenwalzen 17, einen Feuchtmittel-Zuführer 18 sowie einen Deckzylinder 19, der um den Plattenzylinder 11 herum angeordnet ist. Die Druckplatte 5 ist um den Plattenzylinder 11 herum gewickelt.
Verfahren zur Herstellung und Regenerierung einer Druckplatte werden nunmehr unter Bezugnahme auf 6 beschrieben. Wie oben bereits beschrieben wurde, wird der Regenerierungsschritt einer Druckplatte, die um den Plattenzylinder 11 herum gewickelt ist, wie folgt nach dem Abschluss eines Druckschritts ausgeführt.
Die in Kontakt mit dem Plattenzylinder 11 stehende Plattenreigungseinheit 12 wischt die Tinte, das Feuchtmittel und den Papierstaub, die auf der Oberfläche der Druckplatte 5 verblieben sind, ab. Die Plattenreinigungseinheit 12 aus 6 weist einen Mechanismus zum Aufhaspeln eines Tintenreinigungs-Gewebebands auf, sollte jedoch selbstverständlich auf keinen Fall auf das oben angegebene Beispiel beschränkt sein.
Danach wird die Plattenreinigungseinheit 12 von dem Plattenzylinder 11 entfernt und die Bestrahlungseinheit 16 für das Hydrophobisierungs-Aktivierungslicht bestrahlt die gesamte Oberfläche der Druckplatte mit dem Aktivierungslicht, um die Plattenoberfläche zu hydrophilisieren. In diesem Fall ist es möglich, Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer der des sichtbaren Lichts zu verwenden, beispielsweise Licht mit einer Wellenlänge bis zu 600 nm, wie etwa das Aktivierungslicht. Während der Hydrophilisierung kann die Plattenoberfläche mit dem Aktivierungslicht gleichzeitig mit der Aufheizung durch die Oberflächenaufheizvorrichtung 15 bestrahlt werden.
Dann führt der Zuführer 14 für die organische Zusammensetzung eine organische Zusammensetzung auf die Plattenoberfläche auf, um zu bewirken, dass die organische Zusammensetzung mit der photosensitiven Schicht 3 in Wechselwirkung tritt, so dass die Oberfläche der Druckplatte 5 hydrophobisiert wird. Der Zuführer 14 für die organische Zusammensetzung aus 6 nimmt die Form einer Walzenaufbringung an, sollte jedoch auf keinen Fall auf einen derartigen Aufbringer beschränkt sein. Die Hydrophobisierungseinheit wird als Zuführer beschrieben, um eine organische Zusammensetzung auf die Oberfläche der Druckplatte 5 aufzubringen. Alternativ hierzu kann die Hydrophobisierungseinheit die Oberfläche der Druckplatte 5 mit einem Energiestrom bestrahlen, der aus einem oder einer beliebigen Kombination von Licht, Elektrizität, Wärme und dergleichen ausgewählt ist, oder einen mechanischen Stimulus wie etwa Reibung auf die Oberfläche der Druckplatte aufbringen. Um die Wechselwirkung zwischen der organischen Zusammensetzung und der Plattenoberfläche zu erhöhen, kann die Oberfläche der Druckplatte 5, auf der die organische Zusammensetzung aufgebracht wurde, durch die Oberflächenaufheizvorrichtung 15 erhitzt werden.
Danach bestrahlt die Bildeinheit 13 mit dem Aktivierungslicht basierend auf den vorab bereitgestellten digitalen Bilddaten, so dass der Nichtbildbereich beschrieben wird (d.h., dass das Bild auf der Plattenoberfläche ausgebildet wird).
Nach der Bildausbildung werden die Tintenwalzen 17, der Feuchtmittel-Zuführer 18 sowie der Deckzylinder 19 dazu gebracht, mit dem Plattenzylinder in Kontakt zu kommen und ds Papier 20 kommt in Kontakt mit dem Deckzylinder 19. In dieser Anordnung führt die Rotation in den Richtungen, die in 6 durch die Pfeile angezeigt sind, das Feuchtmittel und die Tinte nacheinander auf die Oberfläche der Druckplatte auf und das Drucken wird ausgeführt.
Es ist möglich, dass die Druckpresse 10 eine Reihe von Schritten zum Regenerieren der Druckplatte unterzogen wird, um die Druckplatte für das Drucken bereit zu machen –, die Reinigung der Plattenoberfläche nach dem Drucken; die Löschung eines Bildbereichs durch Bestrahlung mit dem Aktivierungslicht; die Aufbringung einer organischen Zusammensetzung auf die Plattenoberfläche sowie die Ausbildung eines Bilds – während die Druckplatte 5 auf dem Plattenzylinder 11 der Druckplatte 10 befestigt ist. Dies ermöglicht es der Druckplatte 10, einen Druckprozess kontinuierlich auszuführen, ohne den Betrieb anzuhalten und ebenso ohne durch das Ersetzen einer Druckplatte unterbrochen zu werden.
In Bezug auf die Struktur der Druckpresse 10 ist die Druckplatte 5 um den Plattenzylinder 11 herum gewickelt, die Struktur sollte jedoch auf keinen Fall hierauf beschränkt sein. Alternativ kann eine photosensitive Schicht inklusive eines Photokatalysators direkt auf dem Plattenzylinder 11 ausgebildet sein, d.h. dass der Plattenzylinder 11 und die Druckplatte in einer Einheit ausgebildet sind.
Im Anschluss wird eine Beschreibung in Bezug auf die Herstellung und Regeneration einer Druckplatte in Bezug auf die Ergebnisse von Experimenten und Beobachtungen durch die Erfinder angegeben. Wie im Flussdiagramm aus 8 gezeigt, beinhaltet eine Abfolge von Prozessschritten zur Herstellung der Druckplatte 5 einen Ausbildeschritt für die Zwischenschicht (S100), einen Fixierungsschritt für die Zwischenschicht (S110), einen Ausbildeschritt für die photosensitive Schicht (S220), sowie einen Fixierungsschritt für die photosensitive Schicht (S130).
(a) Beschreibung des Photokatalysators:
(Bereitstellung des Katalysators)
Eine Ammoniaklösung wurde zum Startmaterial eines Titansulfats (ein Produkt der Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) hinzugegeben, während die Mischung gerührt wurde, um ein Titansulfat-Hydrolysat zu erhalten, was durch einen Buchner-Trichter gefiltert wurde. Das restliche Titansulfat-Hydrolysat wurde mit de-ionisiertem Wasser gereinigt, bis eine elektrische Leitfähigkeit des Filtrats 2 μS/cm oder niedriger wurde. Nach der Reinigung wurde das Hydrolysat bei Raumtemperatur getrocknet und anschließend in der Atmosphäre für 2 Stunden bei 400 °C gebrannt. Das gebrannte Produkt wurde mit einem Mörser grobgemahlen und ein pulverförmiger Photokatalysator wurde erhalten.
(Bestätigung der Aktivität bei sichtbarem Licht)
Der oben erwähnte pulverförmige Photokatalysator (0,2 g) wurde gleichmäßig über den Boden eines abdichtbaren zylindrischen Reaktionsbehälters (500 ml), der aus Pyrex^®-Glas erzeugt wurde, besprüht. Die Atmosphäre im Reaktions-Behälter wurde entlüftet und mit hochreiner Luft ersetzt. Aceton (500 ppm) wurde in den Reaktions-Behälter hinzugegeben und in dem Photokatalysator an einem dunklen Ort für 10 Stunden bei 25 °C absorbiert, bis die Inhalte im Reaktions-Behälter ein Absorptions-Gleichgewicht erhalten. Danach wurden die Inhalte mit Licht (mit einer Hauptwellenlänge von 470 nm) bestrahlt, das von einer blauen LED (erzeugt von der Nichia Corporation) emittiert wurde. Als Ergebnis einer nachfolgenden Messung der Menge an Aceton und Kohlendioxid (CO₂) unter Verwendung eines Gaschromatographen, hergestellt von der Shimazu Corporation, bestätigten die Erfinder, dass die Bestrahlung mit Licht, emittiert von der blauen LED für 25 Stunden sämtliches Aceton in dem Reaktions-Behälter zersetzt hatte und Kohlendioxid CO₂ in einer Menge erzeugt wurde, die mit der stöchiometrischen Proportion des Acetons übereinstimmt. Eie Erfinder haben nämlich bestätigt, dass der Photokatalysator seine katalytische Aktivität bei Licht mit einer Wellenlänge von 470 nm erbrachte.
(b) Beispiel 1:
(Bereitstellung einer Druckplatte)
Wolframsäure (2,155 g, ein Produkt der Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) wird in ein Osygenat (H₂O₂ 35%, 18 g) hinzugegeben und die Mischung wird in einem Wasserbad bei 65 °C gerührt, um die Wolframsäure aufzulösen. Nach der Abkühlung der Mischung auf Raumtemperatur wird Ammoniakwasser (Ammoniakkonzentration 28%, 2,1 Gas) zu der Mischung hinzugegeben und gerührt und wassergekühlt. Danach wird die Mischung in einem Wasserbad bei 65 °C erhitzt und gerührt, bis keine Bläschen mehr produziert wurden. Die Mischung wurde mit de-ionisiertem Wasser verdünnt, bis das Gesamtvolumen 40 g wird und die daraus resultierende Lösung als Halbleiter-Aufbringerlösung X betrachtet wird.
Der oben erwähnte pulverförmige Photokatalysator wurde in deionisiertem Wasser dispergiert, um einen Schlamm (Feststoffgehalt 20 Gew-%) zu erhalten, der in einer Nassmühle (Produktname: dyno mill PILOT) gemahlen wurde und als photokatalytisch dispergierte Lösung verwendet wurde.
Eine alkalische Entfettung wurde bei einem Edelstahl(SUS301)Substrat 1 mit einem Bereich von 280 × 204 mm und einer Dicke von 0,1 mm ausgeführt, um ein Substrat für eine Druckplatte bereitzustellen.
Wie in 8 gezeigt, wurde die Halbleiter-Aufbringerlösung X auf den oben angegebenen Substrat im Zwischenschicht-Ausbildeschritt (S100) tauchbeschichtet. Im nachfolgenden Fixierungsschritt für die Zwischenschicht (S110), wurde die Halbleiter-Aufbringerlösung X luftgetrocknet und anschließend für 30 Minuten bei 500 °C erhitzt, um auf dem Substrat fixiert zu werden, wodurch eine Zwischenschicht 2 ausgebildet wurde. Die ausgebildete Zwischenschicht 2 weist eine Dicke von etwa 0,07 μm und eine Zusammensetzung aus Wolframoxid WO₃ auf, wobei die Zusammensetzung das Ergebnis einer Analyse war.
Das Substrat, auf dem die Zwischenschicht 2 ausgebildet wurde, wurde mit der Mischung aus photokatalytischer dispergierter Lösung und TKC-301, einem Produkt der Tayca Corporation, bei einem Gewichtsverhältnis von 1:8 im Ausbildeschritt für die Photokatalysator-Schicht (S130) tauchbeschichtet, um die Photokatalysator-Schicht (photosensitive Schicht) 3 auf der Oberfläche des Substrats 1, die als Druckplatte 5 dienen sollte, auszubilden. Die photosensitive Schicht 3 wies eine Dicke von etwa 0,1 μm auf. Als Ergebnis der Messung mit dem Kontaktwinkel-Messer, Modell CA-W, hergestellt von der KYOWA INERFACE SCIENCE CO., LTD., erreichte die Oberfläche der Druckplatte einen Kontaktwinkel von 8° in Bezug auf Wasser, wobei dieser Winkel für die Ausübung der hydrophilen Eigenschaft ausreichend war.
(Vorbereitung des Drucks)
Titan-i-Propoxyoctylen-Glykol (2g, Produkt der Nippon Soda Co., Ltd.) wurde in einer Paraffinlösung (98 g, Produktname Isopar^®-L, hergestellt von Exxon Mobile Corporation) aufgelöst und die daraus resultierende Lösung wurde als Hydrophobisierungslösung Y verwendet.
Die oben erwähnte Druckplatte mit hydrophilen Eigenschaften wurde auf einer Desk-top-Offsetdruckpresse (New Ace Pro, Handelsmarke; hergestellt von ALPHA ENGINEERING INC.) installiert und die Hydrophobisierungslösung Y wurde über die Oberfläche der Druckplatte gesprüht, welche anschließend mittels eines Heißluft-Trockners getrocknet wurde. Danach wurde die Druckplatte zeitweise von der Druckpresse abgenommen, um einen Kontaktwinkel gegenüber Wasser 6 unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers zu messen. Der gemessene Kontaktwinkel betrug 75°, was eine adäquate hydrophobe Eigenschaft ausdrückt, so dass bestätigt wurde, dass die Druckplatte 5 in ihrem Ursprungszustand für die Herstellung der Druckplatte vorlag.
(Bildausbildung)
Danach wurden Halbton-Punktbilder mit Halbton-Punkt-Bereichsprozentsätzen im Bereich von 10% bis 100% der Oberfläche der Druckplatte bei Intervallen von 10% mittels eines Bildsystems unter Verwendung eines Halbleiter-Laserstrahls mit einer Wellenlänge von 405 nm, einer Ausgabeleistung von 5 mW pro Kanal sowie einem Strahldurchmesser von 15 μm ausgebildet. Die Messungen der Kontaktwinkel unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers bestätigten, dass die Kontaktwinkel auf Abschnitten, die von den Halbleiter-Laserstrahlen beschrieben und nicht beschrieben wurden, 8° bzw. 75° betrugen, so dass die beschriebenen und nicht beschriebenen Abschnitte einen hydrophilen Nichtbildbereich bzw. einen hydrophoben Bildbereich ausbildeten.
(Drucken)
Die Druckplatte wurde auf der New Ace Pro Desk-Top-Offsset-Druckpresse befestigt und das ausgebildete bild wurde auf Papier-Bögen (Ibest-Papier) unter Verwendung der Richtung HYECOO B Crimson MZ (Handelsmarke, Produkt der Toyo Ink Mit freundlichen Grüßen. Co., Ltd.) aufgedruckt und das Feuchtmittel, eine 1%-ige Lösung aus LITHOFELLOW (Handelsmarke; Produkt der Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) bei einer Druckgeschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde. Die Halbton-Punktbilder wurden nacheinander auf dem ersten Papierbogen aufgedruckt.
(Regenerierung)
Ein Beispiel der Regenerierung der Druckplatte wird beschrieben werden. Nach dem Abschluss des Druckens wurde die gesamte Oberfläche, von der Tinte, Feuchtmittel, Papierstaub und dergleichen entfernt worden waren, mit ultraviolettem Licht mit einer Wellenlänge von 254 nm und einer Lichtintensität von 10 mW/cm², emittiert von einer Niederdruck-Quecksilberlampe für 20 Sekunden, bestrahlt. Direkt hiernach wurde der Kontaktwinkel von Wasser auf einen Abschnitt, auf dem das Halbton-Punktbild ausgebildet worden war, gemessen, mit dem Ergebnis, dass der Kontaktwinkel vom Wasser 6 8° betrug, was eine ausreichende hydrophile Eigenschaft bereitstellen würde. Es wurde bestätigt, dass der Bildbereich vollständig gelöscht worden war.
Die Hydrophobisierungslösung Y wurde über die Oberfläche der Druckplatte gesprüht und mittels eines Heißluft-Trockners getrocknet. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 wurde mit dem oben erwähnten Kontaktwinkel-Messer gemessen und der gemessene Kontaktwinkel betrug 73°, was eine ausreichend hydrophile Eigenschaft bedeutet. Es wurde bestätigt, dass die Druckplatte in ihren Ursprungszustand beim Ausbilden der Druckplatte, die für das Drucken bereitstand, zurückgesetzt wurde und regeneriert wurde.
(c) Vergleichsbeispiel 1:
(Vorbereitung der Druckplatte)
Um das Substrat 1 vorzubereiten, wurde eine alkalische Entfettung auf einem Edelstahl (SUS301)-Board mit einem Bereich von 280 × 204 mm und einer Dicke von 0,1 mm ausgeführt, während eine Tauchbeschichtung unter Verwendung der Halbleiter-Aufbringerlösung X nicht auf dem gleichen Board ausgeführt wurde. Abgesehen von der Vorbereitung des Substrats 1 wurde eine photosensitive Schicht 3 auf dem Plattensubstrat auf die gleiche Weise wie im Beispiel 1 ausgebildet und die Druckplatte 5 wurde hergestellt. Die ausgebildete photosensitive Schicht 3 wies eine Dicke von etwa 0,1 μm auf. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der Druckplatte 5 wurde mit dem "Kontaktwinkel-Messer, Modell CA-W" (Handelsmarke; hergestellt von KYOWA INTERFACE SCIENCE CO., LTD.) mit dem Resultat gemessen, dass der gemessene Kontaktwinkel 7° betrug, wobei dieser Winkel ausreicht, eine hydrophile Eigenschaft bereitzustellen.
(Vorbereiten des Druckens)
Eine Hydrophobisierung wird auf der Druckplatte 5 auf die gleiche Weise wie im Beispiel 1 ausgeführt. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 wurde unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers gemessen und der gemessene Kontaktwinkel betrug 74°, wobei dieser Winkel dazu ausreicht, eine hydrophobe Eigenschaft bereitzustellen.
(Bildausbildung)
Danach wurden Halbton-Punktbilder mit Halbton-Bereichsprozentsätzen im Bereich von 10% bis 100% auf die Oberfläche der Druckplatte 5 bei Intervallen von 10% mittels eines Bildsystems unter Verwendung eines Halbleiter-Laserstrahls mit einer Wellenlänge von 405 nm, einer Ausgabeleistung von 5 mW pro Kanal sowie einem Strahldurchmesser von 15 μm beschrieben. Die Messung des Kontaktwinkels nach der Bildausbildung unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers bestätigte, dass der Kontaktwinkel auf dem durch die Halbleiter-Laserstrahlen beschriebenen Abschnitt 23° betrug, was keine adäquate hydrophile Eigenschaft bereitstellte. Die Druckplatte 5 des Vergleichsbeispiels 1 bestätigte sich nämlich als zumindest eine der nachfolgenden Eigenschaften aufweisend: eine niedrigere katalytische Aktivität zur oxidativen Zersetzung einer organischen Zusammensetzung und eine niedrigere katalytische Aktivität zur Hydrophilisierung des Photokatalysators als Druckplatte 5 des Beispiels 1 mit der Zwischenschicht 2, die aus Wolframoxid WO₃ hergestellt war. Der nicht beschriebene Abschnitt wies einen Kontaktwinkel von 75° auf und behielt daher seine hydrophobe Eigenschaft bei.
(Ausführung des Drucks)
Das Drucken wurde bei einer Geschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde auf die gleiche Weise ausgeführt wie im Beispiel 1. Ein Nichtbildbereich, auf dem die Tinte im Wesentlichen nicht aufgebracht werden sollte, wurde leicht mit Tinte beschichtet und das Druckergebnis war verschmutzt. Es wird angenommen, dass die Tintenanhaftung an dem Nichtbildbereich durch eine inadäquate Verringerung des Kontaktwinkels des Nichtbildbereichs bewirkt war, so dass der Nichtbildbereich keine ausreichenden hydrophilen Eigenschaften bereitstellte und einige Tinte an dem Nichtbildbereich anhaftete.
(Regenerierung)
Nach dem Abschluss des Druckens wurde die gesamte Oberfläche, von der Tinte, Feuchtmittel, Papierstaub und dergleichen entfernt worden waren, mit einem ultravioletten Licht mit einer Wellenlänge von 254 nm und einer Lichtausbeute von 10 mW/cm², emittiert von einer Niederdruck-Quecksilberlampe über 20 Sekunden, bestrahlt. Direkt danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf einem Abschnitt, auf dem das Halbton-Punktbild ausgebildet worden war, gemessen, mit dem Ergebnis, dass der Kontaktwinkel des Wassers 25° betrug, was nicht ausreichend hydrophilisiert ist, so dass der Bildbereich nicht vollständig gelöscht werden konnte.
(d) Beispiel 2:
(Vorbereitung der Druckplatte)
Feine Partikel (Partikeldurchmesser etwa 500 nm) aus Zinnoxid (SnO) wurden mit SiO₂ Sol (Handelsmarke SNOWTEX, Produkt der NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, Ltd.) bei einem Feststoffverhältnis SnO/SiO₂ von 6/4 vermischt und hierdurch wurde eine Halbleiter-Aufbringerlösung X' erhalten.
Der oben erwähnte pulverförmige Photokatalysator wurde in deionisiertem Wasser aufgelöst, um einen Schlamm (Feststoffgehalt 20 Gew-%) zu erhalten, der in einer Nassmühle (Produktname: dyno mill PILOT) aufgemahlen wurde und aus photokatalytische dispergierte Lösung verwendet wurde.
Eine alkalische Entfettung wurde auf einem Edelstahl-Substrat 1 (SUS301), dessen Bereich 280 × 204 mm betrug und dessen Dicke 0,1 mm betrug, ausgeführt, um ein Substrat für eine Druckplatte bereitzustellen.
Die Halbleiter-Aufbringerlösung X' wurde auf den oben angegebenen Substrat im Ausbildeschritt für die Zwischenschicht (S100) tauchbeschichtet. Im nachfolgenden Fixierungsschritt für die Zwischenschicht (S110) wurde die Halbleiter-Aufbringerlösung X' luftgetrocknet und anschließend über 30 Minuten bei 500 °C erhitzt, um auf dem Substrat fixiert zu werden. Hierdurch wurde eine Zwischenschicht 2 ausgebildet. Die ausgebildete Zwischenschicht 2 wies eine Dicke von etwa 0,09 μm auf.
Das Substrat, auf dem die Zwischenschicht 2 ausgebildet wurde, wurde mit der Mischung der photokatalytischen dispergierten Lösung und TKC-301, einem Produkt der Tayca Corporation, bei einem Gewichtsverhältnis von 1:8 im Ausbildeschritt für die photokatalytische Schicht (S120) tauchbeschichtet und wurde anschließend bei 350 °C im Fixierungsschritt für die photokatalytische Schicht (S130) erhitzt, um die photokatalytische Schicht (photosensitive Schicht) 3 auf der Oberfläche der Zwischenschicht 2 auszubilden, so dass das Substrat 1 als Druckplatte 5 dienen konnte. Die photosensitive Schicht 3 wies eine Dicke von etwa 0,1 μm auf. Als Ergebnis der Messung mit dem Kontaktwinkel-Messer, Modell CA-W, hergestellt von KYOWA INTERFACE SCIENCE CO., LTD., erreichte die Oberfläche der Druckplatte einen Kontaktwinkel von 8° in Bezug auf Wasser, was einen Winkel darstellt, der dazu ausreicht, hydrophile Eigenschaften zu zeigen.
(Vorbereitung des Drucks)
1,2-Epoxyhexadecan (0,3 g, ein Produkt der Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) wurde in einer Paraffinlölsung (99,7 g, Produktname Isopar^®-L, hergestellt von Exxon Mobile Corporation) aufgelöst und die daraus resultierende Lösung wurde als Hydrophobisierungslösung Y' verwendet.
Die oben erwähnte Druckplatte zeigte hydrophile Eigenschaften und wurde auf einer Desk-Top-Offsetdruckpresse (New Ace Pro, Handelsmarke, hergestellt von ALPHA ENGINEERING INC.) befestigt und die Hydrophobisierungslösung Y' wurde verdampft und unter Verwendung eines Verneblers über die Oberfläche der Druckplatte, die mittels eines Heißluft-Trockners getrocknet war, besprüht. Danach wurde die Druckplatte zeitweise aus Druckpresse entnommen, um einen Kontaktwinkel gegenüber Wasser 6 unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers zu messen. Der gemessene Kontaktwinkel betrug 85°, was adäquate hydrophobe Eigenschaften ausdrückt.
(Bildausbildung)
Danach wurden Halbton-Punktbilder von Halbton-Punktbereichsprozentsätzen im Bereich von 10% bis 100% auf der Oberfläche der Druckplatte bei Intervallen von 10% mittels eines UV-setter^TM 710 (Wellenlänge 360–450 nm), hergestellt von basysPrint GmbH, ausgebildet. Die Bildausbildung wird in einer Weise ausgeführt, dass die Bilder zeitgleich auf Bereichen (Mini-Bilder) ausgebildet werden, von denen jedes ein Quadrat von 13 mm mal 17 mm ist, bei einer Geschwindigkeit von 10 Mini-Bildern pro Sekunde. Die Messung der Kontaktwinkel unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers bestätigten, dass der Kontaktwinkel auch von den ultravioletten Lichtstrahlen beschriebenen und nicht beschriebenen Abschnitt 8° bzw. 85° betrug, so dass bestätigt wurde, dass die beschriebenen und nicht beschriebenen Abschnitte ein hydrophiler Nichtbildbereich bzw. ein hydrophober Bildbereich waren.
(Drucken)
Ein Druckbetrieb wurde auf die gleiche Weise wie im Beispiel 1 ausgeführt und die Halbton-Punktbilder wurden nacheinander auf dem ersten Papierbogen aufgedruckt.
(Regenerierung)
Nach dem Abschluss wurde die Tintenentfernung und die Hydrophilisierung durch Bestrahlung mit ultraviolettem Licht auf die gleiche Weise wie im Beispiel 1 ausgeführt. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf den Plattenoberfläche, die vorab hydrophilisiert wurde, wurde mit dem Ergebnis gemessen, dass der Kontaktwinkel 8° betrug.
Die Hydrophobisierungslösung Y' wurde dann mittels eines Verneblers verdampft, auf die Plattenoberfläche aufgebracht und unter Verwendung eines Heißluft-Trockners getrocknet. Der Kontaktwinkel-Messer maß den Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Plattenoberfläche und der gemessene Kontaktwinkel betrug 86°, so dass die Druckplatte 5 in ihren "Ursprungszustand" beim Herstellen der Druckplatte, die zum Drucken bereitsteht, zurückgesetzt war.
(e) Vergleichsbeispiel 2:
(Vorbereitung der Druckplatte)
Um das Substrat 1 vorzubereiten, wurde eine alkalische Entfettung auf einem Edelstahl-Board (SUS301) mit einem Bereich von 280 × 204 mm und einer Dicke von 0,1 mm ausgeführt, während eine Eintauch-Beschichtung unter Verwendung der Halbleiter-Aufbringerlösung X' nicht auf dem gleichen Board ausgeführt wurde. Aus der Bereitstellung des Substrats 1 wurde eine photosensitive Schicht 3 auf dem Plattensubstrat in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 ausgebildet und die Druckplatte 5 wurde hergestellt. Die ausgebildete photosensitive Schicht 3 wies eine Dicke von etwa 0,1 μm auf. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der Druckplatte 5 wurde mit dem "Kontaktwinkel-Messer, Modell CA-W" (Handelsmarke; hergestellt von KYOWA INTERFACE SCIENCE CO., LTD.) mit dem Ergebnis gemessen, dass der gemessene Kontaktwinkel 7° betrug, wobei dieser Winkel zur Bereitstellung hydrophiler Eigenschaften ausreicht.
(Vorbereitung des Druckens)
Die Druckplatte 5 wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 hydrophobisiert. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 wurde unter Verwendung des Kontaktwinkel-Messers gemessen und der gemessene Kontaktwinkel betrug 86°, wobei dieser Winkel zur Bereitstellung hydrophober Eigenschaften ausreicht.
(Bildausbildung)
In der gleichen Weise wie im Beispiel 2 wurden die Halbton-Punktbilder bei einer Geschwindigkeit von 10 Mini-Bildern pro Sekunde ausgebildet. Der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf der Oberfläche der Druckplatte, auf der die Bilder ausgebildet worden waren, wurde mit dem Kontaktwinkel-Messer gemessen. Der Kontaktwinkel auf dem mit ultraviolettem Lichtstrahl beschriebenen Abschnitt betrug 26°, wobei dieser Winkel eine inadäquat hydrophile Eigenschaft belegt. Der Abschnitt, der nicht beschrieben war, wies einen Kontaktwinkel von 85° auf und behielt seine hydrophobe Eigenschaft bei.
(Ausführung des Drucks)
Das Drucken wurde bei einer Geschwindigkeit von 3500 Bögen/Stunde auf die gleiche Weise wie im Beispiel 2 ausgeführt. Ein Nichtbildbereich, auf dem die Tinte im Wesentlichen nicht abgelagert sein sollte, wurde leicht mit Tinte beschichtet und das Druckergebnis war verunreinigt.
(Regenerierung)
Nach dem Abschluss des Drucks wurde die gesamte Oberfläche, von der Tinte, Feuchtmittel, Papierstaub und dergleichen entfernt worden war, mit ultraviolettem Licht mit einer Wellenlänge von 254 numerisch und einer Lichtleistung von 10 mW/cm², emittiert von einer Niederdruck-Quecksilberlampe über 20 Sekunden, bestrahlt. Direkt danach wurde der Kontaktwinkel des Wassers 6 auf einem Abschnitt, auf dem das Halbton-Punktbild ausgebildet worden war, mit dem Ergebnis gemessen, dass der Kontaktwinkel des Wassers 26° betrug, was keine ausreichende hydrophile Eigenschaft bereitstellen würde, so dass der Bildbereich nicht vollständig gelöscht werden konnte.
Wie sich bereits aus den vorangenannten Beispielen ergeben hat, kann die Druckplatte 5 gemäß einer Ausführungsform wiederverwendet werden und zusätzlich kann der Regenerationszyklus schnell ausgeführt werden. In anderen Worten erhöht die Ausbildung einer Schicht inklusive eines Halbleiters auf einem elektrischen Leiter, d.h. einer Zwischenschicht 2 zwischen einem Substrat 1 und einer photosensitiven Schicht 3 die katalytische Aktivität des Photokatalysators. Dies realisiert die Herstellung und Regeneration einer Druckplatte in kurzer Zeit Als Ergebnis kann der gesamte Druckprozess extrem schnell ausgeführt werden.
Die Erreichung der Regenerierung und der Wiederverwendung einer Druckplatte kann die Menge an Druckplatten-Abfällen, die nach dem Drucken weggeschmissen werden, deutlich reduzieren. Darüber hinaus besteht, da ein Bildbereich nicht mittels eines Polymers ausgebildet wird, ein Erfordernis für eine Waschlösung zum Abwaschen des Polymers, wenn eine Druckplatte regeneriert werden soll. Zusätzlich zu derartigen ökologischen Aspekten ist es möglich, die Kosten für eine Druckplatte 5 deutlich zu reduzieren.
Da es möglich ist, ein Bild auf einer Druckplatte 5 direkt aus digitalen Bilddaten auszubilden, wird der digitalisierte Druckprozess realisiert, so dass die korrespondierende Zeit und die korrespondierenden Kosten für das Drucken stark reduziert werden können.
Wenn eine Zwischenschicht 2 auf einem Substrat 1 ohne Trocknung oder Brennung nach der Ausbildung einer Zwischenschicht 2 auf dem Substrat 1 in dieser Ausführungsform fixiert wird, können die Prozessschritte des Fixierungsschritt für die Zwischenschicht überspringen und sofort zu einem Ausbildeschritt für die photosensitive Schicht übergehen, um eine photosensitive Schicht 3 auszubilden. In anderen Worten kann eine photosensitive Schicht 3 nach der Ausbildung einer Zwischenschicht 2 auf einem Substrat 1 ausgebildet werden und dann können die Zwischenschicht 2 und die photosensitive Schicht 3 zeitgleich auf dem Substrat 1 mittels Erwärmung oder Einbrennung fixiert werden.

Claims

Druckpresse, umfassend: eine Druckplatte, auf der ein Bild durch Licht ausgebildet wird, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als die von sichtbarem Licht aufweist, und welche in der Lage ist, ohne einen Nassentwicklungsprozess für das Drucken eingerichtet zu werden und für die Wiederverwendung regeneriert zu werden, umfassend: ein Substrat (1); sowie eine fotosensitive Schicht (3), die auf einer Oberfläche des Substrats (1) ausgebildet ist und einen Titanoxid-Fotokatalysator beinhaltet, der auf Licht, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht aufweist, reagiert; einen Plattenzylinder, der eine gekrümmte Oberfläche zum Abstützen der Druckplatte aufweist; und eine Bildausbildeeinheit zum Bestrahlen einer Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) mit dem Licht, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als sichtbares Licht aufweist; gekennzeichnet dadurch, dass: die Druckpresse des Weiteren eine Hydrophobisierungseinheit zum Umwandeln einer Eigenschaft einer Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) von hydrophil zu hydrophob durch Bestrahlen einer Oberfläche der Druckplatte mit einem Energiestrom oder durch Aufbringen einer mechanischen Stimulierung auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) umfasst; und dass die Druckplatte des Weiteren eine Zwischenschicht (2) umfasst, die zwischen dem Substrat (1) und der fotosensitiven Schicht (3) angeordnet ist und einen Halbleiter oder einen elektrischen Leiter beinhaltet.
Druckpresse, umfassend: eine Druckplatte, auf der ein Bild durch Licht ausgebildet wird, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer der von sichtbarem Licht aufweist und die in der Lage ist, ohne einen Nassentwicklungsprozess für das Drucken eingerichtet zu werden und für die Wiederverwendung regeneriert zu werden, umfassend ein Substrat (1); sowie eine fotosensitive Schicht (3), die auf einer Oberfläche des Substrats (1) ausgebildet ist und einen Titanoxid-Fotokatalysator beinhaltet, der auf Licht mit einer Wellenlänge gleich oder kürzer der von sichtbarem Licht reagiert; einen Plattenzylinder mit einer gekrümmten Oberfläche zum Abstützen der Druckplatte; und eine Bildausbildeeinheit zum Bestrahlen einer Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) mit dem Licht, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als die des sichtbaren Lichts aufweist; gekennzeichnet dadurch, dass: die Druckpresse des Weiteren einen Zuführer für eine organische Verbindung zum Aufbringen einer organischen Verbindung auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) umfasst, wobei die organische Verbindung mit der fotosensitiven Schicht (3) eine Wechselwirkung eingeht, um eine Eigenschaft der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) von hydrophil zu hydrophob umzuwandeln; und dass die Druckplatte des Weiteren eine Zwischenschicht (2) umfasst, die zwischen dem Substrat (1) und der fotosensitiven Schicht (3) angeordnet ist und einen Halbleiter oder einen elektrischen Leiter beinhaltet.
Druckpresse gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei das Substrat (1) eine bestimmte Flexibilität aufweist.
Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Zwischenschicht (2) Wolframoxid beinhaltet, das als Halbleiter dient.
Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei dann, wenn das Bild auf der Druckplatte auszubilden ist, eine Eigenschaft einer Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) von hydrophob zu hydrophil durch Bestrahlung mit Licht, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als die von sichtbarem Licht aufweist, umgewandelt wird.
Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei der Fotokatalysator ein Titanoxid-Fotokatalysator oder ein modifizierter Titanoxid-Fotokatalysator ist.
Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das Licht, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als die von sichtbarem Licht aufweist, eine Wellenlänge von gleich oder kürzer 600 nm aufweist.
Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, des Weiteren umfassend eine Bildbereich-Löschvorrichtung zum Bestrahlen der gesamten Oberfläche der Druckplatte mit einem Licht, das eine Wellenlänge von gleich oder kürzer als die von sichtbarem Licht aufweist, um einen Bildbereich zu löschen.
Verfahren zur Herstellung der Druckplatte, die in einer Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7 eingebaut ist, umfassend die Schritte: des Ausbildens der Zwischenschicht (2) auf einer Oberfläche des Substrats (1); des Fixierens der Zwischenschicht (2) auf der Oberfläche des Substrats (1); des Ausbildens der fotosensitiven Schicht (3) auf der Oberfläche der Zwischenschicht (2); und des Fixierens der fotosensitiven Schicht (3) auf der Oberfläche der Zwischenschicht (2).
Verfahren zum Herstellen der Druckplatte, die in einer Druckpresse gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7 eingebaut ist, umfassend die Schritte: des Ausbildens einer Zwischenschicht (2) auf einer Oberfläche des Substrats (1); des Ausbildens der fotosensitiven Schicht (3) auf einer Oberfläche der Zwischenschicht (2); und des Fixierens der fotosensitiven Schicht (3) und der Zwischenschicht (3) auf der Oberfläche des Substrats (1).
Verfahren zum Regenerieren der Druckplatte, die in einer Druckpresse eingebaut ist, welche in einem der Ansprüche 1 bis 7 definiert ist, umfassend nach der Vervollständigung des Druckbetriebs die Schritte: des Entfernens von Tinte von einer Oberfläche der Druckplatte; und des Hydrophobisierens einer Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3).
Verfahren gemäß Anspruch 11, des Weiteren umfassend zwischen dem Schritt der Tintenentfernung und dem Schritt der Hydrphobisierung den Schritt des Bestrahlens der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) mit dem Licht, das eine Wellenlänge gleich oder kürzer als der von sichtbarem Licht aufweist, so dass die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) hydrophiliert wird.
Verfahren gemäß Anspruch 11 oder 12, wobei der Schritt des Hydrophobisierens einen der folgenden Schritte beinhaltet: des Bestrahlens der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) mit einem Energiestrom wie Licht, Elektrizität und/oder Hitze, des Aufbringens eines mechanischen Stimulus, wie etwa Reibung, auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3), oder des Aufbringens einer organischen Verbindung auf die Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3), so dass die organische Verbindung mit der Oberfläche der fotosensitiven Schicht (3) in Wechselwirkung tritt.