JP3253384B2 - 縦型反応炉 - Google Patents
縦型反応炉Info
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Description
であるCVD装置、拡散装置等に於ける縦型反応炉に関
するものである。
ハの表面に薄膜を生成し、或いは不純物を拡散する工程
がある。
応炉内を高温に維持し、更に炉内に反応ガスを導入して
シリコンウェーハの表面に薄膜を生成し、或いは不純物
を拡散する。
説明する。
り、2は該反応管1の周囲を覆うヒータユニットであ
る。該ヒータユニット2と前記反応管1との間には、均
熱管3が設けられている。前記反応管1に、シリコンウ
ェーハ4が多段に装填されたボート5が下方より装入さ
れる様になっており、該ボート5はボートキャップ6を
介してボート受台7に載置される様になっている。
せず)によって昇降自在に支持されると共に前記反応管
1下面炉口部を気密に閉塞する炉口フランジ8を有して
いる。更に、ボート受台7はボート回転機構9を具備
し、該ボート回転機構9は前記ボートキャップ6を介し
て前記ボート5を鉛直軸心を中心に所要の速度で回転さ
せ得る様になっている。
ニット2により反応管1内を所定温度に加熱した状態
で、シリコンウェーハ4を装填したボート5を反応管1
内に装入し、前記炉口フランジ8により炉口部を閉塞
し、更に前記反応管1内に反応ガスを導入排出すること
で、シリコンウェーハ4表面に薄膜を生成する。
7により反応管1内で回転される様になっているが、こ
れは反応ガスの流れに起因する膜厚の不均一が生じない
様にするものである。
回転機構9について詳述する。
ケース10が固着され、該ギアケース10に軸受ハウジ
ング11が固着されている。該軸受ハウジング11に軸
受12を介して下部回転軸13が回転自在に設けられ、
該下部回転軸13の下端部は前記ギアケース10内部に
露出し、該下端部にウォームホイール14が嵌着され、
又前記ギアケース10に回転自在に設けられたウォーム
15が前記ウォームホイール14に嵌合し、該ウォーム
15の回転軸16は図示しないボート回転モータに連結
されている。
スフランジ17が固着され、該ベースフランジ17の上
面に前記炉口フランジ8が固着される。
ンジ1aに対峙する前記炉口フランジ8の部分に、炉口
シール18を設け、該炉口シール18が前記反応管フラ
ンジ1aに密着して炉口部を気密に閉塞する。又、該反
応管フランジ1aはフランジ押え19によってベース2
0に固定され、該フランジ押え19には前記炉口シール
18を冷却する為の冷却水路21が形成されている。
又、前記ベースフランジ17にも前記炉口シール18の
位置に対応して冷却水路22が形成されている。
を貫通する上部回転軸23が前記下部回転軸13に同心
に設けられ、該上部回転軸23の上端部に回転フランジ
24が嵌着され、該回転フランジ24に前記ボートキャ
ップ6が乗置固定されている。該ボートキャップ6の下
面周辺部、及び該下面周辺部に対峙する前記炉口フラン
ジ8の部分には相互に遊嵌する凹凸部が形成され、これ
ら凹凸部によって気体シール部25が形成される。
フランジ8との間、前記回転フランジ24と前記炉口フ
ランジ8との間には、僅かな間隙が形成され、ボートキ
ャップ6が回転するに支障ない様になっている。
ボート5を回転させる場合、図示しないボート回転モー
タにより前記回転軸16を介して前記ウォーム15を回
転させ、該ウォーム15によって前記ウォームホイール
14が回転され、更に下部回転軸13、上部回転軸23
を介して前記ボート5が回転される。
5を回転させる為、ボートキャップ6と前記炉口フラン
ジ8との間、前記回転フランジ24と前記炉口フランジ
8との間には、僅かな間隙が必要となるが、前記した様
に反応管1内には反応ガスを導入するので、前記間隙に
反応ガス或いは排気すべき高温のガスが浸入してしま
う。この為、前記間隙に反応生成物が付着し、該反応生
成物の為に回転部と固定部が固着し、回転が不能とな
り、更にはボートキャップ6と炉口フランジ8との分解
ができなくなってしまう。或いは、高温のガスが浸入す
ることで前記上部回転軸23周りのシール部が焼損する
という問題があった。
記間隙の清浄、シール部材の交換を行い、斯かる不具合
が発生することを防止しているが、その為メンテナンス
サイクルが短周期となり、装置の稼働率の低下と共に、
メンテナンスコストが増大していた。
ボート回転部と固定部間の間隙に反応生成物が付着する
ことを防止すると共に高温ガスによるシール部の焼損を
防止しようとするものである。
応管と、該反応管の周囲を覆うヒータユニットと、ウェ
ーハを多段に保持するボートと、該ボートの下側に位置
し該ボートと共に回転軸の駆動により回転されるボート
キャップと、炉口部を閉塞する炉口フランジとを有する
縦型反応炉に於いて、前記ボートキャップの下面部、及
び該下面部に対峙する前記炉口フランジの部分に相互に
遊嵌する凹凸部を形成し、前記回転軸の周囲から前記ボ
ートキャップと前記炉口フランジとの間に形成される間
隙に非酸化性ガスが導入される様にした縦型反応炉に係
り、又前記回転軸に設けられた導引路より前記回転軸の
周囲の間隙に非酸化性ガスを導入する様にした縦型反応
炉に係るものである。
酸化性ガスを導入することで間隙が非酸化性ガスで充満
され、該間隙に反応ガスが侵入することが抑止され、該
間隙に反応生成物が付着することが防止され、更に前記
間隙に高温のガスが浸入することが抑止され、回転部と
固定部との間に設けられたシール部材の焼損が防止され
る。
説明する。
ものには同符号を付し、その説明を省略する。
路31を穿設し、その上端が炉口フランジ8とベースフ
ランジ17の境界部に達する様にし、前記導引路31と
炉口フランジ8とベースフランジ17とがなす間隙30
とを連通する連絡路32を穿設する。前記導引路31の
下端には非酸化性ガス導入管33を接続し、該非酸化性
ガス導入管33を窒素ガス源に接続する。
前記導引路31を経て前記間隙30に窒素ガスを導入
し、間隙30を窒素ガスで充満させ、更に該間隙30が
反応管1内に対して陽圧となる様にする。
と、該間隙30に反応ガスが浸入するのが防止され、間
隙に反応生成物が付着するのを防止する。更に高温ガス
の浸入も防止され、高温ガスによるシール部材の焼損も
防止される。従って、前記間隙30の清浄、シール部材
の交換間隔が長くでき、装置の稼働率が向上し、又メン
テナンスコストが低下する。
り、該実施例ではベースフランジ17に貫通する導引路
34を穿設し、該導引路34を前記間隙30に連通さ
せ、該導引路34に非酸化性ガス導入管35を接続す
る。而して、該非酸化性ガス導入管35、前記導引路3
4を経て前記間隙30に窒素ガスを導入し、間隙30を
前述の実施例と同様窒素ガスで陽圧にする。
て窒素ガスを使用したが、ヘリウムガス、アルゴンガス
等の不活性ガスを使用してもよい。
回転方式の縦型反応炉に於いてボート回転部と固定部と
の間隙に反応生成物が付着することが防止されると共に
高温のガスが浸入するのが防止され、シール部材の焼損
が防止されるので、メンテナンス間隔が長くなり、装置
の稼働率が向上すると共にメンテナンスコストの低減が
図れる。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 立設された反応管と、該反応管の周囲を
覆うヒータユニットと、ウェーハを多段に保持するボー
トと、該ボートの下側に位置し該ボートと共に回転軸の
駆動により回転されるボートキャップと、炉口部を閉塞
する炉口フランジとを有する縦型反応炉に於いて、前記
ボートキャップの下面部、及び該下面部に対峙する前記
炉口フランジの部分に相互に遊嵌する凹凸部を形成し、
前記回転軸の周囲から前記ボートキャップと前記炉口フ
ランジとの間に形成される間隙に非酸化性ガスが導入さ
れる様にしたことを特徴とする縦型反応炉。 - 【請求項2】 前記回転軸に設けられた導引路より前記
回転軸の周囲の間隙に非酸化性ガスを導入する様にした
請求項1の縦型反応炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34171192A JP3253384B2 (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 縦型反応炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34171192A JP3253384B2 (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 縦型反応炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06168904A JPH06168904A (ja) | 1994-06-14 |
JP3253384B2 true JP3253384B2 (ja) | 2002-02-04 |
Family
ID=18348191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34171192A Expired - Lifetime JP3253384B2 (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 縦型反応炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3253384B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3670360B2 (ja) * | 1995-09-26 | 2005-07-13 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 |
JP3556804B2 (ja) * | 1997-05-20 | 2004-08-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び処理方法 |
JP3579278B2 (ja) * | 1999-01-26 | 2004-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置及びシール装置 |
JP3369165B1 (ja) * | 2002-04-09 | 2003-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
JP4167280B2 (ja) * | 2006-08-25 | 2008-10-15 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
JP2010080922A (ja) | 2008-08-29 | 2010-04-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP34171192A patent/JP3253384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06168904A (ja) | 1994-06-14 |
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