JP3343402B2 - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、縦型熱処理装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体ウエハに対してＣＶＤ、酸
化あるいは熱拡散などの熱処理を行う装置として縦型熱
処理装置が知られている。この装置は、半導体ウエハを
保持具であるウエハボートに上下に棚状に配列して保持
させ、垂立した反応管内にその下端開口部より導入して
開口部を密閉し、所定の熱処理を行うものであり、処理
の均一化を図るためにウエハボートを鉛直軸のまわりに
回転させる場合もある。図４は酸化・拡散を行うための
従来の縦型熱処理装置を示す図であり、反応管１は、例
えば石英で作られた内管１ａ及び外管１ｂよりなる二重
管構造として構成され、内管１ａの天井部には多数のガ
ス導入孔１ｃが形成されている。反応管１の外側にはこ
れを囲むようにヒータ１１が配置され、反応管１の下方
には例えばボールネジにより昇降されるボートエレベー
タ２が設置されている。このボートエレベータ２には、
反応管１の下端開口部をＯリング２１を介して密閉する
ためのキャップ部２２が設けられており、キャップ部２
２の中心部には上下に伸びる回転軸３１を回転させる回
転機構３が取り付けられている。回転軸３１の上端は回
転テーブル１２を介して保温筒１３が載置され、保温筒
１３の上にはウエハを上下に棚状に配列して保持する保
持具であるウエハボート１４が置かれている。また反応
管１にはガス供給管１５及び排気管４が接続されてい
る。
化あるいは熱拡散などの熱処理を行う装置として縦型熱
処理装置が知られている。この装置は、半導体ウエハを
保持具であるウエハボートに上下に棚状に配列して保持
させ、垂立した反応管内にその下端開口部より導入して
開口部を密閉し、所定の熱処理を行うものであり、処理
の均一化を図るためにウエハボートを鉛直軸のまわりに
回転させる場合もある。図４は酸化・拡散を行うための
従来の縦型熱処理装置を示す図であり、反応管１は、例
えば石英で作られた内管１ａ及び外管１ｂよりなる二重
管構造として構成され、内管１ａの天井部には多数のガ
ス導入孔１ｃが形成されている。反応管１の外側にはこ
れを囲むようにヒータ１１が配置され、反応管１の下方
には例えばボールネジにより昇降されるボートエレベー
タ２が設置されている。このボートエレベータ２には、
反応管１の下端開口部をＯリング２１を介して密閉する
ためのキャップ部２２が設けられており、キャップ部２
２の中心部には上下に伸びる回転軸３１を回転させる回
転機構３が取り付けられている。回転軸３１の上端は回
転テーブル１２を介して保温筒１３が載置され、保温筒
１３の上にはウエハを上下に棚状に配列して保持する保
持具であるウエハボート１４が置かれている。また反応
管１にはガス供給管１５及び排気管４が接続されてい
る。
【０００３】前記回転機構３は、鉛直軸のまわりに回転
可能なプーリ３２を備え、このプーリ３２がモータＭに
よりベルト２３を介して回転したときに磁気結合により
回転軸３１が回転するように構成されている。従ってモ
ータＭを駆動すると回転軸３１が回転してウエハボート
１４が回転することになる。
可能なプーリ３２を備え、このプーリ３２がモータＭに
よりベルト２３を介して回転したときに磁気結合により
回転軸３１が回転するように構成されている。従ってモ
ータＭを駆動すると回転軸３１が回転してウエハボート
１４が回転することになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記回転機構３は、磁
気結合を利用して回転力を伝達しているため、回転軸３
１の軸受空間が外部から密閉されるが、軸受空間には、
ウエハの汚染源となる潤滑油を使用しなくて済むように
例えばステンレスの内輪及び外輪とセラミックの転動体
とを備えたセラミック軸受が用いられている。しかしな
がらこのセラミック軸受からは僅かではあるがパーティ
クルが発生する。
気結合を利用して回転力を伝達しているため、回転軸３
１の軸受空間が外部から密閉されるが、軸受空間には、
ウエハの汚染源となる潤滑油を使用しなくて済むように
例えばステンレスの内輪及び外輪とセラミックの転動体
とを備えたセラミック軸受が用いられている。しかしな
がらこのセラミック軸受からは僅かではあるがパーティ
クルが発生する。
【０００５】また磁気結合に用いられる、耐熱性に優れ
て磁力も強い希土類元素よりなる磁石は脆い特性を有す
るためコーティングされているが、何らかの衝撃により
コーティングが剥離してパーティクルを発生し、特に磁
石材料が露出すると軸受空間内に侵入する腐食性の処理
ガスにより腐食して増々パーティクルを発生する。
て磁力も強い希土類元素よりなる磁石は脆い特性を有す
るためコーティングされているが、何らかの衝撃により
コーティングが剥離してパーティクルを発生し、特に磁
石材料が露出すると軸受空間内に侵入する腐食性の処理
ガスにより腐食して増々パーティクルを発生する。
【０００６】ここでウエハボート１４を反応管１内に搬
入した後反応管１内を排気管４により真空排気するが、
このとき回転機構３内に溜まっていたパーティクルが反
応管１内に飛散し、ウエハＷを汚染するという問題があ
った。
入した後反応管１内を排気管４により真空排気するが、
このとき回転機構３内に溜まっていたパーティクルが反
応管１内に飛散し、ウエハＷを汚染するという問題があ
った。
【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、回転機構から発生するパー
ティクルが反応管内に飛散することを防止することので
きる縦型熱処理装置を提供することにある。
たものであり、その目的は、回転機構から発生するパー
ティクルが反応管内に飛散することを防止することので
きる縦型熱処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、被処理体の保
持具を回転軸を介して回転機構により支持し、反応管内
にて保持具を回転させながら被処理体に対して熱処理を
行う縦型熱処理装置において、前記反応管内に連通する
回転機構内の軸受空間と、 被処理体に対して熱処理を行
う前に反応管内を真空排気するための第１の排気管と、
前記軸受空間に一端側が開口し、反応管の外に他端が位
置する第２の排気管と、この第２の排気管を介して軸受
空間を真空排気するための手段と、前記反応管内を第１
の排気管を介して真空排気する前に、第２の排気管を介
して軸受空間を真空排気するように制御する制御部と、
を有してなることを特徴とする。この発明においては、
回転機構内の軸受空間に不活性ガスを供給するガス供給
手段を設けることが好ましい。また回転軸の内部には、
軸受空間における軸受部の上側領域と下側領域とを連通
する連通管が形成されていることが好ましい。回転機構
は、例えば回転軸に設けられた従動側磁石と、軸受空間
の外側に前記従動側磁石と磁気的に結合しつつこれを回
転させる駆動側磁石とを備えたものである。
持具を回転軸を介して回転機構により支持し、反応管内
にて保持具を回転させながら被処理体に対して熱処理を
行う縦型熱処理装置において、前記反応管内に連通する
回転機構内の軸受空間と、 被処理体に対して熱処理を行
う前に反応管内を真空排気するための第１の排気管と、
前記軸受空間に一端側が開口し、反応管の外に他端が位
置する第２の排気管と、この第２の排気管を介して軸受
空間を真空排気するための手段と、前記反応管内を第１
の排気管を介して真空排気する前に、第２の排気管を介
して軸受空間を真空排気するように制御する制御部と、
を有してなることを特徴とする。この発明においては、
回転機構内の軸受空間に不活性ガスを供給するガス供給
手段を設けることが好ましい。また回転軸の内部には、
軸受空間における軸受部の上側領域と下側領域とを連通
する連通管が形成されていることが好ましい。回転機構
は、例えば回転軸に設けられた従動側磁石と、軸受空間
の外側に前記従動側磁石と磁気的に結合しつつこれを回
転させる駆動側磁石とを備えたものである。
【０００９】
【作用】保持具に多数の被処理体を搭載して反応管内に
搬入する。その後反応管内を真空排気するが、その前に
回転機構例えば磁気的結合を利用した回転機構内の軸受
空間を真空排気する。軸受空間には軸受や磁石などから
発生したパーティクルが滞留しているが、先ず軸受空間
を真空排気することによりパーティクルが外部に排出さ
れる。従って反応管内を真空排気するときには軸受空間
からのパーティクルの飛散が抑えられ、被処理体の汚染
を防止できる。
搬入する。その後反応管内を真空排気するが、その前に
回転機構例えば磁気的結合を利用した回転機構内の軸受
空間を真空排気する。軸受空間には軸受や磁石などから
発生したパーティクルが滞留しているが、先ず軸受空間
を真空排気することによりパーティクルが外部に排出さ
れる。従って反応管内を真空排気するときには軸受空間
からのパーティクルの飛散が抑えられ、被処理体の汚染
を防止できる。
【００１０】
【実施例】図１及び図２は夫々本発明の実施例及びその
要部を示す図であり、図４と同一部分は同符号を付して
ある。反応管１は、例えば石英で作られた内管１ａ及び
外管１ｂよりなる二重管構造として構成され、内管１ａ
の天井部には多数のガス導入孔１ｃが形成されている。
反応管１の外側にはこれを囲むようにヒータ１１が配置
され、反応管１の下方には例えばボールネジにより昇降
されるボートエレベータ２が設置されている。
要部を示す図であり、図４と同一部分は同符号を付して
ある。反応管１は、例えば石英で作られた内管１ａ及び
外管１ｂよりなる二重管構造として構成され、内管１ａ
の天井部には多数のガス導入孔１ｃが形成されている。
反応管１の外側にはこれを囲むようにヒータ１１が配置
され、反応管１の下方には例えばボールネジにより昇降
されるボートエレベータ２が設置されている。
【００１１】このートエレベータ２には、反応管１の下
端開口部をＯリング２１を介して密閉するためのキャッ
プ部２２が設けられており、キャップ部２２の中心部に
は上下に伸びる回転軸３１を回転させる回転機構３が取
り付けられている。回転軸３１の上端は回転テーブル１
２を介して保温筒１３が載置され、保温筒１３の上には
ウエハを上下に棚状に配列して保持する保持具であるウ
エハボート１４が置かれている。
端開口部をＯリング２１を介して密閉するためのキャッ
プ部２２が設けられており、キャップ部２２の中心部に
は上下に伸びる回転軸３１を回転させる回転機構３が取
り付けられている。回転軸３１の上端は回転テーブル１
２を介して保温筒１３が載置され、保温筒１３の上には
ウエハを上下に棚状に配列して保持する保持具であるウ
エハボート１４が置かれている。
【００１２】前記反応管１には、内管１ａ及び外管１ｂ
間に処理ガスを供給するためのガス供給管１５の一端が
接続されており、このガス供給管１５の他端側はバルブ
Ｖ１を介して図示しないガス供給源に接続されている。
また反応管１には、内管１ａの内側から排気するための
排気管４の一端が接続されており、この排気管４の他端
側はメインバルブＶ２を介して真空ポンプ５１に接続さ
れている。この排気管４には、真空排気初期時に急激な
排気を避けるためにメインバルブＶ２と並列にサブバル
ブＶ３が設けられている。
間に処理ガスを供給するためのガス供給管１５の一端が
接続されており、このガス供給管１５の他端側はバルブ
Ｖ１を介して図示しないガス供給源に接続されている。
また反応管１には、内管１ａの内側から排気するための
排気管４の一端が接続されており、この排気管４の他端
側はメインバルブＶ２を介して真空ポンプ５１に接続さ
れている。この排気管４には、真空排気初期時に急激な
排気を避けるためにメインバルブＶ２と並列にサブバル
ブＶ３が設けられている。
【００１３】前記回転機構３は、鉛直軸のまわりに回転
可能な回転軸３１を備える一方、ウエハボート１４には
モータＭが設けられ、プーリ３２とモータＭとの間には
ベルト２３が掛けられている。回転機構３の構造につい
て図２を参照しながら簡単に述べると、回転軸３１は、
キャップ部２２に固定された内側ケ−シング５１にセラ
ミック軸受５Ａ、５Ｂを介して回転自在に支承されると
共に、内側ケ−シング５１の外側にセラミック軸受５
Ｃ、５Ｄを介して外側ケーシング５２が回転自在に支承
されている。回転軸３１、及び内側ケ−シング５１と外
側ケーシング５２との間には夫々従動側永久磁石５３及
び駆動側永久磁石５４が設けられ、従って外側ケーシン
グ５２の下端に設けられたプーリ３２が回転すると磁気
結合により回転軸３１が回転する。
可能な回転軸３１を備える一方、ウエハボート１４には
モータＭが設けられ、プーリ３２とモータＭとの間には
ベルト２３が掛けられている。回転機構３の構造につい
て図２を参照しながら簡単に述べると、回転軸３１は、
キャップ部２２に固定された内側ケ−シング５１にセラ
ミック軸受５Ａ、５Ｂを介して回転自在に支承されると
共に、内側ケ−シング５１の外側にセラミック軸受５
Ｃ、５Ｄを介して外側ケーシング５２が回転自在に支承
されている。回転軸３１、及び内側ケ−シング５１と外
側ケーシング５２との間には夫々従動側永久磁石５３及
び駆動側永久磁石５４が設けられ、従って外側ケーシン
グ５２の下端に設けられたプーリ３２が回転すると磁気
結合により回転軸３１が回転する。
【００１４】そして回転軸３１と内側ケ−シング５１と
の間には、反応管１内に連通する軸受空間Ｓが形成され
ており、内側ケ−シング５１には、軸受空間Ｓの例えば
上側領域に夫々開口するように不活性ガス供給管６１及
び不活性ガス排気管６２が接続されている。不活性ガス
供給管６１にはバルブＶ４が設けられる一方、不活性ガ
ス排気管６２はバルブＶ５を介して、前記排気管５にお
けるバルブＶ２の真空ポンプ５１側に接続されている。
この実施例では、不活性ガス排気管６２及び真空ポンプ
５１により真空排気手段が構成される。
の間には、反応管１内に連通する軸受空間Ｓが形成され
ており、内側ケ−シング５１には、軸受空間Ｓの例えば
上側領域に夫々開口するように不活性ガス供給管６１及
び不活性ガス排気管６２が接続されている。不活性ガス
供給管６１にはバルブＶ４が設けられる一方、不活性ガ
ス排気管６２はバルブＶ５を介して、前記排気管５にお
けるバルブＶ２の真空ポンプ５１側に接続されている。
この実施例では、不活性ガス排気管６２及び真空ポンプ
５１により真空排気手段が構成される。
【００１５】またこの例では従動側永久磁石５４から発
生するパーティクルが軸受空間Ｓに飛散しないように当
該永久磁石５４を覆うカバー５５が回転軸３１に設けら
れている。ただし本発明ではこのカバー５５はなくても
よい。更に回転軸３１内には、軸受空間Ｓにおける隅々
まで排気できるように軸受空間Ｓの上側領域と下側領域
とを連通する連通管５６が形成されている。なおこの回
転機構３には例えば水冷機構を組み込んで冷却するよう
にしてもよい。
生するパーティクルが軸受空間Ｓに飛散しないように当
該永久磁石５４を覆うカバー５５が回転軸３１に設けら
れている。ただし本発明ではこのカバー５５はなくても
よい。更に回転軸３１内には、軸受空間Ｓにおける隅々
まで排気できるように軸受空間Ｓの上側領域と下側領域
とを連通する連通管５６が形成されている。なおこの回
転機構３には例えば水冷機構を組み込んで冷却するよう
にしてもよい。
【００１６】そしてこの縦型熱処理装置は、上述の各バ
ルブＶ１〜Ｖ５について後述のように開閉シーケンス制
御を行う制御部１０を備えている。
ルブＶ１〜Ｖ５について後述のように開閉シーケンス制
御を行う制御部１０を備えている。
【００１７】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず多数枚の被処理体であるウエハＷが搭載されたウエハ
ボート１４をボートエレベータ２により上昇させて反応
管１内に搬入し、キャップ部２１により反応管１の下端
開口部を気密にシールする。反応管１内はヒータ１１に
より予め例えば６００℃程度に加熱されており、ウエハ
ボート１４が搬入された後例えば９００〜１２００℃の
熱処理温度まで昇温される。
ず多数枚の被処理体であるウエハＷが搭載されたウエハ
ボート１４をボートエレベータ２により上昇させて反応
管１内に搬入し、キャップ部２１により反応管１の下端
開口部を気密にシールする。反応管１内はヒータ１１に
より予め例えば６００℃程度に加熱されており、ウエハ
ボート１４が搬入された後例えば９００〜１２００℃の
熱処理温度まで昇温される。
【００１８】一方反応管１内には図示しないガス供給管
から不活性ガス例えば窒素ガスが供給されており、ウエ
ハボート１４が反応管１内に搬入された後、制御部１０
により所定のシーケンスプログラムにもとづいて窒素ガ
スの供給を停止し、続いてバルブＶ５を開き、不活性ガ
ス排気管６２を通して真空ポンプ５１により回転機構３
内の軸受空間Ｓを例えば１０秒間真空排気する。
から不活性ガス例えば窒素ガスが供給されており、ウエ
ハボート１４が反応管１内に搬入された後、制御部１０
により所定のシーケンスプログラムにもとづいて窒素ガ
スの供給を停止し、続いてバルブＶ５を開き、不活性ガ
ス排気管６２を通して真空ポンプ５１により回転機構３
内の軸受空間Ｓを例えば１０秒間真空排気する。
【００１９】次いでバルブＶ５を閉じ、サブバルブＶ３
を開いて反応管１内を例えば３０秒間真空排気した後メ
インバルブＶ２を開く。そして反応管１内の圧力が例え
ば１×１０-3Ｔｏｒｒになった後、バルブＶ２を閉じ、
バルブＶ１を開いて酸化あるいは熱拡散などに必要な処
理ガスをガス供給管１５より反応管１内に導入すると共
に、排気管４を通じて図示しない排気ポンプにより反応
管１内を常圧に維持し、ウエハＷに対して所定の熱処理
を行う。
を開いて反応管１内を例えば３０秒間真空排気した後メ
インバルブＶ２を開く。そして反応管１内の圧力が例え
ば１×１０-3Ｔｏｒｒになった後、バルブＶ２を閉じ、
バルブＶ１を開いて酸化あるいは熱拡散などに必要な処
理ガスをガス供給管１５より反応管１内に導入すると共
に、排気管４を通じて図示しない排気ポンプにより反応
管１内を常圧に維持し、ウエハＷに対して所定の熱処理
を行う。
【００２０】また例えばバルブＶ１を開くと同時にバル
ブＶ４及びバルブＶ５を開き、不活性ガス供給管６１よ
り回転機構３の軸受空間Ｓに例えば窒素ガスを例えば毎
分０．５リットルの流量で供給しながら不活性ガス排気
管６２を通じて軸受空間Ｓ内を排気し、こうして反応管
１内の処理ガスが軸受空間Ｓに侵入するのを防止して軸
受などの腐食を防止している。そしてモータＭによりベ
ルト２３を介して回転機構３のプーリ３２が回転し、先
述したように磁気結合により回転軸３１が回転してウエ
ハボート１４が回転する。
ブＶ４及びバルブＶ５を開き、不活性ガス供給管６１よ
り回転機構３の軸受空間Ｓに例えば窒素ガスを例えば毎
分０．５リットルの流量で供給しながら不活性ガス排気
管６２を通じて軸受空間Ｓ内を排気し、こうして反応管
１内の処理ガスが軸受空間Ｓに侵入するのを防止して軸
受などの腐食を防止している。そしてモータＭによりベ
ルト２３を介して回転機構３のプーリ３２が回転し、先
述したように磁気結合により回転軸３１が回転してウエ
ハボート１４が回転する。
【００２１】ところで回転軸３１を回転させることによ
り回転機構３のセラミック軸受けからパーティクルが発
生し、軸受空間Ｓに窒素ガスが流れているのでパーティ
クルの一部は外部に排出されるが、残りのパーティクル
はセラミック軸受５Ａ、５Ｂや隅部などに付着滞留して
いる。そこで上述実施例のようにウエハＷを反応管１内
にロードした後先ず軸受空間Ｓを真空排気すれば軸受空
間Ｓ内のパーティクルが外部に排出される。従ってその
後に反応管１内を真空排気しても軸受空間Ｓからはパー
ティクルが全くあるいはほとんど全く反応管１内に飛散
しないのでウエハＷの汚染が防止される。なお回転機構
３においてカバー５５を用いない場合には従動側永久磁
石５４もパーティクルの発生源になり、この場合ここか
らのパーティクルは同様に不活性ガス排気管６２を通じ
て予め外部に排気される。
り回転機構３のセラミック軸受けからパーティクルが発
生し、軸受空間Ｓに窒素ガスが流れているのでパーティ
クルの一部は外部に排出されるが、残りのパーティクル
はセラミック軸受５Ａ、５Ｂや隅部などに付着滞留して
いる。そこで上述実施例のようにウエハＷを反応管１内
にロードした後先ず軸受空間Ｓを真空排気すれば軸受空
間Ｓ内のパーティクルが外部に排出される。従ってその
後に反応管１内を真空排気しても軸受空間Ｓからはパー
ティクルが全くあるいはほとんど全く反応管１内に飛散
しないのでウエハＷの汚染が防止される。なお回転機構
３においてカバー５５を用いない場合には従動側永久磁
石５４もパーティクルの発生源になり、この場合ここか
らのパーティクルは同様に不活性ガス排気管６２を通じ
て予め外部に排気される。
【００２２】以上において軸受空間Ｓに供給する不活性
ガスとしては窒素ガスの他にアルゴンガスやネオンガス
などであってもよい。また軸受空間Ｓの真空排気のため
の真空ポンプは、反応管１内を真空排気するための真空
ポンプとは別のものを用いてもよいし、反応管１内を真
空排気しているときに軸受空間Ｓを真空排気していても
よい。そして本発明の縦型熱処理装置は酸化、拡散処理
に限らず、ＣＶＤ、エッチング、アッシングなどを行う
ものであってもよい。
ガスとしては窒素ガスの他にアルゴンガスやネオンガス
などであってもよい。また軸受空間Ｓの真空排気のため
の真空ポンプは、反応管１内を真空排気するための真空
ポンプとは別のものを用いてもよいし、反応管１内を真
空排気しているときに軸受空間Ｓを真空排気していても
よい。そして本発明の縦型熱処理装置は酸化、拡散処理
に限らず、ＣＶＤ、エッチング、アッシングなどを行う
ものであってもよい。
【００２３】次に他の発明について図３を参照しながら
述べると、図３はエッチングやＣＶＤあるいはイオン注
入などの真空処理を行う真空処理装置の一部である真空
をなすロードロック室７１を示し、このロードロック室
７１はゲートバルブＧ１、Ｇ２及びウエハの搬送機構８
を備えている。またロードロック室７１には排気管７２
が接続され、この排気管７２はバルブ７３を介して真空
ポンプ７４に接続されている。
述べると、図３はエッチングやＣＶＤあるいはイオン注
入などの真空処理を行う真空処理装置の一部である真空
をなすロードロック室７１を示し、このロードロック室
７１はゲートバルブＧ１、Ｇ２及びウエハの搬送機構８
を備えている。またロードロック室７１には排気管７２
が接続され、この排気管７２はバルブ７３を介して真空
ポンプ７４に接続されている。
【００２４】前記搬送機構８は例えば３本のアーム８１
〜８３を有し、アーム間の関節部における例えばベルト
が掛けられたプーリなどの駆動伝達部８１ａ、８２ａに
は、これらを覆うようにカバー８１ｂ、８２ｂが設けら
れると共に、アーム８３を駆動する駆動機構８４とこの
駆動機構８４の駆動伝達部８３ａを覆うようにカバー８
３ｂが設けられている。そして各カバー８１ｂ、８２
ｂ，８３ｂ内の空間が互いに連通するようにアーム８
２、８３内に連通路８０が形成されている。
〜８３を有し、アーム間の関節部における例えばベルト
が掛けられたプーリなどの駆動伝達部８１ａ、８２ａに
は、これらを覆うようにカバー８１ｂ、８２ｂが設けら
れると共に、アーム８３を駆動する駆動機構８４とこの
駆動機構８４の駆動伝達部８３ａを覆うようにカバー８
３ｂが設けられている。そして各カバー８１ｂ、８２
ｂ，８３ｂ内の空間が互いに連通するようにアーム８
２、８３内に連通路８０が形成されている。
【００２５】前記カバー８３ｂには排気管７５が接続さ
れ、この排気管７５はバルブ７６を介して前記真空ポン
プ７４に接続されている。バルブ７３、７６は制御部９
により次のように制御される。即ちウエハＷが搬送機構
８によりロードロック室７１内に搬入された後、バルブ
７３を開く前にバルブ７６が開かれて搬送機構８の駆動
伝達部８１ａ、８２ａ、８３ａを取り囲む空間が真空排
気され、次いでバルブ７３を開いてロードロック室７１
内が真空排気される。従って駆動伝達部８１ａ、８２
ａ、８３ａから発生したパーティクルが反応管１内に飛
散するのを防止できる。
れ、この排気管７５はバルブ７６を介して前記真空ポン
プ７４に接続されている。バルブ７３、７６は制御部９
により次のように制御される。即ちウエハＷが搬送機構
８によりロードロック室７１内に搬入された後、バルブ
７３を開く前にバルブ７６が開かれて搬送機構８の駆動
伝達部８１ａ、８２ａ、８３ａを取り囲む空間が真空排
気され、次いでバルブ７３を開いてロードロック室７１
内が真空排気される。従って駆動伝達部８１ａ、８２
ａ、８３ａから発生したパーティクルが反応管１内に飛
散するのを防止できる。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、反応管内を真空排気す
る前に回転機構例えば磁気結合を利用した回転機構の軸
受空間を真空排気しているため、反応管を真空排気する
ときには軸受空間からの反応管内へのパーティクルの飛
散が抑えられ、被処理体の汚染を防止できる。
る前に回転機構例えば磁気結合を利用した回転機構の軸
受空間を真空排気しているため、反応管を真空排気する
ときには軸受空間からの反応管内へのパーティクルの飛
散が抑えられ、被処理体の汚染を防止できる。
【図１】本発明の縦型熱処理装置の実施例を示す断面図
である。
である。
【図２】本発明の縦型熱処理装置の実施例に係る回転機
構を示す断面図である。
構を示す断面図である。
【図３】本発明の真空装置の実施例を示す縦断側面図で
ある。
ある。
【図４】従来の縦型熱処理装置を示す断面図である。
１ 反応管 １４ ウエハボート １５ ガス供給管 ４ 排気管 ３ 回転機構 ３１ 回転軸 ５Ａ〜５Ｄ セラミック軸受 ５１、７４ 真空ポンプ ６１ 不活性ガス供給管 ６２ 不活性ガス排気管 ９、１０ 制御部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/22 511
Claims (4)
- 【請求項１】 被処理体の保持具を回転軸を介して回転
機構により支持し、反応管内にて保持具を回転させなが
ら被処理体に対して熱処理を行う縦型熱処理装置におい
て、前記反応管内に連通する回転機構内の軸受空間と、 被処理体に対して熱処理を行う前に反応管内を真空排気
するための第１の排気管と、 前記軸受空間に一端側が開口し、反応管の外に他端が位
置する第２の排気管と、 この第２の排気管を介して軸受空間を真空排気するため
の手段と、 前記反応管内を第１の排気管を介して真空排気する前
に、第２の排気管を介して軸受空間を真空排気するよう
に制御する制御部と、 を有してなることを特徴とする縦型熱処理装置。 - 【請求項２】 回転機構内の軸受空間に不活性ガスを供
給するガス供給手段を有していることを特徴とする請求
項１記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項３】 回転機構は、回転軸に設けられた従動側
磁石と、軸受空間の外側に前記従動側磁石と磁気的に結
合しつつこれを回転させる駆動側磁石とを備えたもので
あることを特徴とする請求項１または２記載の縦型熱処
理装置。 - 【請求項４】 回転軸の内部には、軸受空間における軸
受部の上側領域と下側領域とを連通する連通管が形成さ
れていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか
に記載の縦型熱処理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17226793A JP3343402B2 (ja) | 1993-06-19 | 1993-06-19 | 縦型熱処理装置 |
| US08/107,002 US5324540A (en) | 1992-08-17 | 1993-08-17 | System and method for supporting and rotating substrates in a process chamber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17226793A JP3343402B2 (ja) | 1993-06-19 | 1993-06-19 | 縦型熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07169706A JPH07169706A (ja) | 1995-07-04 |
| JP3343402B2 true JP3343402B2 (ja) | 2002-11-11 |
Family
ID=15938736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17226793A Expired - Fee Related JP3343402B2 (ja) | 1992-08-17 | 1993-06-19 | 縦型熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3343402B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000074227A (ja) | 1998-08-26 | 2000-03-14 | Sony Corp | 真空処理装置および磁気シール回転軸受けユニット |
| JP4605853B2 (ja) * | 2000-04-20 | 2011-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置、熱処理システム及び熱処理方法 |
| KR100835102B1 (ko) * | 2002-12-16 | 2008-06-03 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 보트 회전체 |
| JP5231903B2 (ja) * | 2008-09-03 | 2013-07-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
| JP7209598B2 (ja) * | 2019-07-26 | 2023-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
1993
- 1993-06-19 JP JP17226793A patent/JP3343402B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07169706A (ja) | 1995-07-04 |
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