JP3369165B1 - 縦型熱処理装置 - Google Patents
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
Abstract
【要約】
【課題】 回転軸を十分に冷却することができ、軸受及
びシール材の耐久性の向上が図れ、高温の熱処理に対応
可能な縦型熱処理装置を提供する。 【解決手段】 縦型熱処理炉２の炉口３を開閉する昇降
可能な蓋体５に多数の被処理体ｗを搭載した保持具１３
を回転する回転機構１５を備えた縦型熱処理装置１にお
いて、前記回転機構１５は、回転軸１６と、該回転軸１
６を軸受１７及びシール材１８を介して回転可能に支持
する支持部１９とを備え、前記回転軸１６を薄肉の中空
構造とし、回転軸１６の内部と外周部に冷却用気体を流
通させるように構成すると共に、前記支持部１９に回転
軸１６の上端側を囲繞する如く冷媒を流通させるための
冷却通路３２を設けたした。
びシール材の耐久性の向上が図れ、高温の熱処理に対応
可能な縦型熱処理装置を提供する。 【解決手段】 縦型熱処理炉２の炉口３を開閉する昇降
可能な蓋体５に多数の被処理体ｗを搭載した保持具１３
を回転する回転機構１５を備えた縦型熱処理装置１にお
いて、前記回転機構１５は、回転軸１６と、該回転軸１
６を軸受１７及びシール材１８を介して回転可能に支持
する支持部１９とを備え、前記回転軸１６を薄肉の中空
構造とし、回転軸１６の内部と外周部に冷却用気体を流
通させるように構成すると共に、前記支持部１９に回転
軸１６の上端側を囲繞する如く冷媒を流通させるための
冷却通路３２を設けたした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、縦型熱処理装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造においては、被処理体
例えば半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ、アニ
ール等の各種の熱処理を施す工程があり、これらの工程
を実行するための熱処理装置の一つとして多数枚のウエ
ハを一度に熱処理することが可能な縦型熱処理装置が用
いられている。
例えば半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ、アニ
ール等の各種の熱処理を施す工程があり、これらの工程
を実行するための熱処理装置の一つとして多数枚のウエ
ハを一度に熱処理することが可能な縦型熱処理装置が用
いられている。
【０００３】この縦型熱処理装置は、図７に示すよう
に、縦型熱処理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋体５を
備え、この蓋体５には多数のウエハを搭載したボートを
回転するための回転機構１５が設けられている。この回
転機構１５は、回転軸１６と、この回転軸１６を軸受１
７及びシール材１８を介して回転可能に支持する支持部
１９とを備えている。また、蓋体５を貫通した回転軸１
６の上端部には回転テーブル２０が設けられている。な
お、回転軸１６の下端部にはモータ２８がベルト３０を
介して連結されている。また、回転テーブル２０の周縁
部と蓋体５の間には、炉内の処理ガスが回転テーブル２
０と蓋体５の隙間に回り込んで漏れるのを防ぐためのラ
ビリンス構造６０が設けられている。
に、縦型熱処理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋体５を
備え、この蓋体５には多数のウエハを搭載したボートを
回転するための回転機構１５が設けられている。この回
転機構１５は、回転軸１６と、この回転軸１６を軸受１
７及びシール材１８を介して回転可能に支持する支持部
１９とを備えている。また、蓋体５を貫通した回転軸１
６の上端部には回転テーブル２０が設けられている。な
お、回転軸１６の下端部にはモータ２８がベルト３０を
介して連結されている。また、回転テーブル２０の周縁
部と蓋体５の間には、炉内の処理ガスが回転テーブル２
０と蓋体５の隙間に回り込んで漏れるのを防ぐためのラ
ビリンス構造６０が設けられている。
【０００４】熱処理炉側からの熱による軸受１７及びシ
ール材１８の耐久性の低下を抑制ないし防止するため
に、不活性ガス（例えば窒素ガスＮ２）を回転軸１６の
外周部に流通させて冷却すると共に蓋体５の中央付近に
冷却水を循環させる冷却通路３２を設けて冷却する構造
が採用されている。不活性ガスは、支持部１９と回転軸
１６の隙間におけるシール材１８よりも上方に供給さ
れ、回転テーブル２０と蓋体５の隙間を炉内側へ流通さ
れるようになっている。冷却通路３２は、蓋体５の中央
付近に回転軸１６を囲繞する如く略環状に設けられ、そ
の一端から冷却水が供給され、他端から排出されるよう
になっている。
ール材１８の耐久性の低下を抑制ないし防止するため
に、不活性ガス（例えば窒素ガスＮ２）を回転軸１６の
外周部に流通させて冷却すると共に蓋体５の中央付近に
冷却水を循環させる冷却通路３２を設けて冷却する構造
が採用されている。不活性ガスは、支持部１９と回転軸
１６の隙間におけるシール材１８よりも上方に供給さ
れ、回転テーブル２０と蓋体５の隙間を炉内側へ流通さ
れるようになっている。冷却通路３２は、蓋体５の中央
付近に回転軸１６を囲繞する如く略環状に設けられ、そ
の一端から冷却水が供給され、他端から排出されるよう
になっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記縦型熱処理装置
は、ある程度の高温例えば１０００℃程度の熱処理に耐
え得るように設計されているが、それよりも更に高い高
温例えば１２００℃程度の熱処理に使用した場合、前記
従来の冷却構造では冷却が不十分となり、熱膨張による
回転軸１６と軸受１７のかじり付きや焼き付きを生じる
など、軸受１７及びシール材１８の損傷ないし耐久性の
低下を招く恐れがあった。その理由としては、回転軸１
６が熱を伝え難い材質のジルコニア製のむく軸からなっ
ているため、炉内側から伝わった熱が蓄積され易く、冷
却し難い構造であった。また、蓋体５に設けられた軸孔
と回転軸１６の隙間Ｓが例えば１ｍｍと大きいため、冷
却通路３２側から回転軸１６を十分に冷却することが困
難であった。
は、ある程度の高温例えば１０００℃程度の熱処理に耐
え得るように設計されているが、それよりも更に高い高
温例えば１２００℃程度の熱処理に使用した場合、前記
従来の冷却構造では冷却が不十分となり、熱膨張による
回転軸１６と軸受１７のかじり付きや焼き付きを生じる
など、軸受１７及びシール材１８の損傷ないし耐久性の
低下を招く恐れがあった。その理由としては、回転軸１
６が熱を伝え難い材質のジルコニア製のむく軸からなっ
ているため、炉内側から伝わった熱が蓄積され易く、冷
却し難い構造であった。また、蓋体５に設けられた軸孔
と回転軸１６の隙間Ｓが例えば１ｍｍと大きいため、冷
却通路３２側から回転軸１６を十分に冷却することが困
難であった。
【０００６】本発明は、前記事情を考慮してなされたも
ので、回転軸を十分に冷却することができ、軸受及びシ
ール材の耐久性の向上が図れ、高温の熱処理に対応可能
な縦型熱処理装置を提供することを目的とする。
ので、回転軸を十分に冷却することができ、軸受及びシ
ール材の耐久性の向上が図れ、高温の熱処理に対応可能
な縦型熱処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のうち、請求項１
の発明は、縦型熱処理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋
体に多数の被処理体を搭載した保持具を回転する回転機
構を備えた縦型熱処理装置において、前記回転機構は、
回転軸と、該回転軸を軸受及びシール材を介して回転可
能に支持する支持部とを備え、前記回転軸を薄肉の中空
構造とし、回転軸の内部と外周部に冷却用気体を流通さ
せるように構成すると共に、前記支持部に回転軸の上端
側を囲繞する如く冷媒を流通させるための冷却通路を設
けたことを特徴とする。
の発明は、縦型熱処理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋
体に多数の被処理体を搭載した保持具を回転する回転機
構を備えた縦型熱処理装置において、前記回転機構は、
回転軸と、該回転軸を軸受及びシール材を介して回転可
能に支持する支持部とを備え、前記回転軸を薄肉の中空
構造とし、回転軸の内部と外周部に冷却用気体を流通さ
せるように構成すると共に、前記支持部に回転軸の上端
側を囲繞する如く冷媒を流通させるための冷却通路を設
けたことを特徴とする。
【０００８】請求項２の発明は、請求項１記載の縦型熱
処理装置において、前記回転軸の内部は仕切壁を介して
上下に仕切られ、また前記回転軸の外部で且つ略仕切壁
の位置に前記シール材を配置し、該仕切壁よりも上側の
内部及び外部に前記冷却用気体を流通させると共に、該
仕切壁よりも下側の内部が外部に開放されていることを
特徴とする。
処理装置において、前記回転軸の内部は仕切壁を介して
上下に仕切られ、また前記回転軸の外部で且つ略仕切壁
の位置に前記シール材を配置し、該仕切壁よりも上側の
内部及び外部に前記冷却用気体を流通させると共に、該
仕切壁よりも下側の内部が外部に開放されていることを
特徴とする。
【０００９】請求項３の発明は、請求項１または２記載
の縦型熱処理装置において、前記回転軸と支持部の隙間
を小さくすると共に、回転軸と支持部の各々の対向面に
放熱用の凹凸部を設けたことを特徴とする。
の縦型熱処理装置において、前記回転軸と支持部の隙間
を小さくすると共に、回転軸と支持部の各々の対向面に
放熱用の凹凸部を設けたことを特徴とする。
【００１０】請求項４の発明は、請求項１，２または３
記載の縦型熱処理装置において、前記冷却通路が略螺旋
状に設けられていることを特徴とする。
記載の縦型熱処理装置において、前記冷却通路が略螺旋
状に設けられていることを特徴とする。
【００１１】請求項５の発明は、請求項１乃至４の何れ
かに記載の縦型熱処理装置において、前記冷却通路が仕
切部を介して上下複数段に仕切られ、各段の仕切部に冷
媒を通流させる通流孔が設けられていることを特徴とす
る。
かに記載の縦型熱処理装置において、前記冷却通路が仕
切部を介して上下複数段に仕切られ、各段の仕切部に冷
媒を通流させる通流孔が設けられていることを特徴とす
る。
【００１２】請求項６の発明は、請求項１乃至５の何れ
かに記載の縦型熱処理装置において、前記回転軸の上端
には回転テーブルを固定するための平面部が設けられ、
該平面部と回転テーブルの少なくとも一方には接触面積
を小さくするための凹部が設けられていることを特徴と
する。
かに記載の縦型熱処理装置において、前記回転軸の上端
には回転テーブルを固定するための平面部が設けられ、
該平面部と回転テーブルの少なくとも一方には接触面積
を小さくするための凹部が設けられていることを特徴と
する。
【００１３】請求項７の発明は、請求項１乃至６の何れ
かに記載の縦型熱処理装置において、前記回転軸の上端
には蓋体上で回転するする回転テーブルが設けられ、蓋
体の上面と回転テーブルの下面との間には不活性ガスを
中心側より周縁側へ流通させるための隙間が設けられて
いると共に、不活性ガスを溜めるための環状のガス溜り
部が設けられていることを特徴とする。
かに記載の縦型熱処理装置において、前記回転軸の上端
には蓋体上で回転するする回転テーブルが設けられ、蓋
体の上面と回転テーブルの下面との間には不活性ガスを
中心側より周縁側へ流通させるための隙間が設けられて
いると共に、不活性ガスを溜めるための環状のガス溜り
部が設けられていることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添
付図面に基いて詳述する。図１は本発明の実施の形態を
示す縦型熱処理装置の縦断面図、図２は同要部断面図、
図３は同要部拡大断面図、図４は回転軸を示す図で、
（ａ）は縦断面図、（ｂ）は頂部平面図、（ｃ）は
（ａ）のＡ−Ａ線断面図、図５は回転テーブルと回転軸
の関係を示す分解斜視図、図６は冷却通路の構造を説明
する説明図である。
付図面に基いて詳述する。図１は本発明の実施の形態を
示す縦型熱処理装置の縦断面図、図２は同要部断面図、
図３は同要部拡大断面図、図４は回転軸を示す図で、
（ａ）は縦断面図、（ｂ）は頂部平面図、（ｃ）は
（ａ）のＡ−Ａ線断面図、図５は回転テーブルと回転軸
の関係を示す分解斜視図、図６は冷却通路の構造を説明
する説明図である。
【００１５】図１において、１は縦型熱処理装置で、こ
の縦型熱処理装置１は被処理体例えば半導体ウエハｗを
収容して所定の処理例えば拡散処理を施すための縦型の
熱処理炉２を備えている。この熱処理炉２は、下部が炉
口３として開口された縦長の処理容器例えば石英製の反
応管４と、この反応管４の炉口３を開閉する昇降可能な
蓋体５と、前記反応管４の周囲に設けられ、反応管
（炉）４内を所定の温度例えば３００〜１２００℃に加
熱制御可能な発熱抵抗体を備えたヒータ６とから主に構
成されている。
の縦型熱処理装置１は被処理体例えば半導体ウエハｗを
収容して所定の処理例えば拡散処理を施すための縦型の
熱処理炉２を備えている。この熱処理炉２は、下部が炉
口３として開口された縦長の処理容器例えば石英製の反
応管４と、この反応管４の炉口３を開閉する昇降可能な
蓋体５と、前記反応管４の周囲に設けられ、反応管
（炉）４内を所定の温度例えば３００〜１２００℃に加
熱制御可能な発熱抵抗体を備えたヒータ６とから主に構
成されている。
【００１６】反応管４は、例えば石英製であり、図示例
（実施例）では一重管からなっている。この反応管４の
下端部には外向きのフランジ部４ａが形成され、このフ
ランジ部４ａがフランジ保持部材７を介してヒータベー
ス８の下部に保持され、このヒーターベース８がベース
プレート９上に支持枠１０を介して設けられている。ベ
ースプレート９には反応管４を下方から挿通可能な開口
部が形成されている。ヒータベース８上に前記ヒータ６
が設置されている。
（実施例）では一重管からなっている。この反応管４の
下端部には外向きのフランジ部４ａが形成され、このフ
ランジ部４ａがフランジ保持部材７を介してヒータベー
ス８の下部に保持され、このヒーターベース８がベース
プレート９上に支持枠１０を介して設けられている。ベ
ースプレート９には反応管４を下方から挿通可能な開口
部が形成されている。ヒータベース８上に前記ヒータ６
が設置されている。
【００１７】反応管４の下側部には反応管４内に処理ガ
スやパージ用の不活性ガスを導入する複数のガス導入管
部１１が設けられ、これらガス導入管部１１にはガス供
給系の配管が接続されている。また、反応管４の下側部
には排気管部１２が設けられており、この排気管部１２
には排気系の配管が接続されている。
スやパージ用の不活性ガスを導入する複数のガス導入管
部１１が設けられ、これらガス導入管部１１にはガス供
給系の配管が接続されている。また、反応管４の下側部
には排気管部１２が設けられており、この排気管部１２
には排気系の配管が接続されている。
【００１８】熱処理炉２の下方は、蓋体５上に設けられ
た後述の熱処理用ボート１３（保持具）を熱処理炉（す
なわち反応管４）２内に搬入（ロード）したり、熱処理
炉２から搬出（アンロード）したり、或いはボート１３
に対するウエハｗの移載を行うための作業領域（ローデ
ィングエリア）１４となっている。この作業領域１４に
はボート１３の搬入、搬出を行うべく蓋体５を昇降させ
るための図示しない昇降機構（ボートエレベータ）が設
けられている。
た後述の熱処理用ボート１３（保持具）を熱処理炉（す
なわち反応管４）２内に搬入（ロード）したり、熱処理
炉２から搬出（アンロード）したり、或いはボート１３
に対するウエハｗの移載を行うための作業領域（ローデ
ィングエリア）１４となっている。この作業領域１４に
はボート１３の搬入、搬出を行うべく蓋体５を昇降させ
るための図示しない昇降機構（ボートエレベータ）が設
けられている。
【００１９】前記蓋体５は、例えばＳＵＳ製であり、蓋
体５には前記ボート１３を回転するための回転機構１５
が設けられている。この回転機構１５は、図２ないし図
３に示すように、回転軸１６と、この回転軸１６を軸受
１７及びシール材１８を介して回転可能に支持する支持
部（ホルダ部または軸受ハウジングともいう）１９とを
備えている。また、本実施の形態の回転機構１５は、蓋
体５を下方から貫通した回転軸１６の上端部に固定され
て蓋体５上で回転する回転テーブル２０を備えており、
この回転テーブル２０上に炉口３部の断熱保温手段であ
る保温筒２１を介してボート１３が載置されるようにな
っている。回転テーブル２０は例えばインコネル製であ
る。回転軸１６及び支持部１９は熱伝導性の良い例えば
ＳＵＳ製であることが好ましい。
体５には前記ボート１３を回転するための回転機構１５
が設けられている。この回転機構１５は、図２ないし図
３に示すように、回転軸１６と、この回転軸１６を軸受
１７及びシール材１８を介して回転可能に支持する支持
部（ホルダ部または軸受ハウジングともいう）１９とを
備えている。また、本実施の形態の回転機構１５は、蓋
体５を下方から貫通した回転軸１６の上端部に固定され
て蓋体５上で回転する回転テーブル２０を備えており、
この回転テーブル２０上に炉口３部の断熱保温手段であ
る保温筒２１を介してボート１３が載置されるようにな
っている。回転テーブル２０は例えばインコネル製であ
る。回転軸１６及び支持部１９は熱伝導性の良い例えば
ＳＵＳ製であることが好ましい。
【００２０】前記ボート１３は、例えば石英製であり、
大口径例えば直径３００ｍｍの多数例えば２５〜１５０
枚程度のウエハｗを水平状態で上下方向に間隔をおいて
多段に支持し得るようになっている。前記支持部１９は
円筒状に形成されており、その上端部が蓋体５の略中央
部に上下方向に貫通形成された嵌合穴２２に気密に嵌合
されてネジ２３で固定されている。前記回転軸１６と支
持部１９の間には上下方向略中間部から下方に軸受１７
例えば玉軸受が設けられ、支持部１９の下端部には軸受
１７を固定する端板２４がネジ２５で固定され、回転軸
１６に下側には軸受１７を固定するナット２６、例えば
緩み止め機能を有するＵナット（商品名）が螺着されて
いる。
大口径例えば直径３００ｍｍの多数例えば２５〜１５０
枚程度のウエハｗを水平状態で上下方向に間隔をおいて
多段に支持し得るようになっている。前記支持部１９は
円筒状に形成されており、その上端部が蓋体５の略中央
部に上下方向に貫通形成された嵌合穴２２に気密に嵌合
されてネジ２３で固定されている。前記回転軸１６と支
持部１９の間には上下方向略中間部から下方に軸受１７
例えば玉軸受が設けられ、支持部１９の下端部には軸受
１７を固定する端板２４がネジ２５で固定され、回転軸
１６に下側には軸受１７を固定するナット２６、例えば
緩み止め機能を有するＵナット（商品名）が螺着されて
いる。
【００２１】前記軸受１７よりも上側に回転軸１６と支
持部１９の隙間をシールするためのシール材１８、例え
ば耐熱性及び耐回転摩耗性を有するオムニシール（商品
名）が設けられている。このオムニシールは、断面Ｕ字
状で環状のスプリングをテフロン（登録商標）製のカバ
ーで覆って構成されている。なお、シール材１８として
は、Ｏリングであっても良い。
持部１９の隙間をシールするためのシール材１８、例え
ば耐熱性及び耐回転摩耗性を有するオムニシール（商品
名）が設けられている。このオムニシールは、断面Ｕ字
状で環状のスプリングをテフロン（登録商標）製のカバ
ーで覆って構成されている。なお、シール材１８として
は、Ｏリングであっても良い。
【００２２】回転軸１６を回転駆動するために、前記回
転軸１６の支持部１９より突出した下端部には従動プー
リ２７が取付けられ、この従動プーリ２７と、側方に設
けられたモータ２８の回転軸に取付けた駆動プーリ２９
とにタイミングベルト３０が巻き掛けられている。従動
プーリ２７の近傍には回転軸１６の回転位置を検出する
ためのセンサ３１が設けられている。
転軸１６の支持部１９より突出した下端部には従動プー
リ２７が取付けられ、この従動プーリ２７と、側方に設
けられたモータ２８の回転軸に取付けた駆動プーリ２９
とにタイミングベルト３０が巻き掛けられている。従動
プーリ２７の近傍には回転軸１６の回転位置を検出する
ためのセンサ３１が設けられている。
【００２３】炉内側から回転軸１６や支持部１９を介し
て軸受１７及びシール材１８に与える熱影響を抑制する
ために、前記回転軸１６を薄肉の中空構造とし、回転軸
１６の内部と外周部に冷却用気体例えば不活性ガス例え
ば窒素ガスＮ２を流通させるように構成すると共に、前
記支持部１９に回転軸１６の上端側を囲繞する如く冷媒
例えば水ないし冷却水を流通させる冷却通路３２を設け
ている。前記回転軸１６の内部は、図４にも示すよう
に、上下方向略中間部に形成された仕切壁３３を介して
上下に仕切られ、この仕切壁３３よりも下側の内部３４
が下端から外部に連通開放されており、これにより回転
軸１６の熱を外部に放熱できるようになっている。
て軸受１７及びシール材１８に与える熱影響を抑制する
ために、前記回転軸１６を薄肉の中空構造とし、回転軸
１６の内部と外周部に冷却用気体例えば不活性ガス例え
ば窒素ガスＮ２を流通させるように構成すると共に、前
記支持部１９に回転軸１６の上端側を囲繞する如く冷媒
例えば水ないし冷却水を流通させる冷却通路３２を設け
ている。前記回転軸１６の内部は、図４にも示すよう
に、上下方向略中間部に形成された仕切壁３３を介して
上下に仕切られ、この仕切壁３３よりも下側の内部３４
が下端から外部に連通開放されており、これにより回転
軸１６の熱を外部に放熱できるようになっている。
【００２４】回転軸１６の上端には回転テーブル２０を
水平に固定するための平面部３５が設けられている。回
転テーブル２０の下面の略中央部には図５にも示すよう
に回転軸１６の上端部を挿入する深さの浅い挿入孔３６
が設けられ、この挿入孔３６の天上面には、回転軸１６
と回転テーブル２０の接触面積を小さくするための略三
つ葉状の凹部３７が設けられている。回転テーブル２０
は、回転軸１６の上端の平面部３５にネジ３８で固定さ
れている。なお、前記凹部３７は回転軸１６上端の平面
部３５に設けられていても良い。
水平に固定するための平面部３５が設けられている。回
転テーブル２０の下面の略中央部には図５にも示すよう
に回転軸１６の上端部を挿入する深さの浅い挿入孔３６
が設けられ、この挿入孔３６の天上面には、回転軸１６
と回転テーブル２０の接触面積を小さくするための略三
つ葉状の凹部３７が設けられている。回転テーブル２０
は、回転軸１６の上端の平面部３５にネジ３８で固定さ
れている。なお、前記凹部３７は回転軸１６上端の平面
部３５に設けられていても良い。
【００２５】中空の回転軸１６の上端に平面部３５を設
けるために、回転軸１６の上端には上面に平面部３５を
有する上端部材３９が溶接により取付けられている。ま
た、中空の回転軸１６に前記仕切壁３３及び上端部材３
９を設けたことにより、回転軸１６の上側には中空室部
４０が形成されている。中空室部４０の天上面には、図
４に示すように前記回転テーブル２０の凹部３７と同じ
形状の凹部４１が設けられ、熱容量の低減が図られてい
る。なお、前記上端部材３９は回転軸の上端に溶接以外
の接合手段例えば嵌合や螺合等で設けられていても良
い。
けるために、回転軸１６の上端には上面に平面部３５を
有する上端部材３９が溶接により取付けられている。ま
た、中空の回転軸１６に前記仕切壁３３及び上端部材３
９を設けたことにより、回転軸１６の上側には中空室部
４０が形成されている。中空室部４０の天上面には、図
４に示すように前記回転テーブル２０の凹部３７と同じ
形状の凹部４１が設けられ、熱容量の低減が図られてい
る。なお、前記上端部材３９は回転軸の上端に溶接以外
の接合手段例えば嵌合や螺合等で設けられていても良
い。
【００２６】前記回転軸１６の中空室部４０に不活性ガ
ス例えばＮ２を流通させるために、回転軸１６の外周部
には中空室部４０の下側部と対応する部分に複数例えば
６個のガス入口穴４２が、且つ中空室部４０の上側部
（好ましくは凹部４１）と対応する部分には複数例えば
３個のガス出口穴４３がそれぞれ設けられている。前記
支持部１９の内周部には前記ガス入口穴４２と対応する
環状溝４４が形成され、支持部１９にはその環状溝４４
に不活性ガスを導入するための１つのガス導入口４５が
設けられ、このガス導入口４５には不活性ガスを供給す
る図示しないガス供給管が接続されている。
ス例えばＮ２を流通させるために、回転軸１６の外周部
には中空室部４０の下側部と対応する部分に複数例えば
６個のガス入口穴４２が、且つ中空室部４０の上側部
（好ましくは凹部４１）と対応する部分には複数例えば
３個のガス出口穴４３がそれぞれ設けられている。前記
支持部１９の内周部には前記ガス入口穴４２と対応する
環状溝４４が形成され、支持部１９にはその環状溝４４
に不活性ガスを導入するための１つのガス導入口４５が
設けられ、このガス導入口４５には不活性ガスを供給す
る図示しないガス供給管が接続されている。
【００２７】前記環状溝４４に導入された常温のＮ２
は、回転軸１６と支持部１９の隙間Ｓａを上昇する流れ
と、ガス入口穴４２から中空室部４０に入る流れとにな
って回転軸１６を内外から冷却した後、前記隙間Ｓａを
上昇する流れにガス出口穴４３から出る流れが合流して
回転テーブル２０の下面と蓋体５の上面との間の隙間Ｓ
ｂを通って炉内すなわち反応管４内に放出されるように
なっている。
は、回転軸１６と支持部１９の隙間Ｓａを上昇する流れ
と、ガス入口穴４２から中空室部４０に入る流れとにな
って回転軸１６を内外から冷却した後、前記隙間Ｓａを
上昇する流れにガス出口穴４３から出る流れが合流して
回転テーブル２０の下面と蓋体５の上面との間の隙間Ｓ
ｂを通って炉内すなわち反応管４内に放出されるように
なっている。
【００２８】冷却通路３２側から回転軸１６を更に十分
に冷却するために、すなわち冷却効果を向上させるため
に、前記回転軸１６と支持部１９の隙間Ｓａは例えば
０．４２ｍｍ程度と小さく形成されていると共に、回転
軸１６と支持部１９の各々の対向面には放熱用の凹凸部
であるネジ（ネジ山ともいう）４６，４７が設けられて
いる。具体的には、回転軸１６の外周部には例えばＭ３
０×１．５のネジ（雄ネジ）４６が切られ（刻設さ
れ）、ホルダ１９の内周部には例えばＭ３３×２のネジ
（雌ネジ）４７が切られている。このように、いわゆる
放熱フィンをネジ山とすることにより、容易に加工する
ことが可能となる。
に冷却するために、すなわち冷却効果を向上させるため
に、前記回転軸１６と支持部１９の隙間Ｓａは例えば
０．４２ｍｍ程度と小さく形成されていると共に、回転
軸１６と支持部１９の各々の対向面には放熱用の凹凸部
であるネジ（ネジ山ともいう）４６，４７が設けられて
いる。具体的には、回転軸１６の外周部には例えばＭ３
０×１．５のネジ（雄ネジ）４６が切られ（刻設さ
れ）、ホルダ１９の内周部には例えばＭ３３×２のネジ
（雌ネジ）４７が切られている。このように、いわゆる
放熱フィンをネジ山とすることにより、容易に加工する
ことが可能となる。
【００２９】一方、前記冷却通路３２は、冷媒例えば冷
却水を淀みなく循環させるために略螺旋状に設けられて
いることが好ましい。この場合、冷却通路３２は、加工
を容易にするために、図６に分解して示すように、複層
構造例えば３層構造に形成されていることが好ましい。
すなわち、支持部１９には冷却通路３２を構成する環状
の通路３２ａ，３２ｂ，３２ｃが上下に複数段ないし複
数層例えば下層、中層、上層に仕切部６２，６３を介し
て設けられ、下層および中層の通路３２ａ，３２ｂはそ
れぞれ前後２つの仕切壁４９，５０により左通路ａｘ，
ｂｘと右通路ａｙ，ｂｙに分割され、上層の通路３２ｃ
は前側１つの仕切壁６１により仕切られＣ状の通路とさ
れている。この上層と中層の仕切部６３には上層の仕切
壁６１の近傍に上層の通路３２ｃと中層の左右の通路ｂ
ｘ，ｂｙとを連通させて冷媒を通流させる通流孔５１，
５２が設けられ、中層と下層の仕切部６２には中層の後
側仕切壁５０の近傍に中層の左右の通路ｂｘ，ｂｙと下
層の左右の通路ａｘ，ａｙとを連通させて冷媒を通流さ
せる通流孔５３，５４が設けられている。下層の前側仕
切壁４９の近傍には冷却水の導入口５５と排出口５６が
設けられ、これらに図示しない冷却水の供給管と排水管
（戻り管）が接続されている。これにより、冷却通路３
２には矢印で示すように冷却水（常温の水）が供給され
て循環されるようになっている。
却水を淀みなく循環させるために略螺旋状に設けられて
いることが好ましい。この場合、冷却通路３２は、加工
を容易にするために、図６に分解して示すように、複層
構造例えば３層構造に形成されていることが好ましい。
すなわち、支持部１９には冷却通路３２を構成する環状
の通路３２ａ，３２ｂ，３２ｃが上下に複数段ないし複
数層例えば下層、中層、上層に仕切部６２，６３を介し
て設けられ、下層および中層の通路３２ａ，３２ｂはそ
れぞれ前後２つの仕切壁４９，５０により左通路ａｘ，
ｂｘと右通路ａｙ，ｂｙに分割され、上層の通路３２ｃ
は前側１つの仕切壁６１により仕切られＣ状の通路とさ
れている。この上層と中層の仕切部６３には上層の仕切
壁６１の近傍に上層の通路３２ｃと中層の左右の通路ｂ
ｘ，ｂｙとを連通させて冷媒を通流させる通流孔５１，
５２が設けられ、中層と下層の仕切部６２には中層の後
側仕切壁５０の近傍に中層の左右の通路ｂｘ，ｂｙと下
層の左右の通路ａｘ，ａｙとを連通させて冷媒を通流さ
せる通流孔５３，５４が設けられている。下層の前側仕
切壁４９の近傍には冷却水の導入口５５と排出口５６が
設けられ、これらに図示しない冷却水の供給管と排水管
（戻り管）が接続されている。これにより、冷却通路３
２には矢印で示すように冷却水（常温の水）が供給され
て循環されるようになっている。
【００３０】前述したように蓋体５の上面と回転テーブ
ル２０の下面との間には不活性ガスを中心側より周縁側
へ流通させるための隙間Ｓｂが設けられており、この隙
間Ｓｂには炉内からの処理ガスの回り込みを防止するた
めに、不活性ガスを所定量溜めるための周方向に連続し
た環状のガス溜り部５７が設けられている。このガス溜
り部５７は、蓋体５の上面と回転テーブル２０の下面に
対応する環状の溝を形成することによって中空室状に形
成されている。なお、蓋体５には蓋体５自体を冷却する
ための冷却通路５８が設けられている。
ル２０の下面との間には不活性ガスを中心側より周縁側
へ流通させるための隙間Ｓｂが設けられており、この隙
間Ｓｂには炉内からの処理ガスの回り込みを防止するた
めに、不活性ガスを所定量溜めるための周方向に連続し
た環状のガス溜り部５７が設けられている。このガス溜
り部５７は、蓋体５の上面と回転テーブル２０の下面に
対応する環状の溝を形成することによって中空室状に形
成されている。なお、蓋体５には蓋体５自体を冷却する
ための冷却通路５８が設けられている。
【００３１】以上の構成からなる縦型熱処理装置１によ
れば、縦型熱処理炉２の炉口３を開閉する昇降可能な蓋
体５に多数のウエハｗを搭載したボート１３を回転する
回転機構１５を備え、この回転機構１５は、回転軸１６
と、この回転軸１６を軸受１７及びシール材１８を介し
て回転可能に支持する支持部１９とを有し、前記回転軸
１６を薄肉の中空構造とし、回転軸１６の内部と外周部
に冷却用の不活性ガスを流通させるように構成すると共
に、前記支持部１９に回転軸１６の上端側を囲繞する如
く冷媒例えば水または冷却水を流通させるための冷却通
路３２を設けているため、回転軸１６を十分に冷却する
ことができ、軸受１７及びシール材１８の耐久性の向上
が図れ、高温例えば１２００℃程度の熱処理に対応可能
な縦型熱処理装置を提供することができる。
れば、縦型熱処理炉２の炉口３を開閉する昇降可能な蓋
体５に多数のウエハｗを搭載したボート１３を回転する
回転機構１５を備え、この回転機構１５は、回転軸１６
と、この回転軸１６を軸受１７及びシール材１８を介し
て回転可能に支持する支持部１９とを有し、前記回転軸
１６を薄肉の中空構造とし、回転軸１６の内部と外周部
に冷却用の不活性ガスを流通させるように構成すると共
に、前記支持部１９に回転軸１６の上端側を囲繞する如
く冷媒例えば水または冷却水を流通させるための冷却通
路３２を設けているため、回転軸１６を十分に冷却する
ことができ、軸受１７及びシール材１８の耐久性の向上
が図れ、高温例えば１２００℃程度の熱処理に対応可能
な縦型熱処理装置を提供することができる。
【００３２】また、前記回転軸１６の内部は仕切壁３３
を介して上下に仕切られ、また前記回転軸１６の外部で
且つ略仕切壁３の位置に前記シール材１８を配置し、該
仕切壁３３よりも上側の内部及び外部に前記冷却用気体
例えばＮ２を流通させると共に、該仕切壁３３よりも下
側の内部が外部に開放されているため、回転軸１６を更
に十分に冷却することができ、軸受１７及びシール材１
８の耐久性の向上が図れる。更に、前記回転軸１６と支
持部１９の隙間Ｓａを小さくすると共に、回転軸１６と
支持部１９の各々の対向面に放熱用の凹凸部であるネジ
４６，４７が設けられているため、冷却通路３２側から
回転軸１６を更に十分に冷却することができ、軸受１７
及びシール材１８の耐久性の向上が図れる。
を介して上下に仕切られ、また前記回転軸１６の外部で
且つ略仕切壁３の位置に前記シール材１８を配置し、該
仕切壁３３よりも上側の内部及び外部に前記冷却用気体
例えばＮ２を流通させると共に、該仕切壁３３よりも下
側の内部が外部に開放されているため、回転軸１６を更
に十分に冷却することができ、軸受１７及びシール材１
８の耐久性の向上が図れる。更に、前記回転軸１６と支
持部１９の隙間Ｓａを小さくすると共に、回転軸１６と
支持部１９の各々の対向面に放熱用の凹凸部であるネジ
４６，４７が設けられているため、冷却通路３２側から
回転軸１６を更に十分に冷却することができ、軸受１７
及びシール材１８の耐久性の向上が図れる。
【００３３】前記冷却通路３２が略螺旋状に設けられて
いるため、冷却水を澱みなく循環させることができると
共に回転軸１６の長手方向に沿って回転軸１６及び支持
部１９を広範囲に冷却することができ、軸受１７及びシ
ール材１８の耐久性の向上が図れる。この場合、前記冷
却通路３２が上下複数段に仕切られ、各段の仕切部６２
に冷媒通流させる通流孔５１，５２，５３，５４が設け
られているため、略螺旋状の冷却通路３２を容易に形成
することができ、冷媒を澱みなく循環させることができ
ると共に回転軸１６の長手方向に沿って回転軸１６及び
支持部１９を広範囲に冷却することができ、軸受１７及
びシール材１８の耐久性の向上が図れる。
いるため、冷却水を澱みなく循環させることができると
共に回転軸１６の長手方向に沿って回転軸１６及び支持
部１９を広範囲に冷却することができ、軸受１７及びシ
ール材１８の耐久性の向上が図れる。この場合、前記冷
却通路３２が上下複数段に仕切られ、各段の仕切部６２
に冷媒通流させる通流孔５１，５２，５３，５４が設け
られているため、略螺旋状の冷却通路３２を容易に形成
することができ、冷媒を澱みなく循環させることができ
ると共に回転軸１６の長手方向に沿って回転軸１６及び
支持部１９を広範囲に冷却することができ、軸受１７及
びシール材１８の耐久性の向上が図れる。
【００３４】また、前記回転軸１６の上端には回転テー
ブル２０を固定するための平面部３５が設けられ、この
平面部３５と回転テーブル２０の少なくとも一方には接
触面積を小さくするための凹部３７が設けられているた
め、回転テーブル２０から回転軸１６への熱伝導を抑制
することができる。更に、前記回転軸１６の上端には蓋
体５上で回転するする回転テーブル２０が設けられ、蓋
体５の上面と回転テーブル２０の下面との間には不活性
ガスを中心側より周縁側へ流通させるための隙間Ｓｂが
設けられていると共に、不活性ガスを溜めるための環状
のガス溜り部５７が設けられているため、簡単な構造で
炉内からの処理ガスの回り込みを防止することができ、
複雑なラビリンス構造が不要となり、コストの低減が図
れる。
ブル２０を固定するための平面部３５が設けられ、この
平面部３５と回転テーブル２０の少なくとも一方には接
触面積を小さくするための凹部３７が設けられているた
め、回転テーブル２０から回転軸１６への熱伝導を抑制
することができる。更に、前記回転軸１６の上端には蓋
体５上で回転するする回転テーブル２０が設けられ、蓋
体５の上面と回転テーブル２０の下面との間には不活性
ガスを中心側より周縁側へ流通させるための隙間Ｓｂが
設けられていると共に、不活性ガスを溜めるための環状
のガス溜り部５７が設けられているため、簡単な構造で
炉内からの処理ガスの回り込みを防止することができ、
複雑なラビリンス構造が不要となり、コストの低減が図
れる。
【００３５】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、例えば、熱処理装置
としては、拡散処理以外に、ＣＶＤ処理（減圧タイプを
含む）、酸化処理、アニール処理等を行うように構成さ
れていてもよい。前記ボートの材質としては、石英以外
に、例えば炭化珪素やポリシリコン（Ｓｉ）等であって
も良い。被処理体としては、半導体ウエハ以外に、例え
ばＬＣＤ基板等であっても良い。また、反応管は、内管
と外管の二重管構造とされていても良い。冷却用気体と
しては不活性ガスが好ましいが、不活性ガス以外の気体
であっても良い。冷媒としては、水が好ましいが、水以
外の液体ないし流体であっても良い。
述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、例えば、熱処理装置
としては、拡散処理以外に、ＣＶＤ処理（減圧タイプを
含む）、酸化処理、アニール処理等を行うように構成さ
れていてもよい。前記ボートの材質としては、石英以外
に、例えば炭化珪素やポリシリコン（Ｓｉ）等であって
も良い。被処理体としては、半導体ウエハ以外に、例え
ばＬＣＤ基板等であっても良い。また、反応管は、内管
と外管の二重管構造とされていても良い。冷却用気体と
しては不活性ガスが好ましいが、不活性ガス以外の気体
であっても良い。冷媒としては、水が好ましいが、水以
外の液体ないし流体であっても良い。
【００３６】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な効果を奏することができる。
な効果を奏することができる。
【００３７】（１）請求項１の発明によれば、縦型熱処
理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋体に多数の被処理体
を搭載したボートを回転する回転機構を備えた縦型熱処
理装置において、前記回転機構は、回転軸と、該回転軸
を軸受及びシール材を介して回転可能に支持する支持部
とを備え、前記回転軸を薄肉の中空構造とし、回転軸の
内部と外周部に冷却用気体を流通させるように構成する
と共に、前記支持部に回転軸の上端側を囲繞する如く冷
媒を流通させるための冷却通路を設けているため、回転
軸を十分に冷却することができ、軸受及びシール材の耐
久性の向上が図れ、高温の熱処理に対応可能な縦型熱処
理装置を提供することができる。
理炉の炉口を開閉する昇降可能な蓋体に多数の被処理体
を搭載したボートを回転する回転機構を備えた縦型熱処
理装置において、前記回転機構は、回転軸と、該回転軸
を軸受及びシール材を介して回転可能に支持する支持部
とを備え、前記回転軸を薄肉の中空構造とし、回転軸の
内部と外周部に冷却用気体を流通させるように構成する
と共に、前記支持部に回転軸の上端側を囲繞する如く冷
媒を流通させるための冷却通路を設けているため、回転
軸を十分に冷却することができ、軸受及びシール材の耐
久性の向上が図れ、高温の熱処理に対応可能な縦型熱処
理装置を提供することができる。
【００３８】（２）請求項２の発明によれば、前記回転
軸の内部は仕切壁を介して上下に仕切られ、また前記回
転軸の外部で且つ略仕切壁の位置に前記シール材を配置
し、該仕切壁よりも上側の内部及び外部に前記冷却用気
体を流通させると共に、該仕切壁よりも下側の内部が外
部に開放されているため、回転軸を更に十分に冷却する
ことができ、軸受及びシール材の耐久性の向上が図れ
る。
軸の内部は仕切壁を介して上下に仕切られ、また前記回
転軸の外部で且つ略仕切壁の位置に前記シール材を配置
し、該仕切壁よりも上側の内部及び外部に前記冷却用気
体を流通させると共に、該仕切壁よりも下側の内部が外
部に開放されているため、回転軸を更に十分に冷却する
ことができ、軸受及びシール材の耐久性の向上が図れ
る。
【００３９】（３）請求項３の発明によれば、前記回転
軸と支持部の隙間を小さくすると共に、回転軸と支持部
の各々の対向面に放熱用の凹凸部を設けているため、冷
却通路側から回転軸を更に十分に冷却することができ、
軸受及びシール材の耐久性の向上が図れる。
軸と支持部の隙間を小さくすると共に、回転軸と支持部
の各々の対向面に放熱用の凹凸部を設けているため、冷
却通路側から回転軸を更に十分に冷却することができ、
軸受及びシール材の耐久性の向上が図れる。
【００４０】（４）請求項４の発明によれば、前記冷却
通路が略螺旋状に設けられているため、冷媒を澱みなく
循環させることができると共に回転軸の長手方向に沿っ
て回転軸及び支持部を広範囲に冷却することができ、軸
受及びシール材の耐久性の向上が図れる。
通路が略螺旋状に設けられているため、冷媒を澱みなく
循環させることができると共に回転軸の長手方向に沿っ
て回転軸及び支持部を広範囲に冷却することができ、軸
受及びシール材の耐久性の向上が図れる。
【００４１】（５）請求項５の発明によれば、前記冷却
通路が仕切部を介して上下複数段に仕切られ、各段の仕
切部に冷媒を通流させる通流孔が設けられているため、
略螺旋状の冷却通路を容易に形成することができ、冷媒
を澱みなく循環させることができると共に回転軸の長手
方向に沿って回転軸及び支持部を広範囲に冷却すること
ができ、軸受及びシール材の耐久性の向上が図れる。
通路が仕切部を介して上下複数段に仕切られ、各段の仕
切部に冷媒を通流させる通流孔が設けられているため、
略螺旋状の冷却通路を容易に形成することができ、冷媒
を澱みなく循環させることができると共に回転軸の長手
方向に沿って回転軸及び支持部を広範囲に冷却すること
ができ、軸受及びシール材の耐久性の向上が図れる。
【００４２】（６）請求項６の発明によれば、前記回転
軸の上端には回転テーブルを固定するための平面部が設
けられ、該平面部と回転テーブルの少なくとも一方には
接触面積を小さくするための凹部が設けられているた
め、回転テーブルから回転軸への熱伝導を抑制すること
ができる。
軸の上端には回転テーブルを固定するための平面部が設
けられ、該平面部と回転テーブルの少なくとも一方には
接触面積を小さくするための凹部が設けられているた
め、回転テーブルから回転軸への熱伝導を抑制すること
ができる。
【００４３】（７）請求項７の発明によれば、前記回転
軸の上端には蓋体上で回転するする回転テーブルが設け
られ、蓋体の上面と回転テーブルの下面との間には不活
性ガスを中心側より周縁側へ流通させるための隙間が設
けられていると共に、不活性ガスを溜めるための環状の
ガス溜り部が設けられているため、簡単な構造で炉内か
らの処理ガスの回り込みを防止することができる。
軸の上端には蓋体上で回転するする回転テーブルが設け
られ、蓋体の上面と回転テーブルの下面との間には不活
性ガスを中心側より周縁側へ流通させるための隙間が設
けられていると共に、不活性ガスを溜めるための環状の
ガス溜り部が設けられているため、簡単な構造で炉内か
らの処理ガスの回り込みを防止することができる。
【図１】本発明の実施の形態を示す縦型熱処理装置の縦
断面図である。
断面図である。
【図２】同要部断面図である。
【図３】同要部拡大断面図である。
【図４】回転軸を示す図で、（ａ）は縦断面図、（ｂ）
は頂部平面図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。
は頂部平面図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図であ
る。
【図５】回転テーブルと回転軸の関係を示す分解斜視図
である。
である。
【図６】冷却通路の構造を説明する説明図である。
【図７】従来の縦型熱処理装置の要部断面図である。
ｗ 半導体ウエハ（被処理体）
１ 縦型熱処理装置
２ 縦型熱処理炉
３ 炉口
５ 蓋体
１３ ボート（保持具）
１５ 回転機構
１６ 回転軸
１７ 軸受
１８ シール材
１９ 支持部
２０ 回転テーブル
３２ 冷却通路
３３ 仕切壁
３５ 平面部
３７ 凹部
Ｓａ，Ｓｂ 隙間
４６，４７ ネジ（凹凸部）
５７ ガス溜り部
５１，５２，５３，５４ 通流孔
６２ 仕切部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 小原 美鶴
東京都港区赤坂五丁目３番６号 ＴＢＳ
放送センター 東京エレクトロン株式会
社内
(56)参考文献 特開 平６−168904（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−204157（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−26115（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−169706（ＪＰ，Ａ)
特開2001−297987（ＪＰ，Ａ)
実開 平１−149472（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/31
H01L 21/205
H01L 21/22 511
Claims (7)
- 【請求項１】 縦型熱処理炉の炉口を開閉する昇降可能
な蓋体に多数の被処理体を搭載した保持具を回転する回
転機構を備えた縦型熱処理装置において、前記回転機構
は、回転軸と、該回転軸を軸受及びシール材を介して回
転可能に支持する支持部とを備え、前記回転軸を薄肉の
中空構造とし、回転軸の内部と外周部に冷却用気体を流
通させるように構成すると共に、前記支持部に回転軸の
上端側を囲繞する如く冷媒を流通させるための冷却通路
を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。 - 【請求項２】 前記回転軸の内部は仕切壁を介して上下
に仕切られ、また前記回転軸の外部で且つ略仕切壁の位
置に前記シール材を配置し、該仕切壁よりも上側の内部
及び外部に前記冷却用気体を流通させると共に、該仕切
壁よりも下側の内部が外部に開放されていることを特徴
とする請求項１記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項３】 前記回転軸と支持部の隙間を小さくする
と共に、回転軸と支持部の各々の対向面に放熱用の凹凸
部を設けたことを特徴とする請求項１または２記載の縦
型熱処理装置。 - 【請求項４】 前記冷却通路が略螺旋状に設けられてい
ることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の縦
型熱処理装置。 - 【請求項５】 前記冷却通路が仕切部を介して上下複数
段に仕切られ、各段の仕切部に冷媒を通流させる通流孔
が設けられていることを特徴とする請求項１乃至４の何
れかに記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項６】 前記回転軸の上端には回転テーブルを固
定するための平面部が設けられ、該平面部と回転テーブ
ルの少なくとも一方には接触面積を小さくするための凹
部が設けられていることを特徴とする請求項１乃至５の
何れかに記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項７】 前記回転軸の上端には蓋体上で回転する
する回転テーブルが設けられ、蓋体の上面と回転テーブ
ルの下面との間には不活性ガスを中心側より周縁側へ流
通させるための隙間が設けられていると共に、不活性ガ
スを溜めるための環状のガス溜り部が設けられているこ
とを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の縦型熱
処理装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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