TWI263281B - Vertical heat-processing apparatus - Google Patents

Description

1263281 玖、發明說明 、心敘月·發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明） 【發明所屬技術領域】 發明領域 本發明係有關於一種用以對多數之被處理基板同時實 5施熱處理之縱型熱處理裝置。更具體而言，本發明係有關 於一種具有改良旋轉機構之縱型熱處理裝置，而該旋轉機 構係用以旋轉可重疊搭載多數被處理基板之保持具。 再者，該縱型熱處理裝置係組合於典型的半導體處理 系統中來使用。在此，所謂半導體處理係意指於半導體晶 10圓或玻璃基板等被處理基板上，以預定之圖案形成半導體 層、絕緣層、導電層等，藉此於該被處理基板上實施用以 製造包含半導體裝置、連接於半導體裝置之配線、或電極 等之構造物的各種處理。 L· It 15 發明背景 在半導體裝置之製造過程中，由於在如半導體晶圓之 被處理基板上施行膜堆積、氧化、擴散、重組、退火、及 餘刻等處理’故使用各種的處理裝置。該種處理裝置中， 已知的是將多數片晶圓一次進行熱處理之縱型熱處理裝置 20 〇 第7圖係顯示用以旋轉在縱型熱處理裝置中使用之晶 舟之習知旋轉機構之截面圖。如第7圖所示，旋轉機構 115配設於可升降地開關縱型熱處理爐之爐口（載入孔）之蓋 體105，疑轉機構115係用以旋轉搭載多數晶圓（被處理基 1263281 玖、發明說明 板）之晶舟（保持具）。 疑轉機構115係具有旋轉軸116，及透過軸承117及 岔封構件118而可旋轉地支持旋轉軸116之支持部119。 疑轉軸116之下端部則透過皮帶130而與馬達128連結。 5貝通蓋體105之旋轉軸11ό之上端部配設有旋轉檯12〇， 方疋轉檯120係由可裝卸自如地固定之下側構件12〇a及上側 構件120b所構成，而在旋轉檯12〇之周緣部與蓋體1〇5之 間，形成有一用以防止爐内之處理氣體在旋轉檯12()與蓋 體105之間的空隙洩漏之曲折構造160。 1〇 由於可藉來自熱處理爐侧之熱，防止軸承117及密封 構件118之耐久性降低，故使用可冷卻旋轉軸116之構造 。該冷卻構造中，係藉流通於旋轉軸116之外周部之惰性 氣體（例如氮氣NO ,及循環通過形成於蓋體1〇5之中央附 近之冷卻通路132的冷卻水來冷卻旋轉軸116。惰性氣體 15係供給至在支持部119與旋轉軸116之空隙之間的密封構 件118上方處，並且通過旋轉檯12〇與蓋體1〇5之間的空 隙彺爐内側流動。冷卻通路132係配設成大致為環狀且在 蓋體105之中央附近圍繞旋轉軸116，並且由其一端供給 冷卻水’由另一端排出。 2〇 縱型熱處理裝置係設計成可耐如1000。(：左右之某程产 之高溫的熱處理。但是，若使用於如i扇。C左右之較高溫 之熱處理，則在習知之冷卻構造中，冷卻會不完全。因此 ，會產生因熱膨脹造成之旋轉軸116與軸承117咬住或卡 滯等問題，而可能會導致軸承117及密封構件之損傷 1263281 玖、發明說明 或耐久性降低。 一般，由於旋轉軸116係由氧化鍅等較難導熱之材質 製成之軸所構成，因此由爐内側傳來之熱容易積存而很難 冷卻。又，由於配設於蓋體1〇5之軸孔與旋轉軸116之間 5的空隙S係大到，例如lnm，因此難以由冷卻通路132側 完全冷卻旋轉軸116。 I：發明内容3 發明之揭示 本發明之目的在於提供一種可完全冷卻旋轉軸，並達 10到提高軸承及密封構久性之目的，且可對應於高溫之熱處 理之縱型熱處理裝置。 根據本發明之苐1觀點，目的在於提供一種縱型熱處 理裝置，係於可升降地開關縱型熱處理爐之爐口之蓋體， 配設有用以旋轉搭載多數被處理基板之保持具之旋轉機構 15者，其特徵在於：前述旋轉機構具有一旋轉軸、及一透過 軸承及密封構件而可旋轉地支持前述旋轉軸之支持部，前 述旋轉軸係形成薄壁之中空構造，且構造成於其内側及外 側有冷卻用氣體流通，並且前述支持部具有一圍繞前述旋 轉軸之上側地形成且供冷媒流通之冷卻通路。 20 根據本發明之第2觀點，其目的在於提供一種用以對 多數被處理基板一起施行熱處理之縱型熱處理裝置，包含 有··一氣密的處理室，係用以收納前述被處理基板者，且 該處理室並於底部具有一載入孔；一蓋體，係用以選擇性 地開放及閉鎖前述處理室之前述載入孔者；一保持具，係 1263281 玖、發明說明 在前述處理室内，將前述處理基板保持在互相間隔地重最 之狀態下者；一供給系統，係用以將處理氣體供給至前述 處理室者；一排氣系統，係使前述處理室内進行排氣者· 一加熱没備’係用以加熱前述處理室之内部空氣者；一升 5 降機，係在將保持前述被處理基板之前述保持具支持於前 述蓋體上之狀態下，使前述蓋體升降者；一旋轉機構，係 用以旋轉前述保持具，且配設於前述蓋體者，該旋轉機構 包括：一薄壁、中空構造之旋轉軸，及一透過軸承及密封 構件而可旋轉地支持前述旋轉軸之支持部，且於前述旋轉 10軸之内部形成有冷卻用之内部氣體通路之外，在前述旋轉 轴與七述支持體之間形成有冷卻用之外部氣體通路；及一 惰性氣體供給室，係用以將冷卻用之惰性氣體供給至前述 内部氣體通路及前述外部氣體通路者。 有關前述第1及第2觀點之縱型熱處理裝置中，係可 15構造成：前述旋轉軸之内部係隔著分隔壁而上下地隔開， 並在七述旋轉軸之外側且於前述分隔壁之附近配置有前述 密封構件，在前述分隔壁上側之前述旋轉軸之内部及外部 有岫述冷部用氣體流通，而在前述分隔壁下側之前述旋轉 軸之内部係對外部開放。 20 圖式簡單說明 第1圖係概略地顯示有關本發明之實施型態之縱型熱 處理裝置之戴面圖。 第2圖係顯示用以旋轉第1圖所示之裝置中使用之經 周之旋轉機構之截面圖。 1263281 玖、發明說明 第3圖係放大顯第2圖之旋轉機構之截面圖。 第4A、4B、4C圖係顯示第2圖之旋轉機構之旋轉軸 之縱戴面圖、頂部平面圖、及沿第4A圖中IVC-IVC線之 截面圖。 5 第5圖係顯示第2圖之旋轉機構中之旋轉檯與旋轉軸 之間之關係之展開透視圖。 第6圖係顯示第2圖之旋轉機構之冷卻通路之展開透 視圖。 第7圖係顯示用以旋轉縱型熱處理裝置中使用之晶舟 10 之習知旋轉機構之截面圖。 L實施方式】 發明實施之最佳型態 以下參知圖式說明本發明之實施型態。再者，以下的 說明中，具有大略相同之機能及構造之構造要件則賦與相 15 同標號，並僅於必要時重複說明。 第1圖係概略地顯示有關本發明之實施型態之縱型熱 處理裝置之截面圖。如第1圖所示，縱型熱處理裝置丨具 有用以對如半導體晶圓w之多數被處理基板，施行如擴散 處理之預定處理之縱型的熱處理爐2。熱處理爐2包含下 20部作成爐口（載入孔）3且開口之縱長的處理室，如由單管構 成之石英製成之反應管4。 反應管（處理室）4之爐口 3係藉可升降之如SUS製成 之蓋體5而可選擇性的開放及關閉。反應管4之周圍有具 有加熱電阻為之加熱器6配設於加熱座8上。加熱器6係 1263281 玖、發明說明 控制使反應管（爐）4内加熱至 。 — ★ 300〜12〇〇 C之預定溫度。 4 /s應官4之下端部形成有向外之凸緣部4a，且凸緣部 & a者凸緣保持構件7而保持於加熱座8。加熱座8係 隔著支持架10而配設於底 、-反9上，而底板9形成有可由下 方插通反應管4之開口部。 “ 4之下側部連接有包含用以導人處理氣體或清 洗用惰性氣體於反應管4内之多數氣體導人管U之氣體供 、口系、、先GS。又’反應管4之下側部隔著排氣管η而連接 用以使反應管4内進行排氣之排氣系統ES。 10 15 曰曰圓W在反應管4内進行處理時，係由晶舟（保持具 )13保持在水平狀恶且互相間隔地重疊之狀態下。而晶舟 13具有用以保持如直徑為3〇〇mm之大口徑之如25〜ι5〇片 左右之多數晶圓W之石英製成之舟本體。 熱處理爐2之下方配設有用以進行對晶舟13進行晶圓 w之移載之作業領域（載入領域）LA。而作業領域LA配設 有用以升降蓋體6之升降機構（升降機）14(第1圖中僅顯示 支持蓋體5之升降機14之臂）。晶舟13則係在支持於蓋體 5上之狀態下，藉升降機14在作業領域LA與反應管4之 間進行搬送。即，晶舟13藉升降機14對反應管4進行載 入或不載入。 蓋體5配設有用以旋轉晶舟13之旋轉機構15。第2 圖係顯示旋轉機構15之截面圖，第3圖係放大顯示旋轉機 構15之截面圖，第4A、4B、4C圖係顯示旋轉機構15之 旋轉軸之縱截面圖、頂部平面圖、及沿第4A圖中IVC- 20 1263281 10 15 20 玖、發明說明 IVC線之截面圖，而第5圖係顯示旋轉機構15中之旋轉擾 與旋轉軸之間之關係之展開透視圖。 旋轉機構15具有一旋轉軸16、及一透過轴承17及密 封構件18而可旋轉地支持旋轉轴16之支持部19(亦稱為 軸承殼體）。旋轉軸16之上端部係由下方貫通蓋體5而由 風體5大出。在蓋體5上旋轉之旋轉檯加係固定於旋轉軸 之上鳊#。旋轉檯2〇係由可裝卸自如地固定之下側構 件20a及上側構件施所構成，且晶舟13係隔著為爐口 3 ,斷熱保/皿叹備之保溫筒21而載置於旋轉檯⑼上。旋轉 檯2〇係如鉻鎳鐵合金製成。而旋轉軸16及支持部19宜為 熱傳導性佳如SUS製成者。 …支持部19係形成圓筒狀，其上端部氣密祕合於在貫 通蓋體5之大致為中央部上下方向地形成之喪合穴22，且 以螺絲23固定。在旋轉轴16與支持部19之間，由上下方 ^大致為中間部至下方配設有如圓型軸承之軸纟Η。支持 部19之下端部縣_絲2 5固定用㈣定軸承17之端板 Μ。旋轉軸16之下側螺接有用以固定轴承η之螺帽％ , 例如具有防止鬆動機能之U于卜（商品名）。 用以密封旋轉軸16與支持部19之間的空隙之密封構 件18，例如具有耐熱性及耐旋轉磨損性之才么二シ一/レ（ 商品名）’係配設於軸承17上側。該才少係由鐵 “⑽丨⑽登錄商標）製成之蓋料蓋截面為u字狀 狀彈簧而構成。再者，密封構件18亦可為〇環。 、 由旋轉軸16之支持部19突出之下端部安裝有從動帶

12 1263281 玖、發明說明 輪27以旋轉驅動旋轉轴16。並且於從動帶輪27及安裝於 配設於側方之馬達28之旋轉軸之驅動帶輪29環掛同步皮 帶30。從動帶輪27之附近則配設有用以檢測旋轉軸丨6之 旋轉位置之感測器3 1。 為了抑制由爐内側透過旋轉軸16及支持部19而對軸 承17及密封構件18造成之熱影響，使用可冷卻旋轉軸16 之構造。該冷卻構造中，旋轉軸16係形成薄壁之中空構造 ，亚於旋轉軸16之内部形成冷卻用之内部氣體通路之外， 亦於旋轉軸16與支持部19之間形成供冷卻用之外部氣體 1〇通路。流通於前述氣體通路之供冷卻用氣體係由如氮沁等 惰性氣體構成。更進-步，支持部19内形成有圍繞旋轉轴 16之上端側使水或冷卻氣體等冷媒流通之冷卻通路32。又 ，蓋體5配設有用以冷卻蓋體5本身之冷卻通路％。 亦如第4A圖所示’旋轉軸16之内部係隔著分隔壁33 15而上下地隔開，並在旋轉軸16之外側且於分隔壁33之附 近配置有密封構件18。且上述之内部氣體通路及外部氣體 通路形成於分隔壁33上側，而在分隔壁33下側之旋轉軸 16之内部係對外部開放，藉此可將旋轉軸16之熱對外部 散熱。 2 0 方疋轉軸16之上端形成有用以水平地固定旋轉檯2〇之 平坦部3 5。旋轉檯20下面之大致為中央部亦如第5圖所 示，形成有旋轉軸16之上端部可插入深度淺的插入孔36 。在插入孔36上面形成有用以縮小旋轉軸μ與旋轉檯2〇 之接觸面積之大致為三葉狀之凹部37。旋轉檯20係藉螺 13 1263281 玖、發明說明 絲3 8固定於旋轉軸16上端之平坦部3 5。再者，凹部3 7 亦可配設於旋轉軸16上端之平坦部3 5。 旋轉軸16上端之平坦部35係由熔接於旋轉軸16之上 側部39之上端部構成。藉中空之旋轉軸16之分隔壁33及 5上側部39而於旋轉軸16之上側形成中空部40。如第4C 圖所不，中空部40之上面配設有與旋轉檯2〇之凹部3?相 同形狀之凹部41。凹部41係為了減少透過旋轉檯2〇傳導 至旋轉軸16之傳熱量而形成。再者，上側部39亦可藉熔 接以外之如嵌合或螺合等接合方法配設於旋轉軸上端。 1〇 於旋轉軸16之外周部與中空部40之下側部對應之部 分形成多數如6個之氣體入口孔42。又，與中空部4〇之 上側部（以凹部41為佳）對應之部分則分別配設有多數如3 個之氣體出口孔43。由氣體導入口 45導入之冷卻用氣體 ’係由入口子匕42毒月中〇 了丨/1。_r •丄 朝出孔43而流通旋轉軸10之中空部 15 40 内0 支持部19之内周部形成有與氣體人π孔42對應之澤 狀溝44。且於支持部19形成Η固用以將如氮氣之惰性氣 體導於支持敎％狀溝44之氣體導入口 Μ來作為冷卻 20

錢體。心體導人σ45係透職體供給f連接供給氮氣 之氣體供給系統CGS1。 、 導入環狀溝44夕备# + 虱軋之一部份係通過旋轉軸16 ί 持部19之間的空隙 工丨永Sa而上升。而導入環狀溝料之氮 其他部份則通過以由 ' 由軋體入口孔42至氣體出口孔43 轉軸16内之令介邱μ备丄 孔43 $ W 40為令心之内部氣體通路而上升。 14 1263281 玖、發明說明 此，由内外冷卻旋轉軸16之氮氣在出口孔43之外側匯人 ，並通過旋轉檯20下面與蓋體5上面之間的空隙Sb，而 由爐内即反應管4内放出。 為了由冷卻通路3 2更完全地冷卻旋轉軸16，即為了 5 提向冷卻效果，旋轉軸16與支持部19之間的空隙％係开; 成小到0·1〜2nm，且以0.2〜0.8mm為佳，例如〇 42nm卢右 。又，设於旋轉軸16及支持部19之冷卻通路32之各個相 向面，形成有作為具有供散熱用之凸部及/或凹部機能之螺 絲46、47。具體而言，旋轉軸16之外周部上之螺絲46, 1〇係由如M30 x h5之公螺絲構成。另一方面，支持部19之 内周部上之螺絲47係由如M32 X 2之母螺絲構成。如此 ’藉將所謂之散熱片作成螺紋而可更改善旋轉軸16之冷卻 效果。 15 20

”^ q、〜〜稣流通循環，故 通路32配設成大致為圍繞旋轉轴16之螺旋狀。第6

顯示冷卻通路32之展開透視圖。心冷卻通路32容 工，故如第6圖展開顯示，以形❹數層構造例者& 如3層構造。即，支持部19中，構成冷卻通路32之; 通路仏、32b、32e係透過分隔部62、心 數段或多數層，例如下層、令層、上層。 成 下層及中層之通路32a、3 4〇 , cn ^ v 栉刀別糟刑後2個分 而义割成左通路32ax、32b 。a 久石通路32ay、1 曰k 32c係藉前側丨個 狀之通路。該上岸虚“ 刀^ Μ分隔並作成 曰與中層之分隔部63係於上層之分隔 15 1263281 玖、發明說明 61附近，連通上層之通路32c與中層之左右通路32bx、 32by ’且形成使冷媒流通之通流孔5 1、52。中層與下層之 分隔部62係於中層之後側分隔壁5〇附近，連通中層之左 右通路32bx、32by與下層之左右通路32ax、32ay，且形 5 成使冷媒流通之通流孔53、54。 下層之前側分隔壁49附近形成有冷媒（冷卻水）之導入 口 55與棑出口 56，且其等係分別與冷媒供給系統CLS之 供給管與排水管（返管）連接。如箭頭所示，冷卻通路32中 ，冷卻水係通過導入口 55與排出口 56供給（常溫之水）且 10 循環。 如前述，在蓋體5上面與旋轉檯2〇下面之間，形成有 用以使h性氣體由中心側往周緣側流通之小空隙sb。又， 蓋體5上面與旋轉檯20下面之間，形成朝周方向連續之環 15 狀的氣體儲存部57。氣體儲存部57係在蓋體5上面與旋 轉檯20下面，藉形成對應之環狀溝而形成中空室狀。通過 旋轉軸16内外之内部氣體通路及外部氣體通路後之氮氣， 則通過空隙sb而流入氣體儲存部57。藉於氣體儲存部 儲存氮氣，可防止來自爐内之處理氣體往旋轉軸16洩漏。 簡而言之 有關本實施型態之縱型熱處理裝置丨係於 設有可 而旋轉 可升降地開關縱型熱處理爐2之爐口 3之蓋體5 旋轉搭載有多數晶圓W之晶舟13之旋轉機構i 5 及密封構件18

機構15具有一旋轉軸16、及一透過軸承p 而可旋轉地支持旋轉軸16之支持部丨9。旌 疋得釉16係形成 薄壁之中空構造，且構造成於其内側及外側有冷卻氣體流 16 20 玖、發明說明 通。另一方面，支持部19具有一圍繞旋轉軸16之上側地 幵7成且供如水之冷媒流通之冷卻通路32。藉此，可完全冷 部旋轉軸16，並可提高軸承17及密封構件18之耐久性， 而可對應如1200。(：左右之高溫之熱處理。 旋轉軸16之内部係隔著分隔壁33而上下地隔開，並 在旋轉軸16之外部且於分隔壁33之附近配置密封構件18 在分隔壁33上側之旋轉軸16之内部及外部有例如氮氣 之冷卻用氣體流通，而在分隔壁33下側之旋轉軸16之内 部係對外部開放。藉此，可完全冷卻旋轉軸16。 更進一步，縮小旋轉軸16與支持部19之空隙，同時 於旋轉軸16與支持部19之各個相向面配設有散熱用之凸 部及/或凹部之螺絲46、47。因此，可由冷卻通路32完全 冷卻旋轉軸16。 冷卻通路32係圍繞旋轉軸μ地配置成大致為螺旋狀 。因此，可使冷卻水流通且循環，同時可沿著旋轉軸16之 較長方向，大範圍地冷卻旋轉軸16及支持部19。冷卻通 路32係分隔成上下多數段，並於各段之分隔部62、63配 设使冷媒流通之通流孔5 1、52、53、及54。因此，可輕易 形成大致為螺旋狀之冷卻通路3 2。 旋轉轴16之上端形成有用以固定旋轉檯2〇之平坦部 35，且平坦部及旋轉檯20之至少一方形成有用以縮小接觸 面積之凹部37。因此，可抑制由旋轉檯2〇往旋轉軸16之 熱傳導。 旋轉軸16之上端係連接在蓋體5上旋轉之旋轉檯2〇 1263281 玖、發明說明 。蓋體5上面與旋轉檯2〇下面之間，形成有用以使惰性氣 體由中心㈣周緣骸通之空隙Sb，及“儲純性氣體 之環狀的氣體健存部57。因此，可以簡單的構造防止來自 爐内之處理氣體之茂漏’且不需要複雜的曲折構造，而可 5達到減少成本之效果。 再者，本發明並非限定於上述實施型態者，可在不脫 離本發明要旨之範圍内作種種設計變更。例如，晶舟13可 由石央以外之材料形成，例如碳化矽或多晶矽”丨）。而反應 管4亦可為具有内管及外管之雙管構造。冷卻用氣體以惰 10性氣體為佳，但亦可為惰性氣體以外之氣體。冷媒則以水 為佳，但亦可為水以外之液體或流體。 有關上述之實施型態之縱型熱處理裝置係適用本發明 之例者，本發明亦可同樣適用於其他種類之縱型熱處理裝 置例如縱型熱處理裝置可構造成可進行擴散處理以外之 15處理，例如CVD處理（包含減壓式者）、氧化處理、及退火 處理。又，上述之實施型態係以半導體基板作為被處理基板為 例來說明，但本發明亦可適用於處理LCD基板等其他基板之 裝置。 【圖式簡單說明】 20 第1圖係概略地顯示有關本發明之實施型態之縱型熱 處理裝置之截面圖。 第2圖係顯示用以旋轉第丨圖所示之裝置中使用之經 周之方疋轉機構之截面圖。 第3圖係放大顯第2圖之旋轉機構之截面圖。 18 1263281 玖、發明說明 第4A、4B、4C圖係顯示第2圖之旋轉機構之旋轉軸 之縱戴面圖、頂部平面圖、及沿第4A圖中IVC-IVC線之 截面圖。 第5圖係顯示第2圖之旋轉機構中之旋轉檯與旋轉軸 5 之間之關係之展開透視圖。 第6圖係顯示第2圖之旋轉機構之冷卻通路之展開透 視圖。

第7圖係顯示用以旋轉縱型熱處理裝置中使用之晶舟 之習知旋轉機構之截面圖。 10 【圖式之主要元件代表符號表】

1...縱型熱處理裝置 14···升降機 2...熱處理爐 15,115…旋轉機構 3…爐口 16,116···旋轉軸 4…反應管 17,117···軸承 4a...凸、纟彖部 18,118.··密封餅 5,105·.·蓋體 19,119···支持部 6...加熱器 20,120···旋轉檯 7...凸緣保持構件 20¾ 120a...下側構件 8."加熱座 20b，120b···上側構件 9···底板 21...保溫筒 10...支持架 22...散合穴 11...氣體導入官 23,25,38,46,47 …螺絲 12...排氣管 24...端板 13...晶舟 26...螺帽 19 1263281 玖、發明說明 27.. .從動帶輪 28.128.. .馬達 29…驅動帶輪 30.. .同步皮帶 31.. .感測器 32,58,132.··冷卻通路 32a...下層通路 32ax，32bx· · ·左通路 32ay，32by. · ·右通路 32b...中層通路 32c···上層通路 33,49, 50,61...分隔壁 35···平坦部 36·"插入孔 37.. .凹部 39.. .上側部 40.. .中空部 41···凹部 42.. .氣體入口孔 43.. .氣體出口孔 44.. .環狀溝 45.. .氣體導入口 51〜54...通流孔 55.. ·導入口 56.··排出口 57…氣體儲存部 62.63.. .分隔部 130.. .皮帶 160…曲折構造 CGS，GS...氣體供給系統 CLS...冷媒供給系統 ES...排氣系統 LA…載入領域 N]·.·氣 SSa^Sb.··空隙 晶圓

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Claims (1)

1263281 拾、申請專利範匱 、 1 · 一種縱型熱處理裝置，係於可升降地開關縱型熱處理 爐之爐口之蓋體，配設有用以旋轉搭載多數被處理基 板之保持具之旋轉機構者，其特徵在於： 月ίι述旋轉機構具有一旋轉軸、及一透過軸承及密封 5 構件而可旋轉地支持前述旋轉軸之支持部，前述旋轉 軸係形成薄壁之中空構造，且構造成於其内側及外側 有冷部用氣體流通，並且前述支持部具有一圍繞前述 旋轉軸之上側地形成且供冷媒流通之冷卻通路。 · 2·如申請專利範圍第i項之縱型熱處理裝置，其中前述 1〇 旋轉軸之内部係隔著分隔壁而上下地隔開，並在前述 旋轉轴之外側且於前述分隔壁之附近配置有前述密封 構件’在‘述分隔壁上側之前述旋轉軸之内部及外部 有刚述冷部用氣體流通，而在前述分隔壁下側之前述 旋轉軸之内部係對外部開放。 15 3·如申請專利範圍第1項之縱型熱處理裝置，其中前述 方疋轉軸與前述支持部之間的空隙係設定較小，並於前 鲁 述方疋轉軸及前述支持部之至少一方之相向面配設有散 熱用之凹部或凸部。 4·如申請專利範圍第1項之縱型熱處理裝置，其中前述 20 冷卻通路係配設成大致為螺旋狀者。 5·如申清專利範圍第1項之縱型熱處理裝置，其中前述 冷部通路係隔著分隔部而分隔成上下多數段，並形成 使冷媒流通於各段之分隔部之通流孔。 6·如申請專利範圍第1項之縱型熱處理裝置，其中前述 21 1263281 拾、申請專利範圍 旋轉軸之上端形成有固定旋轉檯之平坦部，該平坦部 及前述旋轉檯之至少一方形成有縮小接觸面積之凹部 〇 7 ·如申请專利範圍第1項之縱型熱處理裝置，其中前述 5 旋轉軸之上端配設有在前述蓋體旋轉之旋轉檯，且於 前述蓋體上面與前述旋轉檯下面之間，形成有使惰性 氣體由中心側往周邊側流通之空隙，並形成有儲存前 述惰性氣體之環狀的氣體儲存部。 8· —種縱型熱處理裝置，係用以對多數被處理基板一起 10 施行熱處理者，包含有： 一氣密的處理室，係用以收納前述被處理基板者， 且该處理室並於底部具有一載入孔； 一蓋體，係用以選擇性地開放及閉鎖前述處理室之 前述載入孔者； 15 一保持具，係在前述處理室内，將前述處理基板保 持在互相間隔地重疊之狀態下者； 一供給系統，係用以將處理氣體供給至前述處理室 者； 一排氣系統，係使前述處理室内進行排氣者； 2〇 一加熱設備，係用以加熱前述處理室之内部空氣者 一升降機，係在將保持前述被處理基板之前述保持 具支持於前述蓋體上之狀態下，使前述蓋體升降者； 一旋轉機構，係用以旋轉前述保持具，且配設於前 22 1263281 拾 5 9· 10 10. 15 11. 20 、申請專利範圍 述蓋體者，該旋轉機構包括：一薄壁、中空構造之旋 - 轉軸，及一透過軸承及密封構件而可旋轉地支持前述 旋轉軸之支持部，且於前述旋轉軸之内部形成有冷卻 用之内部氣體通路之外，在前述旋轉軸與前述支持體 之間形成有冷卻用之外部氣體通路；及 一惰性氣體供給室，係用以將冷卻用之惰性氣體供 給至前述内部氣體通路及前述外部氣體通路者。 如申請專利範圍第8項之縱型熱處理裝置，其中前述 · 旋轉軸之内部係隔著分隔壁而上下地隔開，並在前述 旋轉軸之外側且於前述分隔壁之附近配置有前述密封 構件’且前述内部氣體通路及前述外部氣體通路形成 在4述分隔壁上側，而在前述分隔壁下側之前述旋轉 軸之内部係對外部開放。 如申明專利範圍第8項之縱型熱處理裝置，其中在形 成4述外部氣體通路之領域中，於前述旋轉軸之外周 面形成散熱用之凸部或凹部。 · 如h專利祀圍第8項之縱型熱處理裝置，其中，前 述,轉機構更具備有一連接於前述旋轉袖之上端之旋 轉棱亚在則述旋轉檯與前述蓋體之間隔著小空隙而 · 相向，同時& + 土 、兩者之間形成與前述小空隙連通之環狀 。 之氣體儲存部，& a丄 _ 向則述旋轉軸係構成前述惰性氣體通 :述内°卩氣體通路及前述外部氣體通路後，通過前 述小空隙流入前述氣體儲存部。 . 專利乾圍第8項之縱型熱處理裝置，更包括- - 23 1263281 拾、申請專利範圍 在刖述外部氣體通路之周圍形成於前述支持部内且供 冷媒机通之冷卻通路，及一供給冷媒至前述冷卻通路 之冷媒供給系統。 13·如申請專利範圍第12項之縱型熱處理裝置，其中前述 . 5 冷卻通路係配設成大致為螺旋狀。 ， 14_如申請專利範圍第12項之縱型熱處理裝置，其中前述 冷卻通路係隔著分隔部而分隔成上下多數段，並形成 使冷媒流通於各段之分隔部之通流孔。 · 15·如申請專利範圍第12項之縱型熱處理裝置，其中在形 成前述外部氣體通路之領域中，於前述旋轉軸及前述 支持部之至少一方之相向面形成散熱用之凸部或凹部 24