JP3444769B2

JP3444769B2 - 集電体用アルミニウム箔とその製造方法、集電体、二次電池および電気二重層コンデンサ

Info

Publication number: JP3444769B2
Application number: JP32343897A
Authority: JP
Inventors: 裕志多田; 正明安部; 聡史小林
Original assignee: TOYO ALMINIUM KABUSHIKI KAISHA
Current assignee: TOYO ALMINIUM KABUSHIKI KAISHA
Priority date: 1997-11-25
Filing date: 1997-11-25
Publication date: 2003-09-08
Anticipated expiration: 2017-11-25
Also published as: JPH11162470A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、二次電池や電気
二重層コンデンサに関し、特に二次電池や電気二重層コ
ンデンサに用いられる集電体、集電体用アルミニウム箔
およびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、高いエネルギ効率の二次電池として、リチウムイオ
ン電池やポリマ電池、またコンデンサとして電気二重層
コンデンサなどが、携帯電話、パーソナルコンピュー
タ、カメラや自動車の電源として使用されてきている。

【０００３】二次電池の一例としてリチウムイオン電池
では、正極材料として、たとえばカーボン、リチウム金
属酸化物塩、フッ素系バインダからなる活物質を集電体
としてのアルミニウム箔にコーティングしたものが使用
されている。また、ポリマ電池では、正極材料として、
ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性の高分子電極
活物質を集電体としてのアルミニウム箔にコーティング
したものが使用されている。

【０００４】一方、電気二重層コンデンサにおいても、
電極を構成するために、カーボンとポリイミド系樹脂等
からなる材料を集電体としてのアルミニウム箔にコーテ
ィングしたものが使用されている。

【０００５】上述のように二次電池や電気二重層コンデ
ンサの集電体の材料としてアルミニウム箔が使用されて
いる理由としては以下の点が挙げられる。

【０００６】（１）アルミニウム箔は、電解液に侵さ
れにくく、支持体として比較的安定である。

【０００７】（２）アルミニウム箔は、電気伝導性に
優れ、電気的抵抗値が小さいため、二次電池や電気二重
層コンデンサの電気効率に悪影響を与えない。

【０００８】（３）アルミニウム箔は、電気的抵抗値
が低いため、抵抗による発熱が少ない。

【０００９】（４）アルミニウム箔は、製造コストが
安価であり、経済的な材料である。ところで、二次電池
の正極や電気二重層コンデンサの電極を構成するため
に、集電体としてのアルミニウム箔の表面に電極活物質
やバインダが塗布加工される。このような塗布加工され
るコーティング材はアルミニウム箔の表面との密着性が
不十分で、アルミニウム箔と電極活物質との間の接触抵
抗値が大きくなるという問題があった。また、コーティ
ング材とアルミニウム箔の表面との間の密着性が不十分
であるため、二次電池や電気二重層コンデンサの充放電
時に電極活物質の膜が剥離するという現象が生じ、これ
が二次電池や電気二重層コンデンサの寿命等の特性に大
きな影響を与えるという問題があった。

【００１０】これらの問題点を解消するために、工業的
にはコーティング材の塗布加工後、圧着処理等が行なわ
れているが、必ずしも十分ではなかった。逆に、塗布加
工された膜が圧着時に剥離する等の問題が生じる場合も
あった。

【００１１】また、アルミニウム箔の表面を化学的にエ
ッチング等により改質し、塗布加工される膜とアルミニ
ウム箔の表面との間の接着強度を高める試みがなされて
いる。しかしながら、アルミニウム箔の強度の低下や表
面層の経時変化により、実用化する上では問題があっ
た。

【００１２】そこで、この発明の目的は、電極活物質と
の密着性を高めることが可能な集電体用アルミニウム箔
とその製造方法を提供することである。

【００１３】また、この発明の目的は、電極活物質との
間の接触抵抗値を低下させることが可能な集電体用アル
ミニウム箔とその製造方法を提供することである。

【００１４】さらに、この発明の目的は、電極活物質と
の間の密着性が高く、かつ接触抵抗値が低い集電体を提
供することである。

【００１５】この発明の別の目的は、寿命等のような特
性を高めるように寄与し得る集電体を備えた二次電池や
電気二重層コンデンサを提供することである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】この発明に従った集電体
用アルミニウム箔は、水または不燃性有機溶媒を媒介と
してアルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴射するこ
とによってアルミニウム箔の表面を粗化したアルミニウ
ム箔である。このアルミニウム箔は、少なくとも一方の
表面の粗さとして平均粗さＲａが０．３μｍ以上１．５
μｍ以下で最大高さＲｙが０．５μｍ以上５．０μｍ以
下であり、アルミニウム箔の表面に膜耐電圧が０．５Ｖ
以上２．０Ｖ以下の酸化膜が形成されている。

【００１７】このようにアルミニウム箔の表面を改質す
ることにより、特にその表面の粗さを限定することによ
り、電極活物質等からなる膜を塗布加工する際に、その
膜の密着性を改善することができ、本来のアルミニウム
箔の特性を十分に生かすことができるようになる。

【００１８】平均粗さＲａが０．３μｍ未満の場合に
は、アルミニウム箔の表面の上に形成される活物質の膜
の密着性が良好ではなく、その膜との間の接触抵抗が増
大する。また、平均粗さＲａが１．５μｍを超える場合
には、アルミニウム箔の表面層が脆化する。また、連続
的に活物質等の膜を塗布加工するときや、その後の圧着
工程でアルミニウム箔が破断したり、膜の剥離が生じや
すくなる。

【００１９】最大高さＲｙが０．５μｍ未満の場合に
は、アルミニウム箔の表面を粗化したことによる効果
や、それによる表面積の拡大効果を得ることができず、
活物質の膜との間の密着性が不十分である。また、最大
高さＲｙが５．０μｍを超える場合には、電極活物質の
膜の厚みにむらが生じ、それによって二次電池や電気二
重層コンデンサの特性上のばらつきが生じる。さらに、
アルミニウム箔からなる集電体自体の強度が低下し、そ
れによって電極活物質の膜を連続的に塗布加工するとき
や、その後の圧着工程でアルミニウム箔の破断や屈曲が
生じやすくなる。また、膜耐電圧が０．５Ｖ未満のとき
には、アルミニウム箔の表面が安定ではなく、集電体と
して使用中に不純物成分の鉄が電解質中に溶解しやす
い。また、膜耐電圧が２．０Ｖを超える場合には、集電
体の表面の内部抵抗が上昇し、電気効率の悪化や発熱等
の弊害が生ずる。

【００２０】好ましくは、この発明に従った集電体用ア
ルミニウム箔の引張強度は９８ＭＰａ以上である。引張
強度が９８ＭＰａ未満では、アルミニウム箔の表面を粗
化するときや他の製造工程中にアルミニウム箔の破断や
亀裂を生じるおそれがあるため、好ましくない。本発明
のアルミニウム箔の引張強度は１４７ＭＰａ以上である
のがさらに好ましい。

【００２１】また、好ましくは、本発明の集電体用アル
ミニウム箔の厚みは１０μｍ以上１５０μｍ以下であ
る。厚みが１０μｍ未満の場合、アルミニウム箔の表面
を粗化するときや他の製造工程中においてアルミニウム
箔の破断や亀裂を生じるおそれがある。また、厚みが１
５０μｍを超える場合には、特性上の不都合はないが、
体積や重量の面での不都合が顕著になるだけでなく、製
造コストの点で不利になる。

【００２２】なお、本発明におけるアルミニウム箔の厚
み以外の大きさや形状は限定されるものではなく、また
意図的な穿孔があっても差支えないが、穿孔は必ずしも
必要なものではない。言い換えれば、本発明に従った集
電体用アルミニウム箔は、穿孔を表面に施さなくても、
集電体に必要な表面積を与えることができ、また必要な
表面粗度を与えることもできる。

【００２３】本発明のアルミニウム箔の好ましい組成
は、アルミニウムが９９．０重量％以上、鉄、銅および
シリコンのそれぞれが０．５重量％以下であり、鉄、銅
およびシリコンの合計の含有量が１．０重量％未満であ
る。より好ましくは、アルミニウムの含有量は９９．３
重量％以上、さらに好ましくは９９．９重量％以上であ
る。このようにアルミニウム箔の組成を限定するのは、
アルミニウムの純度が低いほど、また、銅、鉄およびシ
リコンの含有量が多くなるほど、二次電池や電気二重層
コンデンサの集電体として用いた場合、電解質による充
放電時にアルミニウムの腐食量が多くなるからである。
特に、不純物としての鉄、銅およびシリコンの含有量が
上記の範囲を超えると、アルミニウムの腐食が顕著にな
る。これにより、電極の寿命が低下し、また特性が大き
く劣化する。

【００２４】

【００２５】この発明の別の局面に従った集電体は、上
述のようなアルミニウム箔を備える。

【００２６】また、この発明に従った二次電池は、上記
の集電体を備える。さらに、この発明に従った電気二重
層コンデンサは、上記の集電体を備える。

【００２７】この発明に従った集電体を用いることによ
り二次電池や電気二重層コンデンサの寿命等の特性を高
めることができる。

【００２８】この発明に従った集電体用アルミニウム箔
の製造方法は、水または不燃性有機溶媒を媒介としてア
ルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴射することによ
ってアルミニウム箔の表面を粗化した後、表面を粗化し
たアルミニウム箔を空気中で６０〜２００℃の温度で
０．１〜１０時間乾燥処理することにより、膜耐電圧が
０．５Ｖ以上２．０Ｖ以下の酸化膜を形成することを特
徴とする。

【００２９】このアルミニウム箔の表面の粗化処理は、
水または不燃性有機溶媒中にアルミナ粒子を分散させた
スラリーを、圧縮空気を用いてアルミニウム箔の表面に
噴射することにより、アルミニウム箔の表面を粗化する
ものである。さらに上記の乾燥処理により、アルミニウ
ム箔の表面の圧延残油が完全に除去され、膜耐電圧が
０．５〜２．０Ｖの強固な酸化膜が形成されているのが
確認される。この粗化処理は、ウェットブラスト処理と
呼ばれる。

【００３０】アルミニウム箔の圧延残油を除去する方法
としては、古くから焼鈍による方法が一般的であるが、
著しい強度低下を招くので好ましくない。強度が低い場
合には、ウェットブラスト処理やその他の製造工程中に
アルミニウム箔の破断や亀裂の原因となるおそれがあ
る。そのため、前述したように、アルミニウム箔の引張
強度は９８ＭＰａ以上であるのが好ましい。

【００３１】アルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴
射する理由は、他の粒子を用いた場合には噴射された粒
子がアルミニウム箔の表面にめり込み、アルミニウム箔
中に存在する不純物とによって局部電池が形成され、純
度の悪いアルミニウム箔を用いたのと同じ状態になり、
アルミニウム箔の腐食が進行するからである。

【００３２】ウェットブラスト処理時に使用する溶媒
は、水または不燃性有機溶媒、たとえば塩化メチレン、
トリクロロエチレン等が好ましい。可燃性の有機溶媒は
作業環境や安全性の面で適当ではない。

【００３３】ウェットブラスト処理は、サンドブラスト
処理等の乾式法に比べて材料の発熱がないこと、洗浄効
果が高いこと、空気をほとんど遮断してブラスト処理を
行なうため安全性が高いこと等の利点を有する。

【００３４】ウェットブラスト処理を行なった後、アル
ミニウム箔を空気中で６０〜２００℃の温度で０．１〜
１０時間乾燥処理することにより、膜耐電圧が０．５〜
２．０Ｖ、好ましくは１．０〜１．８Ｖの酸化膜を形成
することができる。膜耐電圧を調整する方法は、この他
に陽極酸化法や沸騰水中にアルミニウム箔を浸漬させる
方法等を挙げることができる。

【００３５】以上のように、この発明の集電体用アルミ
ニウム箔の製造方法は安全かつ経済的であるので、工業
生産に適している。

【００３６】

【実施例】以下に述べるように、リチウムイオン電池や
電気二重層コンデンサの集電体に用いられるアルミニウ
ム箔として表面処理やアルミニウムの純度を変えたもの
を実施例１〜７と比較例１〜５で準備した。また、比較
例６〜８では、それぞれ銅箔、鉄箔およびステンレス鋼
を集電体用材料として準備した。各材料の成分分析値は
ＩＣＰ発光分光分析法によって分析された値を示す。

【００３７】（実施例１）公称純度が９９．９重量％、
成分の分析値として銅が５０ｐｐｍ、鉄が５００ｐｐ
ｍ、シリコンが３００ｐｐｍ、厚みが２０μｍ、引張強
度が２００ＭＰａのアルミニウム硬質箔にウェットブラ
スト処理を施した。ウェットブラスト処理は、３２０メ
ッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に１８体
積％分散させたブラスト液を１．３ｋｇｆ／ｃｍ²の空
気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させることに
よって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を温度
８０℃で３０分間乾燥処理した。

【００３８】（実施例２）公称純度が９９．３重量％、
成分の分析値として銅が５００ｐｐｍ、鉄が４０００ｐ
ｐｍ、シリコンが２０００ｐｐｍ、厚みが２０μｍ、引
張強度が１７５ＭＰａのアルミニウム硬質箔にウェット
ブラスト処理を施した。ウェットブラスト処理は、３２
０メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に１
８体積％分散させたブラスト液を２．０ｋｇｆ／ｃｍ²
の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させるこ
とによって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を
温度８０℃で３０分間乾燥処理した。

【００３９】（実施例３）公称純度が９９．７重量％、
成分の分析値として銅が３０ｐｐｍ、鉄が１５００ｐｐ
ｍ、シリコンが５００ｐｐｍ、厚みが１５μｍ、引張強
度が１９０ＭＰａのアルミニウム硬質箔にウェットブラ
スト処理を施した。ウェットブラスト処理は、３２０メ
ッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に２０体
積％分散させたブラスト液を２．５ｋｇｆ／ｃｍ²の空
気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させることに
よって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を温度
６０℃で６０分間乾燥処理した。

【００４０】（実施例４）公称純度が９９．９９重量
％、成分の分析値として銅が１０ｐｐｍ、鉄が５０ｐｐ
ｍ、シリコンが３５ｐｐｍ、厚みが３０μｍ、引張強度
が２１０ＭＰａのアルミニウム硬質箔にウェットブラス
ト処理を施した。ウェットブラスト処理は、３２０メッ
シュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に１８体積
％分散させたブラスト液を１．５ｋｇｆ／ｃｍ²の空気
圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させることによ
って行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を温度６
０℃で３０分間乾燥処理した。

【００４１】（実施例５）公称純度が９９．１重量％、
成分の分析値として銅が５００ｐｐｍ、鉄が５０００ｐ
ｐｍ、シリコンが３０００ｐｐｍ、厚みが４０μｍ、引
張強度が１６５ＭＰａのアルミニウム硬質箔にウェット
ブラスト処理を施した。ウェットブラスト処理は、３２
０メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に２
０体積％分散させたブラスト液を２．０ｋｇｆ／ｃｍ²
の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させるこ
とによって行なわれた。その後、アルミニウム硬質箔を
温度９０℃で６０分間乾燥処理した。

【００４２】（実施例６）実施例３と同じアルミニウム
硬質箔を用いて、その表面にウェットブラスト処理を施
した。この実施例の場合、ウェットブラスト処理は、４
００メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に
２０体積％分散させたブラスト液を２．５ｋｇｆ／ｃｍ
²の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させる
ことによって行なわれた。その後、温度６０℃で６０分
間乾燥処理した。

【００４３】（実施例７）実施例３と同じアルミニウム
硬質箔を用いて、その表面にウェットブラスト処理を施
した。この実施例の場合、ウェットブラスト処理は、４
００メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に
２０体積％分散させたブラスト液を２．５ｋｇｆ／ｃｍ
²の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させる
ことによって行なわれた。その後、温度６０℃で６０分
間乾燥処理した。

【００４４】（比較例１）公称純度が９８．０重量％、
成分の分析値として銅が１０００ｐｐｍ、鉄が１．３重
量％（１３０００ｐｐｍ）、シリコンが４０００ｐｐ
ｍ、厚みが２０μｍ、引張強度が１８０ＭＰａのアルミ
ニウム硬質箔の表面を塩化メチレンで脱脂処理した。

【００４５】（比較例２）公称純度が９９．３重量％、
成分の分析値として銅が５００ｐｐｍ、鉄が４０００ｐ
ｐｍ、シリコンが２０００ｐｐｍ、厚みが２０μｍ、引
張強度が１７０ＭＰａのアルミニウム硬質箔の表面を塩
化メチレンで脱脂処理した。

【００４６】（比較例３）公称純度が９９．７重量％、
成分の分析値として銅が３０ｐｐｍ、鉄が１５００ｐｐ
ｍ、シリコンが５００ｐｐｍ、厚みが１５μｍ、引張強
度が７０ＭＰａのアルミニウム軟質箔の表面をメタノー
ルで洗浄処理した。

【００４７】（比較例４）公称純度が９９．９９重量
％、成分の分析値として銅が１０ｐｐｍ、鉄が５０ｐｐ
ｍ、シリコンが３５ｐｐｍ、厚みが３０μｍ、引張強度
が２１０ＭＰａのアルミニウム硬質箔の表面を塩化メチ
レンで脱脂処理した。

【００４８】（比較例５）実施例３と同じアルミニウム
硬質箔を用いて、その表面にウェットブラスト処理を施
した。この比較例の場合、ウェットブラスト処理は、４
００メッシュのふるいを通過したアルミナ粒子を純水に
２０体積％分散させたブラスト液を２．５ｋｇｆ／ｃｍ
²の空気圧力でアルミニウム硬質箔の表面に噴射させる
ことによって行なわれた。その後、温度６０℃で６０分
間乾燥処理した。

【００４９】上述の実施例１〜７と比較例１〜５で準備
したアルミニウム箔の組成、厚み、引張強度と、表面処
理によって得られた表面粗度の測定値として平均粗さＲ
ａと最大高さＲｙとを表１に示す。また、アルミニウム
箔の表面に形成された酸化膜の皮膜耐電圧の測定結果も
表１に示す。

【００５０】（比較例６）純度が９９．９重量％の銅箔
を塩化メチレンによって脱脂処理した。この表面処理に
よって得られた表面粗度は、平均粗さＲａが０．１９μ
ｍ、最大高さＲｙが０．３３μｍであった。

【００５１】（比較例７）純度が９９．９重量％の鉄箔
を塩化メチレンによって脱脂処理した。この表面処理に
よって得られた表面粗度は、平均粗さＲａが０．２２μ
ｍ、最大高さＲｙが０．２８μｍであった。

【００５２】（比較例８）ステンレス鋼（ＳＵＳ３０
４）を塩化メチレンによって脱脂処理した。

【００５３】なお、表１において測定されなかったデー
タは「−」で示されている。表面粗さＲａと最大高さＲ
ｙの測定は、ＪＩＳＢ０６０１（−１９９４）に従
った。

【００５４】

【表１】

【００５５】以上のようにして準備された集電体用材料
を用いて以下に示す試験１〜４を行なうことにより、集
電体としての性能を確認した。

【００５６】（試験１）リチウムイオン電池の支持塩電
解質中に、実施例１〜７と比較例１〜８で準備した各集
電体用材料を４．５ＶＶＳ．Ｌｉ＋／Ｌｉで定電位電
解し、電解液中への金属溶解量をＩＣＰ発光分光分析法
により測定した。電解質としては、１モルＬｉＣｌＯ₄
／ＥＣ（エチレンカーボネート）＋ＤＥＣ（ジエチレン
カーボネート）を用いた。

【００５７】その測定結果を表２に示す。実施例１〜７
の集電体用材料では、電解質中へのイオンの溶出量が低
い水準に維持されていることが確認された。

【００５８】（試験２）リチウムイオン電池の支持塩電
解質中に、実施例１〜７と比較例１〜８で準備した各集
電体用材料を４．５ＶＶＳ．Ｌｉ＋／Ｌｉで定電位電
解し、電解質中への金属溶解量をＩＣＰ発光分光分析法
により測定した。電解質としては、１モルＬｉＰＦ₆／
ＥＣ（エチレンカーボネート）＋ＤＥＣ（ジエチレンカ
ーボネート）を用いた。

【００５９】その測定結果を表２に示す。実施例１〜７
の集電体用材料では、電解質中へのイオンの溶出量が低
い水準を示すことが確認された。

【００６０】（試験３）実施例１〜７と比較例１〜８で
準備した各集電体用材料の表面にリチウムイオン電池の
正極活物質を塗布加工した。リチウムイオン電池の正極
活物質の組成は、コバルト酸リチウムが５０重量％、ア
セチレンブラックが１０重量％、ＰＶＤＦ（ポリビニル
ジフロライド）が５重量％、ＮＭＰ（Ｎメチルピロリド
ン）が３５重量％であった。その後、温度１００℃で１
０分間乾燥させた。このようにして、乾燥後の厚みが８
０μｍとなるように正極活物質の塗膜を各集電体用材料
の表面に形成した。その後、圧延ロールにて約２０％の
圧下を加えて塗膜を各集電体用材料の表面に圧着させ
た。このようにして圧延後の塗膜の密着性を観察した。

【００６１】また、集電体用材料と活物質の塗膜との間
の接触抵抗値を測定した。接触抵抗値の測定は、図１に
示すように、黄銅製の上部電極１（重量：５００ｇ）と
下部電極２の間に各試料を挟んだ状態でＡＢ間をデジタ
ルマルチメータにより測定することによって行なわれ
た。この場合、厳密には接触抵抗のみを測定するもので
はないが、電極や試料の体積抵抗は無視し得る程度に小
さいものであるので、その測定値を接触抵抗値とみなす
ことができる。

【００６２】塗膜の密着性の観察結果と接触抵抗値の測
定結果を表２に示す。実施例１〜７で準備した集電体用
材料は、圧延後においても塗膜の良好な密着性を示し、
また塗膜との間の接触抵抗値も低いことがわかる。

【００６３】（試験４）実施例１〜７と比較例１〜８で
準備した各集電体用材料の表面に電気二重層コンデンサ
の電極活物質を塗布加工した。活物質の組成は、フェノ
ール樹脂系活性炭（商品名：クラクチブ１０クラレ）が
１５重量％、ポリイミドが５重量％、ＮＭＰ（Ｎメチル
ピロリドン）が８０重量％であった。その後、塗膜を乾
燥させた。このようにして、乾燥後の厚みが２０μｍと
なるように電気二重層コンデンサの電極活物質の塗膜を
各集電体用材料の表面に形成した。その後、温度２００
℃で２０分間、塗膜に焼成処理を施した後、圧延ロール
により、約２０％の圧下を加えて塗膜を各集電体用材料
の表面に圧着させた。このようにして圧延後の塗膜の密
着性を観察した。また、各集電体用材料の表面と活物質
の塗膜との間の接触抵抗値を試験３と同様にして測定し
た。

【００６４】塗膜の密着性の観察結果と接触抵抗値の測
定結果を表２に示す。実施例１〜７で準備したアルミニ
ウム箔は、圧延後においても活物質の塗膜の密着性が良
好であり、また塗膜との間の接触抵抗値も低い値を示し
た。

【００６５】

【表２】

【００６６】以上に開示された実施例はすべての点で例
示であって制限的なものではないと考慮されるべきであ
る。本発明の範囲は、以上の実施例ではなく、特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての修正や変形を含むものであると
解釈されるべきである。

【００６７】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、集電
体用アルミニウム箔は電極活物質やバインダとの接着強
度に優れ、二次電池や電気二重層コンデンサの集電体と
して使用中に電解質への溶出量も少ないため、長期間安
定した性能を要求される二次電池や電気二重層コンデン
サに有用である。

【００６８】また、本発明に従った集電体用アルミニウ
ム箔の製造方法は、安全かつ経済的であるので、工業生
産に適している。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例で行なわれた接触抵抗値の測定方法を概
略的に示す図である。

【符号の説明】

１上部電極２下部電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平８−64201（ＪＰ，Ａ) 特開平９−115523（ＪＰ，Ａ) 特開平９−139214（ＪＰ，Ａ) 特開平９−22699（ＪＰ，Ａ) 特開平９−260393（ＪＰ，Ａ) 特開昭63−7614（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−198112（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01M 4/64 H01G 9/016 H01M 4/02 H01M 10/40

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】水または不燃性有機溶媒を媒介としてア
ルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴射することによ
ってアルミニウム箔の表面を粗化したアルミニウム箔で
あって、少なくとも一方の表面の粗さとして平均粗さＲ
ａが０．３μｍ以上１．５μｍ以下で最大高さＲｙが
０．５μｍ以上５．０μｍ以下であり、前記アルミニウ
ム箔の表面に膜耐電圧が０．５Ｖ以上２．０Ｖ以下の酸
化膜が形成されている、集電体用アルミニウム箔。
【請求項２】前記アルミニウム箔の引張強度は９８Ｍ
Ｐａ以上である、請求項１に記載の集電体用アルミニウ
ム箔。
【請求項３】前記アルミニウム箔の厚みは１０μｍ以
上１５０μｍ以下である、請求項１または２に記載の集
電体用アルミニウム箔。
【請求項４】前記アルミニウム箔は、アルミニウムを
９９．０重量％以上、鉄、銅およびシリコンのそれぞれ
を０．５重量％以下含み、鉄、銅およびシリコンの合計
の含有量は１．０重量％未満である、請求項１から３ま
でのいずれかに記載の集電体用アルミニウム箔。
【請求項５】請求項１から４までのいずれかに記載の
アルミニウム箔を備えた、集電体。
【請求項６】請求項５に記載の集電体を備えた、二次
電池。
【請求項７】請求項５に記載の集電体を備えた、電気
二重層コンデンサ。
【請求項８】水または不燃性有機溶媒を媒介としてア
ルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴射することによ
ってアルミニウム箔の表面を粗化した後、表面を粗化し
たアルミニウム箔を空気中で６０〜２００℃の温度で
０．１〜１０時間乾燥処理することにより、膜耐電圧が
０．５Ｖ以上２．０Ｖ以下の酸化膜を形成することを特
徴とする、集電体用アルミニウム箔の製造方法。